TWI411601B

TWI411601B - Thiamidate compounds and photosensitive resin compositions

Info

Publication number: TWI411601B
Application number: TW096131145A
Authority: TW
Inventors: Haruhiko Ikeda; Hideo Miyata; Yotaro Hattori; Katsumi Murofushi
Original assignee: Showa Denko Kk
Priority date: 2006-08-23
Filing date: 2007-08-22
Publication date: 2013-10-11
Also published as: US8283095B2; KR20090045368A; WO2008023603A1; TW200825043A; JPWO2008023603A1; JP5254793B2; KR101059316B1; CN101506252B; EP2055726A1; CN101506252A; US20100233596A1; EP2055726A4

Description

硫胺基甲酸乙酯化合物及感光性樹脂組成物

本發明係關於適合作為各種塗佈材料，UV及熱硬化性塗料，成形材料，黏接劑，油墨，光學材料，光造形材料，印刷版材料，光阻材料等的原料為恰當的多官能硫醇嵌段體的硫胺基甲酸乙酯化合物，及含有該硫胺基甲酸乙酯化合物的感光性樹脂組成物。進而詳言之，係有關一面藉由硫胺基甲酸乙酯鍵保護特定的硫醇化合物，一面可藉由熱或光硬化的乙烯性不飽和雙鍵之穩定性優異的硬化性組成物。

近年來，藉由紫外線等的活性光線照射而硬化的組成物，被廣泛地使用於塗佈材料，UV及熱硬化性塗料，成形材料，黏接劑，油墨，光阻，光學材料，光造形材料，印刷版材料，齒科材料，聚合物電池材料或聚合物原料等的領域。例如，在光學材料的用途方面，則使用作為光學透鏡，薄膜的塗膜材料，光纖的包覆用材料，或光纖，光學透鏡等的光學黏接劑等。

此種硬化性組成物隨著上述光學材料或電子材料的各用途領域中對高機能化的要求，以更低能量硬化，更快硬化，可形成更精細的圖型，具更深硬化深度，保存性能更高，透過率或折射率等的光學特性，對基材的密接性，耐熱性等之各性能的要求水準亦隨之提高。

感光性組成物主要係由光聚合引發劑，具有以聚合反應硬化的乙烯性不飽和鍵的化合物及各種添加物而構成，根據用途可使用各種成分。光聚合引發劑依其感光波長或聚合開始特性而選擇，具有乙烯性不飽和鍵之化合物或添加物，則可依聚合性或所要求之硬化物的物性而選擇，該等可組合使用。

此種光硬化性組成物之其中一個，已知有含硫醇化合物的硬化性組成物。此種硬化性組成物藉由光照射，含聚乙烯性不飽和雙鍵的化合物與硫醇化合物自由基聚合，在數秒至數分的短時間內硬化。但是，此種習知的聚烯．聚硫醇系的光硬化性組成物，加工性，硬化性優異，但相反地，穩定性卻不佳，使用前一旦保持液體狀態將會增黏，易引起膠化。又，由該保持狀態的組成物所作成的光硬化物，有耐熱性低的問題點。

例如，使用於濾色器的感光性組成物，一旦使用如專利文獻1及2記載的含直鏈狀硫醇的感光性組成物，則雖然所得感光性組成物的感度提高，但是保存穩定性則不足，使用時難以確保充分的感度。

本發明人等，為了獲得能夠維持感光性組成物的感度，同時具有優異保存穩定性的感光性組成物，首先發現光聚合引發劑組成物的選擇甚為重要，特別是作為該光聚合引發劑組成物的一種成分所使用的硫醇化合物有熱反應性的問題。

[專利文獻1]日本特開平10-253815號公報

[專利文獻2]日本特開2000-249822號公報

本發明係以提供高感度且保存性優異的光聚合引發劑組成物，含該光聚合引發劑組成物的感光性組成物，及適合於該光聚合引發劑組成物且新穎的硫胺基甲酸乙酯化合物為課題。

本發明人等為了解決上述課題，經戮力檢討的結果，首先發現藉由使用硫醇化合物與異氰酸酯化合物進行反應的硫胺基甲酸乙酯化合物，可以解決上述課題，於是完成本發明。

本發明係關於如下的事項。

[1]具有2~6個含下述式(i)所示之部位及下述式(ii)所示之部位的單位的硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)。

[2]下述一般式(I)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，l表示2~6的整數，L₁ 表示脂肪族取代基，芳香族取代基，含雜環的取代基或含脂環族的取代基，該取代基可不含有氧原子，硫原子或氮原子。

[3]下述一般式(II)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈之碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基(norbornene)二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基。

[4]下述一般式(III)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₄ 表示氫原子或甲基，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基。

[5]下述一般式(IV)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，R₇ 表示直接結合或碳數1~5的直鏈或者分支鏈的烷撐基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，X表示氫原子，鹵原子或電子吸引基，o表示0~4的整數，p表示1~3的整數，l≦o+p≦5，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈之的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基。

[6]藉由使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，R₅ 及R₆ 的至少一方為碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1]。

所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的酯化反應所得的硫醇化合物，與下述一般式(VI)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)]。所示之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應為特徵之該[3]記載的一般式(II)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[7]藉由使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1]。所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的酯化反應所得的硫醇化合物，與下述一般式(VII)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基。)，R₄ 表示氫原子或甲基]。

所示之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應為特徵之該[4]記載的一般式(III)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[8]藉由使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1]。

所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的酯化反應所得之硫醇化合物，與下述一般式(VIII)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₇ 表示直接結合或碳數1~5的直鏈或者分支鏈的烷撐基，X表示氫原子，鹵原子或電子吸引基，o表示0~4的整數，p表示1~3的整數，l≦o+p≦5]。

所示之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應為特徵之該[5]記載的一般式(IV)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[9]下述一般式(IX)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l 表示2~6的整數，L₂ 表示由選自具有可為分支鏈之碳數2~10的烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基。

[10]下述一般式(X)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇，二乙二醇，二丙二醇，甘油，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇，環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基。

[11]下述一般式(XI)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

[12]下述一般式(XII)所示之硫胺基甲酸乙酯化合物。

[13]該硫醇化合物與該一般式(VI)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應溫度為0℃~70℃為特徵之該[6]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[14]該硫醇化合物與該一般式(VII)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應溫度為0℃~70℃為特徵之該[7]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[15]該硫醇化合物與該一般式(VIII)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應溫度為0℃~70℃為特徵之該[8]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[16]在該硫醇化合物與該一般式(VI)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應步驟中，以不使用觸媒為特徵之該[6]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[17]在該硫醇化合物與該一般式(VII)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應步驟中，以不使用觸媒為特徵之該[7]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[18]在該硫醇化合物與該一般式(VIII)所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的反應步驟中，以不使用觸媒為特徵之該[8]記載的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法。

[19]含有該[1]~[5]及[9]~[12]中任一項記載的硫胺基甲酸乙酯化合物與光聚合引發劑的光聚合引發劑組成物。

[20]該光聚合引發劑係以選自α-羥基乙醯苯類，α-胺基乙醯苯類及聯咪唑類之至少1種為特徵之該[19]記載的光聚合引發劑組成物。

[21]進而，以含有增感劑為特徵之該[19]或[20]記載的光聚合引發劑組成物。

[22]該增感劑係以選自二苯基酮類及蒽醌類之至少1種為特徵之該[21]記載的光聚合引發劑組成物。

[23]含有該[19]~[22]中任一項記載的光聚合引發劑組成物，與具有乙烯性不飽和鍵之化合物的感光性組成物。

[24]進而，以含有高分子聚合物為特徵之該[23]記載的感光性組成物。

[25]該高分子聚合物為可溶於溶劑或鹼水溶液的聚合物為特徵之該[24]記載的感光性組成物。

[26]進而，以含有顏料為特徵之該[23]~[25]中任一項記載的感光性組成物。

[27]於基板上，形成由該[26]記載的感光性組成物所成的著色圖型為特徵的濾色器。

[28]基板上，具有形成由該[26]記載的感光性組成物所成之著色圖型的步驟為特徵之濾色器的製造方法。

一旦使用本發明之含有硫胺基甲酸乙酯化合物的光聚合引發劑組成物，則成為高感度，故可縮短步驟，可獲得因生產性提高所致成本下降的感光性組成物。

本發明的感光性組成物，適合使用於光製版用光阻，光阻防銲劑，蝕刻光阻，濾色器光阻，全像照相(hologram)，光造形，UV油墨等的用途領域，特別適合作為形成精細圖型的顯影型光阻。

[實施發明之最佳型態]

關於與本發明相關之硫胺基甲酸乙酯化合物，含有該硫胺基甲酸乙酯化合物的光聚合引發劑組成物及含有該光聚合引發劑組成物的感光性組成物詳細說明如下。

1.硫胺基甲酸乙酯化合物

本發明的硫胺基甲酸乙酯化合物為具有含上述式(i)所示之部位及上述式(ii)所示之部位2~6個單位的化合物，更具體言之，為上述一般式(I)所示之化合物，較佳為上述式(II)~(IV)所示之化合物，更佳為上述式(IX)~(XII)所示之化合物。此種本發明的硫胺基甲酸乙酯化合物，例如可藉由特定的硫醇化合物與含有特定乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物的硫胺基甲酸乙酯化反應而獲得。

(1)具有含氫硫基的基的硫醇化合物

本發明之為硫胺基甲酸乙酯化合物先質的硫醇化合物，為具有含特定氫硫基的基之硫醇化合物，該含氫硫基的基，其特徵為對於氫硫基，α位及/或β位的碳原子具有取代基的構造。較佳為該取代基的至少一個為烷基。

所謂對於氫硫基，α位及/或β位的碳原子具有取代基的構造，係指對於氫硫基而言，以α位及/或β位的碳予以分支的構造，換言之，氫硫基的α位及/或β位的碳與3個以上與氫以外的原子結合，即所謂分枝的構造。該取代基的至少一個為烷基的情形，係指對氫硫基而言，α位及/或β位的主鏈以外的取代基之至少一個為烷基之意。在此，主鏈係表示含有氫硫基的氫以外的原子所構成之最長鏈的構造。

含有氫硫基的基方面，特別以下述一般式(XIII)所示的基為佳。

上述式(XIII)中，R₅ 及R₆ 係各自獨立，示氫原子或碳數1~10的烷基。此外，R₅ 及R₆ 同為烷基時，兩者可為相同或相異。

R₅ 及R₆ 示碳數1~10的烷基，可為直鏈狀或分支鏈狀，可例舉甲基，乙基，正丙基，異丙基，正丁基，異丁基，三級丁基，正己基，正辛基等，較佳為甲基或乙基。

m為0或1~2的整數，較佳為0或1，n為0或1，較佳為0。

本發明所使用的硫醇化合物方面，以具有2個以上氫硫基的多官能硫醇化合物為較佳。具體言之，更佳為上述具有含氫硫基的基2個以上的多官能硫醇化合物。如此，與單官能化合物相較，由於為多官能，所以就光聚合具有更高感度，交聯密度增加的特徵。

本發明所使用的硫醇化合物之上述式(XIII)所示的含氫硫基的基如下述一般式(XIV)所示，以成為羧酸衍生物的構造為較佳。

此種硫醇化合物，進而以下述一般式(V)所示之含氫硫基的羧酸與醇類的酯為佳。

上述醇類方面以多官能醇為佳。藉由使用多官能醇，可使酯化反應後的化合物成為多官能硫醇化合物。

多官能醇方面，可例示烷撐二醇(但以烷撐基的碳數為2~10者為佳，其碳鏈可分枝)，二乙二醇，甘油，二丙二醇，三羥甲基丙烷，三羥甲基乙烷，新戊四醇，二新戊四醇等。

烷撐二醇方面，可例舉乙二醇，三亞甲二醇，1,2-丙二醇，1,2-丁二醇，1,3-丁二醇，2,3-丁二醇，四亞甲二醇等。又亦可恰當使用環己烷二醇，環己烷二甲醇，降烯基二甲醇，雙酚A，氫化雙酚A，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)，參(2-羥基乙基)三聚異氰酸酯。

上述式(V)所示之含氫硫基的羧酸方面，可例舉2-氫硫基丙酸，3-氫硫基丙酸，2-氫硫基丁酸，3-氫硫基丁酸，4-氫硫基丁酸，2-氫硫基異丁酸，3-氫硫基異丁酸等。

具有上述式(XIII)所示構造的硫醇化合物之具體例方面，可例舉以下的化合物。

烴二硫醇方面，可例示2,5-己烷二硫醇，2,9-癸烷二硫醇，1,4-雙(1-氫硫基乙基))苯等。

含酯鍵構造的化合物方面，可例示酞酸二(1-氫硫基乙基酯)，酞酸二(2-氫硫基丙基酯)，酞酸二(3-氫硫基丁基酯)，酞酸二(3-氫硫基異丁基酯)等。

較佳可例示乙二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，丙二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，二乙二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，丁烷二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，辛烷二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基丙烷參(3-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基乙烷參(3-氫硫基丁酸酯)，新戊四醇肆(3-氫硫基丁酸酯)，二新戊四醇六個(3-氫硫基丁酸酯)，環己烷二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，環己烷二甲醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，降烯基二甲醇雙(3-氫硫基丁酸酯)，雙酚A雙(3-氫硫基丁酸酯)，氫化雙酚A雙(3-氫硫基丁酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(3-氫硫基丁酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(3-氫硫基丁酸酯)等的3-氫硫基丁酸酯類。

乙二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，丙二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，二乙二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，丁烷二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，辛烷二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，三羥甲基丙烷參(2-氫硫基丙酸酯)，三羥甲基乙烷參(2-氫硫基丙酸酯) ，新戊四醇肆(2-氫硫基丙酸酯)，二新戊四醇六個(2-氫硫基丙酸酯)，環己烷二醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，環己烷二甲醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，降烯基二甲醇雙(2-氫硫基丙酸酯)，雙酚A雙(2-氫硫基丙酸酯)，氫化雙酚A雙(2-氫硫基丙酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(2-氫硫基丙酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(2-氫硫基丙酸酯)等的2-氫硫基丙酸酯類。

乙二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，丙二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，二乙二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，丁烷二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，辛烷二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，三羥甲基丙烷參(3-氫硫基丙酸酯)，三羥甲基乙烷參(2-氫硫基丙酸酯)，新戊四醇肆(3-氫硫基丙酸酯)，二新戊四醇六個(3-氫硫基丙酸酯)，環己烷二醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，環己烷二甲醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，降烯基二甲醇雙(3-氫硫基丙酸酯)，雙酚A雙(3-氫硫基丙酸酯)，氫化雙酚A雙(3-氫硫基丙酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(3-氫硫基丙酸酯)，三三聚氰酸異三聚氰酸2-羥基乙醇參(3-氫硫基丙酸酯)等的3-氫硫基丙酸酯類。

乙二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，丙二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，二乙二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，丁烷二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，辛烷二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基丙烷參(2-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基乙烷參(2-氫硫基丁酸酯)，新戊四醇肆(2-氫硫基丁酸酯)，二新戊四醇六個(2-氫硫基丁酸酯)，環己烷二醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，環己烷二甲醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，降烯基二甲醇雙(2-氫硫基丁酸酯)，雙酚A雙(2-氫硫基丁酸酯)，氫化雙酚A雙(2-氫硫基丁酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(2-氫硫基丁酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(2-氫硫基丁酸酯)等的2-氫硫基丁酸酯類。

乙二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，丙二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，二乙二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，丁烷二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，辛烷二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基丙烷參(4-氫硫基丁酸酯)，三羥甲基乙烷參(4-氫硫基丁酸酯)，新戊四醇肆(4-氫硫基丁酸酯)，二新戊四醇六個(4-氫硫基丁酸酯)，環己烷二醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，環己烷二甲醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，降烯基二甲醇雙(4-氫硫基丁酸酯)，雙酚A雙(4-氫硫基丁酸酯)，氫化雙酚A雙(4-氫硫基丁酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(4-氫硫基丁酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(4-氫硫基丁酸酯)等的4-氫硫基丁酸酯類。

乙二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，丙二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，二乙二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，丁烷二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，辛烷二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，三羥甲基丙烷參(3-氫硫基異丁酸酯)，三羥甲基乙烷參(3-氫硫基異丁酸酯)，新戊四醇肆(3-氫硫基異丁酸酯)，二新戊四醇六個(3-氫硫基異丁酸酯)，環己烷二醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，環己烷二甲醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，降烯基二甲醇雙(3-氫硫基異丁酸酯)，雙酚A雙(3-氫硫基異丁酸酯)，氫化雙酚A雙(3-氫硫基異丁酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(3-氫硫基異丁酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(3-氫硫基異丁酸酯)等的3-氫硫基異丁酸酯類。

乙二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，丙二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，二乙二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，丁烷二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，辛烷二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，三羥甲基丙烷參(2-氫硫基異丁酸酯)，三羥甲基乙烷參(2-氫硫基異丁酸酯)，新戊四醇肆(2-氫硫基異丁酸酯)，二新戊四醇六個(2-氫硫基異丁酸酯)，環己烷二醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，環己烷二甲醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，降烯基二甲醇雙(2-氫硫基異丁酸酯)，雙酚A雙(2-氫硫基異丁酸酯)，氫化雙酚A雙(2-氫硫基異丁酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(2-氫硫基異丁酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(2-氫硫基異丁酸酯)等的2-氫硫基異丁酸酯類。

乙二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，丙二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，二乙二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，丁烷二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，辛烷二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，三羥甲基丙烷參(4-氫硫基戊酸酯)，三羥甲基乙烷參(4-氫硫基戊酸酯)，新戊四醇肆(4-氫硫基戊酸酯)，二新戊四醇六個(4-氫硫基戊酸酯)，環己烷二醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，環己烷二甲醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，降烯基二甲醇雙(4-氫硫基戊酸酯)，雙酚A雙(4-氫硫基戊酸酯)，氫化雙酚A雙(4-氫硫基戊酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(4-氫硫基戊酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(4-氫硫基戊酸酯)等的4-氫硫基戊酸酯類。

乙二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，丙二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，二乙二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，丁烷二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，辛烷二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，三羥甲基丙烷參(3-氫硫基戊酸酯)，三羥甲基乙烷參(3-氫硫基戊酸酯)，新戊四醇肆(3-氫硫基戊酸酯)，二新戊四醇六個(3-氫硫基戊酸酯)環己烷二醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，環己烷二甲醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，降烯基二甲醇雙(3-氫硫基戊酸酯)，雙酚A雙(3-氫硫基戊酸酯)，氫化雙酚A雙(3-氫硫基戊酸酯)，4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)雙(3-氫硫基戊酸酯)，三異三聚氰酸2-羥基乙醇參(3-氫硫基戊酸酯)等的3-氫硫基戊酸酯類等。

上述硫醇化合物的分子量並無特別限定，較佳為200~1000。

又，關於含氫硫基的羧酸與醇類的酯，可藉由將上述一般式(V)所示之含氫硫基的羧酸與醇類，準照常法使其反應，形成酯而獲得。關於酯反應的條件並無特別限制，可自習所周知的反應條件中適當的選擇。

(2)含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯

為本發明硫胺基甲酸乙酯化合物的先質之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物方面，可例舉下述一般式(VI)， (VII)，(VIII)所示之化合物(以下各稱為「化合物(VI)」，「化合物(VII)」，「化合物(VIII)」)。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基，較佳為2~3的直鏈或者分支鏈的烷撐基)。

上述化合物(VI)較佳的具體例方面，可例舉2-丙烯醯基氧乙基異氰酸酯，2-甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯，2-丙烯醯基氧丙基異氰酸酯，2-甲基丙烯醯基氧丙基異氰酸酯，2-丙烯醯基氧丁基異氰酸酯，2-甲基丙烯醯基氧丁基異氰酸酯，2-丙烯醯基氧異丁基異氰酸酯，2-甲基丙烯醯基氧異丁基異氰酸酯，2-丙烯醯基氧己基異氰酸酯，2-甲基丙烯醯基氧己基異氰酸酯等。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO- 或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基，較佳為2~3的直鏈或者分支鏈的烷撐基)，R₄ 表示氫原子或甲基。

上述化合物(VII)較佳的具體例方面，可例舉1,3-丙烯醯基氧丙烷-2-異氰酸酯，1,3-甲基丙烯醯基氧丙烷-2-異氰酸酯，1,3-雙丙烯醯基氧2-甲基丙烷-2-異氰酸酯，1,3-雙甲基丙烯醯基氧-2-甲基丙烷-2-異氰酸酯，1,2-雙丙烯醯基氧丙烷-1-異氰酸酯，1,2-雙甲基丙烯醯基氧丙烷-1-異氰酸酯等。

式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-，-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基，較佳為2~3的直鏈或者分支鏈的烷撐基)，R₇ 表示直接結合或碳數1~5的直鏈或者分支鏈的烷撐基，X表示氫原子，鹵原子或電子吸引基，o表示0~4的整數，p表示1~3的整數，特別是p=1時為佳，又，l≦o+p≦5。

上述化合物(VIII)較佳的具體例方面，可例舉4-丙烯醯基氧苯基異氰酸酯，3-丙烯醯基氧苯基異氰酸酯，2-丙烯醯基氧苯基異氰酸酯，4-甲基甲基丙烯醯基氧苯基異氰酸酯，3-(丙烯醯基氧甲基)苯基異氰酸酯，2-(丙烯醯基氧甲基)苯基異氰酸酯，3,5-雙(甲基甲基丙烯醯基氧乙基)苯基異氰酸酯及2，4-雙(丙烯醯基氧)苯基異氰酸酯等。

(3)硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法

本發明的硫胺基甲酸乙酯化合物可藉由上述硫醇化合物與上述含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯之硫胺基甲酸乙酯化反應而製造。

反應通常在0℃~70℃的溫度範圍內進行。在0℃以下時，反應進行極慢，在70℃以上時，副產物或著色的程度增大，而且恐會與乙烯性不飽和基反應(稱為烯-硫醇反應的加成反應)，故並不佳。

亦可因應需要，以溶劑稀釋進行反應。可使用的溶劑，可使用醇，羧酸，胺類等不與異氰酸酯起反應的溶劑。一旦系內存在有水分，由於與異氰酸酯產生反應，故可適當使用脫水溶劑。

在硫胺基甲酸乙酯化的反應中，亦可使用觸媒，但以不使用觸媒下亦能完成反應的方法為佳。使用觸媒時，並無特別限定，較佳為使用辛酸錫，二丁基錫二月桂酸酯，二丁基錫乙酸酯，二氯化二丁基錫等的有機錫，辛酸鋅，環烷酸(naphthenic acid)鋅等的有機鋅等，以硫醇或異氰酸酯每100重量份，可添加0.001~10重量份的範圍。

2.光聚合引發劑組成物及使用該等的感光性組成物 (1)光聚合引發劑組成物

本發明的光聚合引發劑組成物含有上述硫胺基甲酸乙酯化合物及光聚合引發劑。可單獨使用硫胺基甲酸乙酯化合物的1種，亦可組合2種以上使用。

光聚合引發劑方面，一般而言，可使用光聚合引發劑，但較佳可例舉α-羥基乙醯苯類，α-胺基乙醯苯類，聯咪唑類。

α-羥基乙醯苯類方面，可例舉2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，2-羥基-2-甲基-1-苯基丁烷-1-酮，-(4-甲基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-異丙基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-丁基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，2-羥基-2-甲基-1-(4-辛基苯基)丙烷-1-酮，1-(4-十二基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-甲氧基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-甲基噻吩)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-氯苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-溴苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，2-羥基-1-(4-羥基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-二甲基胺基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-乙氧基羰化苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮，1-羥基環己基苯基酮，2-羥基-1-(4-(2-羥基乙氧基)-苯基)-2-甲基丙烷-1-酮等。

α-胺基乙醯苯類方面，可例舉2-二甲基胺基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，2-二乙基胺基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，2-甲基-2-嗎啉基(morpholino)-1-苯基丙烷-1-酮，2-二甲基胺基-2-甲基-1-(4-甲基苯基)丙烷-1-酮，2-二甲基胺基-1-(4-乙基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，2-二甲基胺基-1-(4-異丙基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，1-(4-丁基苯基)-2-二甲基胺基-2-甲基丙烷-1-酮，2-二甲基胺基-1-(4-甲氧基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮，2-二甲基胺基-2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基)丙烷-1-酮，2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基)-2-嗎啉基-丙烷-1-酮，2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮，2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-二甲基胺基苯基)-丁烷-1-酮等。

聯咪唑類方面，可例舉2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(乙氧基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-溴苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-甲基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-丁基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-辛基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-甲氧基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(3-甲氧基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-氟苯基)-4,4’,5,5’-四(3-甲氧基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2,6-二氟苯基)-4,4’,5,5’-四(3-甲氧基苯基)-1,2’-聯咪唑，2,2’-雙(2-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑等。

上述以外的光聚合引發劑，亦可使用安息香甲基醚，安息香乙基醚，安息香異丙基醚，苄基甲基縮酮，α-鹵代乙醯苯類，甲基苯基乙醛酸酯，苄基，蒽醌，菲醌，樟腦醌異酞酚酮，氧化醯基膦等。

上述光聚合引發劑可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。

本發明的光聚合引發劑組成物中，硫胺基甲酸乙酯化合物的含量較佳為10~90質量%，光聚合引發劑較佳為90~10質量%。

為了使本發明的光聚合引發劑組成物進而高感度化，可使組成物中含有增感劑。

增感劑方面，可例示花青素，哩，噁嗪(oxazine)，噻嗪，二芳基甲烷，三芳基甲烷，吡喃鎓等的陽離子色素類；部花青，香豆素，靛，芳香族胺，酞菁，偶氮，醌，噻噸系增感色素等的中性色素；二苯基酮類，乙醯苯類，安息香類，噻噸酮類，蒽醌類，咪唑類，聯咪唑類，香豆素類，酮基香豆素類，三苯基吡喃鎓類，三類，苯甲酸類等的化合物。又，亦可使用氧化醯基膦，甲基苯基乙醛酸，α-醯基氧酯，苄基，樟腦醌等的化合物。

在此，陽離子色素時的對陰離子為任意的陰離子，可例舉氯離子，溴離子，碘離子等的鹵離子，或苯碸酸陰離子，對甲苯碸酸陰離子，甲烷碸酸陰離子，BF₄ 陰離子，PF₆ 陰離子，過氯酸陰離子等。

上述增感劑可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用，但應該先考慮所使用的光源發光圖型再予以決定。

陽離子色素方面，可例舉結晶紫(C.I.42555)，甲基紫(C.I.42535)，孔雀綠(C.I.42000)，品紅(fuchsine)(C.I.42510)，結晶紫-甲醇鹼(C.I.42555：1)，副品紅(parafuchsine) (C.I.42500)，羅丹明B(C.I.45170)，維多利亞藍B(C.I.44045)，維多利亞純藍BOH(C.I.42595)，豔綠(C.I.42040)，夜藍BX(C.I.51185)，中性紅(C.I.50040)，鹼性黃1，11，13，21，28，36，鹼性橙21，22，鹼性紅1(C.I.45160)，鹼性紅5(C.I.50040)，鹼性紅13(C.I.48015)，鹼性紫7(C.I.48020)，鹼性紫11(C.I.45175)，結晶紫的對甲苯碸酸鹽或萘碸酸鹽等，維多利亞藍B的對甲苯碸酸鹽或過氯酸鹽，鹼性橙21的對甲苯碸酸鹽或BF₄ 鹽等，鹼性紅5的萘碸酸鹽或PF₆ 鹽等。

電性中性色素方面，可例舉3-烯丙基-1-羧甲基-5-[2-(3-乙基-2(3H)苯并亞噁唑基(benzoxazolylidene)-2-硫代尿囊素(hydantoin)，4-[2-(3-乙基-2(3H)苯并亞噻唑基(benzo thiazoly lidene)亞乙基)-3-苯基-2-異噁唑啉-5-酮，3-(2-苯并噻唑)-7-(二乙基胺基)香豆素，3-(2-苯并咪唑基)-7-(二乙基胺基)香豆素，2,3,6,7-四氫-11-側氧-1H,5H,11H-[1]苯并吡喃并[6,7,8-ij]喹哪啶(quinalidine)-10-羧酸乙基，N,N’-二乙基靛，硫代(thioxo)靛，2-二甲基胺基蒽醌，4-羥基偶氮苯，4-苯基胺基-4’-硝基偶氮苯等。

其他增感劑的具體例方面，可例舉二苯基酮，4-甲基二苯基酮，4-二甲基胺基二苯基酮，4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮，4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮，2,4-二乙基噻噸酮，2-甲基噻噸酮，異丙基噻噸酮，蒽醌，乙基蒽醌，氯蒽醌，羥基甲基蒽醌，胺基蒽醌，甲基胺基蒽醌，Aceanthrance quinone，奈嵌戊烷，N-甲基咪唑，香豆素，7-二乙基胺基香豆素，4-二甲基胺基苯甲酸乙基等。

本發明的光聚合引發劑組成物中，上述增感劑的配合量以5~50質量%為佳。

(2)感光性組成物

本發明的感光性組成物含有上述光聚合引發劑組成物，與具有乙烯性不飽和鍵的化合物，進而可含有高分子聚合物，又，可因應需要，含有顏料或溶劑等各種添加物。

通常，自由基聚合所致的光硬化，係由於在與空氣的界面中，因空氣中的氧所致的聚合阻害，故完全硬化變困難。因此，一般而言，於表面設有不接觸到氧之覆蓋薄膜等的空氣遮斷層，或在氬氣或氮等惰性氣體的氛圍下進行光硬化。但是，本發明的感光性組成物無論有無氧，均顯示出充分的硬化性，以不使用氧遮斷膜為所望之用途，例如作為濾色器形成用感光性組成物可恰當使用。

藉由將本發明的硫胺基甲酸乙酯化合物，與既存的光聚合引發劑組合，使用於感光性組成物，可維持高感度，或者可使感度之提高與保存的穩定性提高為並存。如習知的直鏈型硫醇(月桂基硫醇，辛烷硫醇，HSCH₂ CH₂ COOH衍生物等)或如氫硫基苯并噻唑的芳香族硫醇，即使可達成高感度化，亦無法謀求保存穩定性的充分提高。

可使用於本發明的感光性組成物之具有乙烯性不飽和鍵的化合物，係指一般稱為單體或寡聚物者，藉由自由基聚合(或交聯)反應而可以硬化的化合物。具體言之，可例舉(甲基)丙烯酸，甲基(甲基)丙烯酸酯，丁基(甲基)丙烯酸酯，苄基(甲基)丙烯酸酯，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯，2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯等的各種(甲基)丙烯酸酯，或乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，苯乙烯，二乙烯苯，(甲基)丙烯醯胺，乙酸乙烯，N-羥基甲基(甲基)丙烯醯胺，二新戊四醇六丙烯酸酯，三聚氰胺丙烯酸酯，環氧基丙烯酸酯預聚物等。就曝光感度及硬化後的諸耐性而言，以多官能(甲基)丙烯酸系單體為佳。該等具有乙烯性不飽和鍵的化合物，可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。此外，所謂「(甲基)丙烯」，係指「甲基丙烯」及「丙烯」的任一個。

可使用於本發明感光性組成物之高分子聚合物，係指可形成膜厚1μm以上之均一膜的高分子聚合物。較佳為，在可視光區域400~700nm的全波長區域中透過率為80%以上者，更佳為95%以上的透明高分子聚合物。進而，以可溶於顯影液(溶劑或者鹼水溶液)者為佳。

高分子聚合物方面，有熱硬化性樹脂，熱塑性樹脂及感光性樹脂等，例如，可使用聚丙烯酸酯類，聚-α-烷基丙烯酸酯類，聚醯胺類，聚乙烯縮醛類，聚胺甲酸乙酯類，聚碳酸酯類，聚苯乙烯類，聚乙烯酯類，苯酚樹脂，環氧基樹脂，酚醛清漆樹脂，醇酸樹脂等的聚合物，或者共聚體的單獨1種或2種以上的混合物。

又，上述高分子聚合物係以促進本發明感光性組成物的硬化反應，或者提高硬化物的特性為目的，亦可具有可進行自由基聚合的乙烯性不飽和鍵基。若要求硬化物仍能作為永久膜的用途或製造步驟具耐久性時，例如在濾色器的用途上，由於在製造中之後步驟中，進行高溫處理或以各種溶劑或者藥品處理，故高分子聚合物方面，以使用耐熱性及經時間變化穩定性等優異之物為佳。

顏料方面，可例舉下述之物。每一項均以染料索引數字表示。可例示C.I.色素黃12，13，14，17，20，24，55，83，86，93，109，110，117，125，137，139，147，148，153，154，166，168；C.I.色素橙36，43，51，55，59，61；C.I.色素紅9，97，122，123，149，168，177，180，192，215，216，217，220，223，224，226，227，228，240；C.I.色素紫19，23，29，30，37，40，50；C.I.色素藍15，15：1，15：4，15：6，22，60，64；C.I.色素綠7，36；C.I.色素棕23，25，26；C.I.色素黑7，及鈦黑等。該等顏料可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。

本發明的感光性組成物中，為了依用途賦予適當的黏度或操作性，硬化物特性等，可添加各種添加劑。例如，又為了達到充分分散各成分，提高塗佈時的操作性及密接性等，調整黏度等的目的，亦可添加揮發性的溶劑。

揮發性的溶劑方面，可例舉醇類，酮類，酯類等。更具體言之，可例舉甲醇，乙醇，甲苯，環己烷，異佛爾酮，溶纖劑乙酸酯，二乙二醇二甲基醚，乙二醇二乙基醚，二甲苯，乙基苯，甲基溶纖劑，乙基溶纖劑，丁基溶纖劑，丙二醇單甲基醚，乙酸異戊酯，乳酸乙酯，甲基乙基酮，丙酮，環己酮等。該等可單獨使用1種或混合2種以上使用。

若依照用途無法使用上述的揮發性溶劑時，可使用反應性的溶劑。可例舉2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯，甲基(甲基)丙烯酸酯，正丁基(甲基)丙烯酸酯，環己基(甲基)丙烯酸酯，異基(甲基)丙烯酸酯，N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯，N-丙烯醯基嗎啉基，N-丙烯醯基哌啶，N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺，N-乙烯吡咯啶酮，N-乙烯乙醯胺等。該等可單獨使用1種，或混合2種以上使用，進而可因應需要混合上述的揮發性溶劑。

本發明的感光性組成物可依其目的，進而含有螢光增白劑，界面活性劑，可塑劑，難燃劑，防氧化劑，紫外線吸收劑，發泡劑，防黴劑，防靜電劑，磁性體，導電材料，抗菌．殺菌材料，多孔質吸著體，香料等。

又，本發明的感光性組成物中，為了防止保存時的聚合，亦可添加熱聚合防止劑。熱聚合防止劑的具體例方面，可例舉對甲氧基苯酚，氫醌，兒茶酚，三級丁基兒茶酚，吩噻嗪(phenothiazine)，甲氧基醌(methoquinone)等等。又，為了防止分散時聚合反應等所引起的膠化，亦可添加聚合抑制劑。又，為了使顏料的分散效果佳，可適當的添加分散助劑。分散助劑係有助於顏料分散，且具有防止分散後再凝集的效果。為了獲得適當的流動性，或獲得硬化物的遮光性或機械上．物理上的特性，亦可添加硫酸鋇，碳酸鈣，二氧化矽，二氧化鈦，氧化鋁，鋁粉等的底質顏料。

本發明的感光性組成物中，各成分的配合比率無法一概規定，但通常如下述。

併用上述具有乙烯性不飽和鍵的化合物與上述高分子聚合物時，高分子聚合物的配合量，相對於具有乙烯性不飽和鍵的化合物100質量份，一般為1~300質量份，較佳為50~200質量份。

光聚合引發劑組成物的配合量，相對於具有乙烯性不飽和鍵的化合物100質量份，一般為2~400質量份，較佳為20~200質量份。

更具體言之，光聚合引發劑組成物中的硫胺基甲酸乙酯化合物，相對於具有乙烯性不飽和鍵的化合物100質量份，一般為1~200質量份，較佳為10~100質量份的配合。硫胺基甲酸乙酯化合物若過少，聚合開始無法有效的進行，過多時，不但不能預估聚合開始機能的提高效果，還會對硬化物的物性造成不良的影響，故兩者均為不佳。

又，光聚合引發劑組成物中的增感劑，相對於具有乙烯性不飽和鍵的化合物100質量份，一般配合1~60質量份，較佳為配合2~30質量份。增感劑若過少，無法獲得增感效果，過多則因增感劑的光吸收而致光透過效率惡化，由於任一種均使聚合開始效率降低，故為不佳。

顏料的配合量，相對於具有乙烯性不飽和鍵的化合物100質量份，一般為100~2000質量份左右。

本發明的感光性組成物，可藉由將上述各成分以3輥研磨機，2輥研磨機，砂磨機，攪磨機(attritor)，球磨機，捏合機，塗料震盪機(paint shaker)等的各種分散方法，混合而製造。又，亦可於顏料分散後，配合單體或光聚合引發劑。

(3)使用感光性組成物的圖型形成方法

有關使用本發明的感光性組成物的圖型形成方法說明如下。

首先，於玻璃，鋁，聚對酞酸乙二酯(PET)等聚酯薄膜等的基板上，藉由噴灑塗怖，旋轉塗佈，輥塗佈，篩網(screen)塗佈，塗膠(spread)塗佈，浸漬塗佈，壓延(calender)塗佈等的塗佈方法來塗佈本發明的感光性組成物。在此，本發明的感光性組成物中，為了獲得適當的塗佈特性，可添加作為均平劑或消泡劑之少量的矽系或者氟系等的界面活性劑。

塗佈感光性組成物之後，可因應需要，以熱風烤箱或熱板等，一般在60~100℃，10~30分的條件下，使揮發性溶劑乾燥。若此時的溫度太高，乾燥時間太長的話，將會產生一部份聚合或者交聯的現象，對未曝光部顯影液的溶解性降低，即引起燒焦的現象，故為不佳。又，亦可於減壓下乾燥。之後，亦可因應用途於塗膜上設置氧遮斷膜。

接著，曝光經乾燥的塗膜。此時可依照用途，透過具有圖型的光罩，進行紫外線曝光。光源方面，一般係使用超高壓水銀燈，金屬鹵素燈，氙燈等，可依照用途或基板的種類，使用具熱線切割性或波長選擇性的過濾器。曝光後，去除未硬化部分，可於基板上形成圖型。

使用到本發明感光性組成物之一定形狀的圖型形成方法方面，大體區分有2種方法。第一種係，預先於目的的形狀上塗佈感光性組成物後，藉由光照射使其硬化的方法，另一種係，於基板上塗佈一樣的感光性組成物後，使曝光部分成為目的的形狀，進行光照射使感光性組成物硬化後，洗淨未曝光部分，以剝離，物理研磨，化學研磨等的方法去除，藉由殘存的光硬化物形成圖型的方法。

所謂以本發明的感光性組成物所形成的圖型，係指為了使基板上保有一定的形狀所形成的感光性組成物的光硬化物，具體言之，可例舉光製版用光阻，光阻防銲劑(solder resist)，蝕刻光阻，濾色器光阻，全息照相，光造形，UV油墨等用途領域中的圖型。本發明的感光性組成物特別適合使用於形成精細圖型的顯影型光阻。

上述圖型形成用的基板方面，除了玻璃或矽等的無機材料，鋁，不鏽鋼，銅等的金屬材料，PET，聚酯，聚醯亞胺，環氧基樹脂，聚乙烯，聚碳酸酯等的樹脂材料之外，亦可使用紙等。亦可藉由該等基板表面的氧化處理，酸處理，電漿處理，放電處理等，使感光性組成物的附著性提高。基板的厚度可任意設定。又，可於感光性組成物與基板之間，設置不參與光反應的樹脂層等。

上述圖型的形成方法中，溶解去除光照射後的感光性組成物的未硬化部分(顯影處理)時，顯影液用的溶劑方面，可例舉，N-甲基吡咯啶酮，甲醇，乙醇，甲苯，環己烷，異佛爾酮，溶纖劑乙酸酯，二乙二醇二甲基醚，乙二醇二乙基醚，二甲苯，乙基苯，甲基溶纖劑，乙基溶纖劑，丁基溶纖劑，丙二醇單甲基醚，丙二醇單甲基醚乙酸酯，乙酸異戊酯，乳酸乙酯，甲基-乙基酮，丙酮，環己酮，N,N-二甲基甲醯胺，乙腈等的有機溶劑，或鹼水溶液等。該等可單獨使用1種，亦可組合2種以上。進而，亦可於該等溶劑中，添加三甲基胺，或三乙基胺等的鹼性物質或界面活性劑類。

鹼水溶液方面，例如可使用氫氧化鈉，氫氧化鉀，碳酸鈉，碳酸鉀等的無機鹽水溶液，或羥基四甲基銨，羥基四乙基銨等的有機鹽水溶液。該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。

[實施例]

以下，根據實施例進而具體說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。此外，以下的「份」係表示「質量份」。又，實施例所使用的分析機器及分析條件如下述。

<氣體層析術(GC)>

分析機器：島津製作所公司製「GC14A」

柱：J&W公司製「DB-1」30m×0.53mm×1.5μm

柱溫度：70℃至250℃止，以10℃/min昇溫，以250℃保持18分鐘

積分器(integrator)：島津製作所公司製「CR7A」

注射(injection)溫度：220℃

偵測器(detector)溫度：270℃ FID

檢出器：FID H₂ 40ml/min Air 400ml/min

載體(carrier)氣體：He 10ml/min。

<高速液體層析術(HPLC)>

柱：昭和電工公司製「Shodex 5C84E」

溶離液組成：乙腈/水=3/1(體積比)2mM過氯酸四正丁基銨

幫浦：昭和電工公司製「Shodex DS-4」

檢測器：昭和電工公司製「Shodex UV-41」，昭和電工公司製「Shodex RI-71」

檢測波長：210nm。

[硫醇合成例1]

丁烷二醇雙(3-氫硫基丁酸酯)(BDMB)的合成

將丁烷二醇(和光純藥工業公司製)20g(222mmol)，3-氫硫基丁烷酸(淀化學公司製)58.7g(488mmol)，對甲苯碸酸．1水合物(純正化學公司製)2.78g(14.6mmol)及甲苯(純正化學公司製)100g放入300mL茄形燒瓶內，安裝Dean-Stark裝置及冷卻管。一面攪拌內容物，一面以油浴溫度140℃加熱。反應開始4小時後予以放置冷卻，以離子交換水洗淨後，以飽和碳酸氫鈉水溶液中和反應液。進而以離子交換水洗淨3次後，以無水硫酸鎂(純正化學公司製)進行脫水．乾燥。接著餾除甲苯，將剩餘部分經二氧化矽膠的柱色譜層析術，進行BDMB的精製。二氧化矽膠係使用wako gel C-200(和光純藥工業公司製)，溶離溶劑方面係使用正己烷/丙酮=7/1(容積比)。精製所得之BDMB為無色透明液體，收量為31.1g，收率為48%。

[硫醇合成例2]

三羥甲基丙烷參(3-氫硫基丁酸酯)(TPMB)的合成

以日本特開2004-149755號公報所記載的方法合成TPMB。

[硫醇合成例3]

新戊四醇肆(3-氫硫基丁酸酯)(PEMB)的合成

將新戊四醇(東京化成工業公司製)26g(102mmol)，3-氫硫基丁烷酸(淀化學公司製)54g(450mmol)，對甲苯碸酸．1水合物(純正化學公司製)2.6g(13.5mmol)及甲苯(純正化學公司製)100g放入300mL的燒瓶內，安裝Dean-Stark裝置及冷卻管。一面攪拌內容物，一面以油浴溫度140℃加熱。反應開始4小時後予以放置冷卻，以離子交換水洗淨後，以飽和碳酸氫鈉水溶液中和反應液。進而以離子交換水洗淨3次後，以無水硫酸鎂(純正化學公司製)進行脫水．乾燥。接著餾除甲苯，將殘留分施以二氧化矽膠所致的柱色譜層析術，進行PEMB的精製。二氧化矽膠係使用Wako gel C-200(和光純藥工業公司製)，溶離溶劑方面係使用正己烷/丙酮=7/1(容積比)。精製所得之PEMB為無色透明液體，收量為24.5g，收率為21%。

[異氰酸酯合成例1] 1,3-雙丙烯醯基氧-2-甲基-丙烷-2-異氰酸酯(BEI)的合成

(第1步驟)

在備有攪拌器，溫度計，滴下漏斗及回流冷卻器的500mL四口燒瓶內，氮氛圍下，放入2-胺基-2-甲基-1,3-丙烷二醇20.0g(0.19mol)與甲苯200mL。然後，將氯化氫氣體以100mL/min的流量供給1小時。

(第2步驟)

將第1步驟所得之液體加熱至95℃，以1小時的時間供給氯化3-氯丙酸54.3g(0.43mol)，進而於95℃下繼續加熱1小時。

(第3步驟)

一面將第2步驟所得之液體保持在90℃，一面以4小時的時間供給氯化羰43.0g(0.43mol)，進而於90℃下繼續加熱1小時。其後，導入氮去除反應液中溶存的氯化羰。

(第4步驟)

第3步驟所得之液體中的鹼分解濃度為7.9%，其200g液體中的鹼分解性氯量為15.8g(0.45mol)。將其液體放入500mL的燒瓶內，添加作為聚合防止劑的吩噻嗪(phenothiazine)0.05g與2,6-雙-三級丁基羥基甲苯0.05g。其後，以1小時的時間滴下三乙基胺45.0g(0.45mol)。將25℃開始滴下的液體藉由發熱上升至60℃。繼續加熱至70℃加熱攪拌5小時後，於室溫冷卻。將生成的固形成分過濾分離，以甲苯洗淨固形成分，獲得濾液200g。使用氣體層析術分析時，獲得1，3-雙丙烯醯基氧2-甲基-丙烷-2-異氰酸酯32.2g(0.13mol)，收率71%。

(精製步驟)

於上述濾過液中添加吩噻嗪0.05g與2,6-雙-三級丁基羥基甲苯0.05g，以真空幫浦將壓力減壓至0.7kPa，餾除溶劑。接著，減壓至0.3kPa，蒸餾獲得105~110℃的餾份。所得為1,3-雙丙烯醯基氧2-甲基-丙烷-2-異氰酸酯26.2g(0.11mol)，收率58%。

[異氰酸酯合成例2] 3-甲基丙烯醯基氧苯基異氰酸酯(MPI)的合成

(第1步驟)

在備有攪拌器，溫度計，滴下漏斗及回流冷卻器的500mL四口燒瓶內，氮氛圍下，放入3-胺基苯酚(三井化學製)30g(0.275mol)，與作為溶劑的1,4-二噁烷350mL。接著，加熱至60℃，以100mL/min的流量，1小時10分鐘的時間供給氯化氫氣體。

(第2步驟)

將所得的液體加熱至60℃，以5小時的時間供給氯化羰54.0g(0.54mol)，進而維持溫度3小時。反應完成後，導入氮去除氯化羰。採取樣本，以GC分析的結果，所得3-異氰酸酯苯酚的收率為90%。

(第3步驟)

於所得的液體內添加o-二氯苯300mL，進而添加氯化甲基丙烯酸200g(1.91mol)及吩噻嗪1.0g後，以110℃加熱48小時。

(精製步驟)

於所得的反應液中，添加吩噻嗪1.0g及2,6-雙-三級丁基羥基甲苯0.5g，以真空幫浦減壓至10kPa，餾除溶劑。將其濃縮液放入100mL的燒瓶內，減壓至0.1kPa，予以餾除，獲得123~125℃的餾份13.8g。餾份為3-甲基甲基丙烯醯基氧苯基異氰酸酯，收率為25%。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例1]

將BDMB4.0g(13.6mmol)，甲苯(純正化學公司製)20g，為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.18g(0.29mmol)放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。一面攪拌內容物，一面將2-甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯(MOI)(昭和電工公司製)4.43g(28.6mmol)以30分鐘的時間滴下後，以油浴溫度50℃加熱。放置5小時使其冷卻後，藉由己烷，去除過剩量的2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物BDMB-MOI7.22g，收率為88%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物BDMB-MOI的¹ H-NMR光譜如圖1所示。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例2]

將TPMB4.04g(9.2mmol)，甲苯(純正化學公司製)20g ，作為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.18g(0.29mmol)放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。一面攪拌內容物，一面將2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯(昭和電工公司製)4.48g(28.9mmol)以30分鐘的時間滴下後，以油浴溫度50℃加熱。反應開始5小時後放置冷卻，藉由以己烷，去除過剩量的2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物TPMB-MOI7.12g，收率為85%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物TPMB-MOI的¹ H-NMR光譜如圖2所示。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例3]

將PEMB4.03g(7.4mmol)，甲苯(純正化學公司製)20g ，作為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.20g(0.3mmol)，放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。一面攪拌內容物，一面將2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯(昭和電工公司製)4.82g(31.1mmol)以30分鐘的時間滴下後，以油浴溫度50℃加熱。反應開始6小時後放置冷卻，藉由以己烷，去除過剩量的2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物PEMB-MOI7.06g，收率為82%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物PEMB-MOI的¹ H-NMR光譜如圖3所示。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例4]

將三羥甲基丙烷參(3-氫硫基丙酸酯)(TPMP)(淀化學公司製)20g(50.2mmol)，作為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.5g(0.8mmol)，放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。一面攪拌內容物，一面將2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯(昭和電工公司製)24.5g(158mmol)以120分鐘的時間滴下後，以28℃繼續攪拌4.5小時。藉由以己烷，去除過剩量的2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯及TPMP，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物TPMP-MOI35.0g，收率為81%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物TPMP-MOI的¹ H-NMR光譜如圖4所示。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例5]

將新戊四醇肆(3-氫硫基丙酸酯)(PEMP)(淀化學公司製)10g(20.5mmol)，作為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.5g(0.9mmol)，放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。一面攪拌內容物，一面將2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯(昭和電工公司製)13.4g(86.4mmol)以60分鐘的時間滴下後，以35℃繼續攪拌7小時。藉由以己烷，去除過剩量的2-甲基甲基丙烯醯基氧乙基異氰酸酯及PEMP，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MOI19.4g，收率為86%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MOI的¹ H-NMR光譜如第5圖所示。

[硫胺基甲酸乙酯化合物合成例6]

將新戊四醇肆(3-氫硫基丙酸酯)(PEMP)(淀化學公司製)5.7g(11.7mmol)，3-甲基甲基丙烯醯基氧苯基異氰酸酯(MPI)10.0g(49.3mmol)，作為觸媒的二丁基錫二月桂酸酯0.3g(0.5mmol)，溶劑二氯甲烷亞甲基，放入100mL的茄形燒瓶中，安裝冷卻管。攪拌內容物7.75小時。餾除二氯甲烷亞甲基後，藉由以己烷，去除過剩量的3-甲基甲基丙烯醯基氧苯基異氰酸酯與PEMP，獲得硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MPI13.7g，收率為90%。所得之硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MPI的¹ H-NMR光譜如圖6所示。

[側鏈具有羧基的黏合劑樹脂(EP-1)之合成]

放入epikote1004(雙酚A型環氧基樹脂，日本環氧樹脂公司製，環氧基當量925)185g，丙烯酸14.4g，氫醌0.20g及二乙二醇單甲基醚乙酸酯(以下簡稱「DGEA」。Daicel化學公司製)197g，加熱至95℃。確認該混合物已平均溶解後，放入三苯基膦2.0g，加熱至100℃，使其反應約30小時，獲得酸價0.5mgKOH/g的反應物。於該等放入四氫酞酸酐(新日本理化公司製)96.0g，加熱至90℃，使其反應約6小時。以IR確認酸酐的吸收已消失，可獲得固形成分酸價119mgKOH/g，固形成分濃度60%的環氧基丙烯酸酯樹脂EP-1。

[顏料分散液的調製]

於300mL的不鏽鋼罐內，放入Ajisper PB822(顏料分散劑，味之素Fine Techno公司製)1.98g，將該等以丙二醇單甲基醚乙酸酯(以下略稱為「PMA」。Daicel化學公司製)113.5g溶解。將該等溶液與12.54g的EP-1，15.0g的Special Black 350(碳黑，Degussa公司製)及15.0g的13M-C(鈦黑三菱材料公司製)混合後，添加直徑0.65mm的氧化鋯珠200g，以paint conditioner(淺田鐵工公司製)進行3小時的分散處理。將所得的顏料分散液以孔徑0.8μm的濾紙過濾，成為黑色的顏料分散液。

[感光性組成物的調製]

以表1所示的組成調製實施例1~6及比較例1的感光性組成物。

表1中*1~*10的注釋如下。

*1：碳黑，Degssa公司製

*2：鈦黑，三菱材料公司製

*3：顏料分散劑，味之素Fine Techno公司製

*4：丙二醇單甲基醚乙酸酯，Daicel化學工業公司製

*5：二乙二醇單乙基醚乙酸酯，Daicel化學工業公司製

*6：雙酚A EO4莫耳加成二丙烯酸酯，共榮公司化學公司製

*7：二新戊四醇六丙烯酸酯，東亞合成公司製

*8：N,N-雙(二乙基胺基)二苯基酮，保土谷化學公司製

*9：2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-嗎啉基(morpholino)丙烷-1-酮，千葉特用化學品製

*10：氟系化合物，大日本油墨工業公司製。

[感光性組成物的評價]

於玻璃基板(大小為100×100×1mm)上，以使乾燥膜厚成為約1μm的方式旋轉塗佈實施例1~6及比較例1的感光性組成物，於室溫下放置30分鐘後，以70℃乾燥20分鐘去除溶劑，形成光阻膜。接著，預先以膜厚計(公司東京精密製「SURFCOM130A」)測定的光阻膜膜厚之後，使用裝有超高壓水銀燈的曝光裝置(Ushio電機公司製，商品名：Multilight ML-251A/B)，自動的使曝光量階段的變化，透過石英製的光罩，曝光光阻膜，使其硬化。使用紫外線累計光量計(Ushio電機公司製，商品名：UIT-150，受光部UVD-S365)測定曝光量。又，所使用的石英製光罩，係由線/間隙為5，7，10，30，50，70及100μm的圖型所形成者。

將如上述作法所曝光的光阻膜，以含碳酸鉀的鹼顯影劑之Developer 9033(Sibley．Far East公司製)0.25%，與含十二基苯碸酸鈉0.03%的水溶液(25℃)，以設定的時間鹼顯影。此外，顯影時間係設定為以鹼顯影完全溶解曝光前的皮膜之時間(tD)的2.0倍(本實施例為tD=25秒)。鹼顯影後，水洗，以空氣噴灑乾燥玻璃基板，測定殘留的光阻膜厚，計算殘膜率。以下列的式子算出殘膜率。

殘膜率(%)=100×(鹼顯影後膜厚)/(鹼顯影前膜厚)

進而，變更曝光量，以同於上述的方法實施光硬化操作，將曝光量與殘膜率的關係繪圖作成的圖表，求出殘膜率達到飽和的曝光量。

又，以光學顯微鏡(keyence公司製，VH-Z250)測定光罩的線/間隙在10μm的部分形成的光阻線寬。

藉由上述方法，鹼顯影後的殘膜率達到飽和，以與光罩的線寬(10μm)相同的線寬之曝光量為感光性組成物的光感度。結果如表2所示。

[圖1]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例1合成的硫胺基甲酸乙酯化合物BDMB-MOI的¹ H-NMR光譜圖。

[圖2]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例2合成的硫胺基甲酸乙酯化合物TPMB-MOI的¹ H-NMR光譜圖。

[圖3]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例3合成的硫胺基甲酸乙酯化合物PEMB-MOI的¹ H-NMR光譜圖。

[圖4]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例4合成的硫胺基甲酸乙酯化合物TPMP-MOI的¹ H-NMR光譜圖。

[第5圖]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例5合成的硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MOI的¹ H-NMR光譜圖。

[圖6]表示以硫胺基甲酸乙酯化合物合成例6合成的硫胺基甲酸乙酯化合物PEMP-MPI的¹ H-NMR光譜圖。

Claims

一種下述一般式(II)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物， [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基]。
一種下述一般式(III)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物， [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₄ 表示氫原子或甲基，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基)。
一種下述一般式(IV)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物， [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，R₇ 表示直接鍵結或碳數1~5的直鏈或者分支鏈的烷撐基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1，l表示2~6的整數，X表示氫原子或鹵原子，o表示0~4的整數，p表示1~3的整數，l≦o+p≦5，L₂ 表示來自選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的取代基]。
一種如申請專利範圍第1項的一般式(II)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法，其特徵為，使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1]所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物的酯化反應所得的硫醇化合物；與下述一般式(VI)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)]所示之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應。
一種如申請專利範圍第2項的一般式(III)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法，其特徵為，使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1] 所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物，的酯化反應所得的硫醇化合物；與下述一般式(VII)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₄ 表示氫原子或甲基]所示之含乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應。
一種如申請專利範圍第3項的一般式(IV)所示的硫胺基甲酸乙酯化合物的製造方法，其特徵為，使下述一般式(V)： [式中，R₅ 及R₆ 表示氫原子或碳數1~10的烷基，m表示0或1~2的整數，n表示0或1]所示之含氫硫基的羧酸化合物，與選自具有可為分支鏈的碳數2~10之烷撐基的烷撐二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、新戊四醇、二新戊四醇、環己烷二醇、環己烷二甲醇、降烯基二甲醇、雙酚A、氫化雙酚A、4,4’-(9-亞芴基)雙(2-苯氧基乙醇)及參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯的多官能醇化合物，的酯化反應所得的硫醇化合物；與下述一般式(VIII)： [式中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示-CO-、-COO-或-COOR₃ -(R₃ 表示碳數2~6的烷撐基)，R₇ 表示直接鍵結或碳數1~5的直鏈或者分支鏈的烷撐基，X表示氫原子或鹵原子，o表示0~4的整數，p表示1~3的整數，l≦o+p≦5]所示之含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物反應。
一種光聚合引發劑組成物，其特徵為，含有申請專利範圍第1~3項中任一項的硫胺基甲酸乙酯化合物與光聚合引發劑。
如申請專利範圍第7項的光聚合引發劑組成物，其進而含有增感劑者。
一種感光性組成物，其特徵為，含有如申請專利範圍第7項的光聚合引發劑組成物與具有乙烯性不飽和鍵的化合物。
如申請專利範圍第9項的感光性組成物，其進而含有高分子聚合物。
如申請專利範圍第10項的感光性組成物，其中該高分子聚合物為可溶於溶劑或鹼水溶液的聚合物。
如申請專利範圍第9項的感光性組成物，其進而含有顏料者。
一種濾色器，其特徵為，在基板上形成如申請專利範圍第12項記載的感光性組成物所成的著色圖型。