TWI376762B - Liquid processing apparatus - Google Patents

Description

1376762 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於對待處理體供給處理液，以處理該待處理體的 液體處理裝置。 【先前技術】 以往已知基板處理裝置(液體處理裝置），其包含：腔室（外容 裔）’形成有用以排出内部之氣體的排氣口；防飛散杯體，配置於 腔室内部’形成有用以排出内部之氣體的排氣口；腔室排氣管，' 連接於腔室的排氣口；防飛散杯體排氣管，連接於防飛散杯體的 排氣口；阻尼器，選擇性地連接腔室排氣管或防飛散杯體排氣督 之其中之一、與排氣機構(參照專利文獻〗）。 【專利文獻1】日本特開2005-86123號公報 【發明内容】 發明所欲解決之課題 體内體S裝ί、，能f _散杯體導引防飛散杯 二J 有效率地往排出機構導引待處 理：i 液環境氣體(由處理液之液滴與氣體化之處 本發明係考慮此點所設計，其目的 可有效率地排出待處理體附近的處理 夜體處理農置， 解決課題之手段 ％孔體 中 =發明之液體處理裝置，於處理待處理體的液體處理裝置 外容器 支持部 旋轉驅動广 亥存處理體之周緣外方，可與該支持部 同旋轉； y轉》疋轉排氣杯體’設於該旋轉杯體之上方，與該旋轉杯f—n ’及 排出機構，排出經過該待處理體’且由該旋轉杯fΓ Α 排氣杯體解引的纽賴喊體。 狄轉 依本發明之液體處理裝置中， 較it係5亥紅轉排氣杯體的上方設有覆蓋該旋轉排氣 Μ分頂面的覆蓋部。 -遐之至 依本發明之液體處理裝置中， 該排出機構較佳係包含：内排出路徑，引導著由該 ，引之處理液環境氣體；與外排㈣徑，引導著由該旋^^ 杯體所導引之處理液環境氣體。 卜乳 此種液體處理襄置中， 該排出機構較佳係包含引導著由該旋轉杯體與該旋轉排翁 體所導引之處理液環境氣體的排出管；且 ；·、不 该排出管内設有分隔該排出管的分散板， δ亥么散板所分隔的—個區域構成該内排出路徑， 4刀政板所分隔的另一個區域構成該外排出路經。 ’ 此種液體處理裝置中， 該分散板較佳係可於該排出管内滑動；且 可调整軸排出路徑所排出的處理液環境氣體量，與該 出路徑所排出的處理液環境氣體量之平衡。 上述液體處理裝置中， 巧係於該内排出路徑設有調整在該内排出路徑内受 處理液壤境氣體之流量的内調整機構，

浐产3二卜卜f ,徑設有調整在該外排出路徑内受導引之處理液 兄乱體之流置的外調整機構；且 K 盘締US it過内排出路徑所排出之處理液環境氣體的流量， 效早徑所排出之處理液環境氣體的流量作調整。 依本發明，由於待處理體之周緣外方設 ’且該旋轉杯體之上方設有與旋轉杯體—同:杯 肢’因此可有效率地排出待處理體附近的處理液專排氣杯 【實施方式】 貧施發明之最佳形態 以下參照圖式’說明依本發明之液體處 在此，圖1及圖2顯示本發明的實施形能。置的貫㈣恶。 液以2峨之液體處理㈣待處理體，即晶圓w供給處理 如圖1所示，液體處理裝置句含。 配置於腔室1内，包含支持日 工 谷咨）】；支持板30， 31，從支_ 30枯%士 Γ 支持銷(支持部)30a ;旋轉軸 31二克待板下方延伸；旋轉驅動機構60，藓由八# (後述），對晶圓w供給= 與處f夜供給機構 3個），於圖1僅顯示其中的f個。支朗30a s又有複數個(例如 另外x於與旋轉㈣分別形成中空形狀。 可支持晶圓卜部^内），延伸設置有包含 連結著使上推構件35 ϋ古上推構件35。該上推構件35 又，如圖ΤΙ ί下方向移動的升降構件65。 部41，對晶圓W^=構包含：表面側處理液供給 42，對晶圓W之面)供f處理液，·背面側處理液供給部 給處理液到料/品(面)供給處理)夜；與處理液供給源40，供 42。又，背面^則二，處理液供給部41與背面側處理液供給部 之背面供供給部42除處理液以外，也可對晶圓w 仙，對晶圓w 里液供給部41包含：表面側處理液供給噴嘴 導引從處理液供供給處理液；與表面侧處理液供給管仙， 處理液。又，昔；彺該表面側處理液供給噴嘴41b所供給的 面側處理祕給部42包含：f面側處理液供給口 ^/6762 . 導引從處频;與“側處理賴給管似， 理液。 …原4〇山亥背面側處理液供給口 42b戶斤供給的處 作為化學藥液，可使用例如稀氟▲未^化t藥5或沖洗液。另外， 丙醇)等。另一方面 ：^ a過乳化氫水(SCI)、IPA(異 ΪΡΑ(異丙醇)可用作使、^ =用例如純水(DIW)等。又， 又，如岡！ “ 使Βθ® %乾燥的乾燥液。 轉軸3!之周緣:機構60包含：帶輪幻，配置於旋 藉由對該驅，掛繞於該帶輪62 ;與馬達61， 1又，旋轉糾之周緣外方配置有 輪62使旋轉軸3Ut轉。 11，以覆蓋設有可旋轉的旋轉杯體 同旋轉的旋轉排氣杯體】.0。又，旋轉轉杯體11 -12，該導引構件,+古舰J疋f f體11之下方設有導引構件 著間隙而配置«日’s_ n、s支持的晶圓W之周緣外方隔 Π與導引構件以，复數個旋轉棑氣杯體10、旋轉杯體 又，士岡, 數個支柱15互相連結(參照圖1)。 杯體10之^^斤頂不^^1排，氣杯體10之上方設有覆蓋旋轉排氣 杯體L所如導圖弓里設聊有排出由旋轉杯㈣ 排出管，出機構，出機構包含： 25的抽吸泵等構成。又，本實施形態中，使用出管 的態樣作說明，但並不限於L 。中使用叹有2個排出管25 w ’ t申請案中，處理液環境氣體意味著：所彳組到曰圓 ^並飛散之處理液的液滴，與所供給到 ^ 到一半)而氣倾的處理_構成者。 （姑4 W供給 板^^圖1所示’排出管25内設有分隔該排出管25的分今 卜，分散板20所分隔的内側區(―個區域)構成引導著月由 1376762 旋轉杯肢11之内周面所導引之處理液環境氣體的内排出路徑 B "刀散板2〇所分隔的外側區(另一個區_構成引導著由旋轉排 氣杯體10之内周面所導引之處理液環境氣體的外排出路徑祝。 又，上述分散板20設於後述排液杯體18之底面，並從該 液杯體18之底面往水平方向延伸後，折彎而往下方延 25 =。因此，可在内排出路徑25a所排出的處理液環境 與外排出路fe 25b所排出的處理液環境氣體量之間取得平衡。 又’ 士口圖1戶斤示’腔室i内之上方部設有經由導入口 &導入 來=體處理系統之風扇職單元(FFU，Fan FUter u 之氣體的㈣導人部2，從上謂㈣㈣給清潔錢^體）。 w的有用以送出送入晶圓 構件3。 3a D又有進仃该出入口 3a之開闔的擋門 又女圖1所示，於旋轉排氣杯體⑺、旋 ====處理液儲存而回收的= :内之處理液賦予抽吸力的排 的處理液叙_理液供給源4()以再彻（參照圖。 可調管!f内以水平方向滑動(參照圖1)， 仰％=出路 斤排出的處理液環境氣體量，盘外排出路 役25b =排出的處理液環境氣體量之間的平衡。-外排出路 接f，敘述此種結構所構成之本實施形態的作用。 口 3^參照€腔室1之上方側面⑽門構件3移動，打開出入 插入=室=工=_輸_人(未圖示)經由出入口1 定位^上餘ϋ、?、圖）°此時’以升降構件65將上推構件35 爯ί方置曰日圓輸送機器人傳遞晶圓W的位置）。 圓w,'並以二35，升降銷35a從晶圓輸送機器人承接晶 由出入口 =支持k晶圓W。然後，晶圓輸送機器人經 上至1出來到外面後，由播門構件3關閉出入口 3a〇 接箸，以升降構件65將上推構件35定位於下方位置(參照圖 1)。如此將上推構件35定位於下方位置時，由支持台板3〇的支持 銷30a支持晶圓w之背面。 再來’旋轉驅動機構60藉由旋轉驅動旋轉軸31，以旋轉支持 3〇，其結果’旋轉支持部板3〇之支持銷30a所支持的晶圓 U .¾圖1)。此時，藉由從馬達61經由驅動帶63對帶輪62賦 予驅動力，以旋轉驅動旋轉軸31.。 ^著’以表面側處理液供給部41對支持台板3〇之支持銷3〇a 晶圓W之表面中心部供給處理液(參照。此時，以 =側，液供給部4W支持台板30之支持銷3〇&戶斤支持的晶 W W之月面中心部供給處理液(參照圖ρ。 液供從表，4理液供給部41與背面側處理 认、^二，先供給第1化㈣液，即氨過氧化氫水(SCI)，再供 (HF)，再沖洗、、夜，二:。上，1 2化學樂液’即稀_ U二：、： ()。然後，對晶圓W之表面， 供給部41供給乾燥液(第3化學_，即IPA ; 十曰曰0 w之月面，從背面側處理液供給部42 的排液管杯體18 π後另處ί液經過旋轉排氣杯㈣與旋轉杯體 Μ對所排出之處理液環境氣體賦予抽2排出。糾’從抽吸部 在此’依本實施形態，於待處理許 ^ 轉被賦予旋轉力的處理液環境· L疋w之旋 旋轉杯體η所導引 乳體，但比起固定的杯體，係由該 有與她1之上方方式，而設 !)。因此，能以旋轉杯^ u之内^轉排軋杯體10(參照圖 之内周面導引液體狀的處理液與處理 1376762 液環境氣體’且可以旋轉排氣杯體10導引無法以旋轉杯體U排 出(位於從晶圓w脫離到上方之位置)的處理液環境氣體。 藉此’依本實施形，態’可有效率地排出腔室〗内，且晶圓w 附近及上方的處理液環境氣體。 再者丄由於所使用的化學藥液環境氣體(化學藥液之液滴與氣 化之化學藥液)殘留到其他步驟(例如其他化學藥液處理步驟、沖洗 步驟、乾燥步驟等），故晶圓w產生微粒；但依本實施形態，如上 ，，由於可有效率地排出腔室丨内，且晶圓w附近的處理液環境 氣體，因此能防止化學藥液環境氣體殘留到其他步驟。從而， 防止此種微粒產生。 ，，本實施形態中，由於旋轉排氣杯體10之上方設有覆蓋旋 轉巧氣杯體丨0之周緣部頂面的覆蓋部14(參照圖、），故可防止經 過旋轉排氣杯體10之關面後的處理液環境氣體往上方側進入: ^此，覆蓋部14,也可防止因旋轉排氣杯體i。旋轉所產生的迴 OIL軋此，可更有效率地排出晶圓％附近的處理液環境氣體。 日”二、，依本實施形態’由於分散板20可於排出管25内滑且動(來 如圖1)，故可因應使用之處理液的種類或量等，ϋ 路徑仏與外排出路徑25b之寬方向的大小内文= 25a?排出的處理液_氣體量，與外排出路徑‘所排 出的處理液壞境氣體量之平衡，且可更有效 的處理液環境氣體。 纟出日日H W附近 止述:^ W表面與背面之處理液所為的處理結束時，停 乾燥晶圓W(參照圖1)。 又门迷地紅轉晶圓W，亚 接著，以升降構件65將上推構件35定位於 種上推構件35定位於上綠置時，載 j方位置。將此 3〇a的晶圓W由上推構件35 板3〇之支持銷 移動檀門構件3，以打開出人所支持而上升。此時，

再來，將晶圓輸送機器人經由出入口 後’以該晶圓輸送機器人(未圖示)承接上推構件二J 1376762 . 上的晶圓W，從該升降銷35a取下晶圓w。 排屮ίί Μ上述’使用由分散板2G所分隔之内側區構成内 由力散板2G所分隔之外側區構成外排出路徑25b =樣作㈣。然而，並不限於此，如圖 25中，—個排出管25構成引導著由旋 η所導引之處理液環境氣體的内排出路徑2Sa，另一個

Hi著由旋轉排氣杯體1G所導引之處理液環境氣體的外排出 路徑25b。 心此時，較佳係於内排出路徑25a設有調整在該内排出路徑25a 内文導引之處理液環境氣體之流量的内阻尼器（内整) #於外排出路徑攻設有調整在該外排出路徑祝a受導义處&理 液壞境氣體之流量的外阻尼器（外調整機構)2%;且可獨立對經過 内，出路徑25a所排出之處理液環境氣體的流量，與經過外排出 路徑25b所排出之處理液環境氣體的流量作調整(參照圖2)。 依此種態樣’目的為：可更正確地調整内排出路徑25a所排 出的處理液環境氣體量，與外排出路徑25b所排出的處理液環境 氣體量，且可更有效率地排出晶圓w附近的處理液環境氣體。 【圖式簡單說明】 圖ί係顯示依本發明之實施形態的液體處理裝置之結構的概 略圖。 圖2係顯示依本發明之實施形態之變形例的液體處理裝置之 結構的概略圖。 【主要元件符號說明】 1〜腔室（外容器） 2〜氣體導入部 2a〜導入口 3〜擋門構件 3a〜出入口 10^ -旋轉排氣杯 11- -旋轉杯體 12- -導引構件 14, -覆蓋部 15- -支柱 18〜排液杯體 19〜排液管 20〜分散板 25〜排出管 25a〜内排出路徑 25b〜外排出路徑 28〜抽吸部 29a〜内阻尼器（内調整機構） 29b〜外阻尼器（外調整機構） 30〜支持板(支持台板）（支持部板) 30a〜支持銷(支持部） 31〜旋轉轴 32〜轴承 35〜上推構件 3 5 a〜升降銷 40〜處理液供給源 41〜表面侧處理液供給部 41a〜表面侧處理液供給管 41 b〜表面侧處理液供給喷嘴 42〜背面侧處理液供給部 42 a〜背面侧處理液供給管 42b〜背面側處理液供給口 6 0〜旋轉驅動機構(旋轉驅動部） 61〜馬達 62〜帶輪 1376762 . 63〜驅動帶 65〜升降構件 W〜晶圓(待處理體)

Claims (1)

1376762 七、申請專利範 1. 一種液體處. ^ 外容器；U ’用以處理待處理體’其特徵係包含： 支持部，师r 旋轉驅動機if外容器内’用以支持該待處理體； 處理液供給^構^^^所支持的該待處理體旋轉. 旋轉杯體，處理體供給處理液； 同旋轉；_於_處理體之周緣外方，可與該支持部一 旋轉凝杯體，設於該旋轉杯體之上方，與該旋轉杯體—同 理液排出由該旋轉杯體與該旋轉排氣杯體所導引的處 2. 如申晴專利範圍第1 體的上方設有覆蓋該旋轉排氣二二=氣杯 置，其中，該排出機構 液環境氣體。 ^由°遗轉排氣杯體所導？丨之處理 )·如申睛專利範圍第3項之液體處理裂置， 排出管，用以^丨導由中，5玄排出機構包含 夜壤境氣體，· i 旋轉排氣杯體所料之處理 該排出管内設有分隔該排出管的分散板， 該分散板所分隔的一個區域構成該内排出路秤， 该分散板所分隔的另一個區域構成該外排出^徑。 4項之液體處理裝置，其中，該分散板可於該 可調整該内排出路徑所排岀的處理液環境氣體量，與該外排 路秘所排出的處理液環境氣體量之平衡。 6·如申晴專利範圍第3項之液體處理裝置，其中， 产供ί5亥内排出路徑設有調整在該内排出路徑内受導引之處理液 辰兄氧體之流量的内調整機構， 環±1 ί5亥外排出路徑設有調整在該外排出路徑内受導引之處理液 、兄氣體之流量的外調整機構；且 過外經過内棑出路徑所排出之處理液環境氣體的流量，與經 楚。拂出雜卿k處轉料量，可鮮地加以調