TWI404979B - 介電質多層膜濾光器 - Google Patents

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Description

介電質多層膜濾光器
本發明係有關於一種介電質多層膜濾光器，其緩和入射角依存性，並確保寬反射頻帶。
介電質多層膜濾光器係積層由折射率不同的介電質材料製成的複數種薄膜而構成的光學濾光器，其利用光的干涉從入射光反射或透過特定頻帶的波長成分。此介電質多層膜濾光器係在例如CCD照相機中做為所謂IR截止濾光器(紅外線截止濾光器)，被用以削減對於色彩再現有不良影響的紅外光(從650nm附近起的長波長側領域的光)，並透過可見光。又，此介電質多層膜濾光器係在例如液晶投影機中做為所謂分色濾光器，被用以從入射的可見光反射特定顏色的光，並透過其他顏色的光。
將傳統的介電質多層膜構成的IR截止濾光器的構造繪示於圖2。此IR截止濾光器10係在光學玻璃構成的基板12的表面上交互地反覆積層由SiO2 製成的低折射率膜14及由TiO2 製成的高折射率膜16而構成。將此IR截止濾光器10的分光透過率特性例繪示於圖3。在圖3中，特性A、B分別表示如下。
．特性A：入射角0°時之透過率．特性B：入射角25°時之p偏振光與s偏振光的平均(n偏振光)的透過率
根據圖3，可知紅外光(從650nm附近起的長波長側領域的光)被反射並削減，而可見光則被透過。
圖4係將圖3的600~700nm的頻帶擴大者。根據圖4，可知反射頻帶(以短波長側邊緣及長波長側邊緣夾住的反射率高的頻帶)的短波長側邊緣的半值波長(透過率為50%時的波長)，在入射角為0°時(特性A)與入射角為25°時(特性B)偏移19.5nm。圖2的傳統的IR截止濾光器10，因為此種反射頻帶的短波長側邊緣的偏移量大(也就是說，入射角依存性大)，在使用於CCD照相機的情況中，有攝影的影像的色調根據入射角而變化的問題。
傳統的介電質多層膜構成的分色濾光器也與前面的圖2同樣地被構成，亦即，在光學玻璃構成的基板12的表面上交互地反覆積層由SiO2 製成的低折射率膜14及由TiO2 製成的高折射率膜16而構成。將此分色濾光器構成以做為紅色反射分色濾光器時的分光透過率特性例繪示於圖31。此特性係在基板的背面上形成抗反射膜時的特性。在圖31中，特性A、B、C分別表示如下。再者，在此分色濾光器中，入射角45°係標準的入射角。
．特性A：入射角30°時之s偏振光的透過率．特性B：入射角45°時之s偏振光的透過率．特性C：入射角60°時之s偏振光的透過率
根據圖31，可知反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長，與標準的入射角45°時(特性B)相比，入射角為30°時(特性A)係在長波長側偏移35.9nm，入射角為45°時(特性C)係在短波長側偏移37.8nm。紅色反射分色濾光器的一般的反射頻帶之短波長側的邊緣係約600nm，長波長側的邊緣係約680nm以上。特別。若短波長側的邊緣如特性C向短波長側大幅地(37.8nm)偏移，則有反射光的色調變化的問題。
做為緩和入射角依存性的傳統技術，有被記載在下面的專利文獻1的技術。該濾光器的構成繪示於圖5。此介電質多層膜濾光器18係在光學玻璃基板20的表面上交互地反覆積層由TiO2 製成的高折射率膜22及由折射率比TiO2 小約0.3的Ta2 O5 等製成的低折射率膜24而構成。根據此介電質多層膜濾光器18，由於使用折射率比通常被使用的SiO2 高的Ta2 O5 膜等做為低折射率膜，積層膜全體的折射率(平均折射率)變大，且與圖2的介電質多層膜濾光器10相比，入射角依存性變小。
[專利文獻1]特開平7－27907號公報(圖1)
在圖2的IR截止濾光器或紅色反射分色濾光器10上適用專利文獻1的技術，若以折射率比SiO2 高的材料構成低折射率膜14，由於積層膜全體的折射率(平均折射率)變大，可減小入射角依存性。不過，相反地，由於高折射率膜16與低折射率膜14的折射率差變小，反射頻帶變窄，而有無法得到做為IR截止濾光器或紅色反射分色濾光器需要的反射頻帶。
為了解決上述傳統技術的問題，本發明提供一種介電質多層膜濾光器，其緩和入射角依存性，並確保寬反射頻帶。
本發明之介電質多層膜濾光器，包括：透明基板；第1介電質多層膜，具有被形成在前述透明基板的一面上之預定的反射頻帶；及第2介電質多層膜，具有被形成在前述透明基板的另一面上之預定的反射頻帶；前述第1介電質多層膜的反射頻帶的寬度(短波長側邊緣的透過率為50%時的波長及長波長側邊緣的透過率為50%時的波長之間的反射頻帶)被設定為比前述第2介電質多層膜的反射頻帶的寬度狹窄；前述第2介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣被設定為前述第1介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣與長波長側邊緣間的波長。
根據本發明，整個元件的反射頻帶被決定為第1介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣及第2介電質多層膜的反射頻帶的長波長側邊緣之間的頻帶。因此，由於第1介電質多層膜的反射頻帶的寬度未影響整個元件的反射頻帶的寬度(也就是，由於可對第1介電質多層膜的反射頻帶的寬度獨立地設定整個元件的反射頻帶的寬度)，可狹窄地設定第1介電質多層膜的反射頻帶。結果，對於以第1介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣決定的整個元件的反射頻帶的短波長側邊緣，由於入射角的變動之偏移量被減低，而可緩和整個元件的入射角依存性。另一方面，因為第2介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣被以第1介電質多層膜的反射頻帶遮蔽，此第2介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣的入射角依存性不影響整個元件的反射特性。因此，可寬廣地設定第2介電質多層膜的反射頻帶。結果，可確保整個元件的寬反射頻帶。如此，根據本發明，實現緩和入射角依存性，並確保寬反射頻帶的介電質多層膜濾光器。
本發明之介電質多層膜濾光器可構成以將整個第1介電質多層膜的平均折射率設定為比整個第2介電質多層膜的平均折射率高。再者，在本申請案中，「平均折射率」係”介電質多層膜的光學膜厚的合計×參考波長÷介電質多層膜的物理膜厚的合計”。
本發明之介電質多層膜濾光器可構成以使第1介電質多層膜係具有交互地反覆積層以具有預定折射率之第1介電質材料構成的膜及具有比第1介電質材料高的折射率之第2介電質材料構成的膜之構造；第2介電質多層膜係具有交互地反覆積層以具有預定折射率之第3介電質材料構成的膜及具有比第3介電質材料高的折射率之第4介電質材料構成的膜之構造；第1介電質材料與第2介電質材料的折射率差被設定為比第3介電質材料與第4介電質材料的折射率差小。
舉例而言，本發明之介電質多層膜濾光器可構成以將第1介電質材料相對於波長550nm的光的折射率設定為1.60~2.10；將第2介電質材料相對於波長550nm的光的折射率設定為2.0以上；將第3介電質材料相對於波長550nm的光的折射率設定為1.30~1.59；將第4介電質材料相對於波長550nm的光的折射率設定為2.0以上。
舉例而言，本發明之介電質多層膜濾光器可構成以TiO2 (折射率≒2.2~2.5)、Nb2 O5 (折射率≒2.1~2.4)、Ta2 O5 (折射率≒2.0~2.3)的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物(折射率≒2.1~2.2)做為第2介電質材料；以SiO2 (折射率≒1.46)做為第3介電質材料；以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物(折射率≒2.0以上)做為第4介電質材料。
本發明之介電質多層膜濾光器可構成而以例如Bi2 O3 (折射率≒1.9)、Ta2 O5 (折射率≒2.0)、La2 O3 (折射率≒1.9)、Al2 O3 (折射率≒1.62)、SiOx (x≦1)(折射率≒2.0)、LaF3 、La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率≒1.7~1.8)、Pr2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率≒1.6~1.7)的任一種、或是其中2種以上構成的複合氧化物做為第1介電質材料。
本發明之介電質多層膜濾光器，關於第1介電質材料，以第2介電質材料構成的膜的光學膜厚被設定為比以第1介電質材料構成的膜的光學膜厚厚。如此，與相等地設定以第1介電質材料構成的膜的光學膜厚及以第2介電質材料構成的膜的光學膜厚的情況相比，由於可提高整個第1介電質多層膜的平均折射率，而可使入射角依存性變得更小。再者，「以第2介電質材料構成的膜的光學膜厚/以第1介電質材料構成的膜的光學膜厚」的值可為例如比1.0大且在4.0以下。
本發明之介電質多層膜濾光器可構成以做為例如透過可見光，並反射紅外光的紅外線截止濾光器，或者是反射紅色光的紅色反射分色濾光器。
以下說明本發明之實施例。圖1係繪示本發明之介電質多層膜濾光器的實施例。此介電質多層膜濾光器26係被構成以在白板玻璃等的透明基板28的表面(光的入射面)28a上形成第1介電質多層膜30、在其背面28b上形成第2介電質多層膜32。第1介電質多層膜30被構成以做為交互地反覆積層以具有預定折射率之第1介電質材料構成的膜34及具有比第1介電質材料高的折射率之第2介電質材料構成的膜36之多層膜。雖然第1介電質多層膜30基本上係以奇數層被構成，也可以偶數層構成。又，各膜34、36的光學膜厚雖然基本上係λ0 /4(λ0 ：反射頻帶的中心波長)，為了得到減低波紋等期望的特性，可使第1層或最後層的膜厚為λ0 /8，並微幅調整各層的膜厚。又，在圖1中雖然係配置折射率低的膜34做為第1層，也可配置折射率高的膜36做為第1層。
第2介電質多層膜32被構成以做為交互地反覆積層以具有比第1介電質材料低的折射率之第3介電質材料構成的膜38及具有比第3介電質材料高的折射率之第4介電質材料構成的膜40之多層膜。雖然第2介電質多層膜32基本上係以奇數層被構成，也可以偶數層構成。又，各層38、40的光學膜厚雖然基本上係λ0 /4(λ0 ：反射頻帶的中心波長)，為了得到減低波紋等期望的特性，可使第1層或最後層的膜厚為λ0 /8，並微幅調整各層的膜厚。又，在圖1中雖然係配置折射率低的膜38做為第1層，也可配置折射率高的膜40做為第1層。
第1介電質多層膜30之折射率低的膜34可利用例如Bi2 O3 、Ta2 O5 、La2 O3 、Al2 O3 、SiOx (x≦1)、LaF3 、La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物、Pr2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物的任一種、或是其中2種以上構成的複合氧化物等的介電質材料(第1介電質材料)構成。第1介電質多層膜30之折射率高的膜36可利用例如TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物等的介電質材料(第2介電質材料)構成。第2介電質多層膜32之折射率低的膜38可利用例如SiO2 等的介電質材料(第3介電質材料)構成。第2介電質多層膜32之折射率高的膜40可利用例如TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物等的介電質材料(第4介電質材料)構成。
第1介電質多層膜30的整體的(平均的)折射率被設定為比第2介電質多層膜32的整體的(平均的)折射率高。構成第1介電質多層膜30的膜34、36的折射率差被設定為比構成第2介電質多層膜32的膜38、40的折射率差小。構成第1介電質多層膜30之折射率高的膜36的第2介電質材料與構成第2介電質多層膜32之折射率高的膜40的第4介電質材料係相同的介電質材料。
將圖1的介電質多層膜濾光器26的分光透過率特性繪示於圖6。在圖6中，(a)係只有第1介電質多層膜30(沒有第2介電質多層膜32的情況)的特性，(b)係只有第2介電質多層膜32(沒有第1介電質多層膜30的情況)的特性，(c)係整個介電質多層膜濾光器26的特性。第1介電質多層膜30的反射頻帶之寬度W1被設定為比第2介電質多層膜32的反射頻帶之寬度W2。第2介電質多層膜32的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E2L 被設定為第1介電質多層膜30的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E1L 與長波長側邊緣的半值波長E1H 間的波長。換言之，第1介電質多層膜30的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E1L 係被設定於比第2介電質多層膜32的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E2L 短的波長側，第2介電質多層膜32的反射頻帶的長波長側邊緣的半值波長E2H 係被設定於比第1介電質多層膜30的反射頻帶的長波長側邊緣的半值波長E1H 長的波長側。
根據圖6，整個元件26的反射頻帶的寬度W0被決定為第1介電質多層膜30的反射頻帶W1的短波長側邊緣的半值波長E1L 及第2介電質多層膜32的反射頻帶的長波長側邊緣的半值波長E2H 之間的寬度。因此，由於第1介電質多層膜30的反射頻帶的寬度W1未影響整個元件26的反射頻帶的寬度W0(也就是，由於可對寬度W1獨立地設定寬度W0)，可狹窄地設定第1介電質多層膜30的反射頻帶的寬度W1。結果，被決定做為第1介電質多層膜30的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E1L 之整個元件26的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長EL (構成以做為IR截止濾光器時係650nm附近的波長，構成以做為紅色反射濾光器時係600nm附近的波長)，由於入射角的變動造成之偏移量被減低，而可緩和整個元件26的入射角依存性。另一方面，因為第2介電質多層膜32的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E2L 被以第1介電質多層膜30的反射頻帶W1遮蔽，此第2介電質多層膜32的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E2L 的入射角依存性不影響整個元件26的反射特性。因此，可寬廣地設定第2介電質多層膜32的反射頻帶之寬度W2。結果，可確保整個元件26的寬反射頻帶的寬度W0。如此，根據圖1的介電質多層膜濾光器26，可緩和入射角依存性，並確保寬反射頻帶。
[實施例]
說明構成圖1的介電質多層膜濾光器26以做為IR截止濾光器的情況之實施例(1)~(4)與構成以做為紅色反射分色濾光器的情況之實施例(5)。再者，在關於實施例(1)~(3)於圖7~圖30所示的分光透過率特性圖(任一個均經由模擬求得)中，特性A~D分別顯示如下。又，在各實施例的設計中，折射率及衰減係數係相對於各實施例的設計波長(參考波長)λ0 的值。
．特性A：入射角0°時的透過率．特性B：入射角25°時之p偏振光的透過率．特性C：入射角25°時之s偏振光的透過率．特性D：入射角25°時之p偏振光與s偏振光的平均(n偏振光)的透過率
(1)第1介電質多層膜30的實施例
說明第1介電質多層膜30的實施例。在此係設計第1介電質多層膜30以使反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E1L (參照圖6(a))在入射角為0°時變為655nm。
<<實施例(1)－1>>
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜34：La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率1.72、衰減係數0)．膜36：TiO2 (折射率2.27、衰減係數0.0000817)．層數：27層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：731.5nm將各層的膜厚表示於表1。
將根據實施例(1)－1的設計之分光透過率特性繪示於圖7。又，將圖7的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖8。根據此設計，得到下列的特性。再者，在此特性中，「高反射率頻帶(寬度)」係透過率為1%以下的頻帶(寬度)(在其他實施例中也相同)。
．入射角0°時的高反射率頻帶：686.8~770.7nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：83.9nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶：676.5~746nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶寬度：69.5nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶：666~759.8nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶寬度：93.8nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E1L 的偏移量：15nm(參考圖8)．整個積層膜的平均折射率：1.94
<<實施例(1)－2>>
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜34：La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率1.72、衰減係數0)．膜36：Nb2 O5 (折射率2.32、衰減係數0)．層數：27層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：732nm將各層的膜厚表示於表2。
將根據實施例(1)－2的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖9。又，將圖9的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖10。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：684.9~784.4nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：99.5nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶：674.1~759.7nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶寬度：85.6nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶：664.5~772.5nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶寬度：108nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E1L 的偏移量：14.8nm(參考圖10)．整個積層膜的平均折射率：1.96
根據此設計，構成膜36的Nb2 O5 因為折射率比在實施例(1)－1中構成膜36的TiO2 稍高，與實施例(1)－1相比，偏移量被減低0.2nm。
<<實施例(1)－3>>
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜34：La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率1.81、衰減係數0)．膜36：TiO2 (折射率2.27、衰減係數0.0000821)．層數：31層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：729.5nm將各層的膜厚表示於表3。
將根據實施例(1)－3的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖11。又，將圖11的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖12。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：685.5~744.5nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：59nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶：675.6~722.7nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶寬度：47.1nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶：655.9~734.5nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶寬度：78.6nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E1L 的偏移量：14nm(參考圖12)．整個積層膜的平均折射率：2.00根據此設計，與實施例(1)－2相比，偏移量被減低0.8nm。
<<實施例(1)－4>>
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜34：Bi2 O3 (折射率1.91、衰減係數0)．膜36：TiO2 (折射率2.28、衰減係數0.0000879)．層數：41層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：700.5nm將各層的膜厚表示於表4。
將根據實施例(1)－4的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖13。又，將圖13的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖14。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：677.5~723.5nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：46nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶：656~705nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶寬度：49nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶：659.3~713nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶寬度：53.7nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E1L 的偏移量：13.9nm(參考圖14)．整個積層膜的平均折射率：2.05
根據此設計，構成膜34的Bi2 O3 因為折射率比在實施例(1)－3中構成膜34的La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物稍高，與實施例(1)－3相比，偏移量被減低0.1nm。
<<實施例(1)－5>>
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜34：Ta2 O5 (折射率2.04、衰減係數0)．膜36：Nb2 O5 (折射率2.32、衰減係數0)．層數：55層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：691.5nm將各層的膜厚表示於表5。
將根據實施例(1)－5的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖15。又，將圖15的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖16。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：669.5~706.8nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：37.3nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶：659.5~691.6nm．入射角25°時之p偏振光的高反射率頻帶寬度：32.1nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶：655.7~696.3nm．入射角25°時之s偏振光的高反射率頻帶寬度：40.6nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E1L 的偏移量：11.8nm(參考圖16)．整個積層膜的平均折射率：2.17
根據此設計，與實施例(1)－4相比，偏移量被減低2.1nm。
(2)第2介電質多層膜32的實施例
說明第2介電質多層膜32的實施例。在此係設計第2介電質多層膜32以使反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E2L (參照圖6(b))在入射角為0°時變為670nm。亦即，與實施例(1)－1至(1)－5的第1介電質多層膜30的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長E1L (在此假定係設計為E1L ＝650nm的情況)相比，將半值波長E2L 設定於20nm長波長側。
<<實施例(2)－1>>
使用下面的參數設計第2介電質多層膜32。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜38：SiO2 (折射率1.45、衰減係數0)．膜40：TiO2 (折射率2.25、衰減係數0.0000696)．層數：37層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：847nm將各層的膜厚表示於表6。
將根據實施例(2)－1的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖17。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：715.2~1011.6nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：296.4nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E2L 的偏移量：20nm．整個積層膜的平均折射率：1.75
根據此設計，與實施例(1)－1至(1)－5的第1介電質多層膜30相比，由於膜38、40的折射率差大，可得到寬反射頻帶。
<<實施例(2)－2>>
使用下面的參數設計第2介電質多層膜32。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜38：SiO2 (折射率1.45、衰減係數0)．膜40：Nb2 O5 (折射率2.30、衰減係數0)．層數：37層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：825.5nm將各層的膜厚表示於表7。
將根據實施例(2)－2的設計之分光透過率特性(只有膜的特性)繪示於圖18。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：711.1~1091.6nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：380.5nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E2L 的偏移量：19.7nm．整個積層膜的平均折射率：1.77
根據此設計，與實施例(1)－1至(1)－5的第1介電質多層膜30相比，由於膜38、40的折射率差大，可得到寬反射頻帶。
(3)整個IR截止濾光器26的實施例
說明組合以上說明的第1介電質多層膜30之實施例(1)－1至(1)－5的任一個與第2介電質多層膜32之實施例(2)－1至(2)－2的任一個而構成的整個IR截止濾光器26的實施例。任一實施例均使用德國SCHOTT AG公司製的白板玻璃B720(折射率1.52(550nm)、厚度0.3mm)做為基板28以進行模擬。
<<實施例(3)－1>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－1(整個積層膜的平均折射率＝1.94)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－1(整個積層膜的平均折射率＝1.75)
將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖19。又，將圖19的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖20。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：685.2~1010.6nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：325.4nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：15.5nm
<<實施例(3)－2>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－1(整個積層膜的平均折射率＝1.94)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－2(整個積層膜的平均折射率＝1.77)
將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖21。又，將圖21的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖22。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：685.9~1091.6nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：405.7nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：15.2nm
<<實施例(3)－3>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－2(整個積層膜的平均折射率＝1.96)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－2(整個積層膜的平均折射率＝1.77)
將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖23。又，將圖23的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖24。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：683.9~1092.1nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：408.2nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：15nm
<<實施例(3)－4>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－3(整個積層膜的平均折射率＝2.00)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－1(整個積層膜的平均折射率＝1.75)
將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖25。又，將圖25的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖26。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：683.8~1011.5nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：327.7nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：14.4nm
<<實施例(3)－5>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－4(整個積層膜的平均折射率＝2.05)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－1(整個積層膜的平均折射率＝1.75)將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖27。又，將圖27的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖28。根據此設計，得到下列的特性。．入射角0°時的高反射率頻帶：677~1011.1nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：334.1nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：14.4nm
<<實施例(3)－6>>
使用下面實施例的構成做為第1介電質多層膜30與第2介電質多層膜32，以設計IR截止濾光器26。
．第1介電質多層膜30：實施例(1)－5(整個積層膜的平均折射率＝2.17)．第2介電質多層膜32：實施例(2)－2(整個積層膜的平均折射率＝1.77)
將根據此設計之IR截止濾光器26的分光透過率特性繪示於圖29。又，將圖29的620~690nm的頻帶之擴大特性繪示於圖30。根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：677.2~1011.6nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：334.4nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：12nm
(4)與傳統構造的IR截止濾光器的特性比較
關於下面設計的傳統構造的IR截止濾光器進行模擬。
．基板：玻璃(折射率1.52、衰減係數0)．基板表面側的介電質多層膜：基板/SiO2 膜/TiO2 膜．．．(重覆)．．．/SiO2 膜/空氣層(設計以使得反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長在入射角0°時變成655nm，整個積層膜的平均折射率＝1.78)．介電質多層膜的層數：17．基板背面側：形成抗反射膜
根據此設計，得到下列的特性。
．入射角0°時的高反射率頻帶：689.4~989.1nm．入射角0°時的高反射率頻帶寬度：299.7nm．入射角0°時(特性A)與入射角25°時(特性D)的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量：19.5nm
若比較此傳統構造的IR截止濾光器與本發明之實施例(3)－1至(3)－6的IR截止濾光器，得到下列結論。
(a)對於本發明之實施例(3)－1至(3)－6，與傳統構造相比，短波長側邊緣的半值波長EL 的偏移量減少。這是因為在本發明之各實施例中界定反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長EL 之整個第1介電質多層膜30的平均折射率被設定為比由傳統構造的SiO2 膜與TiO2 膜組成的整個介電質多層膜的平均折射率大。因此，根據本發明之實施例(3)－1至(3)－6，在適用於例如CCD照相機的IR截止濾光器的情況中，可緩和入射角依存性，並抑制攝影的影像之色調的變化。
(b)對於本發明之實施例(3)－1至(3)－6，反射頻帶係與傳統構造相同或被增寬至其以上。這是因此在本發明之各實施例中，第2介電質多層膜32的短波長側邊緣的半值波長E2L (圖6(b))被設定於比第1介電質多層膜30的短波長側邊緣的半值波長E1L (圖6(a))長20nm的波長側。換言之，透過此設定，因為第2介電質多層膜32的短波長側邊緣的半值波長E2L 被以第1介電質多層膜30的反射頻帶W1遮蔽，第2介電質多層膜32的反射頻帶之短波長側邊緣的半值波長E2L 的入射角依存性變成不會影響整個元件26的反射特性。結果，可寬廣地設定第2介電質多層膜32的反射頻帶之寬度W2，以使整個元件26的反射頻帶的寬度W0(圖6(c))變寬。因此，根據本發明之實施例(3)－1至(3)－6，可充分遮斷紅外光，在適用於CCD照相機的IR截止濾光器的情況，可抑制紅外光對色彩再現產生不良影響。
(5)實施例(4)：IR截止濾光器26的其他實施例
關於第1介電質多層膜30，說明將以第2介電質材料構成的膜36之光學膜厚設定為比以第1介電質材料構成的膜34之光學膜厚厚的整個IR截止濾光器26的實施例。
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.52、衰減係數0)．以第1介電質材料構成的膜34：La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率1.75、衰減係數0)．以第2介電質材料構成的膜36：TiO2 (折射率2.39、衰減係數0)．膜34與膜36的光學膜厚比＝約1：1.9．層數：24層{最表面上形成SiO2 膜(折射率1.46、衰減係數0)}．參考波長(反射頻帶的中心波長)：509nm．整個第1介電質多層膜30的平均折射率：2.11
將構成第1介電質多層膜30之各層的膜厚表示於表8。
使用下面的參數設計第2介電質多層膜32。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．以第3介電質材料構成的膜38：SiO2 (折射率1.46、衰減係數0)．以第4介電質材料構成的膜40：TiO2 (折射率2.33、衰減係數0)．膜38與膜40的光學膜厚比＝約1：1．層數：42層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：805nm．整個第2介電質多層膜32的平均折射率：1.78
將構成第2介電質多層膜32之各層的膜厚表示於表9。
將根據此實施例(4)的設計之IR截止濾光器於入射角為0°(標準的入射角)時的分光透過率特性(實測值)繪示於圖32。在圖32中，特性A、B、C係分別繪示如下。
．特性A：只有第1介電質多層膜30的n偏振光(p偏振光與s偏振光的平均)的透過率．特性B：只有第2介電質多層膜32的n偏振光的透過率．特性C：整個IR截止濾光器26的n偏振光的透過率
根據圖32，整個IR截止濾光器26的特性C得到做為IR截止濾光器需要的反射頻帶。
將關於根據本實施例(4)的設計之IR截止濾光器26變化入射角時的625~680nm的頻帶的擴大的分光透過率特性(整個IR截止濾光器26的特性)(實測值)繪示於圖33。在圖33中，特性A、B、C、D係分別繪示如下。
．特性A：入射角0°時之n偏振光的透過率．特性B：入射角15°時之n偏振光的透過率．特性C：入射角25°時之n偏振光的透過率．特性D：入射角30°時之n偏振光的透過率
根據圖33，對於特性A(入射角0°)的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長(654.7nm)，特性B、C、D的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量如下。
．特性B(入射角15°)之偏移量：4.3nm．特性C(入射角25°)之偏移量：11.8nm．特性D(入射角30°)之偏移量：16.5nm
做為比較例，將關於由傳統的介電質多層膜構成之IR截止濾光器變化入射角時的625~680nm的頻帶的擴大分光透過率特性(模擬值)繪示於圖34。此IR截止濾光器係在光學玻璃構成的基板的表面上交互地反覆積層以SiO2 製成的低折射率膜及以TiO2 製成的高折射率膜，並在基板的背面上形成抗反射膜。在圖34中，特性A、B、C、D係分別繪示如下。
．特性A：入射角為0°時之n偏振光的透過率．特性B：入射角為15°時之n偏振光的透過率．特性C：入射角為25°時之n偏振光的透過率．特性D：入射角為30°時之n偏振光的透過率
根據圖34，對於特性A(入射角0°)的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長(655.0nm)，特性B、C、D的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量如下。
．特性B(入射角15°)之偏移量：7.1nm．特性C(入射角25°)之偏移量：18.7nm．特性D(入射角30°)之偏移量：25.8nm
若比較圖33與圖34，實施例(4)與傳統設計相比，對於入射角0°時的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量係在入射角15°係7.1nm－4.3nm＝2.8nm在入射角25°係18.7nm－11.8nm＝6.9nm在入射角30°係25.8nm－16.5nm＝9.3nm可知其分別被改善。
(6)實施例(5)：紅色反射分色濾光器的實施例
說明使用圖1的介電質多層膜濾光器26的結構以構成紅色反射分色濾光器時的實施例。
使用下面的參數設計第1介電質多層膜30。
．基板：玻璃(折射率1.52、衰減係數0)．以第1介電質材料構成的膜34：La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物(折射率1.70、衰減係數0)．以第2介電質材料構成的膜36：Ta2 O5 (折射率2.16、衰減係數0)．膜34與膜36的光學膜厚比＝約0.5：2(1：4)．層數：43層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：533nm．整個第1介電質多層膜30的平均折射率：2.04
將構成第1介電質多層膜30之各層的膜厚表示於表10。
使用下面的參數設計第2介電質多層膜32。
．基板：玻璃(折射率1.51、衰減係數0)．膜38：SiO2 (折射率1.45、衰減係數0)．膜40：Ta2 O5 (折射率2.03、衰減係數0)．膜38與膜40的光學膜厚比＝約1：1．層數：14層．參考波長(反射頻帶的中心波長)λ0 ：780nm．整個第2介電質多層膜32的平均折射率：1.68
將構成第2介電質多層膜32之各層的膜厚表示於表11。
將關於根據本實施例(5)的設計之紅色反射分色濾光器26於入射角為45°(標準的入射角)時的分光透過率特性(模擬值)繪示於圖35。在圖35中，特性A、B係分別繪示如下。
．特性A：只有第1介電質多層膜30之s偏振光的透過率．特性B：只有第2介電質多層膜32之s偏振光的透過率
根據圖35，做為結合特性A的反射頻帶及特性B的反射頻帶之整個紅色反射分色濾光器26的反射頻帶，可得到做為IR截止濾光器所需要的反射頻帶。
將關於根據此實施例(5)之紅色反射分色濾光器26變化入射角時的分光透過率特性(整個紅色反射分色濾光器26的特性)(模擬值)繪示在圖36。在圖36中，特性A、B、C分別表示如下。
．特性A：入射角為30°(標準的入射角－15°)時之s偏振光的透過率．特性B：入射角為45°(標準的入射角)時之s偏振光的透過率．特性C：入射角為60°(標準的入射角＋15°)時之s偏振光的透過率
根據圖36，對於特性B(入射角45°)的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長(592.8nm)，特性A、C的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量如下。
．特性A(入射角30°)之偏移量：＋20.3nm．特性C(入射角60°)之偏移量：－20.8nm
做為比較例，根據圖31(由傳統的介電質多層膜構成的紅色反射分色濾光器的特性)，對於特性B(入射角45°)的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長(591.7nm)，特性A、C的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量如下。
．特性A(入射角30°)之偏移量：＋35.9nm．特性C(入射角60°)之偏移量：－37.8nm
若比較圖31與圖36，實施例(5)與傳統設計相比，對於入射角45°時的反射頻帶的短波長側邊緣的半值波長之偏移量係在入射角30°係35.9nm－20.3nm＝15.6nm在入射角60°係37.8nm－20.8nm＝17.0nm可知其分別被改善。
關於第1介電質多層膜30，將以第2介電質材料構成的膜36之光學膜厚設定為比以第1介電質材料構成的膜34之光學膜厚厚時之兩膜34、36的光學膜厚比，在實施例(4)中約為1：1.9，在實施例(5)中約為1：4，此外也可設定1：1.5(2：3)、1：3等各種的膜厚比。
再者，在根據前面的實施例之介電質多層膜濾光器26中，雖然係將第1介電質多層膜30配置在透明基板28的表面(光的入射面)28a側上，將第2介電質多層膜32配置在背面28b側上，與此相反，可將第2介電質多層膜32配置在表面28a側上，將第1介電質多層膜30配置在背面28b側上。
在前述實施例中，雖然係說明以本發明做為IR截止濾光器及紅色反射分色濾光器構成的情況，本發明也可適用於要求抑制入射角依存性及寬反射頻帶的其他濾光器(例如，其他的邊緣濾光器)。
26．．．介電質多層膜濾光器(IR截止濾光器、紅色反射分色濾光器)
28．．．透明基板
30．．．第1介電質多層膜
32．．．第2介電質多層膜
34．．．以第1介電質材料構成的膜
36．．．以第2介電質材料構成的膜
38．．．以第3介電質材料構成的膜
40．．．以第4介電質材料構成的膜
圖1係繪示本發明之實施例的圖式，係概要地繪示介電質多層膜濾光器的積層構造的圖式。
圖2係概要地繪示由傳統的介電質多層膜濾光器構成的IR截止濾光器的積層構造之圖式。
圖3係圖2的IR截止濾光器的的分光透過率特性圖。
圖4係顯示圖3的600~700nm的頻帶之擴大分光透過率特性圖。
圖5係被記載於專利文獻1的介電質多層膜濾光器的積層構造圖。
圖6(a)至圖6(c)係圖1的介電質多層膜濾光器的分光透過率特性圖。
圖7係根據實施例(1)－1的設計之分光透過率特性圖。
圖8係圖7的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖9係根據實施例(1)－2的設計之分光透過率特性圖。
圖10係圖9的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖11係根據實施例(1)－3的設計之分光透過率特性圖。
圖12係圖11的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖13係根據實施例(1)－4的設計之分光透過率特性圖。
圖14係圖13的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖15係根據實施例(1)－5的設計之分光透過率特性圖。
圖16係圖15的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖17係根據實施例(2)－1的設計之分光透過率特性圖。
圖18係根據實施例(2)－2的設計之分光透過率特性圖。
圖19係根據實施例(3)－1的設計之分光透過率特性圖。
圖20係圖19的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖21係根據實施例(3)－2的設計之分光透過率特性圖。
圖22係圖21的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖23係根據實施例(3)－3的設計之分光透過率特性圖。
圖24係圖23的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖25係根據實施例(3)－4的設計之分光透過率特性圖。
圖26係圖25的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖27係根據實施例(3)－5的設計之分光透過率特性圖。
圖28係圖27的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖29係根據實施例(3)－6的設計之分光透過率特性圖。
圖30係圖29的620~690nm的頻帶之擴大特性圖。
圖31係傳統的圖2之紅色反射分色濾光器的分光透過率特性圖(模擬值)。
圖32係根據實施例(4)的設計之IR濾光器的入射角為0°時的分光透過率特性圖(實測值)。
圖33係關於實施例(4)的設計變化入射角時之625~680nm的頻帶之擴大分光透過率特性圖(實測值)。
圖34係關於由傳統的介電質多層膜構成的IR截止濾光器變化入射角時之625~680nm的頻帶之擴大分光透過率特性圖(模擬值)。
圖35係根據實施例(5)的設計之紅色反射分色濾光器的入射角為45°時的分光透過率特性圖(實測值)。
圖36係關於根據實施例(5)的設計之紅色反射分色濾光器變化入射角時的分光透過率特性圖(實測值)。
28．．．透明基板
26．．．介電質多層膜濾光器
28a．．．表面
30．．．第1介電質多層膜
28b．．．背面
32．．．第2介電質多層膜
34．．．以第1介電質材料構成的膜
36．．．以第2介電質材料構成的膜
38．．．以第3介電質材料構成的膜
40．．．以第4介電質材料構成的膜

Claims (10)

  1. 一種介電質多層膜濾光器，包括：透明基板；第1介電質多層膜，具有被形成在前述透明基板的一面上之預定的反射頻帶；及第2介電質多層膜，具有被形成在前述透明基板的另一面上之預定的反射頻帶；前述第1介電質多層膜的反射頻帶的寬度被設定為比前述第2介電質多層膜的反射頻帶的寬度狹窄；前述第2介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣被設定於前述第1介電質多層膜的反射頻帶的短波長側邊緣與長波長側邊緣間，其中，前述第1介電質多層膜全體的平均折射率被設定為比前述第2介電質多層膜全體的平均折射率高。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述第1介電質多層膜係具有交互地反覆積層以具有預定折射率之第1介電質材料構成的膜及具有比該第1介電質材料高的折射率之第2介電質材料構成的膜之構造；前述第2介電質多層膜係具有交互地反覆積層以具有預定折射率之第3介電質材料構成的膜及具有比該第3介電質材料高的折射率之第4介電質材料構成的膜之構造；前述第1介電質材料與前述第2介電質材料的折射率差被設定為比前述第3介電質材料與前述第4介電質材料 的折射率差小。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述第1介電質材料相對於波長550nm的光的折射率係1.60~2.10；前述第2介電質材料相對於波長550nm的光的折射率係2.0以上；前述第3介電質材料相對於波長550nm的光的折射率係1.30~1.59；前述第4介電質材料相對於波長550nm的光的折射率係2.0以上。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述第2介電質材料係TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物；前述第3介電質材料係SiO2 ；前述第4介電質材料係TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種、或是以TiO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 的任一種做為主成分的複合氧化物。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述第1介電質材料係Bi2 O3 、Ta2 O5 、La2 O3 、Al2 O3 、SiOx (x≦1)、LaF3 、La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物、Pr2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物的任一種、或是其中2種以上構成的複 合氧化物。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述第1介電質材料係Bi2 O3 、Ta2 O5 、La2 O3 、Al2 O3 、SiOx (x≦1)、LaF3 、La2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物、Pr2 O3 與Al2 O3 的複合氧化物的任一種、或是其中2種以上構成的複合氧化物。
  7. 如申請專利範圍第2至6項的任一項所述的介電質多層膜濾光器，其中，關於前述第1介電質材料，以前述第2介電質材料構成的膜的光學膜厚被設定為比以前述第1介電質材料構成的膜的光學膜厚厚。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的介電質多層膜濾光器，其中，「以前述第2介電質材料構成的膜的光學膜厚/以前述第1介電質材料構成的膜的光學膜厚」的值係比1.0大且在4.0以下。
  9. 如申請專利範圍第1至6項的任一項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述介電質多層膜濾光器係透過可見光，並反射紅外光的紅外線截止濾光器。
  10. 如申請專利範圍第1至6項的任一項所述的介電質多層膜濾光器，其中，前述介電質多層膜濾光器係反射紅色光的紅色反射分色濾光器。
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Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080258043A1 (en) * 2007-04-17 2008-10-23 Koji Suzuki Optical element and optical equipment
JP5178085B2 (ja) * 2007-08-07 2013-04-10 株式会社村上開明堂 撮像装置付きバックミラー
US10788608B2 (en) 2007-08-12 2020-09-29 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Non-color shifting multilayer structures
US10690823B2 (en) 2007-08-12 2020-06-23 Toyota Motor Corporation Omnidirectional structural color made from metal and dielectric layers
US10870740B2 (en) 2007-08-12 2020-12-22 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Non-color shifting multilayer structures and protective coatings thereon
US8736959B2 (en) * 2007-08-12 2014-05-27 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Omnidirectional reflector
JP5229075B2 (ja) * 2008-07-28 2013-07-03 日本電気硝子株式会社 広帯域反射鏡
KR20100137229A (ko) * 2009-06-22 2010-12-30 삼성전자주식회사 디지털 카메라용 복합형 적외선 차단 필터
US8330840B2 (en) * 2009-08-06 2012-12-11 Aptina Imaging Corporation Image sensor with multilayer interference filters
KR101674036B1 (ko) * 2009-09-15 2016-11-08 가부시키가이샤 다이신쿠 광학 필터
WO2011064691A2 (en) * 2009-11-24 2011-06-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Luminescent solar concentrator
US20120224265A1 (en) * 2011-03-03 2012-09-06 Clark Stephan R Supporting a substrate within an optical component
CN102721990A (zh) * 2011-03-30 2012-10-10 亚洲光学股份有限公司 红外光截止滤镜
JP5757775B2 (ja) * 2011-04-15 2015-07-29 オリンパス株式会社 光学多層膜バンドパスフィルタ
MY169653A (en) 2011-07-01 2019-04-25 Tropiglas Tech Ltd A spectrally selective panel
WO2013015303A1 (ja) 2011-07-28 2013-01-31 旭硝子株式会社 光学部材
CN103827705B (zh) * 2011-09-21 2016-03-23 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器
JP5194179B1 (ja) * 2012-01-31 2013-05-08 国立大学法人東北大学 半導体レーザ装置および非線形光学効果利用機器
JP5973747B2 (ja) * 2012-02-28 2016-08-23 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルター
CN103364859B (zh) * 2012-04-05 2016-01-20 信泰光学(深圳)有限公司 红外线截止滤光片结构
JPWO2013161767A1 (ja) * 2012-04-26 2015-12-24 旭硝子株式会社 光学素子
US9103986B2 (en) * 2012-06-08 2015-08-11 Empire Technology Development Llc Multi frequency filter arrays for low cost spectrometers
WO2014034386A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JP2014048402A (ja) * 2012-08-30 2014-03-17 Kyocera Corp 光学フィルタ部材および撮像装置
US10154177B2 (en) 2012-10-04 2018-12-11 Cognex Corporation Symbology reader with multi-core processor
CN104412136B (zh) * 2012-10-26 2017-07-25 京瓷株式会社 光学滤波器部件以及具备该光学滤波器部件的摄像装置
CN104823086B (zh) 2012-11-30 2017-08-15 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器
WO2014103921A1 (ja) * 2012-12-27 2014-07-03 コニカミノルタ株式会社 Ｉｒカットフィルターおよびそれを備えた撮像装置
KR102061477B1 (ko) * 2012-12-28 2020-01-02 에이지씨 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터
TWI623731B (zh) * 2013-01-29 2018-05-11 唯亞威方案公司 光學濾波器以及光學濾波器之製造方法
CN103091759B (zh) * 2013-02-05 2013-09-11 哈尔滨工业大学 一种窄带干涉滤光片
EP2954353A4 (en) * 2013-02-08 2016-09-21 3M Innovative Properties Co INTEGRATED OPTICAL QUANTUM POINT STRUCTURES
US9977157B2 (en) * 2013-02-13 2018-05-22 Guardian Europe S.à r.l. Dielectric mirror
US9594195B2 (en) 2013-02-13 2017-03-14 Centre Luxembourgeois de Recherches Pour le Verre et la Ceramique (CRVC) SaRL Dielectric mirror
JP6136661B2 (ja) * 2013-07-02 2017-05-31 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JP6166150B2 (ja) * 2013-10-29 2017-07-19 アルプス電気株式会社 受光装置
JP2015111241A (ja) * 2013-10-30 2015-06-18 日本電波工業株式会社 光学部品
JP6458797B2 (ja) * 2014-03-11 2019-01-30 コニカミノルタ株式会社 赤外カットフィルター
WO2015153043A1 (en) 2014-04-01 2015-10-08 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Non-color shifting multilayer structures
JP2015227963A (ja) * 2014-06-02 2015-12-17 京セラクリスタルデバイス株式会社 光学フィルタ及びその製造方法
JP6432270B2 (ja) * 2014-10-14 2018-12-05 岩崎電気株式会社 波長選択フィルター及び光照射装置
EP3248032B1 (en) * 2015-01-23 2020-11-25 Materion Corporation Near infrared optical interference filters with improved transmission
KR102583883B1 (ko) 2015-02-18 2023-09-27 마테리온 코포레이션 개선된 투과를 갖는 근적외선 광학 간섭 필터
CN107076895B (zh) * 2015-04-23 2019-06-14 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器和摄像装置
KR101887846B1 (ko) 2015-09-25 2018-08-10 에이지씨 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
JP6924560B2 (ja) 2016-05-27 2021-08-25 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 液晶表示装置、光源装置および光源装置の製造方法
CN106443848A (zh) * 2016-11-16 2017-02-22 天津津航技术物理研究所 一种宽带激光薄膜反射镜
DE102017004828B4 (de) * 2017-05-20 2019-03-14 Optics Balzers Ag Optischer Filter und Verfahren zur Herstellung eines optischen Filters
CN111954833B (zh) * 2018-03-30 2022-07-12 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器
JP6748150B2 (ja) * 2018-06-14 2020-08-26 ファナック株式会社 ガルバノミラー及びレーザ加工装置
CN109150090A (zh) * 2018-08-21 2019-01-04 河海大学常州校区 一种基于分光原理的聚光光伏热电联产装置
CN113514911B (zh) * 2021-07-27 2024-04-05 北京京东方技术开发有限公司 一种光学结构及其制备方法
CN115166886B (zh) * 2022-06-14 2024-02-09 浙江晶驰光电科技有限公司 一种超低角度偏移效应的红外截止滤光器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07325214A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 色フィルタおよびそれを用いた投写型表示装置
TW200515013A (en) * 2003-07-24 2005-05-01 Seiko Epson Corp Optical multilayer-film filter, method for fabricating optical multilayer-film filter, optical low-pass filter, and electronic apparatus

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0786568B2 (ja) * 1987-03-25 1995-09-20 東芝ライテック株式会社 光源装置
JPH0395502A (ja) * 1989-09-08 1991-04-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd 炎センサ用フィルタ
WO1997001778A1 (en) * 1995-06-26 1997-01-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transparent multilayer device
JPH11202127A (ja) * 1998-01-14 1999-07-30 Canon Inc ダイクロイックミラー
CN2387549Y (zh) * 1999-06-18 2000-07-12 中国科学院上海技术物理研究所 8微米长波通滤光片
CN2469469Y (zh) * 2001-03-20 2002-01-02 杨树梅 多频带透射或反射型光通讯网络无源器件
US7123416B1 (en) * 2003-05-06 2006-10-17 Semrock, Inc. Method of making high performance optical edge and notch filters and resulting products

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07325214A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 色フィルタおよびそれを用いた投写型表示装置
TW200515013A (en) * 2003-07-24 2005-05-01 Seiko Epson Corp Optical multilayer-film filter, method for fabricating optical multilayer-film filter, optical low-pass filter, and electronic apparatus

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JP2007183525A (ja) 2007-07-19
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