TWI364304B - Particle radiation therapeutic apparatus - Google Patents

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TWI364304B
TWI364304B TW098104024A TW98104024A TWI364304B TW I364304 B TWI364304 B TW I364304B TW 098104024 A TW098104024 A TW 098104024A TW 98104024 A TW98104024 A TW 98104024A TW I364304 B TWI364304 B TW I364304B
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Toshihiro Otani
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Description

1364304 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關為了治療癌或惡性腫瘤等而對患者的疾 患部分照射碳、質子等之粒子線來進行治療的粒子線治療 裝置。 【先前技術】 為了治療患者的癌或惡性腫瘤等而對疾患部分照射適 . 宜線量的粒子線來進行治療時,必須使粒子線的照射區域 _鲁與患者的疾患部分的形狀一致。為此,除了適當地設定由 複數個葉片(leaf)所構成的可變準直器(c〇llimat〇r)的形 狀之外’將水平方向(照射領域的面上)的照射線量及垂直 方向(深度方向)的照射線量之分佈皆予以均勻化以使均勻 之線量照射在疾患部分全體也是重要的一點。尤其是為了 使粒子線的照射區域與患者的疾患部分的形狀一致,可變 準直器的形狀確認便變得重要。 φ 例如在下述之專利文獻1(日本特開平10-76019號公 報)係設置有··在放射線系統的設定階段於放射線線束 (beam)停止中作動之光源、及在放射線線束的放射路徑中 延伸到其照射ϋ域範圍外的光學元件(鏡⑷而))。令該 光源作動㈣可視料出至林元件。光學元件所受光的 可視光係反射並通過準吉哭^ ^ 卡夏盗而照射於患者身體表面。以使 該光照射領域與目標區區祕 域—致的方式進行定位。 此外在下述的專利文獻2(日本實開昭號 公報)中,為了進行利用亦 用先照射領域之模擬,而設置有:由 3 321000 1364304 燈所構成的光源、在放射線線束的放射路徑中延伸到其照 射區域範圍外的鏡、及設置在光源附近的電視攝影機。令 該光源作動而將光送出至鏡。鏡所受光的光係反射並通過 可變(可動)準直器而照射於患者身體表面。以電視攝影機 來觀察該光照射領域與患者之關係。 此外,在下述的專利文獻3(日本特開平6-246015號 公報)中,為了進行利用光照射領域之照射範圍的確認,而 設置有:光源、在放射線的放射路徑中延伸到其照射區域 範圍外的鏡A '設置在光源與鏡A之間的鏡B、及設置在鏡 B附近的電視攝影機。令該光源作動而將光送出至鏡A。鏡 A所受光的光係反射並通過可變(可動)準直器而照射於患 者身體表面。該光照射領域與患者之關係會從鏡A映照至 鏡B,以電視攝影機來觀察映照至鏡B之狀態。 專利文獻1:日本特開平10-7601 9號公報 專利文獻2:日本實開昭62-186753號公報 專利文獻3 :日本特開平6-246015號公報 專利文獻4 :日本特公平6-96048號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之課題) 然而,在上述各專利文獻1至3所記載的習知裝置中, 雖然係藉由鏡使從光源送出的光反射並通過可變(可動)準 直器,並以目視確認照射於患者身體表面的光照射領域或 利用電視攝影機進行確認,但並未直接地確認可變準直器 就每位患者進行整形之癌等疾患部分的形狀。因此,由於 4 321000 1364304 患者身體表面並非水平而是具有複雜的曲面之身體表面., - 因此難以精度佳地確認可變準直器的設定形狀。此外,由 於必須對照射至患者身體表面的光照射領域全體之廣範圍 的區域進行監視,因此必須使鏡延伸到放射線的照射區域 範圍外,而必須確保有水平方向的設置空間,且於放線射 的照射軸方向佔有之長度亦長達數十公分,使得放射線的 照射部大型化。 而且,就確認可變準直器的形狀之手段而言,可考慮 • 以攝影機從可變準直器的上游侧進行攝影。但由於攝影機 ' 所拍攝得的影像係從可變準直器的上部直接攝影,故可變 準直器的上表面會被來自鏡的光亂反射,該可變準直器的 . 平面部與準直器邊緣部與端部係為不鮮明的狀態,而難以 解析該邊緣部並抽出準直器葉片所形成的2維形狀。要解 析該邊緣部係需要複雜的圖像辨視軟體,且該辨視作業需 要很多的勞力與作業量。且粒子線治療裝置所要求的例如 φ 1mm以下的精度之形狀確認質實上係變得困難。 此外,以粒子線治療裝置進行屬於高等級的3維照射 法之層疊原體照射法等時,1次的治療照射中必須使可變 準直器的形狀變更2次以上。在粒子線治療裝置中多半會 在可變準直器與患者之間插入稱為補償器(compensetor) 的裝置,在此情形下是無法如上述習知技術將可變準直器 的形狀投影在患者身體表面並對該投影像進行監視。 本發明的目的在於提供一種在照射中仍可精度佳地確 認可變準直器的形狀並且可謀求小型化的粒子線治療裝 5 321000 1364304 置。 (解決課題的手段) 本發明的粒子線治療裝置係具備:可變準直器,使照 射至被照射體的粒子線線束的形狀符合被照射體的疾患部 分的形狀而進行變化;光源,用於對藉由可變準直器而整 形的照射領域形狀進行攝影;光源鏡,位於可變準直器的 上游側且配置在粒子線線束的軌道上,使來自光源的光反 射並通過可變準直器;攝影屏幕(screen),配設在可變準 直器的下游側,藉由通過可變準直器的光而投影有藉由可 變準直器所整形過的照射領域形狀;攝影裝置,對投影在 攝影屏幕的投影部進行攝影;及圖像處理裝置,解析攝影 裝置所拍攝得的影像。 (發明的效果) 本發明的粒子線治療裝置係構成為藉由光源鏡使來自 光源的光反射並通過可變準直器,藉由通過可變準直器的 光將藉由可變準直器所整形過的照射領域形狀投影在攝影 屏幕,以攝影裝置對攝影屏幕的投影部進行攝影,並利用 圖像處理裝置解析攝影裝置拍攝得的影像,藉此,具有能 夠精度佳地確認藉由可變準直器所整形後的照射領域形 狀。 除了上述之内容,從以下參照圖式之本發明的詳細說 明便能夠更進一步明白本發明其他的目的、特徵、觀點以 及效果。 【實施方式】 6 321000 1364304 , 實施形態1 - 茲根據第1圖所示的概略構成圖說明本發明的實施形 態1的,粒子線治療裝置。其中,針對可變準直器12係以立 體圖顯示。在第1圖中,元件符號1係輸送自未圖示的加 速器之碳、質子等的粒子線線束,朝照射轴方向行進。元 件符號2係電磁鐵,由一對電磁鐵2a、2b所構成,使輸送 自加速器的粒子線線束1的執道進行掃描。元件符號3係 散射體,使通過電磁鐵2的粒子線線束1擴散;元件符號 # 4係線量監測器,測量通過散射體3的粒子線線束1的照 " 射線量;元件符號5係脊形過濾器(ridge filter)(或能量 調變手段),藉由突起部分的厚度調整深度方向的能量頻譜 .(線量分佈)而使粒子線線束1具有與治療患部的深度方向 相應之能量頻譜;元件符號6係幅度變換器(range shifter),使通過所設定厚度量的粒子線線束1的能量減 小預定量;元件符號7係平坦度監測器,測量通過幅度變 φ換器6的粒子線線束1的平坦度;元件符號8係光定位器 (light localizer),用於進行屬於被照射體之載置於治療 床台9的患者的疾患部分之定位。元件符號11係固定準直 器,用以去除不需要的粒子線線束1 ;元件符號12係可變 準直器,用以將通過固定準直器11的粒子線線束1進一步 加以整形以使粒子線形狀與被照射體10的疾患部分的形 狀一致,且構成為以使複數個葉片12a變化以吻合被照射 體10的疾患部分的形狀之方式而形成所期望的照射領域 形狀。元件符號13係患者補償器(俗稱患者填充物(bolus) 7 321000 1364304 或補償過遽器)’用於使照射於患部的粒子線線束的停止位 置對準於患部與正常組織接面位置。 元件符號14係對可變準直器12的形狀進行攝影所用 的光源’就其一例而言,第1圖中係設置在比可變準直器 12更上游側之處。元件符號15係光源鏡,位於可變準直 器12的上游側且設置在粒子線線束1的軌道上,使來自光 源14的光反射並通過可變準直器12,其中,由於來自光 源14的光係從水平方向送出,因此光源鏡15係傾斜略 度以使來自光源14的光朝可變準直器12側反射。其中, 光源鏡15係以可讓粒子線線束i穿透的材料構成。元件符 號16係支撑光源鏡15的支撐體;元件符號17係支撐支撐 體16的支#台;元件符號18係攝影屏幕,配^在可變準 吉的下流側’藉由通過可變準直器12的光而投影有 =^ Μ㈣射領域形狀;元件符號1係、投影部。 如聚己嫌I屏幕18係以可讓粒子線線束1穿透的材料、例 影屏幕18^膠^薄板等構成。元件符號19係對投影至攝 攝影機構成、部也進行攝影的攝影裝置,例如以小型 攝知機構成。疋件符號2〇係用 ,影機所拍攝得的影像進行屬'^裝置19的小 符號21係對投影至攝影屏幕二=理裝置。π件 用的攝影鏡;元件符號22係對映、;此進行攝影所 幕丨8的投影部18a雄 、顯於攝影鏡21之攝影屏 :構成。元件符號2 3係用::例如以小型攝影 321000 8 这針對上述實施形綠1 說明1送自如速器的粒d子線治療裝置的動作進行 道進行掃描而通過散 1束1係藉由電磁鐵 .2使軌 通過散射體3的粒子線’藉此而使粒子線線束,1擴散。 度方向的能量_(線量 _由脊形過濾器而調整深 線線束1係藉㈣度變換^通過脊形W 5的粒子 =定量。通過幅度變換:器:=線線束1的能量 =直器丨^去除不需要的^子線線幻係藉由固 益11的粒子線線束丨係籍=線束丨。通過固定準直 計劃的照射領域形狀。整形而形成所 係通過對應於被照射體1〇的疾电立°° 12的粒子線線束1 而成形的患者補償器(填充物)n、P刀的,米度方向的形狀 子線線束1係照射於被照射體丨^患者補償器13的粒 患部3維形狀之線量分佈。G的疾患部分,形成符合於 致,直器12的形狀是否設定成與設定一 =光源14作動而將略水平方向的光-送出。該光 藉由傾斜略45度的光源鏡15反射,將光_朝可 12侧送出並通過可變準直器12。藉由通過可變 »。12的光14c ’將可變準直器12㈣狀投影於攝影 以由小«影機所構成的攝像裝置19對投影在攝影 与的投影部18a進行攝影’並以圖像處理裝口2解析該 =像,藉此即能夠容易地確認可變準直器12的形狀。此 外’就其-例而言’第1圖中係設計為還以由小型攝影機 斤構成的攝像裝置22對攝影鏡21所映顯之攝影屏幕18的 .321000 9 1364304 投影部18a進行攝影,並以圖像處理裝置23解析該影像。 另外,上述光源鏡15、其支撐體16、及攝影屏幕18係以 可讓粒子線線束1容易通過的物體來形成,因此粒子線線 束1能夠沒有問題地到達被照射體10。 依據本發明的實施形態1,藉由光源鏡15使來自光源 W的光14a反射,將光14b朝可變準直器12側送出並通 過可變準直器I2,藉由通過可變準直器12的光14C,將可 變準直器12的形狀投影於攝影屏幕18,藉由攝 理褒置20、23對攝影裝置19、22所拍攝得的影像進行解 2,藉此,能夠容易地確認藉由可變準直器12而整形之被 1體10的疾患部分的形狀。此外,能夠將藉由該解析而 2疋出之準直器的形狀與預先依照治療計晝而決定的準直 盗形狀的設定圖像進行比較。在上述的習知技術中,可變 準直為的上表面係因來自鏡的光而亂反射,該可變準直器 的上游侧平面部與準直器葉片前端部(與上述平面部垂直 2分)所對應的圖像係變得難以區別,屬於上述平面部與 、'】端。P的又叉部分之葉片邊緣部係為不鮮明的狀態,而難 ,對該邊緣部進行圖像解析而予以抽出,要解析該邊緣部 係需要複雜的圖像辨視軟體,且該辨視作業需要很多的勞 輕=業量。而在本發明的實施形態J中,藉由通過可變 準直态12的光14c,將藉由可變準直ϋ 12所整形之被昭 射體1〇的疾患部分的形狀於攝影屏幕18的投影部他進 仃光的明暗之朗等,藉此,可鲜直器12的平面部與在 321000 10 1364304 屬於患者的被照射體10所整形的疾患部分的水平方向形 ^ 狀的邊緣部係為極鮮明的狀m,而不需要複雜的圖像辨視 軟體進行該邊緣部之解析,且能夠不需要在該辨視作業花 費很多的勞力與作業量而精度地佳進行解析之效果。且亦 能夠做到粒子線治療裝置所要求的例如lmm以下的精度之 形狀確認。 此外,攝影屏幕18的顏色通常為白色,但亦可藉由採 用由能夠使其與通過可變準直器12的光14c之區別進一步 • 清楚地差別化的顏色所構成的攝影屏幕18、或者採用對從 ' 光源14送出的光加以著色的光,而使通過可變準直器12 的光14c與攝影.屏幕18的投影部18a以外之區別進一步清 楚地差別化,此時,可變準直器12的邊緣部會成為更加鮮 明的狀態,能夠以更佳的精度特定出邊緣部。 此外,上述的習知技術的鏡係必須映顯出照射至患者 身體表面的光照射領域全體之廣範圍的區域,因而為延伸 φ 至放射線的照射區域範圍外並且於放線射的照射轴方向佔 有之長度亦長達數十公分之大者,使得放射線的照射部大 型化。而在本發明的實施形態1中的光源鏡15係只要使來 自光源14的光反射即可,因此能夠使水平方向縮小,並且 於粒子線線束1的照射軸方向佔有之長度亦數公分(例如 k 3cm至4cm)即可,因此具有能夠謀求粒子線治療裝置的照 射部的小型化之效果。 此外,由於光源鏡15、攝影屏幕18係可讓粒子線線 束1穿透,因此即使在粒子線線束1的照射中心亦能夠藉 11 321000 1364304 由通過可變準直器12的光14c而精度佳地確認可變準直器 12的形狀。此外,在本實施例中,較理想為儘可能薄化光 源鏡15及其支撐體1.6與攝影屏幕18的厚度,藉此抑制對 粒子線線束1造成的影響。 並且,當在屬於患者的被照射體1 〇的治療階段中使可 貪準直器12的形狀變化時,亦由於能夠精度佳地確認該變 更後的形狀,因此能夠在不會對患者造成壓力、不安感等 的情況下持續地進行粒子線線束丨的照射治療。就一例而 言,在實施粒子線治療中所使用的所謂層疊3維照射法(亦 即必須將標的部位沿深度方向分割為複數層的層狀區域, 分別對各層設定最適當的準直器狀而進行照射者,參照上 述之專利文獻4)時,具有能夠精度佳地確認於照射中變化 的可變準直器12的設定形狀。 、就對攝影屏幕18的投影部18a進行攝影的手段而言, 雖然係設置有由小型攝影機所構成的攝影裝置19與圖像 處理裝置20,並設置有攝影鏡21與由小型攝影機所構成 的攝影裝置22與圖像處理裝置23,但只要選擇其中之一 的攝影手段便能夠達成所期望的目的。 實施形態2 茲根據第2圖所示的概略構成圖說明本發明的實施形 態2的粒子線治療裝置的重點部分。在第2圖中,^ 12 ' 14 ' 14a、14b、H 18、18a 係與上述之實施 形“的構成相同。元件符號24係光源鏡,位於可變準直 器12的上游舰設置在粒子線線束1的執道上,藉由反射 321000 12 1364304 24a使來自光源14的光反射並通 φ , , _ + ^ 礎過可變準直器12,1 由於來自光源Η的光係從略水平方向送出,因此光源 鏡24係傾斜略45度並藉由光源鏡24的反射部⑽使來自 光源14的光朝可變準直器12側反射1中,光源鏡“係 、乂可讓粒子線線束1穿透的材料構成。元件符號係支撐 光源鏡24的支撐體或光源鏡24的一構成部。
由第2圖可明白,在本發明的實施形態2的粒子線治 療裝置中,光源鏡24及支撐該光源鏡24的支撐體25係以 體構造體來構成。就其一例而言’例如第2圖中之構成 係设計為將1片的由鋁構成的板材以中央部傾斜略45度之 方式彎折成段差狀,並在該中央部施作鏡塗膜(mirr〇r coating)或鏡面加工來形成反射部24a而構成光源鏡24, 並以分別連接於該光源鏡24的一方端及另一方端之部分 作為支撐體25。為了盡量抑制因粒子線線束1進行穿透所 造成的線束能量損失,屬於光源鏡24及支撐體25的基材 之銘板厚度較理想為1丽左右或1τμ以下,例如可使用厚 度為0. 5mm或〇. 3mm者。 依據本發明實施形態2,係構成為將1片的由铭構成 的板材以中央部傾斜略45度之方式彎折成段差狀,並在該 中央部施作鏡塗膜(或者施作鏡面加工等而在中央部的至 少一部分形成光反射面)來形成反射部24a從而形成光源 鏡24,並以分別連接於該光源鏡24的一方端及另一方端 之部分作為支撐體25,藉此,能夠容易地形成光源鏡24, 且由於該光源鏡24的支撐能夠以由一體構造體所構成的 13 321000 1364304 支撐體25來進行支撐,因此能夠形成穩固的支撐構造。 雖然上述說明係針對以鋁作為本發明的實施形態2的 光源鏡24、支撐體25的構成材料的情形進行敘述,但並 非限定於此,亦可為銘合金、銅、銅箔、鎂、塑膠、丙烯 酸樹脂、聚醯亞胺等,在傾斜略45度而形成之光源鏡24 的至少一部分施作鏡塗膜或鏡面加工等來形成反射部24a 從而構成光源鏡24亦可達到相同的效果。此外,亦可將光 源鏡24與其支撐體25以不同的材料構成並利用接著劑等 手段以形成具有如第2圖所示的段差形狀之方式進行結合 而一體地予以構成,亦可達到相同的效果。 實施形態3 由第2圖可明白本發明的實施形態3的粒子線治療裝 置之特徵在於,光源鏡24係配置在粒子線線束1的照射區 域内。因此,不需要如上述之習知技術的鏡延伸到粒子線 線束1的照射區域範圍外且在粒子線線束1的照射軸方向 佔有之長度長達數十公分,由於光源鏡24只要使來自光源 14的光反射即可,因此能夠配置在粒子線線束1的照射區 域内。就結果而言,能夠縮小光源鏡24並且能夠縮小在粒 子線線束1的照射軸方向佔有之長度,亦即亦能夠縮小高 度。光源鏡24的高度為數公分即可,例如能夠設定為3cm 至4cm。如此,在光源鏡24的位置,於與粒子線線束1的 照射方向垂直之平面中,相較於粒子線線束1的照射區 域,能夠將光源鏡24的照射方向的高度縮小,此係具有能 夠謀求粒子線治療裝置的照射部的小型化之效果。 14 321000 1364304 . 實施形態4 ' 本發明的實施形態4的粒子線治療裝置之特徵在於將 上述之第2圖中的光源鏡24設計為凸面鏡。如此,藉由將 光源鏡24設計為凸面鏡,能夠藉由凸面鏡之功能而更加擴 大使來自光源14的光反射的角度,因而能夠更進一步縮小 在水平方向及粒子線線束1的照射軸方向佔有的長度。 實施形態5 茲根據第3圖及第4圖說明本發明的實施形態5的粒 _ 子線治療裝置。第3圖係顯示粒子線治療裝置的重點部分 之概略構成圖’第4圖係顯示粒子線治療裝置的光源鏡部 之放大圖。在該些各圖中,元件符號1、12、14、14a、Ub、 14c、18、18a係與上述各實施形態的構成相同或相等。元 件符號26係光源鏡,位於可變準直器12的上游側且設置 在粒子線線束1的軌道上,藉由反射部26a使來自光源14 的光反射並通過可變準直器12,其中,由於來自光源η φ的光係從略水平方向送出,因此光源鏡26係傾斜略45度 並藉由光源鏡26的反射部26a使來自光源14的光朝可變 準直器12側反射。其中,光源鏡26係以可讓粒子線線束 1穿透的材料構成。元件符號27係支撐光源鏡26的支樓 體’ ^以與光源鏡26相同的材料來構成時,構成為比光源 鏡26的板厚Τι還厚。 亦即’如第4圖所示,由於光源鏡26係由支擇體27 傾斜約45度(或Θ度),因此將支撐體27的厚度Τ2設定為 例如1· 414Τι(或Ti/cos( 0)),藉此而構成為令粒子線線束 321000 15 1364304 1中的穿透光源鏡26之粒子線線束的線束能量損失與穿透 支標體27的粒子線線束的線束能量損失成為大致相同的 值。亦即,即使粒子線線束1係穿透光源鏡26及屬於其支 持部的支持體27,粒子線線束1的線束能量仍是減少達大 致相同的值’能夠使粒子線線束1的能量分佈幾乎不發生 變化。這對於必須以約1mm以下的精度控制粒子線線束j 在患者體内的停止位置之粒子線治療裝置而言係具有非常 重要的意義。 由第3圖及第4圖可明白,在本發明的實施形態5的 粒子線治療裝置中,光源鏡26及支撐該光源鏡26的支樓 體2 7仏以一體構造體來構成。就其一例而言,例如第3圖 及第4圖中之構成係設計為將1片的由鋁構成的板材以中 央部傾斜略45度之方式彎折成段差狀後,以研磨等進行磨 削使其中央部的厚度Tl較中央部的兩側的厚度丁2薄(亦 即’ Τ2=1. 414Τι(或Ti/cos( <9 )) ’之後,在該中央部施作鏡 塗膜或鏡面加工來形成反射部26a而構成光源鏡26,並以 分別連接於該光源鏡26的一方端及另一方端之部分作為 支撐體27。 如此,藉由將光源鏡26的板厚T!及其兩端側的支樓體 27的板厚τ2之關係設定為Τ2=1.414Τι(或Ti/cos(0),而 構成為令粒子線線束1中的穿透光源鏡26之粒子線線束的 線束能量損失與穿透支撐體27的粒子線線束的線束能量 損失成為大致相同的值,粒子線線束1的能量分佈幾乎不 發生變化,因此能夠以約lmm以下的精度控制粒子線線束 321000 16 1364304 . 1在患者體内的停止位置,而能夠獲得穩定且可靠度高的 " 粒子線治療裝置。 在本發明的實施形態5中,為了盡量抑制因粒子線線 束1進行穿透所造成的線束能量損失,光源鏡26及支撐體 27的基材板厚較理想為數公釐左右以下,例如可使用厚度 為0. 5mm或〇. 3mm者。此外,由於光源鏡π只要使來自光 源14的光反射即可,因此能夠配置在粒子線線束丨的照射 區域内。就結果而言,能夠縮小光源鏡26並且能夠縮小在 攀粒子線線東i的照射軸方向佔有之長度,亦即亦能釣縮小 高度。光源鏡26的高度為數公分即可,例如能夠設定為 3cm至4cm。如此,在光源鏡26的位置,於與粒子線線束 1的照射方向垂直之平面中,相較於粒子線線束i的照射 ..區域’能夠將光源鏡26的照射方向的高度縮小,此係具有 能夠謀求粒子線治療.裝置的照射部的小型化之效果。 又’雖然上述說明係針對以銘作為光源鏡26、支擇體 # 27的構成材料時的情形’但並非限定於此,亦可為紹合金、 銅、銅羯、鎮、塑膠、丙烯酸樹脂、聚酿亞胺等,只要在 傾斜略45度而形成之中央部施作鏡塗膜或鏡面加工等來 形成反射部26a而構成光源鏡26即可。 實施形態6 茲根據第5圖說明太恭 月本發明的實施形態6的粒子線治療 裝置。第5圖係顯示粒子繞、、Α嵌壯亜 _ 、'’ /α療農置的重點部分之概略構 成圖。在第5圖中,元彳 叶付號1、12、u、14a、14b係盥 上述各實施形態的構成相间。-μ # 门7^件符號29係光源鏡,位於 321000 17 1364304 可變準直器12的上游側且配設在粒子線線束1的執道上, 藉由反射部29a使來自光源14的光反射並通過可變準直器 12,其中,由於來自光源14的光係從略水平方向送出,因 此光源鏡29係傾斜略45度並藉由光源鏡29的反射部29a 使來自光源14的光朝可變準直器12侧反射。其中,光源 鏡29係以可讓粒子線線束1穿透的材料構成。元件符號 30係支撐光源鏡29的支撐體。 由第5圖可明白,在本發明的實施形態6的粒子線治 療裝置中,光源鏡29及支撐該光源鏡29的支撐體30係以 一體構造體來構成。就其一例而言,例如第5圖中之構成 係設計為將1片的由銘構成的平面狀圓板材的中央部予以 切取成例如略圓狀並以傾斜略45度之方式彎折,並在該所 切取的中央部施作鏡塗膜來形成反射部29a而構成光源鏡 29。為了盡量抑制因粒子線線束1進行穿透所造成的線束 能量損失,屬於光源鏡29及支撐體30的基材之鋁板厚度 較理想為數公釐以下,例如可使用厚度為0. 5mm或0. 3ππη 者。 依據本發明的實施形態6 ’係構成為將1片的由紹構 成的圓板材以中央部傾斜略45度之方式予以切取並進行 彎折,在該所切取的中央部施作鏡塗膜或鏡面加工來形成 反射部29a而構成光源鏡29,以該光源鏡29的其他部分 作為支撐體30,藉此,只要將支撐體30的中央部予以切 取並進行彎折即可,能夠容易地形成光源鏡29,且由於該 光源鏡29之支撐能夠以由一體構造體所構成的支撐體30 18 321000 1364304 • 來進行支撐,因此能夠形成穩固的支撐構造。此外,由於 - 光源鏡29只要使來自光源14的光反射即可,因此能夠配 置在粒子線線束1的照射區域内。就結果而言,能夠縮小 光源鏡29並且能夠縮小在粒子線線束1的照射轴方向佔有 之長度,亦即亦能夠縮小高度。光源鏡29的高度為數公分 即可,例如能夠設定為3cm至4cm。如此,在光源鏡29的 位置,於與粒子線線束1的照射方向垂直之平面中,相較 於粒子線線束1的照射區域,能夠將光源鏡29的照射方向 • 的高度縮小,此係具有能夠謀求粒子線治療裝置的照射部 的小型化之效果。 雖然上述說明係針對以鋁作為光源鏡29、支撐體30 的構成材料的情形,但並非限定於此,亦可為銘合金、銅、 銅箔、鎂、塑膠、丙烯酸樹脂、聚醯亞胺等,在傾斜略45 度而形成之光源鏡29的至少一部分施作鏡塗膜或鏡面加 工等來形成反射部29a而構成光源鏡29則亦可達到相同的 鲁效果。 又,雖然上述說明係針對光源鏡29的形狀為略圓狀的 情形,但並非限定為圓狀,亦可為四角狀與其他形狀,總 之,只要為能夠使來自光源14的光反射並通過可變準直器 12、並藉由通過可變準直器12的光將藉由可變準直器12 而整形的照射領域形狀投影至攝影屏幕18之形狀即可。 _ 實施形態7 本發明的實施形態7的粒子線治療裝置之特徵在於將 上述之第5圖中的光源鏡29設計為凸面鏡。如此,藉由將 19. 321000 1364304 光源鏡29設計為凸面鏡,能夠藉由凸面鏡之功能而更加擴 大使來自光源14的光反射的角度,而能夠更進一步縮小在 水平方向及粒子線線束1的照射軸方向佔有的長度。 實施形態8 茲根據第6圖及第7圖說明本發明的實施形態8的粒 子線治療裝置。第6圖係顯示粒子線治療裝置的重點部分 之概略構成圖,第7圖係顯示粒子線治療裝置的光源鏡部 之放大圖。在該些各圖中,元件符號1、12、14、14a、14b 係與上述各實施形態的構成相同或相等。元件符號31係光 源鏡,位於可變準直器12的上游側且設置在粒子線線束1 的軌道上,藉由反射部31a使來自光源14的光反射並通過 可變準直器12,其中,由於來自光源14的光係從略水平 方向送出,因此光源鏡31係傾斜略45度並藉由光源鏡31 的反射部31a使來自光源14的光朝可變準直器12側反 射。其中,光源鏡31係以可讓粒子線線束1穿透的材料構 成。元件符號32係支撐光源鏡31的支撐體,構成為比光 源鏡31的板厚Τι還厚。 亦.即’如第7圖所示’藉由將支撐'體32的厚度Τ2設定 為例如1.414Τι(或Ti/cos( Θ )),而構成為令粒子線線束1 中的穿透光源鏡31之粒子線線束的線束能量損失與穿透 支撐體32的粒子線線束的線束能量損失成為大致相同的 值。亦即,即使粒子線線束1係穿透光源鏡31及屬於其支 持部的支持體32,粒子線線束1的線束能量仍是減少達大 致相同的值,而能夠使粒子線線束1的能量分佈幾手不發 20 321000 1364304 . 生變化。這對於必須以約1mm以下的精度控制粒子線線束 -1在患者體内的停止位置之粒子線治療裝置而言係具有非 常重要的意義。 由第6圖及第7圖可明白,在本發明的實施形態8的 粒子線治療裝置中,光源鏡31及支撐該光源鏡31的支撐 體32係以一體構造體來構成。就其一例而言,例如第6圖 及第7圖中之構成係設計為將1片的由鋁構成的平面狀圓 板材的中央部予以切取成例如略圓狀並以傾斜略45度之 方式予以彎折,且以研磨等進行磨削使該所切取的中央部 的厚度L較中央部的周圍側的厚度η薄(亦即, T2=l. 414T,(或L/coK Θ )),之後,在該中央部施作鏡塗膜 或鏡面加工來形成反射部3ia而構成光源鏡31,並以光源 鏡31其他部分作為支撐體32。 如此’藉由將光源鏡31的板厚τ,及其周圍側的支撐體 32的板厚τ2之關係設定為1=1.4141(或L/cosW),而 #構成為令粒子線線幻巾的穿透光源鏡31之粒子線線束的 線束能量損失與穿透支撐體32的粒子線線束的線束能量 損失成為大致相同的值,粒子線線束i的能量分佈幾乎不 發生變化’因此能夠以約lmm以下的精度控制粒子線線束 1在患者體内的停止位置’而能_得穩定且可靠度高的 粒子線治療裝置。 在本發明的實施形態8中,為了盡量抑制因粒子線線 ^進行穿透所造成的線束能量損失’屬於光源鏡31及支 撐體27的基材之純厚度較理想為數公釐左右以下,例如 321000 1364304 了使用尽度為〇. 5mm或〇. 3mm者。此外,由於光源鏡μ只 要使來自光源14的光反射即可,因此能夠配置在粒子線線 束1的照射區域内。就結果而言,能夠縮小光源鏡31並且 能夠縮小在粒子線線束丨的照射軸方向佔有之長度亦即 亦能夠縮小高度。光源鏡31 #高度為數公分即可例如能 夠設定為3cm至4cm。如此,在光源鏡31的位置,於與粒 子線線束1的照射方向垂直之平面中,相較於粒子線線束 1的恥射區域,能夠將光源鏡31的照射方向的高度縮小, 此係具有能夠謀求粒子線治療裝置的照射部的小型化之效 果。 又,雖然上述說明係針對以鋁作為光源鏡31、支撐體 32的構成材料時的情形,但並非限定於此,亦可為鋁合金、 銅、銅箔、鎂、塑膠、兩烯酸樹脂、聚醯亞胺等,在°傾斜 略45度而形成之光源鏡31的至少一部分施作鏡塗膜或鏡 面加工等來开^成反射部31 a而構成光源鏡3】亦可達到相同 的效果。此外,雖然上述說明係針對光源鏡31的形狀為略 圓狀的情形,但並非限定為圓狀,亦可為四角狀與其他形 狀,總之,只要為能夠使來自光源14的光反射並通過可變 準^器12、並藉由通過可變準直器12的光將藉由可變^ 直器12而整形的照射領域形狀投影至攝影屏幕ΐ8之形狀 艮ρ可。 實施形態9 本發明的實施形態9的粒子線治療裝置之特徵在於將 上述之第6圖中的光源鏡31設計為凸面鏡。如此,藉由將 321000 22 1364304 光源鏡31设計為凸面鏡’能夠藉由凸面鏡之功能而更加擴 大使來自光源14的光反射的角度,而能夠更進一步縮小在 水平方向及粒子線線束1的照射軸方向佔有的長度。 熟習本項技術者當可在不脫離本發明之精神及範圍内 貫現本發明的各種變形或變更,因此應理解本說明書所記 載的各實施形態並未限定本發明。 (產業上的利用可能性) 本發明係適合於實現為了治療癌或惡性腫瘤等而以使 妷、質子等之粒子線與對患者的疾患部分的形狀一致之方 式▲行照射來進行治療的粒子線治療裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖係顯示本發明的實施形態1的粒子線治療裝置 之概略構成圖。 第2圖係顯示本發明的實施形態2的粒子線治療裝置 的重點部分之概略構成圖。
第3圖係顯示本發明的實施形態5的粒子線治療裝置 的重點部分之概略構成圖。 第4圖係顯示本發明的實施形態5的粒子線治療裝置 的光源鏡部之放大圖。' 的粒子線治療裝置 的粒子線治療裝置 第5圖係顯示本發明的實施形態6 的重點部分之概略構成圖。 - 第6圖係顯示本發明的實施形態8 的重點部分之概略構成圖。 第7圖係顯示本發明的實施形態8的粒子線治療裝置 321000 23 1364304 的光源鏡部之放大圖。 【主要元件符號說明】 1 粒子線線束 2、2a、 2b電磁鐵 3 散射體 4 線量監測器 5 脊形過濾器 6 幅度變換器 7 平坦度監測器 8 光定位器 9 治療床台 10 被照射體 11 固定準直器 12 可變準直器 12a 葉片 13 患者補償器 14 光源 14a 、 14b 、 14c 光 15、 24、26、29、31 光源鏡 16、 25、27、30、32 支撐體 17 支撐台 18 攝影屏幕 18a 投影部 19、22 攝影裝置 20、 23圖像處理裝置 21 攝影鏡 24a 、26a、29a、31a 反射部 L、T2 厚度 24 321000

Claims (1)

  1. 第098104024號專利f請案 101年3月6曰修正替換頁 七、申請專利範圍: 1. 一種粒子線治療裝置,係具備: 可變準直器,使照射至被照射體的粒子線線束的形 狀符合上述被照射體的疾患部分的形狀而進行變化; 光源,用於對藉由上述可變準直器而整形的照射領 域形狀進行攝影; 光源鏡,位於上述可變準直器的上游侧且配置在上 述粒子線線束的軌道上,使來自上述光源的光反射並通 過上述可變準直器; 攝影屏幕,配設在上述可變準直器的下游側,藉由 通過上述可變準直器的光而投影有藉由上述可變準直 器所整形過的照射領域形狀; 攝影裝置,對投影在上述攝影屏幕的投影部進行攝 影;及 圖像處理裝置,解析由上述攝影裝置所拍攝得的影 像。 2. 如申請專利範圍第1項之粒子線治療裝置,其中,以使 來自上述光源的光反射並通過上述可變準直器之方式 傾斜前述光源鏡,且設置有分別配置於上述光源鏡的一 方端及另一方端且與上述光源鏡一體成形之支撐體,並 構成為段差狀態。 3. 如申請專利範圍第2項之粒子線治療裝置,其中,上述 光源鏡係配置在上述粒子線線束的照射區域内。 如申請專利範圍第2項之粒子線治療裝置,其中,上述 25 321000(修正版) 4. 1364304 . ,_ 第0981040“號專利申請案 101年3月6曰修正替換頁 光源鏡的厚度係形成為比上述支撐體的厚度還薄,而使 穿透上述光源鏡與上述支撐體的上述粒子線線束的能 量損失量均勻化。 5. 如申請專利範圍第1項之粒子線治療裝置,其中,藉由 切取平面狀之支撐體之中央部並形成反射部而構成上 述光源鏡。 6. 如申請專利範圍第5項之粒子線治療裝置,其中,使切 取上述支撐體的中央部而構成的上述光源鏡的厚度形 成為比上述支撐體還薄,而使穿透上述光源鏡與上述支 · 撐體的上述粒子線線束的能量損失量均勻化。 7. 如申請專利範圍第2、5及6項中任一項之粒子線治療 裝置,其中,上述光源鏡係設為凸面鏡。 8. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之粒子線治療裝 置,其中,上述光源鏡係以鋁來構成。 9. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之粒子線治療裝 置,其中,上述光源鏡係對塑膠之表面進行鏡塗膜而構 | 成。 26 321000(修正版)
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