TWI387038B - A posture changer and a substrate handling device - Google Patents

Description

姿勢變換裝置及基板搬運裝置

本發明係關於LCD(液晶顯示裝置)PDP(電漿顯示器)等之FPD(平面面板顯示器)用玻璃基板、光罩用玻璃基板、印刷基板、半導體基板等之基板處理裝置。

以往，一面搬送基板，一面將各種處理液供應至基板，藉以對基板施行特定之處理之基板處理裝置為一般所知悉，近年來，為謀求處理之迅速化、高品質化，一面將基板之姿勢由水平姿勢變換成傾斜姿勢，或其反向適宜地變換，一面施行處理之基板處理裝置逐漸普及。

在此種之基板處理裝置中，裝備有在搬送中用來變換姿勢之裝置(姿勢變換裝置)，例如在專利文獻1中，揭示利用上升銷頂起傾斜姿勢之基板而將其保持水平，由其下側用機器人手支撐該基板而向下游側搬送之裝置。又，在專利文獻2中，揭示在搬送基板用之滾筒輸送機預先設置水平搬送之部分與傾斜搬送之部分，在水平搬送之部分中，預先將其終端部分構成可藉汽缸驅動而變換姿勢，藉以一面將基板由水平姿勢變換成傾斜姿勢，一面加以搬送之裝置。

[專利文獻1]日本特開2005－217020號公報[專利文獻2]日本特開平11－87210號公報

但，在專利文獻1揭示之裝置中，姿勢變換後，基板藉由機器人手支撐後至上升銷完全下降以前，也不能將次一基板搬入該姿勢變換位置，故基板之處理之進行速度有受到此姿勢變換動作控制之傾向。尤其，在大型之基板中，姿勢變換時之高低差較大，相對地，上升銷之升降需要時間，故上述傾向較強，在生產率之提高上成為負面要因之一。在專利文獻2揭示之裝置方面，姿勢變換後之基板完全被搬送至下游側後，在滾筒輸送機(水平搬送之終端部份)復位至原來狀態以前，也不能將次一基板搬入該終端部份，故情況與專利文獻1之問題相同。

本發明係鑑於上述情況而完成者，其目的在於可一面搬送基板，一面在其途中變換基板姿勢而使進行處理之基板處理裝置之生產率提高。

為解決上述問題，本發明之姿勢變換裝置係介裝於以第1姿勢搬送基板之上游側搬送機構與以異於第1姿勢之第2姿勢搬送基板之下游側搬送機構之間，將藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢變換成第2姿勢而向下游側搬送機構搬送者，且包含：基板收容機構，其係具備有對於基板之搬送方向並排排列，分別可收容基板之第1、第2收容部；姿勢變換機構，其係將前述第1、第2收容部之姿勢分別切換成可接受藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢與可對下游側搬送機構搬出基板之第2姿勢；及變位機構，其係在前述第1收容部對應於與上游側搬送機構之基板收付位置，且第2收容部對應於與下游側搬送機構之基板收付位置之第1位置與在和此等相反之位置配置各收容部之第2位置之間使前述基板收容機構變位；前述姿勢變換機構係在由前述基板收容機構之第2位置向第1位置之變位中，將第1收容部切換成第1姿勢，將第2收容部切換成第2姿勢，在由前述基板收容機構之第1位置向第2位置之變位中，將第1收容部切換成第2姿勢，將第2收容部切換成第1姿勢者(請求項1)。

依據此裝置，基板收容機構可交互被切換至各位置，並可在此切換動作中切換各收容部之姿勢。藉此，在基板收容機構位於第1位置時，可將由上游側搬送來之基板搬入第1收容部。另一方面，與此接受並行地，可將先收容於第2收容部之基板由該第2收容部向下游側搬出，且同樣地，在基板收容機構位於第2位置時，可將由上游側搬送來之基板搬入第2收容部。另一方面，與此並行地，可將先收容於第1收容部之基板由該第1收容部向下游側搬出。也就是說，可並行地施行由上游側搬送來之基板之搬入姿勢變換裝置及由該裝置向下游側搬出基板。

在此裝置中，前述基板收容機構也可在水平方向並排設有第1、第2收容部，但從空間效率(佔用面積之削減)之觀點而言，最好前述基板收容機構係在上下方向並排設有第1、第2收容部，變位機構係使此基板收容機構升降變位者(請求項2)。

又，在此構成中，最好前述第1姿勢及第2姿勢係一方為水平姿勢，他方為傾斜；前述姿勢變換機構係配置於前述收容部之與基板搬送方向正交之方向之中央部分，且使前述收容部在與基板搬送方向平行地延伸之樞軸周圍擺動，藉此將前述收容部切換成前述第1姿勢與第2姿勢(請求項3)。

依據此姿勢變換機構之構成，如在實施型態中所說明，可在上下方向將姿勢變換裝置構成小型。

另一方面，本發明之基板搬運裝置之特徵在於包含：以第1姿勢搬送基板之上游側搬送機構、以異於第1姿勢之第2姿勢搬送基板之下游側搬送機構、及介裝於此等兩搬送機構之間而將藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢變換成藉由下游側搬送機構搬送用之第2姿勢之姿勢變換裝置，前述姿勢變換裝置係如請求項1至3中任一項之姿勢變換裝置(請求項4)。

依據此基板搬運裝置，可並行地施行由上游側搬送來之基板之搬入於姿勢變換裝置、及由該裝置向下游側之基板之搬出，故可避免基板之搬送在姿勢變換裝置之部份停滯。

又，下游側搬送機構也可具有由下側托起被收容於姿勢變換裝置之第2姿勢之基板而取出之手臂之機器人(請求項5)。作為下游側搬送機構，既可為滾筒輸送機等，也可如在此所示，採用具備手臂之機器人時，可使在下游側之基板搬送更為圓滑。

依據本發明之姿勢變換裝置及裝備有此裝置之基板搬運裝置，由於可同時施行對姿勢變換裝置之基板搬入及由該裝置向下游側之基板搬出，故可更順利地施行伴同姿勢變換之基板搬運。因此，依據裝備有此種姿勢變換裝置之基板處理裝置等，可避免基板處理之進行受到基板之姿勢變換動作限制之缺失，其結果，可提高生產率。

茲利用圖式說明有關本發明之實施型態。

圖1係模式地表示裝備有本發明之姿勢變換裝置之基板處理裝置(適用本發明之基板搬運裝置之基板處理裝置)。

本圖所示之基板處理裝置1係一面搬送矩形之LCD用玻璃基板S(以下僅稱為基板S)，一面對其表面連續逐次施行洗淨．抗蝕劑塗佈．曝光．顯影等之處理，如同圖所示，包含有索引器部2、洗淨部4、抗蝕劑塗佈部6、曝光部8、顯影部10、烘烤部12等(以下，必要時稱為各處理部4~12)。而，構成一面將由配置於前述索引器部2之匣C取出之基板逐次交付於各處理部4~12，施行特定之處理後，最後收納於索引器部2之原來的匣C中。

在索引器部2中，配備有具有支撐基板S用之平面視U字型(或梳形)手臂之水平多關節型之機器人R1，利用此機器人R1施行匣C、洗淨部4及烘烤部12之間之基板S之搬送(接受與交付)。又，在各處理部4~12之間，也配備有與上述機器人R1同樣之水平多關節型之機器人R2~R4，利用此等機器人R2~R4施行在各處理部4~12之間之基板S之搬送。

又，在洗淨部4、抗蝕劑塗佈部6、顯影部10及烘烤部12，設有互相劃分之複數處理室，基板S可一面在此等處理室間藉由滾筒輸送機等搬送，一面被施以特定之處理。

圖2係概略地表示在此基板處理裝置1中適用本發明之部份之洗淨部4之構成。

洗淨部4具有由索引器部2接受基板S，並將其姿勢由水平姿勢變換成傾斜姿勢之基板接受室(省略圖示)、對基板S施以各種洗淨處理之數種洗淨室4a、使洗淨處理後之基板S乾燥之乾燥室4b及使乾燥處理後之基板S之姿勢由傾斜姿勢回復(變換)成水平姿勢之姿勢變換室4c。

在基板接受室中，配備有接受由索引器部2搬送來之基板S而將其搬送至洗淨室4a之滾筒輸送機、及切換此輸送機之姿勢之切換機構。此切換機構雖省略圖示，但構成可在以水平姿勢支撐基板S之水平狀態與以傾斜姿勢(向與搬送方向正交之方向傾斜之姿勢)支撐基板S之傾斜狀態之間切換前述輸送機之姿勢。也就是說，在水平狀態之滾筒輸送機接受機器人R1搬送來之基板S後，將此滾筒輸送機切換成傾斜狀態，即可將基板S由水平姿勢變換成傾斜姿勢而搬送至洗淨室4a。

在各洗淨室4a，設有接受由基板接受室搬送來之基板S而以傾斜姿勢搬送之滾筒輸送機14、及對此滾筒輸送機14所搬送之基板S施行特定之洗淨處理之洗淨工具。又，在圖示之洗淨室4a，夾著滾筒輸送機15而在其上下兩側配備噴霧器型之供液噴嘴20作為前述洗淨工具，藉此，構成可對基板S之上面及下面，噴附洗淨液，以洗淨搬送中之基板S。又，洗淨工具並不限定於圖示之洗淨工具，可依照基板大小及洗淨液之種類等配備最適合之洗淨工具。

在乾燥室4b，設有接受由洗淨室4a搬送來之基板S而以傾斜姿勢加以搬送之滾筒輸送機15、及配備於此滾筒輸送機15之上下兩側之供氣噴嘴21，可對搬送中之基板S，由前述供氣噴嘴21噴附高壓空氣而除去洗淨液，藉此使基板S乾燥。

在姿勢變換室4c，配備有接受由乾燥室4b搬送來之基板S，將其姿勢由傾斜姿勢回復成水平姿勢而交付下游側之機器人R2之姿勢變換裝置30。此姿勢變換裝置30在變換基板S之姿勢之點上，在功能上雖與前述基板接受室之變換機構共通，但為了更圓滑地將洗淨處理後之基板S搬送至其次之製程，採用如下之構成。

圖3係表示姿勢變換裝置30之正面圖(圖2之III－III線箭視圖)。如本圖所示，姿勢變換裝置30具有收容由乾燥室4b搬送來之基板S用之基板收容單元40(相當於本發明之基板收容機構)。

在此基板收容單元40，設有上下二段之收容部40A、40B(稱為)。此等收容部40A、40B均由排列於基板搬送方向之滾筒輸送機構成複數之搬送滾筒46。

各收容部40A、40B係構成可分別切換其姿勢，在此姿勢切換之同時，如上所述，可將基板S之姿勢由傾斜姿勢變換成水平姿勢。詳言之，各收容部40A、40B之框42係經由平行地向基板搬送方向延伸之樞軸44連結於基板收容單元40之框34，藉此，可擺動自如地將各收容部40A、40B支撐於基板收容單元40。而，將分別固定於基板收容單元40(框34)之汽缸49之桿前端連接於各收容部40A、40B。依照對汽缸49之空氣之給排切換，使各收容部40A、40B分別在樞軸44周圍擺動，個別地切換成傾斜狀態(以傾斜狀態支撐基板S之狀態；相當於本發明之第1姿勢)與水平狀態(以水平狀態支撐基板S之狀態；相當於本發明之第2姿勢)。又，同圖中符號48係由側方支撐基板S之側支撐滾筒。

基板收容單元40係構成可對裝置框32升降，並可藉由馬達36所驅動。詳言之，在裝置框32，設有向上下方向延伸之固定軌(省略圖示)、及與此固定軌平行地延伸而藉由馬達36旋轉驅動之滾珠螺釘軸38，在前述固定軌升降自如地安裝基板收容單元40，並在設於於單元40之圖外之螺帽部份螺合插入前述滾珠螺釘軸38。而，藉前述馬達36正反轉驅動滾珠螺釘軸38時，可在前述第1收容部40A排列於乾燥室4b之滾筒輸送機15，且第2收容部40B配置於可對機器人R2施行基板收付之區域內之第1位置(圖2中附上符號P2而以假想線表示之位置)、與第2收容部40B排列於乾燥室4b之滾筒輸送機15，且第1收容部40A配置於可對機器人R2施行基板收付之區域內之第2位置(圖2中附上符號P1而以實線表示之位置)之間，使基板收容單元40移動。

又，在本實施型態中，各收容部40A、40B之框42、樞軸44及汽缸49等相當於本發明之姿勢變換機構，上述固定軌、滾珠螺釘軸38及馬達36等相當於本發明之變位機構。

其次，主要以由洗淨部4至抗蝕劑塗佈部6之基板S之搬送動作為中心，與其作用同時說明有關此基板處理裝置1之動作。

在此基板處理裝置1中，係藉由收納被處理基板S之匣C載置於索引器部2時開始執行處理動作。首先，機器人R1移動至與匣C對向之位置，用手臂取出以水平姿勢多段收納於匣C中之基板S。而，將該基板S送至洗淨部4之基板接受室而載置於滾筒輸送機上。

如此將基板S搬入基板接受室時，基板接受室之滾筒輸送機藉切換機構之作用而由水平狀態變換成傾斜狀態，藉此，將基板S由水平姿勢變換成傾斜姿勢。此姿勢變換完畢時，滾筒輸送機起動而開始基板S之搬送，基板S會以保持傾斜姿勢不變地由基板接受室被搬送至相鄰之洗淨室4a，再經過相鄰之另一洗淨室4a後，被搬送至乾燥室4b，藉此，對基板S逐次施行洗淨處理與乾燥處理。

乾燥處理完畢之基板S再被搬送至姿勢變換室4c，於此，被姿勢變換裝置30由傾斜姿勢復原為原來之水平姿勢。

詳加說明時，首先，在基板S被搬送至姿勢變換室4c之前，基板收容單元40即已被設定為可接受基板S之狀態。具體而言，基板收容單元40被設定於第1位置或第2位置中之一方位置(在此，以被設定於第1位置(圖2之二點短劃線所示之位置)之情形進行說明)，再將基板收容單元40之2個收容部40A、40B中排列於乾燥室4b之滾筒輸送機15之一方(在此為第1收容部40A)設定於傾斜狀態。且將第2收容部40B設定於水平狀態。

而，藉由滾筒輸送機15之作動，將基板S由乾燥室4b搬送至姿勢變換室4c，藉以將基板S搬入前述第1收容部40A。此搬入結束時，藉馬達36之作用，將基板收容單元40之位置由前述第1位置切換成第2位置(圖2之實線所示之位置)，並在此位置切換動作中，藉汽缸49之作用將第1收容部40A由傾斜狀態變換成水平狀態，將第2收容部40B由水平狀態變換成傾斜狀態。藉此，將第1收容部40A之基板S之姿勢由傾斜姿勢變換成水平姿勢。又，第2收容部40B成為傾斜狀態而排列於乾燥室4b之滾筒輸送機15，完成次一基板S之接受準備。

基板收容單元40之位置切換完成時，藉配置於洗淨部4與抗蝕劑塗佈部6間之機器人R2，由第1收容部40A以水平姿勢取出基板S。具體而言，如圖3之二點短劃線所示，將機器人R2之手臂50插入第1收容部40A之搬送滾筒46間之間隙，藉此手臂50由下側托起基板S，即可將基板S由姿勢變換裝置30(洗淨部4)取出而藉此機器人R2將其搬送至其次之抗蝕劑塗佈部6。

又，如此在第1收容部40A中施行基板S之搬出之期間，在乾燥室4b完成乾燥處理之後續之基板S也與上述同樣地會被搬入他方側之第2收容部40B。也就是說，可並行地施 行由姿勢變換室4c之基板S之搬出動作、與對姿勢變換室4c之基板S之搬入動作。

如此由第1收容部40A之基板S之搬出及對第2收容部40B之後續基板S之搬入完成時，基板收容單元40會由第2位置被切換至第1位置，並在此切換動作中，切換各收容部40A、40B之姿勢，藉此，進行收容於第2收容部40B之基板S之姿勢變換、與收容於第1收容部40A之基板之接受準備。而，基板收容單元40被設定於第1位置時，並行地施行利用機器人R2之由第2收容部40B之基板S取出、及對第1收容部40A之後續基板S之搬入。

又，機器人R2係構成可在一定範圍內升降，在由各收容部40A、40B取出基板S之際，如圖2所示，將前述手臂50配置於對應於各收容部40A、40B之高度位置，也就是說，在基板收容單元40設定於第1位置之狀態下，將手臂50配置於對應於第2收容部40B之高位置，又，在設定於第2位置之狀態下，將手臂50配置於對應於第1收容部40A之高位置。藉此，可由如上述變位之兩收容部40A、40B毫無障礙地施行基板S之取出。

如此，完成由第2收容部40B之基板S之搬出、與對第1收容部40A之後續基板S之搬入時，其後，與上述同樣，一面交互切換基板收容單元40之位置，變換由乾燥室4b搬送之基板S之姿勢而將其搬送至抗蝕劑塗佈部6。

如以上所述，在此基板處理裝置1中，一面以傾斜姿勢搬送基板S，一面在洗淨部4中實施洗淨．乾燥處理後，將基板S之姿勢變換水平姿勢後，搬送至抗蝕劑塗佈部6，但如以上所述，在此基板處理裝置1中，可並行地施行對姿勢變換室4c(姿勢變換裝置30)之基板S之搬入(接受)與由姿勢變換室4c向抗蝕劑塗佈部6之基板S之搬出(交付)，故可由伴同姿勢變換之洗淨部4圓滑地施行對抗蝕劑塗佈部6之基板S之搬送。

因此，與在基板之姿勢變換後至姿勢變換裝置被復位為止之較長期間，不能將後續之基板S搬入姿勢變換室之以往之此種裝置相比，可有效地避免基板S之處理之進行速度受到姿勢變換動作控制之缺失，其結果，可提高基板處理裝置1之生產率。

又，上述基板處理裝置1或姿勢變換裝置30及含該裝置30之基板搬送裝置係本發明之實施型態之例示，而其具體的構成可在不脫離本發明之要旨之範圍內適宜地加以變更。例如，也可採用如以下之構成。

(1)對姿勢變換裝置30，也可如圖4所示，進一步串聯地配置基板交付裝置60。此基板交付裝置60係使被姿勢變換裝置30變換姿勢後之基板S之高度位置恢復至原來之高度位置(由乾燥室4b搬入至姿勢變換室4c之際之基板S之高度位置；以下稱基準高度位置)而交付給機器人R2。此基板交付裝置60雖未詳加圖示，但設有在上下二段具有基板S之收容部70A、70B之可升降之基板收容單元70，各收容部70A、70B(稱為第1收容部70A、第2收容部70B)除了僅以水平姿勢收容基板S之點以外，呈現與前述姿勢變換裝置30同一構成。而，藉使基板收容單元70與姿勢變換裝置30之基板收容單元40成一體地升降，而構成可由對應之收容部70A、70B接受被收容於基板收容單元40之各收容部40A、40B之姿勢變換後(水平姿勢)之基板S而交付至機器人R2。

說明具體的動作時，首先，在姿勢變換裝置30之基板收容單元40被設定於第1位置之狀態下，將基板S搬入該第1收容部40A。接著，使基板收容單元40由第1位置移動(上升)至第2位置而由基準高度位置托起基板S，並與此連動地使姿勢變換裝置60之基板收容單元70上升。而，在此位置切換完成時，由基板收容單元40之第1收容部40A將基板S搬送至基板收容單元60之第1收容部70A，在此搬送完成時，姿勢変換装置30之基板収容單元40由第2位置移動(下降)至第1位置，並與此連動而使姿勢変換装置60之基板収容單元70下降，藉此使基板S回到基準高度位置。如此完成位置之切換時，收容於基板收容單元70之第1收容部70A之基板S在基準高度位置藉由機器人R2取出。又，關於被由基板收容單元40之第2收容部40B接受之基板S，除了上升與下降相反以外，也依據上述動作回到基準高度位置。

如此，依據使基板S回到與姿勢變換前之高度位置相同之高度位置之構成，由於可在一定之高度位置(即基準高度位置)施行對機器人R2之基板S之交付，故無必要依照收容基板S之收容部40A、40B切換機器人R2之高度，相對地，可減輕機器人R2之控制負擔。

(2)實施型態之姿勢變換裝置30如上所述，雖採用將收容部40A、40B設成上下二段之構成，但例如如圖5所示，也可將收容部40A、40B配置成左右二列，也就是說，在與基板搬送方向正交之方向配置成橫向排列，構成使基板收容單元40可沿著向水平方向延伸之固定軌45移動。如此，依據使基板收容單元40沿著向水平方向移動之構成，具有可使姿勢變換裝置30在上下方向小型化之優點。但，若考慮姿勢變換裝置30之空間效率(佔有地板面積之削減)，則以上述實施型態之構成較為有利，故採用何種構成，只要依據基板處理裝置1之具體的構成及可設置之空間加以決定即可。

又，在此種圖5所示之構成之情形，也可並設有使因姿勢變換裝置30之姿勢變換而向水平方向偏移之基板S之位置回到原來位置(由乾燥室4b搬入姿勢變換室4c之際之基板S之位置)用之依據上述例(2)之基板交付裝置。

(3)在實施型態之姿勢變換裝置30中，如圖3所示，雖將各收容部40A、40B支撐成可在該等之中央部份擺動，但例如，也可構成將各收容部40A、40B支撐成可在其一端(圖3中之左端)擺動。即，只要能將收容部40A、40B切換成水平狀態與傾斜狀態，其具體的構成並不受實施型態之限制。但，如實施型態一般，採用使各收容部40A、40B可在該等之中央部份(基板S之中央部份)擺動之構成時，即使在同一斜度下，與如上述般將各收容部40A、40B支撐成可在其一端擺動之構成相比，對支點(樞軸44)之收容部40A、40B之上下方向之變位量(高低差)也較小。因此，相對地，汽缸49之驅動行程也可以較短，在使姿勢變換裝置30在上下方向小型化上較為有利。

(4)在上述實施型態中，雖說明有關在對基板S連續施行洗淨．抗蝕劑塗佈．曝光．顯影等之處理之基板處理裝置1中，將本發明之姿勢變換裝置(含該裝置之基板搬送裝置)適用於其洗淨部4之部份之例，但當然本發明也可適用於洗淨部4以外之各處理部6~12。

又，在上述實施型態中，雖說明有關設置滾筒輸送機(滾筒輸送機15)作為對姿勢變換裝置搬入基板之上游側搬送機構，另一方面，設置水平多關節型之機器人(機器人R2)作為搬送姿勢變換裝置之基板之下游側搬送機構之情形為例而說明本發明之適用情形，但本發明也可適用於設置水平多關節型機器人作為上游側搬送機構，另一方面，設置滾筒輸送機作為下游側搬送機構之情形，其適用並不受上游側及下游側搬送機構之構成所限制。

又，在上述實施型態中，雖將以傾斜姿勢搬送來之基板變換成水平姿勢而搬送至下游側之情形為例，說明有關本發明之適用之情形，但本發明當然也可適用於與此相反之情形，也就是說，將以水平姿勢搬送來之基板變換成傾斜姿勢而搬送至下游側之情形。就更一般性之論點而言，可使用於配合在互異之第1姿勢與第2姿勢之間之姿勢變換之基板之搬送。

1．．．基板處理裝置

2．．．索引器部

4．．．洗淨部

4a．．．洗淨室

4b．．．乾燥室

4c．．．姿勢變換室

6．．．抗蝕劑塗佈部

8．．．曝光部

10．．．顯影部

12．．．烘烤部

30．．．姿勢變換裝置

40．．．基板收容單元

40A．．．第1收容部

40B．．．第2收容部

C．．．匣

R1~R4．．．機器人

S．．．基板

圖1係表示適用本發明之基板處理裝置之平面模式圖。

圖2係表示洗淨部(洗淨室、乾燥室及姿勢變換室)之構成之模式的剖面圖。

圖3係表示設於洗淨部(姿勢變換室)之姿勢變換裝置之構成之正面圖(圖2之III－III線箭視圖)。

圖4係表示在姿勢變換室進一步配備基板收付裝置之例之洗淨部模式的側面圖。

圖5係表示姿勢變換裝置之另一構成之正面圖(對應於圖3之圖)。

4、4a．．．洗淨部

4b．．．乾燥室

4c、30．．．姿勢變換室

14、15．．．滾筒輸送機

20．．．噴霧器型之供液噴嘴

21．．．供氣噴嘴

40．．．基板收容單元

40A．．．第1收容部

40B．．．第2收容部

46．．．搬送滾筒

50．．．手臂

R2．．．機器人

S．．．基板

P1．．．第1位置之符號

P2．．．第2位置之符號

Claims (5)

1. 一種姿勢變換裝置，其特徵在於：其係介裝於以第1姿勢搬送基板之上游側搬送機構與以異於第1姿勢之第2姿勢搬送基板之下游側搬送機構之間，將藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢變換成第2姿勢而向下游側搬送機構搬送者，且包含：基板收容機構，其係具備有對於基板之搬送方向並排排列，分別可收容基板之第1、第2收容部；姿勢變換機構，其係將前述第1、第2收容部之姿勢分別切換成可接受藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢與可對下游側搬送機構搬出基板之第2姿勢；及變位機構，其係在前述第1收容部對應於與上游側搬送機構之基板收付位置，且第2收容部對應於與下游側搬送機構之基板收付位置之第1位置與在和此等相反之位置配置各收容部之第2位置之間使前述基板收容機構變位；前述姿勢變換機構係在由前述基板收容機構之第2位置向第1位置之變位中，將第1收容部切換成第1姿勢，將第2收容部切換成第2姿勢，在由前述基板收容機構之第1位置向第2位置之變位中，將第1收容部切換成第2姿勢，將第2收容部切換成第1姿勢者。
2. 如請求項1之姿勢變換裝置，其中前述基板收容機構係在上下方向並排設有前述第1、第2收容部；前述變位機構係使前述基板收容機構升降變位者。
3. 如請求項1之姿勢變換裝置，其中前述第1姿勢及第2姿勢係一方為水平姿勢，他方為傾斜姿勢；前述姿勢變換機構係配置於前述收容部之與基板搬送方向正交之方向之中央部分，且使前述收容部在與基板搬送方向平行地延伸之樞軸周圍擺動，藉此將前述收容部切換成前述第1姿勢與第2姿勢。
4. 一種基板搬運裝置，其特徵在於包含：以第1姿勢搬送基板之上游側搬送機構、以異於第1姿勢之第2姿勢搬送基板之下游側搬送機構、及介裝於此等兩搬送機構之間而將藉由上游側搬送機構搬送來之基板之第1姿勢變換成藉由下游側搬送機構搬送用之第2姿勢之姿勢變換裝置，前述姿勢變換裝置係如請求項1至3中任一項之姿勢變換裝置。
5. 如請求項4之基板搬運裝置，其中下游側搬送機構係具有由下側托起被收容於姿勢變換裝置之第2姿勢之基板而取出之手臂之機器人。