KR101674036B1 - 광학 필터 - Google Patents
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Abstract
촬상 디바이스(1)에 설치되는 광학 필터(13)에는 수정판(2)과, 수정판(2) 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군(3)이 설치되어 있다. 필터군(3)은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터(33)와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36)가 조합되어 구성된다. 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36)에서는 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 150㎚이하이며 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복된다.
Description
본 발명은 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터에 관한 것이다.
일반적인 비디오 카메라나 디지털 스틸 카메라 등으로 대표되는 전자 카메라의 광학계에서는 광축을 따라 피사체측으로부터 결합 광학계, 적외선 컷오프 필터, 광학 저역 통과 필터, CCD(Charge Coupled Device)나 MOS(Metal Oxide Semiconductor) 등의 촬상 소자가 순차적으로 배치되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 또한, 여기서 말하는 촬상 소자는 사람의 눈이 시인 가능한 파장 대역의 광선(가시광선)보다 넓은 파장 대역의 광선에 응답하는 감도 특성을 갖고 있다. 그 때문에, 촬상 소자는 가시광선에 추가해서 적외역이나 자외역의 광선에도 응답한다.
사람의 눈은 암소(暗所)에 있어서 400㎚∼620㎚정도 범위의 파장의 광선에 응답하고, 명소(明所)에 있어서 420㎚∼700㎚정도 범위의 파장의 광선에 응답한다. 이에 대해서, 예를 들면 CCD에서는 400㎚∼700㎚ 범위의 파장의 광선에 고감도로 응답하고, 또한 400㎚미만의 파장의 광선이나 700㎚를 초과하는 파장의 광선에도 응답한다.
이 때문에, 하기하는 특허 문헌 1에 기재된 촬상 디바이스에서는 촬상 소자인 CCD 이외에 적외선 컷오프 필터를 설치하여 촬상 소자에 적외역의 광선을 도달시키지 않도록 하여 사람의 눈에 가까운 촬상 화상이 얻어지도록 하고 있다.
그런데, 촬상 디바이스에는 일반적인 비디오 카메라나 디지털 스틸 카메라 이외에 감시 카메라 등의 통상의 촬영과는 상이한 다른 용도로 사용되는 촬상 디바이스가 있다.
예를 들면, 감시 카메라에서는 주간뿐만 아니라 야간의 암시(暗視)에서의 감시 촬영도 행할 필요가 있다. 야간 등의 암시 하에 있어서의 촬영에서는 사람의 눈으로는 보이지 않는 상태에서의 촬영이 되므로 통상의 가시역을 촬영의 대역으로 하는 카메라에서는 암시 하에 있어서의 촬영을 행할 수 없다. 그 때문에, 현재 야간 등의 암시 하에 있어서의 촬영은 적외역의 광선을 이용하여 행해지고 있지만 상기 특허 문헌 1에 기재된 촬상 디바이스에서는 적외역의 광선을 커팅하는 적외선 컷오프 필터를 설치하고 있으므로 암시에서의 촬영에 사용할 수 없다.
그래서, 상기 과제를 해결하기 위해서 본 발명은 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 광의 투과가 가능한 광학 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터는 투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고, 상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역(one preset band)에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 상기 복수의 필터에서는 상기 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 150㎚이하이며 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 가시역과 소망의 적외역에 있어서 투과 특성을 갖는 것이 가능하게 되고, 그 결과 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 촬영을 행하는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명에 의하면 상기 복수의 필터에서는 상기 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 150㎚이하이며 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
그런데, 본 발명에서 말하는 제 1 필터와, 그 밖의 종래의 1개의 필터의 조합에 의해 가시역과는 별도로 적외역에 투과 특성을 가질 수는 있지만 이 경우 가시역 이외에 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역에 투과 특성을 가질 수는 없다. 그러나, 본 발명에 의하면 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 고굴절율 재료에는 TiO2, Nb2O5, 또는 Ta2O5가 사용되고, 상기 저굴절율 재료에는 SiO2 또는 MgF2가 사용되어도 좋다.
또한, 고굴절율 재료에 TiO2, Nb2O5, 또는 Ta2O5를 사용하고, 저굴절율 재료에 SiO2 또는 MgF2를 사용한 차단 특성을 갖는 광학 필터의 경우 그 차단 대역의 폭은 기본적으로 250㎚정도가 되고 변경하는 것이 어렵다. 이것은 광학 재료의 굴절율에 따라 차단 대역의 폭이 정해지는 것에 관계된다. 그 때문에, 이들 광학 재료를 이용해서 가시역과 적외역의 2개의 대역에 투과 특성을 갖는 광학 필터의 경우 적외역의 투과 대역은 900㎚초과로 되어버려 적외역의 투과 대역의 상승 파장을 임의로 설정할 수 없다.
그러나, 본 구성에 의하면 상기 투명 기판과 상기 필터군이 구비되고, 상기 필터군은 상기 제 1 필터와 상기 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 또한 상기 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 상기 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 고굴절율 재료에 TiO2, Nb2O5, 또는 Ta2O5가 사용되고, 상기 저굴절율 재료에 SiO2 또는 MgF2가 사용되고, 상기 복수의 필터에서는 상기 차단 특성을 갖는 대역이 각각 150㎚이하이며, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다. 그 결과, 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트의 광의 파장을 투과시키는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1:0.5∼대략 1:0.75로 설정되어도 좋다.
이 경우 상기 복수의 필터 각각의 차단 특성을 갖는 대역을 약 150㎚이하로 하는 것이 가능하고, 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다. 그 결과, 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 0.45:1∼대략 0.7:1로 설정되어도 좋다.
이 경우 상기 복수의 필터 각각의 차단 특성을 갖는 대역을 약 150㎚이하로 하는 것이 가능하고, 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다. 그 결과, 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 상기 필터군에 의한 투과 특성을 갖는 대역은 가시역으로, 약 800㎚∼약 1000㎚이어도 좋다.
이 경우 통상 2개의 필터를 조합시키는 것으로는 실현 불가능한 가시역과 이 가시역 근방의 근적외역의 약 800㎚∼약 1000㎚의 대역만에 있어서의 투과를 상기 제 1 필터와 상기 복수의 필터의 조합으로 실현하고 있다. 그 때문에, 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트의 주요한 중심 파장(예를 들면 약 840㎚, 약 950㎚ 등)에 대응시키는 것이 가능하게 되고, 이들 파장 대역 밖의 불필요한 근적외광이나 원적외광의 차단을 확실히 행하는 것이 가능해진다. 그 결과, LED 라이트 등의 LED 광원을 사용한 적외역에서의 투과를 가능하게 해서 야간 등의 암시 하에 있어서의 촬영에 바람직하다.
상기 구성에 있어서, 상기 복수의 필터는 상기 차단 특성을 갖는 대역이 약 600㎚∼약 750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터와, 상기 차단 특성을 갖는 대역이 약 700㎚∼약 900㎚ 사이에 설정된 제 3 필터이어도 좋다.
이 경우, 사람의 눈의 감도 특성(중 명소의 특성)에 있어서의 응답 부분으로부터 그 인접하는 근적외의 광(예를 들면 광량의 중심 파장, 약 840㎚의 LED 라이트의 중심 파장의 가감 부분까지)을 리플(ripple)없이, 2개의 투과 대역 사이의 차단 특성을 갖는 대역에서는 투과율 3%이하로 하는 것이 가능해진다. 또한, 구체적으로 상기 제 2 필터의 상기 차단 특성을 갖는 대역이 약 650㎚∼약 750㎚ 사이에 설정되고, 상기 제 3 필터의 상기 차단 특성을 갖는 대역이 약 750㎚∼약 900㎚ 사이에 설정된 경우, 광량의 중심 파장 약 950㎚의 LED 라이트의 광을 효율적으로 촬영하는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 상기 필터군에는 굴절율이 변화되는 위치에 조정층이 포함되어도 좋다.
이 경우, 상기 필터군에 상기 조정층이 포함되어 있으므로 리플의 발생을 억제하는 것이 가능하게 되고, 특히 투과시키고 싶은 파장 영역에 있어서의 리플의 발생을 억제하는 것이 가능하게 되어 급준하게 변위되는 투과율의 변이량도 억제하는 것이 가능해진다.
상기 구성에 있어서, 적외역에 있어서의 투과 폭은 약 65㎚∼약 200㎚이어도 좋다.
이 경우, 적외역에 있어서의 투과 폭을 짧은 소망의 폭으로 설정하는 것이 가능하고, 구체적으로 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트의 광의 파장(약 100㎚정도의 조사 파장폭)만을 투과시키는 것이 가능하게 되고, LED 라이트로부터 조사되어 피사체에 의해 반사된 광을 효율적으로 촬영하는 것이 가능해진다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터는 투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고, 상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 또한 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1:0.5∼대략 1:0.75로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 상기 복수의 필터에서는 상기 복수의 필터 각각에 있어서, 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1:0.5∼대략 1:0.75로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
또는, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터는 투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고, 상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 또한 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 0.45:1∼대략 0.7:1로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 상기 복수의 필터에서는 상기 복수의 필터 각각에 있어서, 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 0.45:1∼대략 0.7:1로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의하면 가시역과 소망의 적외역에 있어서 투과 특성을 갖는 것이 가능하게 되고, 그 결과 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 촬영을 행하는 것이 가능해진다.
그런데, 본 발명에서 말하는 제 1 필터와, 그 밖의 종래의 1개의 필터의 조합에 의해 가시역과는 별도로 적외역에 투과 특성을 가질 수는 있지만 이 경우 가시역 이외에 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 가질 수는 없다. 그러나, 본 발명에 의하면 상기 복수의 필터 각각의 차단 특성을 갖는 대역을 약 150㎚이하로 하는 것이 가능하고, 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다. 그 결과, 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하를 포함하는 대역 또는 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 갖는 것이 가능해진다.
<발명의 효과>
본 발명에 의하면 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 촬영이 가능한 광학 필터 및 촬상 디바이스를 제공하는 것이 가능해진다.
도 1은 본 실시형태에 의한 촬상 디바이스의 개략 구성도이다.
도 2는 본 실시형태에 의한 광학 필터의 구성을 도시하는 개략 구성도이다.
도 3은 본 실시형태에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 4는 본 실시형태에 의한 제 1 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 5는 본 실시형태에 의한 제 2 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 6은 본 실시형태에 의한 제 3 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 7은 본 실시예에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 8은 본 실시예 2에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 9는 본 실시예 3에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 10은 본 실시예 4에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 2는 본 실시형태에 의한 광학 필터의 구성을 도시하는 개략 구성도이다.
도 3은 본 실시형태에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 4는 본 실시형태에 의한 제 1 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 5는 본 실시형태에 의한 제 2 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 6은 본 실시형태에 의한 제 3 필터의 투과 특성을 도시하는 개략도이다.
도 7은 본 실시예에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 8은 본 실시예 2에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 9는 본 실시예 3에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
도 10은 본 실시예 4에 의한 광학 필터의 투과 특성을 도시하는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조해서 설명한다.
본 실시형태에 의한 촬상 디바이스(1)에는 도 1에 도시하는 바와 같이 광축(11)을 따라 외부의 피사체측에서 적어도 외부로부터 광을 입사하는 결합 광학계인 렌즈(12), 광학 필터(13), CCD나 CMOS 등의 촬상 소자(14)가 순차적으로 배치되어 있다. 또한, 이 촬상 디바이스(1)에는 LED 라이트(15)가 설치되고, 야간은 LED 라이트(15)를 피사체를 향해서 조사함으로써 야간의 촬영 보조를 행한다. 본 실시형태에서는 LED 라이트로부터 피크 파장 850㎚의 광을 조사한다.
광학 필터(13)에는 도 1, 2에 도시하는 바와 같이 투명 기판인 수정판(水晶板)(2)과, 이 수정판(2)의 일주면(21) 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군(3)과, 수정판(2)의 타주면(22) 상에 형성된 AR코드(도시 생략)가 설치되어 있다. 또한, 필터군(3)은 IR 컷오프 필터에 대응하는 것이지만 적외역에 투과 특성을 가지므로 실제는 IR 컷오프 필터와는 다른 필터이다.
필터군(3)은 도 2에 도시하는 바와 같이 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막(31)과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막(32)이 교대로 복수 적층되어서 이루어진다. 그 때문에, 수정판(2)의 일주면(21)측으로부터 세어서 홀수번째의 층이 제 1 박막(31)에 의해 구성되고, 짝수번째의 층이 제 2 박막(32)에 의해 구성되어 있다. 또한, 이 실시형태에서는 제 1 박막에 TiO2가 사용되고, 제 2 박막에 SiO2가 사용되고, 필터군(3)은 수정판(2)의 일주면(21)측으로부터 순차적으로 서수사로 정의되는 복수층, 본 실시형태에서는 1층, 2층, 3층…49층으로 구성되어 있다. 이들 1층, 2층, 3층…49층 각각의 층은 제 1 박막(31)과 제 2 박막(32)이 적층되어서 구성되어 있다. 또한, 적층되는 제 1 박막(31)과 제 2 박막(32)의 광학막 두께가 다른 것에 의해 1층, 2층, 3층…49층 각각의 두께가 다르다. 또한, 여기서 말하는 광학막 두께는 하기되는 수식 1에 의해 구해진다.
수식 1
Nd=λ/4(Nd : 광학막 두께, d : 물리막 두께, N : 굴절율, λ : 중심 파장)
이 필터군(3)의 제조 방법에 관해서 수정판(2)의 일주면(21)에 대해서 주지의 진공 증착 장치(도시 생략)에 의해 TiO2와 SiO2가 교대로 진공 증착되고, 도 2에 도시하는 바와 같은 필터군(3)이 형성된다. 또한, 제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)의 막두께 조정은 막두께를 모니터링하면서 증착 동작을 행하고, 소정의 막두께에 도달된 시점에서 증착원(도시 생략) 근방에 설치된 셔터(도시 생략)를 폐쇄하거나 해서 증착 물질(TiO2, SiO2)의 증착을 정지함으로써 행하여진다.
또한, 상기 필터군(3)은 도 2에 도시하는 바와 같이 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터(33)와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터와, 굴절율이 변화되는 위치에 배치되는 조정층(34)이 조합되어 구성되어 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서의 조정층(34)의 굴절율이 변화되는 위치란 복수의 필터와 수정판(2)의 계면이며, 복수의 필터와 수정판(2) 사이에 조정층(34)이 개층되어 있다.
이 필터군(3)에 의한 투과 특성을 갖는 대역(투과 대역이라고도 함)은 도 3에 도시하는 바와 같이 가시역(본 실시예에서는 약 420㎚∼약 650㎚)과, 가시역에 가까운 근적외역의 근적외 대역(본 실시형태에서는 약 800㎚∼약 900㎚의 약 100㎚)이다. 또한, 필터군(3)의 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)은 각각 「약」을 부여하는 바와 같이 각각 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
이어서, 필터군(3)의 제 1 필터(33)와 복수의 필터에 대해서 각각 상세히 설명한다.
제 1 필터(33)는 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역(본 실시형태에서는 약 380㎚∼약 900㎚)에 있어서 투과 특성을 갖는다. 구체적으로, 제 1 필터(33)는 도 4에 도시하는 바와 같이 약 380㎚∼약 900㎚에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 380㎚미만과 약 900㎚초과에 있어서 차단 특성을 갖는다. 이 제 1 필터(33)의 제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)은 다음과 같이 설계되어 있다. 또한, 제 1 필터(33)의 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)은 각각 「약」을 부여하는 바와 같이 각각 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
제 1 박막(31)에는 고굴절율 재료인 TiO2가 사용되고, 제 2 박막(32)에는 저굴절율 재료인 SiO2가 사용되고 있다. 제 1 필터(33)에 있어서의 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1:1로 설정되어 있다. 또한, 여기서 말하는 광학막 두께비는 「대략」을 부여하는 바와 같이 1:1로 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
복수의 필터는 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 100㎚이하이며 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것이다. 본 실시형태에서는 차단 특성을 갖는 대역이 약 650㎚∼약 740㎚ 사이에 설정된 제 2 필터(35)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 700㎚∼약 800㎚ 사이에 설정된 제 3 필터(36)에 의해 구성되어 있다. 또한, 도 2에 도시하는 바와 같이 제 2 필터(35) 상에 제 3 필터(36)가 적층되어 있다. 또한, 본 실시형태에 의한 복수의 필터에서는 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 100㎚이하이지만 이것은 바람직한 예이며, 이것에 한정되는 것은 아니고, 약 150㎚이하이면 좋다. 또한, 제 2 필터(35)나 제 3 필터(36)의 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)은 각각 「약」을 부여하는 바와 같이 각각 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
제 2 필터(35)는 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(본 실시형태에서는 약 740㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(본 실시형태에서는 약 650㎚∼약 740㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다. 구체적으로, 제 2 필터(35)는 도 5에 도시하는 바와 같이 약 380㎚∼약 650㎚와 약 740㎚초과에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 380㎚미만과 약 650㎚∼약 740㎚에 있어서 차단 특성을 갖는다. 이 제 2 필터(35)의 제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)은 다음과 같이 설계되어 있다.
제 2 필터(35)의 제 1 박막(31)에는 고굴절율 재료인 TiO2가 사용되고, 제 2 박막(32)에는 저굴절율 재료인 SiO2가 사용되고 있다. 제 2 필터(35)의 복수의 제 1 박막(31) 중 제 2 필터(35)의 최상층(도 2에 도시하는 좌측)에 위치되는 제 1 박막(31)은 다른 제 1 박막(31)보다 물리막 두께가 약 절반 정도로 설정되어 있다. 또한, 제 2 필터(35)에 있어서의 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.500∼대략 1.000:0.750로 설정되어 있다. 구체적으로, 본 실시형태에서는 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.538로 설정되어 있다. 또한, 여기서 말하는 광학막 두께비는 「대략」을 부여하는 바와 같이 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
제 3 필터(36)는 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(본 실시형태에서는 약 800㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(본 실시형태에서는 약 700㎚∼약 800㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다. 구체적으로, 제 3 필터(36)는 도 6에 도시하는 바와 같이 약 380㎚미만과 약 420㎚∼약 700㎚와 약 800㎚초과에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 380㎚∼약 420㎚와 약 700㎚∼약 800㎚에 있어서 차단 특성을 갖는다. 이 제 3 필터(36)의 제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)은 다음과 같이 설계되어 있다.
제 3 필터(36)의 제 1 박막(31)에는 고굴절율 재료인 TiO2가 사용되고, 제 2 박막(32)에는 저굴절율 재료인 SiO2가 사용되고 있다. 제 3 필터(36)의 복수의 제 1 박막(31) 중 제 3 필터(36)의 최하층(도 2에 도시하는 우측)에 위치되는 제 1 박막(31)은 다른 제 1 박막(31)보다 물리막 두께가 약 절반 정도로 설정되어 있다. 또한, 제 3 필터(36)에 있어서의 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.500∼대략 1.000:0.750로 설정되어 있다. 구체적으로, 본 실시형태에서는 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1:0.540로 설정되어 있다. 또한, 여기서 말하는 광학막 두께비는 「대략」을 부여하는 바와 같이 엄밀하게 한정되는 것은 아니다.
상기 제 2 필터(35)와 제 3 필터(36)에서는 제 2 필터(35)의 최상층(도 2에 도시하는 좌측)에 위치되는 제 1 박막(31)과, 제 3 필터(36)의 최하층(도 2에 도시하는 우측)에 위치되는 제 1 박막(31)이 적층되어 1개의 제 1 박막(31)이 형성된다.
상기 구성에 의해 본 실시형태에 의한 광학 필터(13)에서는 도 3에 도시하는 바와 같은 투과 특성이 얻어진다.
이어서, 이 실시형태에 의한 광학 필터(13)의 파장 특성을 실제로 측정하고, 그 측정 결과나 구성을 실시예로서 도 7이나 표 1에 나타낸다.
[실시예]
본 실시예에서는 투명 기판으로서 대기 중에 있어서의 굴절율이 1.54인 수정판(2)을 사용하고 있다. 또한, 제 1 박막(31)으로서 대기 중에 있어서의 굴절율이 2.30인 TiO2를 사용하고, 제 2 박막(32)으로서 대기 중에 있어서의 굴절율이 1.46인 SiO2를 사용하고 있다.
또한, 필터군(3)은 49층으로 이루어져 있고, 상기 필터군(3)의 제조 방법에 의해 최적화가 행하여진 상태에서 제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)이 형성되어서 필터군(3)이 구성되고, 도 7에 도시하는 바와 같은 투과 특성이 얻어진다. 또한, 이 실시예에서는 광선의 입사각을 0°, 즉 광선을 수직 입사시키고 있다.
표 1은 광학 필터(13)의 필터군(3)의 조성 및 각 박막[제 1 박막(31), 제 2 박막(32)]의 광학막 두께를 나타내고 있다. 본 실시예의 설계 파장은 700㎚이다.
또한, 이 실시예에서는 표 1에 나타내는 바와 같이 필터군(3)은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막(31)과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막(32)이 교대로 49층 적층되어서 이루어진다. 이 필터군(3)의 49층 중 1층∼3층이 조정층(34)으로서 구성되고, 4층∼29층이 복수의 필터로서 구성되고, 29층∼49층이 제 1 필터(33)로서 구성되어 있다. 또한, 제 2 필터(35)의 최상층(도 2에 도시하는 좌측)에 위치되는 제 1 박막(31)과, 제 3 필터(36)의 최하층(도 2에 도시하는 우측)에 위치되는 제 1 박막(31)이 적층되어서 형성되는 1개의 제 1 박막(31)은 29층의 제 1 박막이다. 또한, 본 실시예에서는 복수의 필터인 제 2 필터(35)와 제 3 필터(36)에 있어서의 막구성[제 1 박막(31) 및 제 2 박막(32)의 광학막 두께 등]이 가까운 구성으로 이루어진다.
도 7에 도시하는 바와 같이 이 실시예에 의한 광학 필터(13)에서는 가시역인 약 420㎚로부터 약 650㎚까지의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 또한 적외역(특히 근적외역)인 약 800㎚로부터 약 900㎚까지의 약 100㎚ 대역의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 그 이외의 대역을 차단하고 있다. 또한, 본 실시예에서는 투과율 50%가 되는 반값 파장을 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)으로 하고 있다. 그 때문에, 본 실시예에 있어서의 적외역의 투과 대역은 약 800㎚로부터 약 900㎚까지의 약 100㎚의 대역이 된다.
상기 본 실시형태, 실시예에 의한 광학 필터(13)에 의하면 가시역과 소망의 적외역에 있어서 투과 특성을 갖는 것이 가능하게 되고, 그 결과 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 촬영을 행하는 것이 가능해진다.
특히, 광학 필터(13)에 의하면 수정판(2)과 필터군(3)으로 이루어지고, 필터군(3)은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터(33)와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 복수의 필터에서는 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 150㎚이하(본 실시형태에서는 약 100㎚)이며, 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 가질 수 있다.
그런데, 본 실시형태에 의한 제 1 필터(33)와 그 밖의 종래의 1개의 필터의 조합에 의해 가시역과는 별도로 적외역에 투과 특성을 가질 수는 있지만 이 경우 가시역 이외에 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역에 투과 특성을 가질 수는 없다. 그러나, 광학 필터(13)에 의하면 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역(본 실시형태에서는 약 900㎚이하의 대역만)에 투과 특성을 가질 수 있다.
구체적으로, 본 실시형태에서는 필터군(3)은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막(31)과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막(32)이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 고굴절율 재료에는 TiO2가 사용되고, 저굴절율 재료에는 SiO2가 사용되고 있다. 그런데, 고굴절율 재료에 TiO2를 사용하고, 저굴절율 재료에 SiO2를 사용한 차단 특성을 갖는 광학 필터의 경우 그 차단 대역의 폭은 기본적으로 250㎚정도가 되어 변경하는 것이 어렵다. 이것은 광학 재료의 굴절율에 따라 차단 대역의 폭이 정해지는 것에 관계된다. 그 때문에, 이러한 광학 재료를 이용해서 가시역과 적외역의 2개의 대역에 투과 특성을 갖는 광학 필터의 경우 적외역의 투과 대역은 약 900㎚초과로 되어버려 적외역의 투과 대역의 상승 파장을 임의로 설정할 수 없다. 예를 들면 차단 대역의 폭이 250㎚정도인 경우 차단 대역의 단파장측의 반값을 650㎚로 할 경우 차단 대역의 폭이 250㎚이므로 차단 대역의 장파장측의 반값은 900㎚초과로 된다.
그러나, 본 실시형태에 의하면 수정판(2)과 필터군(3)이 구비되고, 필터군(3)은 제 1 필터(33)와, 제 2 필터(35), 및 제 3 필터(36)가 조합되어 구성되고, 또한 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막(31)과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막(32)이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 고굴절율 재료에 TiO2가 사용되고, 저굴절율 재료에 SiO2가 사용되고, 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36)에서는 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 150㎚이하(본 실시형태에서는 약 100㎚이하)이며, 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복되므로 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역(본 실시형태에서는 약 900㎚이하의 대역만)에 투과 특성을 가질 수 있다. 그 결과, 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트의 광의 파장을 투과할 수 있다.
또한, 필터군(3)은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막(31)과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막(32)이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고, 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36) 각각에서는 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.500∼대략 1.000:0.750로 설정되어 있으므로 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36) 각각의 차단 특성을 갖는 대역을 약 150㎚이하로 할 수 있고, 가시역과 적외역의 소망의 대역에서만 투과 특성을 가질 수 있다. 그 결과, 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역(본 실시형태에서는 약 900㎚이하의 대역만)에 투과 특성을 가질 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는 제 2 필터(35)에 있어서의 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.500∼대략 1.000:0.750로 설정되어 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 제 2 필터(35)에 있어서의 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 0.450:1.000∼대략 0.700:1.000로 설정되어도 좋다. 이 경우에서도 제 2 필터(35) 및 제 3 필터(36) 각각에서는 제 1 박막(31)의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막(32)의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 대략 1.000:0.500∼대략 1.000:0.750로 설정되어 있는 구성과 마찬가지의 효과를 갖는다.
또한, 필터군(3)에 의한 투과 특성을 갖는 대역은 가시역과, 약 800㎚∼약 900㎚이므로 통상 2개의 필터를 조합시키는 것으로는 실현 불가능한 가시역(본 실시형태에서는 약 420㎚∼약 650㎚)과, 이 가시역 근방의 근적외역의 800㎚∼900㎚의 대역만에 있어서의 투과를 제 1 필터(33)와 복수의 필터의 조합으로 실현하고 있다. 그 때문에, 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트(15)의 주요한 중심 파장(본 실시형태에서는 약 850㎚)에 대응시킬 수 있고, 이들 파장 대역 밖의 불필요한 근적외광이나 원적외광의 차단을 확실히 행할 수 있다. 그 결과, LED 라이트(15) 등의 LED 광원을 사용한 적외역에서의 투과를 가능하게 해서 야간 등의 암시 하에 있어서의 촬영에 바람직하다.
또한, 복수의 필터는 차단 특성을 갖는 대역이 약 600㎚∼약 750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터(35)(차단 대역: 약 650㎚∼약 740㎚)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 700㎚∼약 900㎚ 사이에 설정된 제 3 필터(36)(차단 대역: 약 700㎚∼약 800㎚)이므로 사람의 눈의 감도 특성(중 명소의 특성)에 있어서의 응답 부분으로부터 그 인접하는 근적외의 광[본 실시형태에서는 광량의 중심 파장 약 850㎚의 LED 라이트(15)의 중심 파장의 가감 부분까지]을 리플없이 2개의 투과 대역 사이의 차단 특성을 갖는 대역에서는 투과율 3%이하로 할 수 있다. 또한, 구체적으로 제 2 필터(35)의 차단 특성을 갖는 대역이 약 650㎚∼약 740㎚ 사이에 설정되고, 제 3 필터(36)의 차단 특성을 갖는 대역이 약 700㎚∼약 800㎚ 사이에 설정된 경우, 광량의 중심 파장 약 840㎚의 LED 라이트의 광을 효율적으로 촬영할 수 있다.
또한, 필터군(3)에는 굴절율이 변화되는 위치에 조정층(34)이 포함되어 있으므로 리플의 발생을 억제할 수 있고, 특히 투과시키고 싶은 파장 영역에 있어서의 리플의 발생을 억제할 수 있고, 급준하게 변위되는 투과율의 변이량도 억제할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 의하면 적외역에 있어서의 투과 폭이 약 100㎚이도록 적외역에 있어서의 투과 폭을 짧은 소망의 폭으로 설정할 수 있다. 구체적으로, 야간 촬영에 사용되는 적외선 조명의 LED 라이트(15)의 광의 파장(약 100㎚정도의 조사 파장폭)만을 투과할 수 있고, LED 라이트(15)로부터 조사되어 피사체에 의해 반사된 광을 효율적으로 촬영할 수 있다.
또한, 상기한 바와 같이 본 실시형태에 의한 촬상 디바이스(1)에 의하면 간이한 구성에 의해 광량에 영향을 받지 않고 주간이나 야간의 암시 하 등 어느 환경에서도 촬영을 행할 수 있다. 즉, 적외선 컷을 목적으로 한 주간의 촬영과, 적외선 컷을 목적으로 하지 않는 야간 등의 암시 하에서의 촬영에 있어서 광로장(光路長)을 변경함이 없이 적합하게 행할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 의한 촬상 디바이스(1)에 의하면 광축(11)을 따라 외부의 피사체측으로부터 적어도 렌즈(12), 광학 필터(13), 촬상 소자(14)가 순차적으로 배치되므로 가시역에 있어서 투과시키고, 또한 적외역의 소망의 대역에 있어서 투과시킬 수 있고, 그 결과 자연광이 입사되는 주간뿐만 아니라 야간 등의 암시 하에서도 촬영할 수 있다.
또한, 상기 본 실시형태에서는 49층의 필터군(3)에 대해서 설명하고 있지만 필터군(3)의 층수는 이것에 한정되는 것은 아니고 임의로 설정 가능하다.
또한, 본 실시형태에서는 투명 기판에 수정판(2)을 사용하고 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 광선이 투과 가능한 기판이면 예를 들면 유리판이어도 좋다. 또한, 수정판(2)도 한정되는 것은 아니고 단판의 수정판, 예를 들면 복굴절판이어도 좋고 복수매로 이루어지는 복굴절판이어도 좋다. 또한, 수정판과 유리판을 조합해서 투명 기판을 구성해도 좋다.
또한, 본 실시형태에서는 제 1 박막(31)에 TiO2를 사용하고 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 제 1 박막(31)이 고굴절율 재료로 이루어져 있으면 좋고, 예를 들면 Nb2O5 또는 Ta2O5를 사용해도 좋다. 또한, Nb2O5 또는 Ta2O5는 TiO2와 대략 같은 굴절율을 가지므로 제 1 박막(31)에 Nb2O5 또는 Ta2O5를 사용한 경우 상기 실시예와 마찬가지의 효과를 갖는다.
또한, 본 실시형태에서는 제 2 박막(32)에 SiO2를 사용하고 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 제 2 박막(32)이 저굴절율 재료로 이루어져 있으면 좋고, 예를 들면 MgF2를 사용해도 좋다.
또한, 본 실시형태에서는 복수의 필터를 제 2 필터(35)와 제 3 필터(36)에 의해 구성하고 있지만 이것은 필터의 두께를 얇게 할 수 있는 바람직한 예이며, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 복수의 필터는 3개 이상의 필터로 구성되어도 좋고, 이 경우 더욱 자유도가 높은 투과 대역의 설계가 가능해진다.
또한, 본 실시형태에서는 필터군(3)을 진공 증착법에 의해 수정판(2)에 형성하고 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 이들 필터군(3)을 이온 어시스트 증착법이나 스퍼터링법 등의 다른 방법에 의해 수정판(2)에 형성해도 좋다.
또한, 본 실시형태에서는 수정판(2)의 일주면(21)(한면) 상에 필터군(3)을 형성하고 있지만 이것에 한정되는 것은 아니고, 수정판(2)의 양주면[일주면(21),타주면(22)] 상에 필터군(3)을 형성해도 좋다.
또한, 본 실시형태에서는 필터군(3)에 의한 가시역에 가까운 근적외역의 근적외 대역의 투과 특성을 갖는 대역은 약 800㎚∼약 900㎚의 약 100㎚로 되어 있지만 이것은 적외선 조명의 LED 라이트(15)를 사용한 바람직한 예이며, 이것에 한정되는 것은 아니고, 적외역에 있어서의 투과 폭이 약 65㎚∼200㎚의 범위 내에 설정됨으로써 마찬가지의 효과를 갖는다.
이하에, 적외역에 있어서의 투과 폭이 약 65㎚∼200㎚의 범위 내에 설정되는 구체예(실시예 2∼실시예 4)를 나타낸다. 또한, 하기의 실시예 2∼실시예 4에서는 상기 실시예 1에 비해서 투과 대역과 차단 영역이 다르지만 이것은 단순한 설계 변경에 의한 것이다.
[실시예 2]
본 실시예 2에서는 상기 실시예 1에 대해서 필터군(3)이 다르다. 그 때문에, 실시예 1과 동일 구성에 의한 작용 효과 및 변형예는 상기 실시예 1과 같은 작용 효과 및 변형예를 갖는다. 그래서, 본 실시예 2에서는 상기 실시예 1과 다른 구성에 대해서 설명하고 동일한 구성에 대한 설명을 생략한다.
도 8에 도시하는 바와 같이 실시예 2에 의한 광학 필터(13)에서는 가시역인 약 410㎚로부터 약 650㎚까지의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 또한 적외역(특히 근적외역)인 약 835㎚로부터 약 900㎚까지의 약 65㎚ 대역의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 그 이외의 대역을 차단하고 있다. 또한, 본 실시예 2에서는 투과율 50%가 되는 반값 파장을 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)으로 한다.
필터군(3)을 상세히 설명하면 제 1 필터(33)는 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역(약 410㎚∼약 900㎚)에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 410㎚미만과 약 900㎚초과에 있어서 차단 특성을 갖는다.
또한, 복수의 필터는 차단 특성을 갖는 대역이 약 650㎚∼약 750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터(35)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 725㎚∼약 835㎚ 사이에 설정된 제 3 필터(36)에 의해 구성되고, 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 100㎚이하이며, 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복된다.
제 2 필터(35)는 가시역(약 390㎚∼약 650㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 750㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 650㎚∼약 750㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
제 3 필터(36)는 가시역(약 410㎚∼약 725㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 835㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 725㎚∼약 835㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
상기 구성으로 이루어지는 실시예 3에 의한 광학 필터(13)에 의하면 도 8에 도시하는 바와 같이 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역에만 투과 특성을 가질 수 있다.
[실시예 3]
본 실시예 3에서는 상기 실시예 1에 대해서 필터군(3)이 다르다. 그 때문에, 실시예 1과 동일 구성에 의한 작용 효과 및 변형예는 상기 실시예 1과 같은 작용 효과 및 변형예를 갖는다. 그래서, 본 실시예 3에서는 상기 실시예 1과 다른 구성에 대해서 설명하고 동일한 구성에 대한 설명을 생략한다.
도 9에 도시하는 바와 같이 실시예 3에 의한 광학 필터(13)에서는 가시역인 약 410㎚로부터 약 650㎚까지의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 또한 적외역(특히 근적외역)인 약 855㎚로부터 약 920㎚까지의 약 65㎚ 대역의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 그 이외의 대역을 차단하고 있다. 또한, 본 실시예 3에서는 투과율 50%가 되는 반값 파장을 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)으로 한다.
필터군(3)을 상세히 설명하면 제 1 필터(33)는 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역(약 410㎚∼약 920㎚)에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 410㎚미만과 약 920㎚초과에 있어서 차단 특성을 갖는다.
또한, 복수의 필터는 차단 특성을 갖는 대역이 약 650㎚∼약 750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터(35)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 745㎚∼약 855㎚ 사이에 설정된 제 3 필터(36)에 의해 구성되고, 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 100㎚이하이며 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복된다.
제 2 필터(35)는 가시역(약 390㎚∼약 650㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 750㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 650㎚∼약 750㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
제 3 필터(36)는 가시역(약 410㎚∼약 745㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 855㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 745㎚∼약 855㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
상기 구성으로 이루어지는 실시예 4에 의한 광학 필터(13)에 의하면 도 9에 도시하는 바와 같이 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역을 포함하는 약 855㎚∼약 920㎚에 투과 특성을 가질 수 있다.
[실시예 4]
본 실시예 4에서는 상기 실시예 1에 대해서 필터군(3)이 다르다. 그 때문에, 실시예 1과 동일 구성에 의한 작용 효과 및 변형예는 상기 실시예 1과 같은 작용 효과 및 변형예를 갖는다. 그래서, 본 실시예 4에서는 상기 실시예 1과 다른 구성에 대해서 설명하고 동일한 구성에 대한 설명을 생략한다.
도 10에 도시하는 바와 같이 실시예 4에 의한 광학 필터(13)에서는 가시역인 약 450㎚로부터 약 660㎚까지의 파장의 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 또한 적외역(특히 근적외역)인 약 890㎚로부터 약 990㎚까지의 약 100㎚의 대역의 파장 광선을 투과하고(투과율 90%이상), 그 이외의 대역을 차단하고 있다. 또한, 본 실시예 4에서는 투과율 50%가 되는 반값 파장을 투과 대역과 차단 대역에 있어서의 임계값(상한값과 하한값)으로 한다.
필터군(3)을 상세히 설명하면 제 1 필터(33)는 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역(약 450㎚∼약 990㎚)에 있어서 투과 특성을 갖고, 약 450㎚미만과 약 990㎚초과에 있어서 차단 특성을 갖는다.
또한, 복수의 필터는 차단 특성을 갖는 대역이 약 660㎚∼약 760㎚ 사이에 설정된 제 2 필터(35)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 715㎚∼약 815㎚ 사이에 설정된 제 3 필터(36)와, 차단 특성을 갖는 대역이 약 770㎚∼약 890㎚ 사이에 설정된 제 4 필터로 구성되고, 차단 특성을 갖는 대역이 각각 약 100㎚정도이며 또한 차단 특성을 갖는 대역이 중복된다.
제 2 필터(35)는 가시역(약 390㎚∼약 660㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 760㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 660㎚∼약 760㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
제 3 필터(36)는 가시역(약 410㎚∼약 715㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 815㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 715㎚∼약 815㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
제 4 필터는 가시역(약 450㎚∼약 770㎚)과, 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역(약 890㎚초과)에 있어서 투과 특성을 갖고, 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역(약 770㎚∼약 890㎚)에 있어서 차단 특성을 갖는다.
상기 구성으로 이루어지는 실시예 5에 의한 광학 필터(13)에 의하면 도 10에 도시하는 바와 같이 가시역과, 가시역과는 이간된 가시역 근방의 약 900㎚이하의 대역을 포함하는 약 890㎚∼약 990㎚에 투과 특성을 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 그 정신이나 주지 또는 주요한 특징으로부터 일탈하지 않고 다른 여러 가지의 형태로 실시할 수 있다. 그 때문에, 상술의 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않고 한정적으로 해석해서는 안된다. 본 발명의 범위는 특허 청구 범위에 의해 나타내는 것이며 명세서 본문에는 전혀 구속되지 않는다. 또한, 특허 청구 범위의 균등 범위에 속하는 변형이나 변경은 모두 본 발명의 범위 내의 것이다.
또한, 이 출원은 2009년 9월 15일에 일본에서 출원된 일본 특허 출원 제 2009-213348호에 의거한 우선권을 청구한다. 여기에 언급함으로써 그 모든 내용은 본 출원에 포함되어 있는 것이다.
<산업상의 이용가능성>
본 발명은 감시 카메라나 차량 탑재 카메라 등 주야를 막론하고 사용되는 카메라 등의 촬상 디바이스에 바람직하다.
1 : 촬상 디바이스 11 : 광축
12 : 렌즈 13 : 광학 필터
14 : 촬상 소자 15 : LED 라이트
2 : 수정판 21 : 일주면
22 : 타주면 3 : 필터군
31 : 제 1 박막 32 : 제 2 박막
33 : 제 1 필터 34 : 조정층
35 : 제 2 필터 36 : 제 3 필터
12 : 렌즈 13 : 광학 필터
14 : 촬상 소자 15 : LED 라이트
2 : 수정판 21 : 일주면
22 : 타주면 3 : 필터군
31 : 제 1 박막 32 : 제 2 박막
33 : 제 1 필터 34 : 조정층
35 : 제 2 필터 36 : 제 3 필터
Claims (12)
- 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터에 있어서:
투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고;
상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고,
상기 복수의 필터에서는 상기 차단 특성을 갖는 대역이 각각 150㎚이하이며, 상기 차단 특성을 갖는 대역이 600㎚∼750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터와 상기 차단 특성을 갖는 대역이 700㎚∼900㎚ 사이에 설정된 제 3 필터로서 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 제 1 항에 있어서,
상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고,
상기 고굴절율 재료에는 TiO2, Nb2O5, 또는 Ta2O5가 사용되고,
상기 저굴절율 재료에는 SiO2 또는 MgF2가 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 제 1 항에 있어서,
상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고,
상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 1:0.5∼1:0.75로 설정된 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 제 1 항에 있어서,
상기 필터군은 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고,
상기 복수의 필터 각각에서는 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 0.45:1∼0.7:1로 설정된 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 제 1 항에 있어서,
상기 필터군에 의한 투과 특성을 갖는 대역은 가시역과, 800㎚∼1000㎚인 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 필터군에는 굴절율이 변화되는 위치에 조정층이 포함된 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 제 1 항에 있어서,
상기 적외역에 있어서의 투과 폭은 65㎚∼200㎚인 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터에 있어서:
투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고;
상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 또한 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고,
상기 복수의 필터 각각은 상기 차단 특성을 갖는 대역이 600㎚∼750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터와 상기 차단 특성을 갖는 대역이 700㎚∼900㎚ 사이에 설정된 제 3 필터이며, 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 1:0.5∼1:0.75로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 촬상 디바이스에 설치되는 광학 필터에 있어서:
투명 기판과, 상기 투명 기판 상에 형성되어 가시역과 적외역의 2개의 파장 대역에 있어서 투과 특성을 갖는 필터군이 구비되고;
상기 필터군은 가시역 및 가시역으로부터 연속된 적외역의 미리 설정된 일대역에 있어서 투과 특성을 갖는 제 1 필터와, 가시역 및 가시역으로부터 이간된 적외역의 미리 설정된 타대역에 있어서 투과 특성을 갖고 가시역과 적외역의 타대역 사이의 대역에 있어서 차단 특성을 갖는 복수의 필터가 조합되어 구성되고, 또한 고굴절율 재료로 이루어지는 제 1 박막과 저굴절율 재료로 이루어지는 제 2 박막이 교대로 복수 적층되어서 이루어지고,
상기 복수의 필터 각각은 상기 차단 특성을 갖는 대역이 600㎚∼750㎚ 사이에 설정된 제 2 필터와 상기 차단 특성을 갖는 대역이 700㎚∼900㎚ 사이에 설정된 제 3 필터이며, 상기 제 1 박막의 적층합계의 광학막 두께와 제 2 박막의 적층합계의 광학막 두께의 광학막 두께비가 0.45:1∼0.7:1로 설정되고, 또한 상기 차단 특성을 갖는 대역이 중복되는 것을 특징으로 하는 광학 필터. - 촬상 디바이스에 있어서,
제 1 항, 제 9 항, 또는 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터가 설치된 것을 특징으로 하는 촬상 디바이스. - 카메라의 광학계에 있어서,
제 1 항, 제 9 항, 또는 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터가 설치된 것을 특징으로 하는 광학계.
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| JP5672233B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2015-02-18 | 株式会社大真空 | 光学フィルタ、撮像デバイス、光学系 |
| US9091903B2 (en) * | 2010-07-29 | 2015-07-28 | Logitech Europe S.A. | Optimized movable IR filter in cameras |
| US8408821B2 (en) * | 2010-10-12 | 2013-04-02 | Omnivision Technologies, Inc. | Visible and infrared dual mode imaging system |
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| US9664832B2 (en) | 2012-08-10 | 2017-05-30 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Omnidirectional high chroma red structural color with combination semiconductor absorber and dielectric absorber layers |
| US9678260B2 (en) | 2012-08-10 | 2017-06-13 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Omnidirectional high chroma red structural color with semiconductor absorber layer |
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| JP6269236B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2018-01-31 | 株式会社大真空 | バンドパスフィルタ |
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| JP2015227963A (ja) * | 2014-06-02 | 2015-12-17 | 京セラクリスタルデバイス株式会社 | 光学フィルタ及びその製造方法 |
| CN105338227A (zh) * | 2014-08-06 | 2016-02-17 | 南昌欧菲光电技术有限公司 | 成像模组及移动终端 |
| TWI585471B (zh) * | 2014-10-28 | 2017-06-01 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 濾光片及具有該濾光片的鏡頭模組 |
| CN104570185B (zh) * | 2014-11-14 | 2017-09-22 | 南昌欧菲光电技术有限公司 | 滤光模组、成像装置及移动终端 |
| JP6467895B2 (ja) * | 2014-12-04 | 2019-02-13 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタ |
| CN104580854A (zh) * | 2014-12-23 | 2015-04-29 | 南昌欧菲光电技术有限公司 | 成像装置及移动终端 |
| US9810824B2 (en) | 2015-01-28 | 2017-11-07 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Omnidirectional high chroma red structural colors |
| CN106161881A (zh) * | 2015-04-01 | 2016-11-23 | 中兴通讯股份有限公司 | 拍照装置及拍照处理方法 |
| US10156665B2 (en) * | 2016-06-01 | 2018-12-18 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Infrared cut-off filter |
| KR101880069B1 (ko) * | 2016-06-03 | 2018-07-19 | 주식회사 에스카 | 악천후시 식별력 있는 영상을 획득하기 위한 적외선 투과 필터 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 필터 |
| CN106650585B (zh) * | 2016-09-30 | 2019-10-08 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种用于活体指纹识别的玻璃面板 |
| EP3343894B1 (en) | 2016-12-28 | 2018-10-31 | Axis AB | Ir-filter arrangement |
| EP3343287B1 (en) | 2016-12-28 | 2018-11-21 | Axis AB | A method for sequential control of ir-filter, and an assembly performing such method |
| EP3343897B1 (en) | 2016-12-28 | 2019-08-21 | Axis AB | Camera and method of producing color images |
| US10560187B2 (en) * | 2017-03-09 | 2020-02-11 | Cisco Technology, Inc. | Visible light communications network wavelength filter for security at transparent structures |
| RU173127U1 (ru) * | 2017-05-04 | 2017-08-14 | Федеральное государственное бюджетное учреждение "Главный научно-исследовательский испытательный центр робототехники" Министерства обороны Российской Федерации | Оптико-электронный модуль обнаружения наземных объектов для робототехнических комплексов |
| DE102017004828B4 (de) * | 2017-05-20 | 2019-03-14 | Optics Balzers Ag | Optischer Filter und Verfahren zur Herstellung eines optischen Filters |
| RU184184U1 (ru) * | 2018-02-01 | 2018-10-18 | Федеральное государственное бюджетное учреждение "Главный научно-исследовательский испытательный центр робототехники" Министерства обороны Российской Федерации | Автономный оптико-электронный модуль обнаружения наземных объектов для робототехнических комплексов |
| KR20200134243A (ko) | 2018-03-26 | 2020-12-01 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 그의 용도 |
| EP3605606B1 (en) | 2018-08-03 | 2022-06-15 | ams Sensors Belgium BVBA | Imaging system comprising an infrared light source and an image sensor |
| CN108897085A (zh) * | 2018-08-06 | 2018-11-27 | 信阳舜宇光学有限公司 | 滤光片及包含该滤光片的红外图像传感系统 |
| CN110824599B (zh) | 2018-08-14 | 2021-09-03 | 白金科技股份有限公司 | 一种红外带通滤波器 |
| JP7381329B2 (ja) | 2018-12-28 | 2023-11-15 | マクセル株式会社 | 撮像装置 |
| CN111796352B (zh) * | 2019-04-08 | 2022-05-24 | 群光电子股份有限公司 | 图像采集装置、滤光膜及滤光膜的制作方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006010764A (ja) | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Hitachi Maxell Ltd | 光学フィルタ |
| JP2006023471A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 多層膜マイナスフィルター及び蛍光顕微鏡 |
| JP2006157413A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Enplas Corp | 撮像装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2017471C (en) * | 1989-07-19 | 2000-10-24 | Matthew Eric Krisl | Optical interference coatings and lamps using same |
| JP2000209510A (ja) | 1999-01-11 | 2000-07-28 | Daishinku Corp | 撮像装置 |
| JP4375043B2 (ja) * | 2004-02-13 | 2009-12-02 | 株式会社ニコン | 光学ローパスフィルタおよびカメラ |
| JP2007183525A (ja) | 2005-12-07 | 2007-07-19 | Murakami Corp | 誘電体多層膜フィルタ |
| CN101424759A (zh) * | 2008-12-01 | 2009-05-06 | 杭州科汀光学技术有限公司 | 超宽截止区的短波通截止滤光片 |
| JP5672233B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2015-02-18 | 株式会社大真空 | 光学フィルタ、撮像デバイス、光学系 |
-
2010
- 2010-09-09 JP JP2011531903A patent/JP5672233B2/ja active Active
- 2010-09-09 CN CN201080009362.7A patent/CN102334049B/zh active Active
- 2010-09-09 US US13/130,071 patent/US8861088B2/en active Active
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- 2010-09-15 TW TW099131234A patent/TWI575261B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006010764A (ja) | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Hitachi Maxell Ltd | 光学フィルタ |
| JP2006023471A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 多層膜マイナスフィルター及び蛍光顕微鏡 |
| JP2006157413A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Enplas Corp | 撮像装置 |
Also Published As
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