KR101376631B1 - 액 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 피처리체 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출하는 것을 목적으로 한다.
액 처리 장치는 피처리체(W)를 처리한다. 액 처리 장치는, 외부 용기(1)와, 외부 용기(1) 내에 배치되고 피처리체(W)를 지지하는 지지부(30a)와, 지지부(30a)에 의해 지지된 피처리체(W)를 회전시키는 회전 구동 기구(60)와, 피처리체(W)에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와, 피처리체(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 지지부(30a)와 함께 회전 가능한 회전컵(11)을 구비하고 있다. 회전컵(11)의 위쪽에는, 회전컵(11)과 함께 회전하는 회전 배기컵(10)이 마련되어 있다. 배출 기구는, 회전컵(11)과 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출한다.
액 처리 장치는 피처리체(W)를 처리한다. 액 처리 장치는, 외부 용기(1)와, 외부 용기(1) 내에 배치되고 피처리체(W)를 지지하는 지지부(30a)와, 지지부(30a)에 의해 지지된 피처리체(W)를 회전시키는 회전 구동 기구(60)와, 피처리체(W)에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와, 피처리체(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 지지부(30a)와 함께 회전 가능한 회전컵(11)을 구비하고 있다. 회전컵(11)의 위쪽에는, 회전컵(11)과 함께 회전하는 회전 배기컵(10)이 마련되어 있다. 배출 기구는, 회전컵(11)과 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출한다.
Description
본 출원은 2008년 8월 6일부로 출원된 일본 특허 출원 제2008-203401호를 기초로 하는 우선권을 주장하며, 그 개시 내용의 전부가 본원에 포함된다.
본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여, 이 피처리체를 처리하는 액 처리 장치에 관한 것이다.
종래에는, 내부의 기체를 배출하기 위한 배기구가 형성되는 챔버(예컨대, 외부 용기)와, 챔버 내부에 배치되고 내부의 기체를 배출하기 위한 배기구가 형성되는 비산(飛散) 방지컵과, 배기 수단과, 챔버의 배기구에 접속되는 챔버 배기관과, 비산 방지컵의 배기구에 접속되는 비산 방지컵 배기관과, 챔버 배기관 또는 비산 방지컵 배기관 중의 어느 하나와 배기 수단을 선택적으로 접속하는 댐퍼를 포함한 기판 처리 장치(예컨대, 액 처리 장치)가 알려져 있다. 예시적인 액 처리 장치는 일본 특허 공개 제2005-86123호 공보에 개시되어 있다.
이러한 종래의 액 처리 장치에 의하면, 비산 방지컵에 의해 비산 방지컵 내부의 기체를 안내하여 배기할 수 있지만, 피처리체 근방 및 상방의 처리액 분위기(처리액의 액적 및 가스화한 처리액으로 이루어지고 있음)를 효율적으로 배출 기구에 유도할 수 없었다.
일 실시예에 따르면, 피처리체를 처리하는 액 처리 장치가 제공된다. 상기 액 처리 장치는,
외부 용기와,
상기 외부 용기 내에 배치되고 상기 피처리체를 지지하는 지지부와,
상기 지지부에 의해 지지된 상기 피처리체를 회전시키는 회전 구동 기구와,
상기 피처리체에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와,
상기 피처리체의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며, 상기 지지부와 함께 회전 가능한 회전컵과,
상기 회전컵의 위쪽에 마련되고 상기 회전컵과 함께 회전하는 회전 배기컵, 그리고
상기 피처리체를 경유하여, 상기 회전컵과 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출하는 배출 기구,
를 포함하고 있다.
본 발명에 의한 액 처리 장치에 있어서,
상기 회전 배기컵의 위쪽에, 이 회전 배기컵의 적어도 상면의 일부를 덮는 덮개부가 마련되는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액 처리 장치에 있어서,
상기 배출 기구는, 상기 회전컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 내측 배출로와, 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 외측 배출로를 포함하는 것이 바람직하다.
이러한 액 처리 장치에 있어서,
상기 배출 기구는, 상기 회전컵 및 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 배출관을 포함하고,
상기 배출관 내에, 이 배출관을 구획하는 분산판이 마련되며,
상기 분산판에 의해 구획된 일측 영역이 상기 내측 배출로를 구성하고,
상기 분산판에 의해 구획된 타측 영역이 상기 외측 배출로를 구성하는 것이 바람직하다.
이러한 액 처리 장치에 있어서,
상기 분산판은, 상기 배출관 내에서 슬라이드 가능하고,
상기 내측 배출로에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 상기 외측 배출로에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양의 밸런스가 조정 가능한 것이 바람직하다.
전술한 바와 같은 액 처리 장치에 있어서,
상기 내측 배출로에, 이 내측 배출로 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 내측 조정 기구가 마련되고,
상기 외측 배출로에, 이 외측 배출로 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 외측 조정 기구가 마련되며,
내측 배출로를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량과, 외측 배출로를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량이, 독립적으로 조정 가능한 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 피처리체의 둘레 가장자리 바깥쪽에 회전 가능한 회전컵이 마련되고, 이 회전컵의 위쪽에 회전컵과 함께 회전하는 회전 배기컵이 마련되어 있기 때문에, 피처리체 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 액 처리 장치의 구성을 도시하는 개략도.
도 2는 본 발명의 실시형태의 변형예에 따른 액 처리 장치의 구성을 도시하는 개략도.
도 2는 본 발명의 실시형태의 변형예에 따른 액 처리 장치의 구성을 도시하는 개략도.
실시형태
이하, 본 발명에 따른 액 처리 장치의 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다. 여기서, 도 1 및 도 2는 본 발명의 실시형태를 도시하는 도면이다.
본 실시형태의 액 처리 장치는, 피처리체인 웨이퍼(W)에 처리액을 공급하여 처리하는 것이다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 액 처리 장치는, 챔버(외부 용기)(1)와, 챔버(1) 내에 배치되고, 웨이퍼(W)를 지지하는 지지핀(지지부)(30a)을 갖는 지지 플레이트(30)와, 지지 플레이트(30)로부터 아래쪽으로 연장되는 회전축(31)과, 이 회전축(31)을 회전시키는 것에 의해, 지지핀(30a)에 의해 지지된 웨이퍼(W)를 회전시키는 회전 구동 기구(60)와, 웨이퍼(W)에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구(후술함)를 구비하고 있다. 또한, 지지핀(30a)은 복수 개(예컨대 3개)가 마련되어 있고, 도 1에는 그 중 하나만이 도시되어 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 지지 플레이트(30)와 회전축(31) 각각은, 중공 형상으로 이루어져 있다. 그리고, 지지 플레이트(30)와 회전축(31)의 내부(중공 내)에는, 웨이퍼(W)의 이면을 지지할 수 있는 리프트핀(35a)을 갖는 리프트 부재(35)가 연장되어 있다. 이 리프트 부재(35)에는, 리프트 부재(35)를 상하 방향으로 이동시키는 승강 부재(65)가 연결되어 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 처리액 공급 기구는, 웨이퍼(W)의 표면(상면)에 처리액을 공급하는 표면측 처리액 공급부(41)와, 웨이퍼(W)의 이면(하면)에 처리액을 공급하는 이면측 처리액 공급부(42)와, 이들 표면측 처리액 공급부(41)와 이면측 처리액 공급부(42)에 처리액을 공급하는 처리액 공급원(40)을 구비하고 있다. 또한, 이면측 처리액 공급부(42)는, 웨이퍼(W)의 이면에 처리액 외에 질소 가스도 공급할 수 있다.
여기서, 표면측 처리액 공급부(41)는, 웨이퍼(W)의 표면측에 처리액을 공급하는 표면측 처리액 공급 노즐(41b)과, 이 표면측 처리액 공급 노즐(41b)에 처리액 공급원(40)으로부터 공급되는 처리액을 안내하는 표면측 처리액 공급관(41a)을 갖고 있다. 또한, 이면측 처리액 공급부(42)는, 웨이퍼(W)의 이면측에 처리액을 공급하는 이면측 처리액 공급구(42b)와, 이 이면측 처리액 공급구(42b)에 처리액 공급원(40)으로부터 공급되는 처리액을 안내하는 이면측 처리액 공급관(42a)을 구비하고 있다.
그런데, 본원에서 세정액이란, 약액이나 린스액을 의미하고 있다. 그리고, 약액으로서는, 예컨대 희석 불산, 암모니아과수(SC1), IPA(이소프로필알코올) 등을 이용할 수 있다. 한편, 린스액으로서는, 예컨대 순수(DIW) 등을 이용할 수 있다. 또한, IPA(이소프로필알코올)는 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 건조액으로서 이용된다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 회전 구동 기구(60)는, 회전축(31)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치된 풀리(62)와, 이 풀리(62)에 감긴 구동 벨트(63)와, 이 구동 벨트(63)에 구동력을 부여함으로써, 풀리(62)를 통해 회전축(31)을 회전시키는 모터(61)를 구비하고 있다. 또한, 회전축(31)의 둘레 가장자리 바깥쪽에는 베어링(32)이 배치되어 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 웨이퍼(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에는, 회전 가능한 회전컵(11)이 마련되고, 회전컵(11)과 함께 회전되는 회전 배기컵(10)이 회전컵(11)의 위쪽을 덮도록 마련되어 있다. 또한, 회전컵(11)의 아래쪽에는, 지지핀(30a)에 의해 지지된 웨이퍼(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 간극을 두고서 배치되는 가이드 부재(12)가 마련되어 있다(도 1 참조). 또한, 이들 회전 배기컵(10), 회전컵(11) 및 가이드 부재(12)는, 복수의 지주(15)에 의해 서로 연결되어 있다(도 1 참조).
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 회전 배기컵(10)의 위쪽에는, 회전 배기컵(10)의 둘레 가장자리부의 상면을 덮는 덮개부(14)가 마련되어 있다. 이 덮개부(14)는, 둘레 가장자리 바깥쪽으로 연장되고, 챔버(1)의 내벽까지 도달해 있다(도 1 참조).
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 챔버(1)에는, 회전컵(11) 및 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출하는 배출 기구가 마련되어 있다. 이 배출 기구는, 챔버(1)로부터 아래쪽으로 연장된 배출관(25)과, 이 배출관(25)에 마련된 흡인 펌프 등으로 이루어지는 흡인부(28)를 구비하고 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 배출관(25)이 2개 마련되어 있는 양태를 이용하여 설명하지만, 이것에 한정되지는 않는다.
그런데, 본원에서 처리액 분위기란, 웨이퍼(W)에 공급되어 비산한 처리액의 액적, 및 웨이퍼(W)에 공급되어[또는 웨이퍼(W)에 공급되는 도중에] 가스화된 처리액으로 이루어져 있는 것을 의미하고 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 배출관(25) 내에는, 이 배출관(25)을 구획하는 분산판(20)이 마련되어 있다. 그리고, 분산판(20)에 의해 구획된 내측 영역(일측 영역)이, 회전컵(11)의 내주면에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 내측 배출로(25a)를 구성하고, 분산판(20)에 의해 구획된 외측의 영역(타측 영역)이, 회전 배기컵(10)의 내주면에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 외측 배출로(25b)를 구성하고 있다.
또한, 전술한 분산판(20)은, 후술하는 배액컵(18)의 하면에 설치되고, 이 배액컵(18)의 하면으로부터 수평 방향으로 연장된 후, 구부러져 배출관(25) 내에서 아래쪽으로 연장되어 있다. 이 때문에, 내측 배출로(25a)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 외측 배출로(25b)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양 사이의 밸런스를 잡을 수 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 챔버(1) 내의 상측부에는, 액 처리 시스템의 팬·필터·유닛(FFU)(도시 생략)으로부터의 기체를 도입구(2a)를 통해 도입하는 기체 도입부(2)가 마련되어 있고, 웨이퍼(W)에 위쪽으로부터 청정 공기(기체)를 공급하도록 되어 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 챔버(1)의 상부 측면에는, 웨이퍼(W)를 출입시키기 위한 출입구(3a)가 마련되고, 이 출입구(3a)에는, 이 출입구(3a)를 개폐하는 셔터 부재(3)가 설치되어 있다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 회전 배기컵(10), 회전컵(11) 및 가이드 부재(12)의 아래쪽에는, 웨이퍼(W)를 처리한 처리액을 저류하여 회수하는 배액컵(18)이 마련되어 있다. 이 배액컵(18)에는 배액관(19)이 설치되고, 이 배액관(19)에는 배액관(19) 내의 처리액에 흡인력을 부여하는 배액 펌프(도시 생략)가 설치되어 있다. 이 배액 펌프로 흡인된 처리액은, 처리액 공급원(40)으로 복귀되어 재이용된다(도 1 참조).
그런데, 분산판(20)은, 배출관(25) 내에서 수평 방향으로 슬라이드 가능하게 되어 있어(도 1 참조), 내측 배출로(25a)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 외측 배출로(25b)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양 사이의 밸런스를 조정할 수 있다.
다음에, 이러한 구성으로 이루어지는 본 실시형태의 작용에 대해서 설명한다.
우선, 챔버(1)의 상부 측면에 설치된 셔터 부재(3)가 이동하여, 출입구(3a)가 개방된다(도 1 참조).
다음에, 웨이퍼(W)를 유지한 웨이퍼 반송 로봇(도시 생략)이, 출입구(3a)를 통해 챔버(1) 내에 삽입된다(도 1 참조). 이 때, 승강 부재(65)에 의해, 리프트 부재(35)가 상측 위치[웨이퍼 반송 로봇이 웨이퍼(W)를 전달하는 위치]에 위치되어 있다.
다음에, 리프트 부재(35)의 리프트핀(35a)이 웨이퍼 반송 로봇으로부터 웨이퍼(W)를 수취하고, 이 리프트핀(35a)에 의해 웨이퍼(W)가 지지된다. 그리고, 웨이퍼 반송 로봇이 출입구(3a)를 통해 챔버(1)로부터 밖으로 나온 후에, 셔터 부재(3)에 의해 출입구(3a)가 폐쇄된다.
다음에, 승강 부재(65)에 의해, 리프트 부재(35)가 하측 위치에 위치된다(도 1 참조). 이와 같이 리프트 부재(35)가 하측 위치에 위치될 때에, 지지 플레이트(30)의 지지핀(30a)에 의해, 웨이퍼(W)의 이면이 지지된다.
다음에, 회전 구동부(60)에 의해 회전축(31)이 회전 구동됨으로써 지지 플레이트(30)가 회전되고, 그 결과 지지 플레이트(30)의 지지핀(30a)에 의해 지지된 웨이퍼(W)가 회전된다(도 1 참조). 이 때, 모터(61)로부터 구동 벨트(63)를 통해 풀리(62)에 구동력이 부여됨으로써, 회전축(31)이 회전 구동된다.
다음에, 지지 플레이트(30)의 지지핀(30a)에 의해 지지된 웨이퍼(W)의 표면의 중심부에, 처리액이 표면측 처리액 공급부(41)에 의해 공급된다(도 1 참조). 이 때, 지지 플레이트(30)의 지지핀(30a)에 의해 지지된 웨이퍼(W)의 이면의 중심부에, 처리액이 이면측 처리액 공급부(42)에 의해 공급된다(도 1 참조).
본 실시형태에서는, 표면측 처리액 공급부(41) 및 이면측 처리액 공급부(42)의 각각으로부터, 우선 제1 약액인 암모니아과수(SC1)가 공급되고, 다음에 린스액인 순수(DIW)가 공급된다. 그 후, 제2 약액인 희석 불산(HF)이 공급되고, 뒤이어 린스액인 순수(DIW)가 공급된다. 그 후, 웨이퍼(W) 표면에는, 표면측 처리액 공급부(41)로부터 건조액(제3 약액)인 IPA가 공급되고, 웨이퍼(W)의 이면에는, 이면측 처리액 공급부(42)로부터 질소 가스가 공급된다.
이와 같이 하여 공급된 처리액은, 웨이퍼(W)를 처리한 후, 회전컵(11) 및 가이드 부재(12)를 경유하여, 배액컵(18)에 도달한다. 그 후, 처리액은, 이 배액컵(18)에 설치된 배액관(19)에 의해 액 처리 장치의 바깥쪽으로 배출된다.
한편, 처리액 분위기는, 회전 배기컵(10) 및 회전컵(11)을 경유한 후, 배출관(25) 내에 안내되어, 바깥쪽으로 배출된다. 이 때, 배출되는 처리액 분위기에는, 흡인부(28)로부터의 흡인력이 부여된다.
여기서, 본 실시형태에 의하면, 피처리체의 둘레 가장자리 바깥쪽에 웨이퍼(W)와 함께 회전하는 회전컵(11)이 마련되어 있다(도 1 참조). 이 때문에, 웨이퍼(W)의 회전에 의해 회전력이 부여된 처리액 분위기이어도, 고정된 컵과 비교해 보면, 상기 회전컵(11)에 의해 안내된다.
또한, 본 실시형태에서는, 웨이퍼(W) 및 회전컵(11)과 함께 회전하는 회전 배기컵(10)이 회전컵(11)의 위쪽을 덮도록 마련되어 있다(도 1 참조). 이 때문에, 회전컵(11)의 내주면에 의해, 액체상의 처리액 및 처리액 분위기를 안내할 수 있고, 회전컵(11)으로 배출할 수 없던[웨이퍼(W)로부터 위쪽으로 떨어진 위치에 있는] 처리액 분위기를 회전 배기컵(10)으로 안내할 수 있다.
이것으로부터, 본 실시형태에 의하면, 챔버(1) 내에서, 웨이퍼(W) 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출할 수 있다.
그런데, 사용된 약액 분위기(약액의 액적 및 가스화된 약액)가 다른 공정(예컨대, 다른 약액 처리 공정, 린스 공정, 건조 공정 등)까지 남는 것에 의해, 웨이퍼(W)에 파티클이 발생하게 되지만, 본 실시형태에 의하면, 전술한 바와 같이 챔버(1) 내에서 웨이퍼(W) 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출할 수 있기 때문에, 약액 분위기가 다른 공정까지 남는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 이러한 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 회전 배기컵(10)의 위쪽에, 회전 배기컵(10)의 둘레 가장자리부의 상면을 덮는 덮개부(14)가 마련되어 있기 때문에(도 1 참조), 회전 배기컵(10)의 내주면을 경유한 처리액 분위기가 위쪽으로 잠입하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이러한 덮개부(14)에 의해, 회전 배기컵(10)이 회전함으로써 발생하는 선회류를 예방할 수도 있다. 이것으로부터, 웨이퍼(W) 근방 및 상방의 처리액 분위기를 보다 효율적으로 배출할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 의하면, 분산판(20)이 배출관(25) 내에서 슬라이드 가능하게 되어 있기 때문에(도 1 참조), 이용하는 처리액의 종류나 양 등에 따라서, 내측 배출로(25a)와 외측 배출로(25b)의 폭방향의 크기를 적절하게 조정할 수 있다. 이 때문에, 내측 배출로(25a)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 외측 배출로(25b)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양의 밸런스를 조정할 수 있고, 웨이퍼(W) 근방 및 상방의 처리액 분위기를 더 효율적으로 배출할 수 있다.
전술한 바와 같이 웨이퍼(W)의 표면과 이면의 처리액에 의한 처리가 종료되면, IPA의 공급이 정지된다. 그 후, 회전 구동부(60)에 의해 웨이퍼(W)가 보다 고속으로 회전되고, 웨이퍼(W)가 건조된다(도 1 참조).
다음에, 승강 부재(65)에 의해, 리프트 부재(35)가 상측 위치에 위치된다. 이와 같이 리프트 부재(35)가 상측 위치에 위치될 때에, 지지 플레이트(30)의 지지핀(30a)에 놓인 웨이퍼(W)가, 리프트 부재(35)의 리프트핀(35a)에 의해 지지되어 상승된다. 이 때, 셔터 부재(3)가 이동되어, 출입구(3a)가 개방된다.
다음에, 출입구(3a)를 통해 웨이퍼 반송 로봇이 챔버(1) 내에 삽입된다. 그리고, 리프트 부재(35)의 리프트핀(35a) 상의 웨이퍼(W)를 이 웨이퍼 반송 로봇(도시 생략)이 수취하고, 이 리프트핀(35a)으로부터 웨이퍼(W)가 제거된다.
그런데, 상기 설명에서는, 분산판(20)에 의해 구획된 내측의 영역이 내측 배출로(25a)를 구성하고, 분산판(20)에 의해 구획된 외측의 영역이 외측 배출로(25b)를 구성하는 양태를 이용하여 설명했다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 도 2에 도시하는 바와 같이, 2개의 배출관(25) 중, 일측 배출관(25)이 회전컵(11)에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 내측 배출로(25a)를 구성하고, 타측 배출관(25)이 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 외측 배출로(25b)를 구성하여도 좋다.
이 경우에는, 내측 배출로(25a)에 이 내측 배출로(25a) 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 내측 댐퍼(내측 조정 기구)(29a)가 마련되고, 외측 배출로(25b)에 이 외측 배출로(25b) 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 외측 댐퍼(외측 조정 기구)(29b)가 마련되어 있으며, 내측 배출로(25a)를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량과, 외측 배출로(25b)를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량이, 독립적으로 조정 가능하게 되어 있는 것이 바람직하다(도 2 참조).
이러한 양태에 의하면, 내측 배출로(25a)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 외측 배출로(25b)에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양을 보다 정확히 조정할 수 있고, 웨이퍼(W) 근방 및 상방의 처리액 분위기를 더 효율적으로 배출할 수 있다.
1 : 챔버(외부 용기) 10 : 회전 배기컵
11 : 회전컵 12 : 가이드 부재
14 : 덮개부 18 : 배액컵
19 : 배액관 20 : 분산판
25 : 배출관 25a : 내측 배출로
25b : 외측 배출로 28 : 흡인부
29a : 내측 댐퍼(내측 조정 기구) 29b : 외측 댐퍼(외측 조정 기구)
30a : 지지핀(지지부) 40 : 처리액 공급원
41 : 표면측 처리액 공급부 41b : 표면측 처리액 공급 노즐
41a : 표면측 처리액 공급관 42 : 이면측 처리액 공급부
42b : 이면측 처리액 공급구 42a : 이면측 처리액 공급관
60 : 회전 구동 기구 W : 웨이퍼(피처리체)
11 : 회전컵 12 : 가이드 부재
14 : 덮개부 18 : 배액컵
19 : 배액관 20 : 분산판
25 : 배출관 25a : 내측 배출로
25b : 외측 배출로 28 : 흡인부
29a : 내측 댐퍼(내측 조정 기구) 29b : 외측 댐퍼(외측 조정 기구)
30a : 지지핀(지지부) 40 : 처리액 공급원
41 : 표면측 처리액 공급부 41b : 표면측 처리액 공급 노즐
41a : 표면측 처리액 공급관 42 : 이면측 처리액 공급부
42b : 이면측 처리액 공급구 42a : 이면측 처리액 공급관
60 : 회전 구동 기구 W : 웨이퍼(피처리체)
Claims (3)
- 피처리체를 처리하는 액 처리 장치로서,
외부 용기와,
상기 외부 용기 내에 배치되고 상기 피처리체를 지지하는 지지부와,
상기 지지부에 의해 지지된 상기 피처리체를 회전시키는 회전 구동 기구와,
상기 피처리체에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와,
상기 피처리체의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 상기 지지부와 함께 회전 가능한 회전컵과,
상기 회전컵의 위쪽에 마련되고 상기 회전컵과 함께 회전하는 회전 배기컵, 그리고
상기 회전컵과 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출하는 배출 기구를 포함하고,
상기 배출 기구는, 상기 회전컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 내측 배출로와, 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 외측 배출로와, 상기 회전컵 및 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 배출관을 포함하고,
상기 배출관 내에, 상기 배출관을 구획하는 분산판이 마련되며,
상기 분산판에 의해 구획된 일측 영역이 상기 내측 배출로를 구성하고,
상기 분산판에 의해 구획된 타측 영역이 상기 외측 배출로를 구성하며,
상기 분산판은, 상기 배출관 내에서 슬라이드 가능하고,
상기 내측 배출로에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양과, 상기 외측 배출로에 의해 배출되는 처리액 분위기의 양의 밸런스가 조정 가능한 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. - 피처리체를 처리하는 액 처리 장치로서,
외부 용기와,
상기 외부 용기 내에 배치되고 상기 피처리체를 지지하는 지지부와,
상기 지지부에 의해 지지된 상기 피처리체를 회전시키는 회전 구동 기구와,
상기 피처리체에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와,
상기 피처리체의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 상기 지지부와 함께 회전 가능한 회전컵과,
상기 회전컵의 위쪽에 마련되고 상기 회전컵과 함께 회전하는 회전 배기컵, 그리고
상기 회전컵과 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출하는 배출 기구를 포함하고,
상기 배출 기구는, 상기 회전컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 내측 배출로와, 상기 회전 배기컵에 의해 안내된 처리액 분위기가 유도되는 외측 배출로를 포함하며,
상기 내측 배출로에, 상기 내측 배출로 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 내측 조정 기구가 마련되고,
상기 외측 배출로에, 상기 외측 배출로 내에 안내된 처리액 분위기의 유량을 조정하는 외측 조정 기구가 마련되며,
내측 배출로를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량과, 외측 배출로를 경유하여 배출되는 처리액 분위기의 유량이, 독립적으로 조정 가능한 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 회전 배기컵의 위쪽에, 상기 회전 배기컵의 적어도 상면의 일부를 덮는 덮개부가 마련되는 것을 특징으로 하는 액 처리 장치.
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