TWI409592B - 照明系統及光微影裝置 - Google Patents

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TWI409592B
TWI409592B TW096115502A TW96115502A TWI409592B TW I409592 B TWI409592 B TW I409592B TW 096115502 A TW096115502 A TW 096115502A TW 96115502 A TW96115502 A TW 96115502A TW I409592 B TWI409592 B TW I409592B
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Bubke Karsten
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Advanced Mask Technology Ct Gmbh & Co Kg
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Description

照明系統及光微影裝置
本發明係有關一種適用於光微影裝置之照明系統，及一種包含該照明系統之光微影裝置。
半導體裝置製造期間，該裝置組件通常由被沉積於一矽晶圓上之圖案層形成。這些圖案層係藉由施加一阻劑物質至將被圖樣化的層，及隨後曝光對曝光波長敏感之電阻層預定部分。此後，係發展輻射(或否)發光之區域，而隨後移除發光或不發光部分。因此，部分該層係於如蝕刻步驟或植入步驟的以下處理步驟期間被所產生光阻劑圖案遮罩。處理標的層曝光部分之後，該阻劑遮罩係被移除。
本光微影大致任務係達成較小圖案尺寸及固定曝光波長之更大允許聚焦深度(DOF)。此任務可以使用最新遮罩，特別是相移遮罩，及可替代使用離軸照明來達成。
例如，第1圖可辨認該離軸照明效應。第1圖顯示一種可將光罩4上所形成之一圖案映射至一基板，特別是被圖樣化之一半導體晶圓上的光學投影或光微影裝置1。一照明源21可以預定波長範圍發射電磁輻射。該光學投影裝置包含一聚光鏡22，可產生一照明分布的一裝置3及光罩4。一圖案41係被形成於光罩4上。光罩4的圖案41係藉由投影系統11映射至晶圓5上。可產生一照明分布的裝置3可被形成用以定義光學投影裝置1之照明瞳面中的任意照明分布。例如，第1圖標示之可產生一照明分布的裝置3，係可為一孔徑元件3。該例中，孔徑元件3可形成用以提供垂直撞擊至光罩4的一軸光束24。此例中，孔徑元件例於其中央部分，係具有可傳送100%即將到來輻射的一開口。可替代是，孔徑元件3亦具有放置其中央外側的開口，而產生離軸光束25。視結構特徵而定，當軸光束24被光罩4上之圖案41繞射時，僅第0階繞射光束位於投影系統11的入瞳區域111內。然而，若離軸光束25被光罩上之圖案41繞射時，第0及1繞射階係位於投影系統11的入瞳區域111內。離軸光束25之繞射階係藉由虛線標示，而軸光束24之繞射階係藉由實線標示。通常，映射圖案品質愈佳，愈多繞射階位於鏡組件11的入瞳區域111內。於是，如第1圖清楚顯示，使用離軸照明，可產生至少兩干擾繞射階。
第2圖顯示一干擾圖案12例，其係藉由重疊該被繞射離軸光束25的第0繞射階及第1繞射階形成。例如，可使用玻璃上鉻膜(COG)，半調相移遮罩(HTPSM)或鉻相位微影(CPL)遮罩作離軸照明。
為了進一步增加規則線/空間圖案中之印刷對非印刷線對比，係調查光極化方向的影響。特別是，如第3A圖顯示，若入射光具有垂直遮罩圖案41指向的一垂直方向，則會產生影像對比損失及被投影至晶圓5的影像品質損失。特別是，如第3A圖收集，與第一及第二繞射光束131，132連結之電場141及142彼此干擾，因而降級晶圓5上的影像。
相對地，若入射光束13之極化方向14與光罩4之圖案41指向平行，則該相關電場係與光束131，132之傳播方向平行，因此，與被繞射光束131，132連結之電場141及142彼此平行，藉此增加影像對比。如第3B圖顯示，光束131，132之極化方向141，142，係與圖示平面垂直。特別是，它們係從觀察者所思考之頁面出來。
以上問題係已藉由已知如US 6,970,233 B2實施使用極光之照明分布來解決。如第4圖顯示，為了更明確，可產生一照明分布的一裝置，係可於光微影裝置之照明瞳中產生一照明分布6。可實施離軸照明之照明分布6係包含四極點30a，b，c，d，其中各該極之極化方向係與照明分布60中央點(無圖示)附近所繪之圓平行。此極化係被稱為方位角或切線極化，也就是瞳中之電場與同心電路平行。所示照明分布60結合特殊極化方案，係可以高對比促成水平極垂直線印刷。
如第4圖顯示，例如一極點或照明極點，係涉及部分照明瞳區域，該部分係具有較環繞照明極點之照明瞳剩餘部分為高的光密度。
例如，包含一個或更多極點之一照明分布，係可藉由使用一適當孔徑元件，一繞射元件或一適當透鏡系統來產生。
一替代相移遮罩(AltPSM)中，遮罩透明基板本身係被圖樣化來提供相移區域。詳細說，鄰接透明區域會產生相移180度。此外，鉻圖案可選擇地被形成於遮罩表面上。替代相移遮罩或少鉻相移遮罩的優點係為低遮罩錯誤增強因子(MEEF)。特別是，低遮罩錯誤增強因子係於僅於晶圓上之影像缺陷上具有少許結果的遮罩中產生缺陷結構。此外，可以此遮罩類型獲得聚焦深度增加及較高解析度。
相移遮罩微影工作原理基本上與上述離軸方案不同。例如第5A圖顯示，僅使用軸照明。如圖示，第0繞射階係被最小化，而第1及－1階係被當作高密度映射鏡線/空間。也就是說，輻射源發射的光係被相移遮罩上之圖案41繞射，產生第1及－1繞射階光束132，131。該第1及－1繞射階光束132，131係干擾產生一干擾圖案12。為了產生軸光束，可使用類似第5B圖顯示者的一孔徑元件。如圖示，孔徑元件3係包含一透明部分37於其中央處，而該孔徑元件具有鄰接該邊緣部分的一不透明部分38。特別是，第5B圖顯示由孔徑元件3產生之照明分布，係具有密度遠高於該照明分布邊緣的一中央極點。當使用相移遮罩時，亦有利地使用極光。特別是，為了轉換僅於一方向延伸之線/空間圖案，較佳使用線性極化光線，其中該極化方向係與該線/空間圖案指向平行。結果，可改善對比。然而，若包含指向x及y方向之線/空間圖案之一圖案將被轉換，則直到現在尚無法得知適當照明方案。
如第5B圖收集，因為其僅由一單極點36組成，所以不能輕易地將第4圖之極化方案應用至此類孔徑元件。
鑑於上述，本發明目的係提供可顯著改善轉換至一基板上之圖案影像對比及影像品質的一照明系統。
再者，本發明一目的係提供包含該照明系統的一光微影裝置。
依據本發明，以上目的係可藉由一照明系統來達成，該照明系統適用於一光微影裝置中，該照明系統包含可發射電磁輻射的一照明源，一極化裝置，可產生一照明分布之一裝置，該產生照明分布之裝置係具有一中央點及一外緣，該照明分布包含被界定圍繞該裝央點之一第一不透明部分，該第一不透明部分各點係具有小於rin 距該中央點之一距離，被界定鄰接該外緣之一第二不透明部分，該第二不透明部分係具有大於rout 距該中央點之一距離，及配置於該第一及第二不透明部分之間的一輻射傳送部分，其中該極化裝置係被配置於該照明源及可產生一照明分布之該裝置之間，該極化裝置被適應產生具有局部改變極化方向之線性極化電磁輻射，而產生至少一第一及一第二極化方向，該第一極化方向與該第二極化方向不同，而該照明分布輻射傳輸部分之至少兩不同點處的該極化方向，係與連接此點及該照明分布中央點的一線平行。
較佳是，該輻射傳送部分係包含一第一，一第二，一第三及一第四極點，其中該第一及第二極點係沿一第一方向設置，而第三及第四極點係沿一第二方向設置，該第二方向係與該第一方向垂直，其中各該極點傳送輻射密度係大於該輻射傳送部分另一部份，而其中該第一及第二極點所傳送之該電磁輻射極化方向係與該第一方向平行，而該第三及第四極點所傳送之該電磁輻射極化方向係與該第二方向平行。
特別是，各該極點可具有一圓形。
可替代是，至少一該極點可具有一橢圓形。
依據本發明另一實施例，至少一該極點可具有環段形狀。特別是，該環可由該輻射傳送部分輪廓形成。該段可被形成使該段邊界，與該輻射傳送部分輪廓交叉之邊界，具有與該裝置中央點之一輻射方向以產生一照明分布。
依據本發明，各該第一，第二，第三及第四極點之直徑可與rout 及rin 之間差異相等。然而，各該第一，第二，第三及第四極點之直徑可彼此不同。
依據本發明另一實施例，該輻射傳送部分係具有一環狀，該輻射傳送部分內之電磁輻射傳送密度係為固定。
本發明進一步提供一光微影裝置，包含將被圖樣化之一基板，一光罩，該光罩具有將被轉移至該基板之複數圖案，該光罩包含延伸於一第一方向且具有一圖案尺寸dx之至少一圖案，如上述之一照明系統，及可將該光罩影像投影至該基板之一光學投影系統，該光學投影系統具有一數值孔徑(NA)。
特別是，該第二不透明部分半徑rout ，係可視該光罩圖案尺寸dx及該光學投影系統數值孔徑(NA)來決定，使得針對以該輻射傳送部分照明之光正負第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側。於是，可產生一照明分布之該裝置參數，係可依據該微影裝置及將被轉移至該基板之圖案來設定。為了更明確，係固定該參數圖案尺寸dx及該光學投影系統數值孔徑(NA)。可依據這些參數來選擇可產生一照明分布之該裝置參數，使得針對以該輻射傳送部分照明之光＋第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側。
特別是，該第二不透明部分半徑rout ，係可較佳視該光罩圖案尺寸dx及該光學投影系統數值孔徑(NA)來決定，使得針對以該第一極點照明之光正第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側，及針對以該第二極點照明之光負第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側。
結果，可以高對比轉移具有X方向指向之一線/空間圖案，及具有y方向指向之一線/空間圖案至將被圖樣化的一基板上。
此外，該第二不透明部分半徑rout ，係可較佳視該光罩圖案尺寸dx及該光學投影系統數值孔徑(NA)來決定，使得針對以該第三極點照明之光正第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側，及針對以該第四極點照明之光負第一繞射階部分，可位於該光學投影系統數值孔徑外側。
該光微影裝置係包含特別為一替代相移遮罩的一光罩，或藉由映射輻射之正負第一繞射階干擾產生圖案的任何其他光罩。
可產生一照明分布之該裝置係包含一適當孔徑元件，一繞射元件或一適當透鏡系統或這些元件適當組合。
第6圖說明依據本發明之光微影裝置例。該光微影裝置包含一照明源21之一照明系統24。該照明源可為任何光源或其他裝置，或可產生用來創造一光微影影像之光線的裝置組合。如遍佈此揭示所使用，”光”名詞係涉及可見光譜極不可見光譜中之電磁輻射，包含無限制可見光，子外光及X射線。例如，照明源21可包含一雷射，如氟化氬雷射，氟化物準分子雷射或氦氖雷射。照明系統24進一步包含一極化裝置23及可產生一照明分布之裝置3。該極化裝置係被配置於該照明源及可產生一照明分布之裝置3之間。該極化裝置係被適應產生具有此後將說明之局部改變極化方向的線性極化電磁輻射。特別是，該極化裝置23結構係於說明可產生一照明分布之裝置3之後做說明。
光罩4之圖案41係藉由照明系統24所產生之照明分布輻射該光罩而從光罩4被轉移至晶圓5。特別是，圖案4係藉由投影系統11映射至該晶圓。光罩4通常藉由一載物臺(無圖示)固定。再者，晶圓5係藉由一晶圓載物臺51固定。
如說明依據本發明第一實施例之照明系統所產生之一照明分布的第7圖顯示，該照明分布係於其中央處具有一中央點。第一不透明部分係被界定繞著該中央點，而第二不透明部分係被界定鄰接該外緣。第一不透明部分34各點係具有小於rin 距該中央點之一距離。第二不透明部分35係具有大於rout 距中央點32之一距離。如第7圖顯示，第一不透明部分34可具有繞著中央點32之一圓形。然而，應了解，該第一不透明部分亦可具有圓形以外的形狀。特別是，該第一不透明部分可具有一橢圓形。
照明分布6進一步包含一光傳送部分36，其係位於該第一及第二不透明部分34，35。光傳送部分36係為包含具有高光密度之區域的一部份。例如，傳送部分36可被完全照明，或其可包含如四照明極點31a，31b，31c及31d的預定數。然而，清楚了解到可使用任何其他數量極點。例如，亦可使用6或8極點。極化裝置係被適應提供局部改變光極化方向。例如極點31a至31d中之箭頭所標示，各該極點中之極化方向係與連接該極點之中央點及照明分布6之中央點32的一方向平行。例如第7圖顯示，極點31a，31c之極化方向係沿著y方向，而極點31b，31d之極化方向係沿著x方向。
同樣地，第7圖所示之照明分布6亦可包含8極點，其中位於極點31a，31b間之該極點傳送的光極化方向係對y方向旋轉45度，而位於極點31b，31c間之該極點傳送的光係對x方向旋轉45度。可替代是，照明分布6可包含8極點，其中位於極點31a，31b間之該極點傳送的光極化方向係與y或x方向平行。
第8圖說明本發明第二實施例，其中照明分布6之光傳送部分36係具有一環形。如圖示，光傳送部分36之極化方向可具有一輻射方向，也就是繞著中央點32之環上各點處的極化方向，係具有與連接中央點32之此點方向平行的一方向。如第8圖顯示，可簡化此極化方向分布。例如，照明分布6之外緣33及中央點32間之角度特定範圍中，極化方向係沿著y方向，其中外緣33及中央點32之間對x方向的另一角度範圍，極化方向係沿著x方向。係可視系統要求而定任意選擇沿著y方向及x方向的極化方向角度範圍。
依據本發明另一實施例，如第九A及九B圖顯示，照明分布6之光傳送部分36係包含一環片段。特別是，四個照明極點31a，31b，31c及31d係非圓形或橢圓形，但具有一環片段形狀。如第9A圖顯示，各該極點之極化方向係可具有一輻射方向，也就是各極點極化方向處係具有平行於與中央點32連接之此點之一方向的一方向。如第9B圖顯示，可簡化此極化方向分布。例如，類似第7圖方式，極點31a，31c具有與y方向平行之一極化方向，而極點31b，31d具有與x方向平行之一極化方向。可依據系統要求任意選擇角度σ1 及σ2 。
可以不同方式完成入射光束局部變化極化方向。例如第6圖顯示，該極化裝置係包含可產生線性極化光133的一偏光器231。清楚了解到，雖然偏光器231於所示圖中被描繪為一不同裝置，但其可與光源21整合形成。極化裝置23進一步包含一棱鏡系統232。棱鏡系統232係被適應將線性極化光束133分割為彼此局部分隔的一個或更多光束。極化裝置23進一步包含兩極化旋轉元件233a，233b，其可將入射光束極化方向旋轉90度。類似方式中，可進一步提供棱鏡以獲得更多分割光束。此外，可藉由提供適當極化旋轉元件233a，233b將該極化方向旋轉任何預期角度。另一替代是，極化裝置23可與包含預定方向中之一格柵，如俗稱格柵偏振片之孔徑元件3整合形成。接線格柵偏振片指向係被選擇達成上述孔徑元件3之傳送部分的極化方向。
第10圖上部分顯示使用第7圖所示照明部分及第10圖下部分所示光罩4上之圖案41時，投影系統11之入瞳111中之正負第一繞射光束。特別是，第10圖說明被圖案41繞射時的極點31a，b，c，d位置。依據本發明，若視圖案41間距及可將該圖案映射至基板5之投影系統11的數值孔徑(NA)，決定可產生一照明分布之裝置3的幾何尺寸，則可獲得特殊效果。如第10圖顯示，可選擇照明分布6之光傳送部分尺寸，此極點31b被截斷正第一射繞階，而極點31d被截斷負第一射繞階。因此，當將圖案41從光罩映射至基板時，TM極化輻射係被降低，而降低干擾量。因為極點31a，31c被維持於入瞳111內，所以這些部分會彼此干擾而增加對比。
第10圖中，正及負第一射繞階位置係視將被轉移之圖案的圖案尺寸dx而定。於是，圖案愈小，rin 值愈小。
為了映射對第10所示圖案旋轉90度的水平圖案41，係應用相同者。更詳細說明，若繞射光柵被旋轉90度，則正及負第一射繞階係被放置於第10圖所示中央點上下。此例中，極點31a被截斷正第一射繞階，而極點31c被截斷負第一射繞階。
任何例中，瞳緣係使包含具有會產生圖案至影像之破壞性干擾之極化方向之光線的一極點，從投影系統11之入瞳11被截斷。換句話說，該瞳沒有捕捉到照明極點31b之第一階繞射光束。同樣地，該瞳也沒有捕捉到照明極點31d之第一階繞射光束。因此，顯著增加影像對比。因此，改善影像品質。
為了映射包含水平線/空間圖案及垂直線/空間圖案之一圖案，該正及負第一射繞階係被配置於系統之x軸及y軸上。此外，若垂直圖案尺寸dx與水平圖案尺寸dy不同，則該x軸上之極點尺寸係與y軸上之極點尺寸不同。也就是說，此例中，第一及第二極點直徑係與第三及第四極點直徑不同。
第11圖顯示一例中的照明分布例，其中延伸於x方向之一第1圖案係具有一圖案尺寸dx，及延伸於y方向之一第2圖案，該第2圖案係具有將為影像之圖案尺寸dy。如第11圖下部分顯示，延伸於y方向之圖案的圖案尺寸dy，係小於延伸於x方向之圖案的圖案尺寸dx。此實施例中，光傳送部分36係具有一環狀橢圓形，其中x方向中測量之外半徑rout,x ，係大於y方向中測量之外半徑rout,y 。再者，x方向中測量之內半徑rin,x ，係大於y方向中測量之內半徑rin,y 。清楚了解到，此例中，光傳送部分36可包含具有任意形狀的照明極點。特別是，該極點可具有一圓形或橢圓形，或其可形成一環片段。可替代是，光傳送部分36可具有一圓形。
光微影裝置不限於線/空間圖案。其可同樣應用至任何其他類型圖案。例如，若接觸孔圖案將被轉移，則可使用類似照明方案。此例中，第12圖顯示正負第一射繞階。如第12圖顯示，此例中，第7圖顯示照明分布6所產生之繞射光束係被配置於系統對角上。再於此例中，照明分布尺寸係被選擇將繞射影像一極點從瞳111移除。第12圖下部分說明之接觸孔圖案例中，光係由照明部分最外極點傳送，具有對X或Y方向旋轉45度之一極化方向的該光可能有破壞性。於是，形成本發明照明系統部分之可產生一照明分布之裝置3亦可於此例中使用。因此，最外極點所傳送之光係被截斷離開投影系統11之瞳，使具有改良對比之該圖案最後被轉移至晶圓上。
1．．．光微影裝置
3．．．孔徑元件
4．．．光罩
5．．．半導體晶圓
6．．．照明分布
11．．．光學投影系統
12．．．干擾圖案
13．．．光
14．．．極化方向
20．．．照明系統
21．．．照明源
22．．．光透鏡
23．．．極化裝置
24．．．軸光束
25．．．離軸光束
30a、b、c、d，31a、b、c、d．．．極點
32．．．中央點
33．．．外緣
34．．．第一不透明部分
35．．．第二不透明部分
36．．．輻射傳送部分
37．．．透明部分
38．．．不透明部分
41．．．圖案
42．．．瞳緣
43．．．正第一繞射階，垂直
44．．．負第一繞射階，垂直
45．．．正負第一繞射階，點狀
51．．．晶圓階
111．．．入瞳
131．．．第一繞射光束
132．．．第二繞射光束
133．．．線性極化光
141．．．第一極化方向
142．．．第二極化方向
231．．．偏振片
232．．．稜鏡系統
233a、b．．．轉子
301a、b、c、d，311a、b、c、d．．．極化方向
dx、dy．．．圖案尺寸
NA．．．數值孔徑
rout 、rin 、rout,x 、rout,y 、rin,x 、rin,y ．．．半徑
第1圖顯示一光微影裝置圖例；第2圖顯示離軸照明之傳統映射例；第3A圖顯示極化光映射例；第3B圖顯示另一極化光映射例；第4圖顯示傳統照明分布；第5A圖顯示替代相移遮罩映射一圖案例；第5B圖顯示實施離軸照明之傳統孔徑元件例；第6圖顯示依據本發明之光微影裝置圖例；第7圖說明本發明照明系統所產生之一照明分布；第8A圖顯示本發明照明系統所產生之另一照明分布例；第8B圖顯示本發明照明系統所產生之再另一照明分布例；第9A圖顯示本發明照明系統所產生之另一照明分布例；第9B圖顯示本發明照明系統所產生之再另一照明分布例；第10圖顯示光學投影系統入瞳平面中之繞射光束位置例；第11圖說明本發明照明系統所產生之另一照明分布；及第12圖顯示光學投影系統入瞳平面中之另一繞射光束位置例。
6．．．照明分布
31a、b、c、d．．．極點
32．．．中央點
33．．．外緣
34．．．第一不透明部分
35．．．第二不透明部分
36．．．輻射傳送部分
311a、b、c、d．．．極化方向
NA．．．數值孔徑
rout 、rin ．．．半徑

Claims (15)

  1. 一種光微影裝置(1)，包含：欲圖樣化的一基板(5)；一光罩(4)，該光罩(4)具有將轉移至該基板(5)的複數圖案(41)，該光罩(4)包含至少一圖案，該圖案延伸於一第一方向且具有一圖案尺寸dy；一照明系統(20)；及一光學投影系統(11)，可將該光罩(4)的一影像投影至該基板(5)，該光學投影系統(11)具有一數值孔徑(NA)，該照明系統(20)包含：發射電磁輻射的一照明源(21)；一極化裝置(23)；可產生一照明分布(6)的裝置(3)，該裝置(3)所產生的該照明分布(6)具有一中央點(32)及一外緣(33)，該照明分布(6)包含一第一不透明部分(34)、一第二不透明部分(35)以及一輻射傳送部分(36)，該第一不透明部分(34)定義為繞著該中央點(32)，該第一不透明部分(34)的各點距該中央點(32)的一距離小於rin ，該第二不透明部分(35)是定義為鄰接該外緣(33)，該第二不透明部分(35)距該中央點(32)的一距離大於rout ，及該輻射傳送部分(36)配置於該第一及第二不透明部分(34，35)之間，rin 為該第一不透明部分沿著軸的半徑，rout 為該第二不透明部分沿著軸的半徑，其中該極化裝置(23)配置於該照明源(21)及可產生一照 明分布的該裝置(3)之間，該極化裝置(23)適合用以產生具有一局部改變極化方向(311a，b，c，d)的線性極化電磁輻射，而產生至少一第一及一第二極化方向(311a，b)，該第一極化方向(311a)與該第二極化方向(311b)不同，而在該照明分布的輻射傳輸部分至少兩不同點處的該極化方向係與連接此點及該照明分布的該中央點(32)的一線平行，其中該第二不透明部分(35)的該半徑rout 係視該光罩(4)的該圖案尺寸dy及該光學投影系統(11)的該數值孔徑(NA)來決定，使得對正負第一繞射階，部分的光由於照明該輻射傳送部分(36)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側。
  2. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中該輻射傳送部分(36)包含一第一、一第二、一第三及一第四極點(31a，b，c，d)，其中該第一及該第二極點(31a，c)沿一第一方向而設置，而該第三及該第四極點(31b，d)沿一第二方向而設置，該第二方向與該第一方向垂直，其中各該極點中所傳送輻射的密度大於該輻射傳送部分(36)另一部份的所傳送輻射的密度，及其中該第一及該第二極點(31a，c)所傳送的該電磁輻射的極化方向與該第一方向平行，而該第三及該第四極點(31b，d)所傳送的該電磁輻射的極化方向與該第二方向平行。
  3. 如申請專利範圍第2項的光微影裝置，其中各該極點為一圓形。
  4. 如申請專利範圍第2項的光微影裝置，其中該極點至少其中之一為一橢圓形。
  5. 如申請專利範圍第2項的光微影裝置，其中該極點至少其中之一所具有的形狀為一環的一段。
  6. 如申請專利範圍第3項的光微影裝置，其中各該第一、第二、第三及第四極點的直徑與rout 及rin 之間差異相等。
  7. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中半徑rin 為常數。
  8. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中半徑rout 為常數。
  9. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中在一第一方向中所測量的半徑rin,y 係與在一第二方向中所測量的半徑rin,x 不同。
  10. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中在一第一方向中所測量的半徑rout,y 係與一第二方向中所測量的半徑rout,x 不同。
  11. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置，其中該輻射傳送部分為一環形，電磁輻射的傳送密度在該輻射傳送部分內係為固定。
  12. 如申請專利範圍第2項的光微影裝置(1)，其中該第二不透明部分(35)的該半徑rout 係視該光罩(4)的該圖案尺寸dx及該光學投影系統(11)的數值孔徑(NA)來決定，使得針對正第一繞射階，該光由於照明該第一極點(31a)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側，而針對負第一繞射 階，該光由於照明該第二極點(31c)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側。
  13. 如申請專利範圍第2項的光微影裝置(1)，其中該第二不透明部分(35)的該半徑rout 係視該光罩(4)的該圖案尺寸dx及該光學投影系統(11)的數值孔徑(NA)來決定，使得針對正第一繞射階，該光由於照明該第三極點(31b)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側，而針對負第一繞射階，該光由於照明該第四極點(31d)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側。
  14. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置(1)，其中該光罩(4)另外包含延伸於一第一方向且具有一圖案尺寸dx的一圖案(41)；其中該第二不透明部分(35)的半徑rout,y ，延伸於該第一方向的半徑rout,y 係視該光罩(4)的該圖案尺寸dy及該光學投影系統(11)的數值孔徑(NA)來決定，而該第二不透明部分(35)的該半徑rout,x ，延伸於該第二方向的該半徑rout,x 係視該光罩(4)的該圖案尺寸dx及該光學投影系統(11)的數值孔徑(NA)來決定，使得針對該正負第一繞射階，該光的部分由於照明該輻射傳送部分(36)而位於該光學投影系統(11)的該數值孔徑外側。
  15. 如申請專利範圍第1項的光微影裝置(1)，其中該照明系統(20)被設置以完成該光罩(4)之軸照明。
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