TWI409278B - 丙烯酸系膜及自其製備而得之丙烯酸系背片 - Google Patents

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Description

丙烯酸系膜及自其製備而得之丙烯酸系背片
本發明係有關一種丙烯酸系膜。更特定言之，本發明係有關一種包括70%至99%(基於膜重量計)之多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%(基於膜重量計)之色素之丙烯酸系膜，該多段式丙烯酸系聚合物包括10%至75%重量(基於多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)及80%至100%重量(基於第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)及0%至30%重量(基於第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之單體。本發明亦有關一種形成丙烯酸系膜之方法、一種用於光電陣列之背片(其包括丙烯酸系膜與聚酯層)、及一種形成該背片之方法。
美國專利申請公開第2008/0264484號案揭示一種用於光電模組之保護性背片，其包括含可交聯之非晶型氟聚合物之層。需要有一種用於光電陣列之背片，其包括含替代性聚合物組合物之層(特定言之，可完全作應用在提供較低成本基礎及方便製程之應用的材料)。本發明之丙烯酸系膜可容易形成且展現所需之太陽光反射性與低收縮性，且可用為形成適用於光電陣列之背片之成份。
本發明第一態樣中，提供一種丙烯酸系膜，該丙烯酸系膜包含70%至99%重量(基於該膜重量計)之多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量(基於該膜重量計)之色素，該多段式丙烯酸系聚合物則包含10%至75%重量(基於該多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於該多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於該第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%重量(基於該第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於該第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於該第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%重量(基於該第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物。
本發明第二態樣提供一種形成丙烯酸系膜之方法，其包括：形成一種包含下列之組合物：70%至99%重量(基於該膜重量計)之多段式丙烯酸系聚合物，及1%至20%重量(基於該膜重量計)之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包含10%至75%重量(基於該多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於該多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物之存在下形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於該第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%重量(基於該第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於該第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於該第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%重量(基於該第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；及藉由壓延法(calendering)或鑄膜法(cast film formation)自該組合物形成該丙烯酸系膜。
本發明第三態樣提供一種光電陣列背片，其包含：一種膜；及附加至該膜之聚酯層該膜包含：多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量(基於該膜重量計)之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包含10%至75%重量(基於該多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於該多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於該第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%重量(基於該第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於該第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於該第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%重量(基於該第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物。
本發明第四態樣提供一種形成光電陣列背片之方法，其包括：形成丙烯酸系膜組合物，其包含：多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量(基於該膜重量計)之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包含10%至75%重量(基於該多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於該多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於該第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%重量(基於該第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於該第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於該第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%重量(基於該第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；藉由壓延法或鑄膜法自該組合物形成丙烯酸系膜；及將聚酯層附加至所形成之丙烯酸系膜。
本發明係有關一種丙烯酸系膜，其包括70%至99%，較佳為85%至95%(基於膜重量計)之多段式丙烯酸系聚合物。"丙烯酸系聚合物"在本文中係指包括至少70%重量(基於聚合物重量計)之選自：丙烯酸或甲基丙烯酸之酸類、酯類、醯胺類與腈類之單體作為共聚合單位之聚合物。"多段式丙烯酸系聚合物"在本文中係指由乳液聚合法製備之聚合物，其中依序聚合二種或多種不同組合物。
本發明之多段式丙烯酸系聚合物包括10%至75%，較佳為15%至40%重量(基於多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%，較佳為60%至85%重量(基於多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%，較佳為0%至10%重量(基於第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%，較佳為90%至100%重量(基於第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%，較佳為60%至80%重量(基於第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%，較佳為2%至10%重量(基於第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%，較佳為3%至25%重量(基於第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之單體。
某些具體實施例中，該多段式丙烯酸系聚合物可包括四段。典型之四段聚合物包括(1)10%至35%，較佳為15%至30%重量(基於多段式聚合物重量計)之第一段聚合物，該第一段聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%，較佳為0%至10%重量(基於第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%，較佳為90%至100%重量(基於第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)；(2)10%至35%，較佳為15%至30%重量(基於多段式聚合物重量計)之於第一段聚合物之存在下所形成之第二段聚合物，該第二段聚合物包含作為共聚合單位之50%至90%，較佳為50%至70%重量(基於第二段聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及0%至50%，較佳為30%至50%重量(基於第二段聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)；(3)10%至35%，較佳為15%至30%重量(基於多段式聚合物重量計)之於第二段聚合物之存在下所形成之第三段聚合物，該第三段聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%，較佳為60%至80%重量(基於第三段聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%，較佳為2%至10%重量(基於第三段聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%，較佳為3%至25%重量(基於第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之單體；及(4)10%至35%，較佳為15%至30%重量(基於多段式聚合物重量計)之於第三段聚合物之存在下所形成之第四段聚合物，該第四段聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%，較佳為60%至80%重量(基於第四段聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%，較佳為2%至10%重量(基於第四段聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%，較佳為3%至25%重量(基於第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之單體。
丙烯酸系單體包括丙烯酸酯單體或甲基丙烯酸酯單體。合適之丙烯酸酯單體包括丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸壬酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸苯酯與丙烯酸苯甲酯。合適之甲基丙烯酸酯單體包括甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸異辛酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸壬酯、甲基丙烯酸癸酯、甲基丙烯酸異冰片酯與甲基丙烯酸十二烷基酯。其他適用之單體包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯與乙烯基甲苯；丙烯腈與甲基丙烯腈；乙烯酯類如：乙酸乙烯酯；及酸酐類，如：馬來酸酐。
某些具體實施例中，任一段聚合物獨立包括0%至10%，較佳為0%至5%，更佳為0%至2%重量(基於該段聚合物重量計)之共聚合之多重-烯系不飽和單體。某些具體實施例中，除了最後一段聚合物外之其他段聚合物均包括0.1%至5%，更佳為0.1%至2%之共聚合之多重-乙烯系不飽和單體。某些實施例中，最後一段聚合物獨立不含共聚合之多重-烯系不飽和單體。該多重-烯系不飽和單體包括例如：(甲基)丙烯酸烯丙酯、酞酸二烯丙酯、二(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸1,3-丁二醇酯、氰尿酸三烯丙酯、二(甲基)丙烯酸1,2-乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯與二乙烯苯。
某些具體實施例中，任一段聚合物獨立包括0%至5%，較佳為0%至1%之共聚合之單烯系不飽和酸單體(基於第一聚合物重量計)。該酸單體包括羧酸單體如，例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、伊康酸、富馬酸、馬來酸、伊康酸單甲酯、富馬酸單甲酯、富馬酸單丁酯與馬來酸酐；及含硫-與含磷-之酸單體。
均聚物之玻璃轉化溫度("Tg")可參見例如："聚合物手冊(Polymer Handbook)"(J. Brandrup與E.H. Immergut編輯，Interscience Publishers)。
多段式乳液聚合法中，依連續方式形成不同組成之至少兩段聚合物。用於製備此等水性多段式乳液-聚合物之聚合技術係所屬技藝領域中周知者，如，例如：揭示於美國專利案案號3,562,235；4,141,935；4,325,856；4,654,397；及4,814,373。可使用常用之界面活性劑，如，例如：陰離子性與/或非離子性乳化劑，如，例如：鹼金屬或銨之烷基硫酸鹽、烷基磺酸類、脂肪酸類、與氧乙基化之烷基酚類。界面活性劑之用量通常為0.1%至6%重量(基於總單體重量計)。可採用熱或氧化還原引發法。可採用常用之自由基引發劑，如，例如：過氧化氫、第三丁基氫過氧化物、第三戊基氫過氧化物、銨與/或鹼金屬之過硫酸鹽，典型用量為0.01%至3.0%重量(基於總單體重量計)。可依類似用量使用相同引發劑與合適還原劑耦合之氧化還原系統(如，例如：次硫酸鈉甲醛、亞硫酸氫鈉、異抗壞血酸、硫酸羥胺與亞硫酸氫鈉，其可視需要與金屬離子組合，如，例如：鐵與銅，可視需要再包括金屬之錯合劑。可使用0%至5%重量(基於該段單體重量計)之鏈轉移劑，如，例如：硫醇，以降低該一段或多段聚合物之分子量。最後一段中之鏈轉移劑含量較佳為0.1%至2%重量(基於該段單體重量計)。一段聚合物之單體混合物可呈純物質或呈含於水中之乳液添加。一段聚合物之單體混合物一次添加或多次添加或可於分配給該段之反應期間，使用均一或不同組成物進行連續添加；較佳為一次添加第一與/或第二聚合物單體乳液。可在任一段之前、期間或之後添加其他成份如，例如：自由基引發劑、氧化劑、還原劑、鏈轉移劑、中和劑、界面活性劑與勻散劑。可採用產生多峰態粒度分佈之製程，如：彼等揭示於例如：美國專利案案號4,384,056與4,539,361。
多段式乳液聚合法通常造成形成至少兩種互不相容之聚合物組成，結果形成至少兩相。該兩種聚合物組成之互不相容性與所得聚合物粒子之多相結構可依所屬技藝領域中已知各種不同方法決定。例如：採用染色技術以強調各相之間差異之掃瞄式電子顯微鏡之用法即為其中一種技術。
多段式丙烯酸系聚合物粒子之平均粒徑典型在30奈米至500奈米之間。
本發明之丙烯酸系膜包括1%至20%，較佳為5%至10%(基於膜重量計)之色素。本文之"色素"包括彼等當包埋在本文所說明之多段式丙烯酸系聚合物中時，可散射至少某部份太陽光譜之固體顆粒材料。適用之色素粒徑之典型範圍為100奈米(nm)至50微米；色素直徑不可超過丙烯酸系膜之厚度。無機粒子包括：金屬氧化物，如：氧化鋅、氧化鈰、氧化錫、氧化銻、氧化鋯、氧化鉻、氧化鐵、氧化鎂、氧化鉛、氧化鋁、氧化矽、二氧化鈦；碳酸鹽類，如：碳酸鈣磨粉、碳酸鈣沉澱與膠體碳酸鈣；氫氧化鋁、氫氧化鎂、沸石、矽石、煙燻矽石、碳黑、石墨、硫化鋅、鋅鋇白、碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、雲母、黏土、煅燒黏土、奈米黏土、長石、霞石正長岩、矽灰石、矽藻土、氧化鋁-矽酸鹽、滑石、矽酸鈉鉀鋁顆粒、玻璃珠、陶瓷球粒；鹼石灰粒子；空心玻璃粒子；陶瓷空心球、玻璃纖維、碳纖維與金屬纖維。可視需要選用之有機粒子，包括有色色素，如：藍色素、塑膠色素，如：含孔洞或囊泡之固體珠粒色素與微球色素。固體珠粒色素實例包括聚苯乙烯與聚乙烯氯珠粒。微球色素實例(其包括含一個或多個孔洞之聚合物粒子)包括RopaqueTM 不透明聚合物。其他合適色素包括例如：丙烯腈/乙烯氯發泡粒子；塗覆CaCO3 粒子之聚氯乙烯共聚物，與有機纖維如：聚醯胺纖維。所選擇之色素可提供回散射(backscattering)性質，以改善光電陣列背片性能，且當在此構造中使用丙烯酸系薄片時，可獨立且可視需要控制光電陣列之外觀(顏色)。可使用色素之混合物。
本發明之丙烯酸系膜中之空心玻璃微球粒用量可為0%至20%，較佳為5%至10%重量(基於膜重量計)。此等空心玻璃微球粒之直徑典型在10至100微米之間，或在20至80微米之間。可使用微球粒之混合物。合適之市售空心玻璃微球粒商品實例包括彼等可自Potters Industries取得之名稱為SPHERICELTM t10P8或SPHERICELTM 60P18者。
可視需要在丙烯酸系膜中添加添加劑，包括例如：潤滑劑、阻燃劑、抗靜電劑、防霧劑、抗微生物劑、抗氧化劑(用量為0%至1.5%，較佳為0.2%至0.8%重量(基於膜重量計)、UV吸收劑/安定劑(用量為0%至3%，較佳為1%至2%重量(基於膜重量計)與增塑劑(例如：DEHP)。
適用於本發明之潤滑劑包括例如：純烴潤滑劑，如：液態石蠟、天然石蠟、微晶蠟、合成石蠟與低分子量聚乙烯；鹵化烴潤滑劑；脂肪酸潤滑劑，如：高碳數脂肪酸類與羥基-脂肪酸類；脂肪酸醯胺潤滑劑，如：脂肪酸醯胺類與雙(脂肪酸醯胺)類；及酯潤滑劑，如：脂肪酸之低碳數醇酯類、脂肪酸之多元醇酯類(例如：甘油酯類)、脂肪酸之聚二醇酯類、與脂肪酸之脂肪醇酯類(亦即酯蠟類)。此外，該潤滑劑亦包括金屬皂類、脂肪醇類、多元醇類、聚二醇類、聚甘油類、衍生自脂肪酸與多元醇之部分酯類、與衍生自脂肪酸與聚二醇或聚甘油之部分酯類。此等潤滑劑可單獨使用或混合其中兩種或多種使用。潤滑劑典型用於修飾熔融聚合物之流變性。已知內潤滑劑主要用於降低熔融聚合物之剪切黏性，而外潤滑劑則已知用於降低熔融聚合物與加工設備之金屬壁之間之磨擦力。潤滑劑可用於修飾塑膠成品之表面。本發明中之潤滑劑之含量可佔0%至5%，或者1%至2%重量(基於膜重量計)。可使用潤滑劑之混合物。
阻燃劑/耐火劑包括氯化石蠟、氫氧化鋁、三氧化銻與鹵素化合物。耐火劑之合適實例包括彼等自Clariant Corporation(Charlotte,NC)取得之商品，包括彼等基於有機磷化合物之名稱為EXOLITTM IFR 23、EXOLITTM AP 750、EXOLITTM OP之等級材料與EXOLITTM RP級之紅磷材料；非鹵化耐火劑，如：FIREBRAKETM ZB與BORGARDTM ZB與FR 370(參(三溴新戊基)磷酸酯)、來自以色列Dead Sea Bromine Group,Beer Shiva。亦可作為導熱性色素之合適耐火劑之實例包括氫氧化鋁與氫氧化鎂。可使用耐火劑混合物。
本發明之丙烯酸系膜係由包括如上述多段式聚合物與色素之組合物形成。由於高尺寸穩定性之價值觀，加工技術之選擇通常很重要。本文中，高尺寸穩定性意指當膜在加工後之操作中受熱時有低收縮性。
咸信收縮性主要與熔融加工所誘發之分子取向相關。某些製法中，此分子取向受到擠製膜之快速冷卻而"凍結"。換言之，收縮問題係與膜於其加工期間之"受力下冷卻"相關。本發明之丙烯酸系膜較佳採用壓延法或鑄膜法製造。捨棄其他可用之膜加工技術(如：吹製薄膜法或平板產品擠製法)而選擇此方法之原因在於已知壓延法與鑄膜法可為膜提供最低分子取向。此外，壓延法與鑄膜法可產生單向膜(縱向)，而如：吹製薄膜法之製程則提供雙取向膜(包括縱向與橫向)。
然而，一般壓延法與鑄膜法所提供之膜收縮性(於150℃下30分鐘後)仍超過目前歐洲與美國標準所定義之低收縮性(於150℃下30分鐘後<1%)。
復較佳為減緩冷卻速度(如，例如：利用加熱輥)或降低應力(如：低速取出(take-off)比例或拉伸(drawndown)比例為，亦即熔融速率=膜速率)或同時進行此二者。
殘留應力可藉由整合另一個稱為退火(又稱為應力釋放、回火、物理性熟化、加熱處理)之處理步驟而解除。較佳在形成丙烯酸系膜後，使用串連式退火過程。由分子觀點而言，咸信應力放鬆相當於聚合物鏈由拉緊且高度取向之構形放鬆成為無規捲曲構形。此現象自然出現在無受力之聚合物受熱超過其玻璃轉化溫度(Tg)時。
該退火步驟可採用任何連續式/連線式加熱系統進行。該加熱系統可基於任何可提供膜表面溫度達40℃至230℃之間，較佳為130℃至200℃之間之任何輻射、對流或傳導性加熱裝置。
適用於本發明之加熱系統包括例如：電紅外線系統、氣體燃燒紅外線系統、陶瓷加熱器、熱風加熱器、水/油/電加熱輥等等。此等加熱系統可單獨使用或組合其中兩種或多種使用。
市售之合適加熱系統之實例包括彼等可自Blasdel Enterprises,Inc.取得之名稱為陶瓷加熱器(Ceramic Generators)、Coil-O-RodTM 加熱器(Coil-O-RodTM Generators)、陶板加熱器(Ceramic Panel Heaters)、石英管(Quartz Tubes)、Series FS加熱器(Series FS Heaters)、V Series加熱器(V Series Heater)、Gas Catalytic加熱器(Gas Catalytic Heater)者。
實驗室已採用咸信可模擬壓延法之雙輥碾磨機進行試驗。雙輥碾磨機基本上係由兩個呈相反方向旋轉之加熱金屬輥製成。輥之間距可在0.15毫米(mm)至5.0mm之間調整。呈丸粒或粉狀形式之包含聚合物與添加劑之調配物可直接加至輥中。經過塑煉與混合後，熔融材料即繞著前輥形成均質膜。經過一段指定時間後，依據"取出"方法，自前輥取出膜。吾等已發現，當降低操作者"取出"膜之速度時，可顯著降低收縮性。在工業規模上，此舉將造成低輸出比例與/或低拉伸比例。較佳為預先乾燥丙烯酸系聚合物與色素(如，例如：二氧化鈦)後再加工，以使收縮性減到最低。
本發明態樣之一係提供一種光電陣列背片，其包括：丙烯酸系層；及附加至該膜之之聚酯層，該丙烯酸系層包括：多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量(基於該層重量計)之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包括10%至75%重量(基於多段式聚合物重量計)之第一聚合物；及25%至90%重量(基於多段式聚合物重量計)之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，該第一聚合物包含作為共聚合單位之0%至20%重量(基於該第一聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)，及80%至100%重量(基於該第一聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，該第二聚合物包含作為共聚合單位之50%至100%重量(基於第二聚合物重量計)之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯(該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃)、0%至20%重量(基於該第二聚合物重量計)之丙烯酸C1-C12烷基酯(該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃)，及0%至30%重量(基於第二聚合物重量計)之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物。該多段式丙烯酸系聚合物與色素均如上述說明。該背片構造包括一層或多層聚酯層(說明於美國專利申請公開案號2007/0166469與2008/0264484與日本專利公開案號2007-007885)(可視需要經電暈放電處理)，其典型係使用適當黏著劑附加至一層或多層丙烯酸系層(可視需要經電暈放電處理)，其結構主要對至少一層丙烯酸系膜與至少一層聚酯膜採用層壓技術(laminating technique)形成。總丙烯酸系層(群)厚度典型在50微米至250微米之間，而總聚酯層(群)厚度典型在25微米至250微米之間。
[實驗方法] [加工方法]
丙烯酸系膜組合物係藉由在混合機中混合所有呈丸粒或粉狀形式之成份而製備。實例所使用之材料商品與供應商示於下表中。
[膜壓延法]
膜係使用Collin雙輥碾磨機(W. H. Collin GmbH Maschienefabrik Aichach,Germany)製造。前輥溫度定在185℃，而後輥溫度定在183℃。取110g組合物直接倒至雙輥碾磨機之密合加熱輥上。製造各膜之總加工時間為300秒，依據下列參數分成兩個連續期：
-第1期
第1期時間：280秒
輥間距：0.25mm
前輥速度：26每分鐘轉速(rpm)
磨擦力：-23%
-第2期
第2期時間：20秒
輥間距：0.15mm
前輥速度：5rpm
磨擦力：-23%
加工後，依據下文說明之一般取出法(Common Take-Off Method)或低速取出方法(Low Speed Take-Off Method)，從前輥取出繞著該輥形成之膜片。
[一般取出法]
一般取出法包括下列6個步驟：
-當輥與輥之間之空隙仍密合時，由操作者停止兩輥之旋轉，
-由操作者使用木刀沿橫截向切割面前的膜，
-操作者手持所切下膜之下半段之各末端，
-由第二位操作者重新啟動兩輥旋轉(設定速度5rpm)，
-操作者取出及拉直膜，並儘量保持膜與輥之間之接觸前端呈約30°至60°之角度，如美國專利案編號6,551,688所述，
-一旦完全釋出後，操作者將膜置於平坦金屬表面上，使膜在沒有任何應力下冷卻。
[低速取出方法]
低速取出方法包括下列7個步驟：
-由操作者打開兩輥之間間隙，
-當輥動滯料(rolling bank)(又稱為流出物(flux))來到操作者面前時，即由操作者停止前輥旋轉，
-由操作者使用木刀，在輥動滯料(又稱為流出物)上方，沿橫截向切割膜，
-由操作者手持輥動滯料(又稱為流出物)之各末端，
-由第二位操作者重新啟動前輥旋轉(設定速度5rpm)，
-由操作者在不拉直膜的情況下慢慢取出膜，並儘量保持膜與輥之間之接觸前端呈約60°至90°之角度，如美國專利案編號6,551,688所述，
-一旦完全釋出後，操作者將膜置於平坦金屬表面上，使膜在沒有任何應力下冷卻。
[試驗方法]
下列試驗方法與實例中，測量樣本大小(通常指長度)至測量工具之準確度。
實例與說明書中之所有份數、百分比、比例等等均以重量計，除非另有說明。
[熱收縮性之試驗]
各樣本分別製造5個76.2mm×76.2mm試樣。採用電子卡尺(Brown & Sharpe,機型Digit-CAL MM2000)精確量取縱向(MD)與橫向(TD)之初始厚度與長度，精確度為0.01mm。將5個試樣共同置入設定溫度150℃之通風烘箱中30分鐘。
本文之熱收縮性(S)定義為在150℃之烘箱中30分鐘後，在一個指定方向之長度變化百分比，且計算方式如下：
其中，
L0 ：試樣在一個指定方向之初始長度(mm)
L：試樣在150℃之通風烘箱中30分鐘後，在指定方向之長度(mm)
取5個重覆試樣之結果之平均值作為熱收縮性。
[太陽光反射度之測定法]
各樣本製備一個約76.2mm×76.2mm之試樣。依據ASTM Standard C1549-02說明之方法，使用太陽光譜反射儀(Solar Spectrum Reflectometer)，機型SSR-ER測定太陽光反射度。
在各試樣上三個相異點，通過氣團0(air mass 0)在太陽光譜之四種波長下(380nm、500nm、650nm與1220nm)測定太陽光反射度之平均值。取三次測定結果之平均值，得到太陽光反射度。
膜性質之試驗：
IEC 61215：陸地用晶體矽光電(PV)模組之國際試驗標準
熱循環試驗：溫度：-40℃±2C與85℃±2℃
濕熱試驗：溫度：85℃±2℃，相對濕度：85%±5%
濕度-冷凍試驗：溫度：-40℃±2C與85℃±2℃，85℃下相對濕度：85%±5%
[丙烯酸系聚合物與粉末之形成]
依據美國專利案編號4,141,935之實施例1之教示，製備丙烯酸系乳液共聚物(聚合物A)，但其中改變第3段與第4段之組成[亦即25(MMA/BA：93/7)與25(MMA/BA/n-DDM：9.5/7/0.5)]。該乳液隨後使用實驗室用噴霧乾燥機(NIRO Inc.,Soeborg,Denmark)噴霧乾燥，產生聚合物A粉末。
依據美國專利案編號4,141,935之實施例1之教示，製備丙烯酸系乳液共聚物(聚合物B)，但其中改變第3段與第4段之組成物[亦即25(MMA/EA/α-甲基苯乙烯：71/4/25)//25(MMA/EA/α-甲基苯乙烯/n-DDM：70.5/4/25/0.5)]。該乳液隨後使用實驗室用噴霧乾燥機(NIRO Inc.,Soeborg,Denmark)噴霧乾燥，產生聚合物聚合物B粉末。
實施例1-4　丙烯酸系膜之形成與評估
使用不同TiO2 量調配聚合物A與B粉末後，加工處理。各實施例所用之詳細組成與取出方法示於表2.1。
壓延後，測試所得膜之熱收縮性。詳細結果示於表2.2。
亦將實施例3與4之丙烯酸系膜置入潮濕烘箱中，並於上述條件下，依據IEC 61215(陸地用晶體矽光電(PV)模組之國際試驗標準)之要求進行試驗。結果示於表2.3。
實施例5-8　丙烯酸系膜之形成與評估
使用空心玻璃微球粒調配聚合物A，然後加工處理。各實施例所用之詳細配方與取出方法示於表5.1
壓延後，試驗所得膜之熱收縮性。將詳細結果示於表5.2。
實施例9-12與比較例A丙烯酸系膜之形成與評估
使用不同TiO2 量調配聚合物A粉末後，依據前述方法加工處理。各實施例所用之詳細配方與取出方法示於表9.1。
壓延後，所得膜依據前述相應試驗方法，測試太陽光反射度。詳細結果示於表9.2。
本發明實施例9-12之丙烯酸系膜具適用於光電陣列背片之之太陽光反射度，而比較例A之丙烯酸系膜則無。
比較例B.　丙烯酸系膜之形成
依據美國專利案編號4,141,935之實施例1之教示，製備丙烯酸系乳液共聚物(聚合物C)，但其中第3段與第4段之組成改為25(MMA/EA：96/4)//25(MMA/EA/n-DDM：95.5/4/0.5)。該乳液隨後使用實驗室用噴霧乾燥機(NIRO Inc.,Soeborg,Denmark)噴霧乾燥，產生聚合物C粉末。
取聚合物C粉末採用30mm之雙螺桿擠製機與4mm之3股模頭製成丸粒(Werner & Phleiderer,Ramsey,New Jersey)。筒溫度設定在200℃，進料速度設定在20磅(1bs)/小時，及螺桿速度設定在150rpm。
聚合物C之丸粒使用具有30mm模頭(Dr. Collin GmbH,Ebersberg,德國)之吹製薄膜生產線，製造單層吹製薄膜。
進行吹製薄膜擠製後，依據前述相應試驗方法試驗所得膜之熱收縮性。
詳細結果示於表B.1。
藉由吹製薄膜擠製法形成之比較例B之丙烯酸系膜提供無法接受之熱收縮性結果。
實施例13-17　丙烯酸系膜之形成與試驗
使用4重量%之PARALOIDTM K-130D與0.5重量%之IRGANOXTM 245調配聚合物A粉末。然後使用30mm之雙螺桿擠製機與4mm之3股模頭(Werner & Pfleiderer,Ramsey,New Jersey)將該組合物製成丸粒。所製成組合物沒有色素，但咸信模擬本發明之丙烯酸系膜之加工製程。筒溫度設定在200℃，進料速度設定在50lbs/小時，及螺桿速度設定在210rpm。
然後採用鑄膜法生產線(Black Clawson,Fulton,New York)，使用3.5吋(in)之單螺桿擠製機(30：1L/D)與60in寬板模頭加工處理該丸粒，以製成單層膜。該擠製機具有6個加熱/冷卻區，分別設定在395F/425F/450F/450F/480F/480F。將不同進料管元件之溫度設定在490F。模頭沿橫向有5個不同加熱區，分別設定在490F/480F/470F/480F/490F。將冷卻輥溫度設定在180F。
依不同加工參數擠製出5張膜。"輸出量"相當於每小時所生產之膜重量(kg)。調整螺桿速度與生產線速度，以達成所需輸出量。
"拉伸比"(DDR)之定義如下：
其中，LD：模頭緣間距(mm)，LF：最終膜厚度(mm)。
"退火溫度"係定義為膜在捲繞之前通過用於膜退火之連線式輻射加熱系統前面後之膜表面溫度。若"退火溫度"為NA(不採用)，表示該連線式輻射加熱系統已關閉。
然後依據前述試驗方法試驗所得膜之熱收縮性，但試驗時間由30分鐘改為10分鐘。
詳細加工參數與結果示於表13.1。
實施例15-17之低拉伸比(<2)提供優異之熱收縮結果。
實施例18-21.光電陣列背片之形成與試驗(其中該丙烯酸系膜中不含色素，但咸信可代表形成本發明背片之製程)，該背片來自切下之約9"×12"之聚合物A膜(厚度約0.003吋)及聚酯膜(MYLARTM A)(厚度0.005吋)。聚酯片經電暈處理。有些聚合物A膜之樣本經電暈處理，且有些樣本未經處理即試驗。取Rohm and Haas公司之黏著劑ADCOTETM 76R36B-33與Coreactant 9L7，依建議比率100/3.3重量份組合。使用6號繞線棒在聚酯膜上塗佈該黏著劑，且經塗佈之板置於80℃之烘箱中1分鐘，使溶劑蒸發。塗層重量為1.5-1.7磅/令。在平板式壓膜機上，依表18.1所示之輥隙(nip)溫度使用加熱輥，使聚合物A膜層壓於聚酯上。層壓片保持在室溫下至少3天後才進行試驗。自薄片上切下一吋寬長條，並依10"/分鐘之速度進行T形剝離試驗。結果總結示於下表。
實例22. 光電陣列背片之形成
切下約9"×12"之丙烯酸系膜(包括8重量份之聚合物A與92重量份之TiO2 )，厚度0.003吋，及切下聚酯膜(MYLARTM A)，厚度0.005吋。丙烯酸系與聚酯薄片均經電暈處理。取黏著劑ADCOTETM 76R36B-33與Coreactant 9L7，依100/3.3重量份之比率組合。使用6號繞線棒在聚酯膜上塗佈該黏著劑，且經塗佈之板置於80℃烘箱中1分鐘，使溶劑蒸發。塗層重量為1.5磅/令。在平板式壓膜機上，使用175 F之加熱輥隙，使聚合物A膜層壓於聚酯膜上，提供本發明之光電陣列背片。

Claims (6)

  1. 一種丙烯酸系膜，其包括：70%至99%重量之基於該膜重量計之多段式丙烯酸系聚合物，其包含：10%至75%重量之基於該多段式聚合物重量計之第一聚合物，其包含作為共聚合單位之0%至20%重量之基於該第一聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；及80%至100%重量之基於該第一聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及25%至90%重量之基於該多段式聚合物重量計之於該第一聚合物存在下所形成之第二聚合物，其包含作為共聚合單位之50%至100%重量之基於該第二聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；0%至20%重量之基於該第二聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及0%至30%重量之基於該第二聚合物重量計之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；及1%至20%重量之基於該膜重量計之色素。
  2. 一種形成丙烯酸系膜之方法，其包括：形成組合物，其包含：70%至99%重量之基於該膜重量計之多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量之基於該膜重量計之色素；該多段式丙烯酸系聚合物包含： 10%至75%重量之基於該多段式聚合物重量計之一聚合物，其包含作為共聚合單位之0%至20%重量之基於該第一聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；及80%至100%重量之基於該第一聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；25%至90%重量之基於該多段式聚合物重量計之於該第一聚合物之存在下所形成之第二聚合物，其包含作為共聚合單位之50%至100%重量之基於該第二聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；0%至20%重量之基於該第二聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及0%至30%重量之基於該第二聚合物重量計之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；及藉由壓延法或鑄膜法自該組合物形成該丙烯酸系膜。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法，進一步包括藉由串連式退火法處理所形成之該丙烯酸系膜。
  4. 一種光電陣列背片，其包含：丙烯酸系膜，其包含：多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量之基於該膜重量計之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包含： 10%至75%重量之基於該多段式聚合物重量計之第一聚合物，其包含作為共聚合單位之0%至20%重量之基於該第一聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；及80%至100%重量之基於該第一聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及25%至90%重量之基於該多段式聚合物重量計之於該第一聚合物之存在下所形成之第二聚合物，其包含作為共聚合單位之50%至100%重量之基於該第二聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；0%至20%重量之基於該第二聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及0%至30%重量之基於該第二聚合物重量計之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；及附加至該膜之聚酯層。
  5. 一種形成光電陣列背片之方法，其包括：形成丙烯酸系膜組合物，其包含：70%至99%重量之基於該膜重量計之多段式丙烯酸系聚合物；及1%至20%重量之基於該膜重量計之色素，該多段式丙烯酸系聚合物包含：10%至75%重量之基於該多段式聚合物重量計之第一聚合物，其包含作為共聚合單位之0%至20%重量之基 於該第一聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；及80%至100%重量之基於該第一聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及25%至90%重量之基於該多段式聚合物重量計之於該第一聚合物之存在下所形成之第二聚合物，其包含作為共聚合單位之50%至100%重量之基於該第二聚合物重量計之甲基丙烯酸C1-C6烷基酯，該甲基丙烯酸酯之均聚物玻璃轉化溫度("Tg")為60℃至120℃；0%至20%重量之基於該第二聚合物重量計之丙烯酸C1-C12烷基酯，該丙烯酸酯之均聚物Tg低於10℃；及0%至30%重量之基於該第二聚合物重量計之具有均聚物Tg高於120℃之聚合物；藉由壓延法或鑄膜法自該組合物形成丙烯酸系膜；及將聚酯層附加至所形成之該丙烯酸系膜。
  6. 如申請專利範圍第5項之方法，進一步包括在將聚酯層附加至所形成之該丙烯酸系膜之前，藉由串連式退火法處理所形成之該丙烯酸系膜。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2431423A3 (en) 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company Anti-reflective coatings
JP5978519B2 (ja) * 2011-09-02 2016-08-24 東京尽陽株式会社 太陽電池用バックシート及び太陽電池モジュール
JP5831159B2 (ja) * 2011-11-18 2015-12-09 信越化学工業株式会社 太陽電池モジュール
WO2014128581A1 (en) * 2013-02-25 2014-08-28 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Photovoltaic module assembly
CN104465826A (zh) * 2013-09-18 2015-03-25 常州亚玛顿股份有限公司 高功率高可靠度太阳模块
WO2015146780A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 東レ株式会社 太陽電池バックシート及び太陽電池モジュール
BR112018010787A2 (pt) * 2015-12-18 2018-11-21 Rohm & Haas composição polimérica.
JPWO2018055839A1 (ja) * 2016-09-20 2018-09-20 三菱ケミカル株式会社 アクリル樹脂フィルム
WO2020203396A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 三井化学株式会社 二次電池セパレータ用コート材

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070154704A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Debergalis Michael Fluoropolymer coated films useful for photovoltaic modules
WO2008079394A1 (en) * 2006-12-21 2008-07-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Crosslinkable vinyl fluoride copolymers

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3562235A (en) 1968-06-07 1971-02-09 Rohm & Haas Multistage emulsion polymerization of alkyl acrylates and alkyl methacrylates
US3812205A (en) * 1970-04-13 1974-05-21 Rohm & Haas Process for preparing graftlinked heteropolymer film
US4141935A (en) * 1978-02-10 1979-02-27 Rohm And Haas Company Thermoplastic film having improved outdoor weatherability
US5741370A (en) 1996-06-27 1998-04-21 Evergreen Solar, Inc. Solar cell modules with improved backskin and methods for forming same
US6320116B1 (en) 1997-09-26 2001-11-20 Evergreen Solar, Inc. Methods for improving polymeric materials for use in solar cell applications
JP3964234B2 (ja) 2001-03-15 2007-08-22 三菱レイヨン株式会社 アクリル樹脂フィルムの製造方法
JP3913494B2 (ja) * 2001-05-11 2007-05-09 三菱樹脂株式会社 マーキングフィルム用基材
US7409562B2 (en) 2001-09-21 2008-08-05 The Directv Group, Inc. Method and apparatus for encrypting media programs for later purchase and viewing
JP2004247390A (ja) 2003-02-12 2004-09-02 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
CA2490733A1 (fr) * 2003-12-12 2005-06-12 Arkema Film acrylique multicouche a proprietes optique et mecaniques ameliorees
JP4944398B2 (ja) 2005-06-28 2012-05-30 帝人デュポンフィルム株式会社 太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルムおよびそれを用いた太陽電池裏面保護膜
US8012542B2 (en) 2005-12-30 2011-09-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Fluoropolymer coating compositions containing adhesive polymers and substrate coating process
GB0602678D0 (en) * 2006-02-09 2006-03-22 Dupont Teijin Films Us Ltd Polyester film and manufacturing process
JP4996137B2 (ja) 2006-05-30 2012-08-08 住友化学株式会社 アクリル系樹脂押出フィルムの製造方法
JP5433419B2 (ja) 2006-10-03 2014-03-05 アグファ−ゲバルト 非透明微小空洞含有軸方向延伸フィルム、その製造方法、およびそれへの透かしパターン形成方法
US20080264484A1 (en) 2007-02-16 2008-10-30 Marina Temchenko Backing sheet for photovoltaic modules and method for repairing same
JP2008306947A (ja) 2007-06-12 2008-12-25 Iseki & Co Ltd 歩行型の苗移植機

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070154704A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Debergalis Michael Fluoropolymer coated films useful for photovoltaic modules
WO2008079394A1 (en) * 2006-12-21 2008-07-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Crosslinkable vinyl fluoride copolymers

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