TWI360122B - - Google Patents

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1360122 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光記錄媒體，更詳言之，係關於可高速 記錄，且可得到良好記錄再生特性之光記錄媒體。 【先前技術】 近年來，例如CD-R，CD-RW，MO等各種光記錄媒 | 體，因可記億大容量資訊，又，例如已開發出如DVD-RAM等容易隨機存取之媒介，故使得其普遍被認爲爲電 腦等資訊處理裝置之外部記璋裝置。例如，具有含有機色 素記錄層代表性之CD-R等，係在透明光碟基板上依順序 具有色素記錄層與反射層，且具有覆蓋該等記錄層或反射 層之保護層的層合構造，以通過基板之雷射光進行記錄· 再生。又，爲使該等光記錄媒體記錄容量更爲大容量化， 目前開發出在1片之媒體設置複數記錄層之多層型光記錄 |媒體，例如已有提出於光碟之透明第1基板上，設有挾夾 由紫外線硬化性樹脂所成之中間層的2個色素記錄層之2 層型光記錄媒體之報告（參考專利文獻1)。 如前所述，2層型光記錄媒體，已知一般多以使用透 明灘鍍刻板之2P ( Photo Polymerization)法，與2片層 合有記錄層與反射層之光碟基板後成型，並介著光硬化樹 脂層貼附之方式等。例如，2P法中，爲於設置有第1記 錄層與第1之反射層之第1基板上，塗佈光硬化性樹脂原 料，再於此塗佈面上設置具有凹凸形狀之透明刻板後，使 -4- (2) 1360122 光硬化性樹脂原料硬化，其次將透明刻板剝離使光硬化性 樹脂表面轉印凹凸形狀，再於該凹凸表面上，依序形成第 2記錄層與第2反射層，最後再黏著於第2基板之方式製 造。2個記錄層，爲使用由第1基板側入射之記錄再生光 線以對光資訊進行記錄·再生。 將2片層合有記錄層與反射層之光碟基板黏著之方法 ，爲於形成有記錄軌道用導向溝槽之基板上，形成依記錄 | 層與反射層之順序層合（以下亦稱爲「順向層合物」）之 第1光碟基板，與相對於此之依反射層與記錄層之順序層 合基板上（以下亦稱爲「逆向層合物」）之第2光碟基板 ’並分別於光碟基板上塗佈光硬化性樹脂後，將於此塗佈 面之間的光硬化性樹脂硬化之方式予以製得。2個記錄層 中’爲使用由第1光碟基板側入射之記錄再生光線以對光 資訊進行記錄•再生。前述將2片光碟基板貼合之方法， 例碑可使用2P法，但無需進行轉印透明刻板之凹凸形狀 φ的步驟’故推測可達到具有優良生產性與低費用化之目標 〇 〔專利文獻1〕特開2000-311384號公報（參考（ ‘ 0008 )欄至（〇〇19 )欄） 【發明內容】 於具備有含有機色素之記錄層的光記錄媒體中，於高 速記錄用途中常會產生需抑制訊號千擾等問題。 即’含有機色素之記錄層’一般因吸收收集記錄用雷 -5- (3) (3)1360122 射光線而使色素產生分解，使該部分之膜厚度減低的同時 會造成壓力增加，而會使曝曬於高溫下之記錄層周邊產生 變形而形成記錄部。此時，變形之記錄部會擴大至相鄰接 之軌道部，使得多次記錄軌道後訊號干擾會有增加之傾向 ，而會有不能得到良好抖動（jitter)之現象產生。 其中，於多數軌道中記錄資訊，於再生相鄰接之兩側 軌道所記錄之訊號時所產生之抖動則稱爲MT ( % )。又 ，相鄰接之軌道於未記錄狀態下僅對記錄1個軌道之部分 進行再生所得之抖動則稱爲ST(%)。相對於MT(%) 之含有訊號千擾之.影響，ST ( % )則不包含訊號干擾之影 響。 又，於高速記錄情形中，因記錄脈衝形成短小化，故 於低速記錄情形時，需使高能量記錄用雷射光所使用之色 素分解β其結果，記錄層於低速記錄時會使高溫更爲提高 ，因而將更容易造成增大訊號干擾之情形。 前述訊號干擾之產生，特別是於以將2片光碟基板以 黏著之方法所形成之2層型光記錄媒體中，於記錄再生光 之入射面至裏側第2層之記錄層時更爲顯著。如前所述般 ，將2片光碟基板以黏著之方法所形成之2層型光記錄媒 體中之第2層的記錄層，爲設置於基板上層合有反射層與 記錄層之逆向層合物的光碟基板上。前述逆向層合物中， 於基板之溝間部欲記錄光資訊時，爲確保記錄變調部，需 增厚溝間部之記錄層的膜厚度。此時，因記錄部之鄰接軌 道爲基板之溝部，故相較於溝間部，記錄層膜厚將更容易 -6- (4) (4)1360122 增加厚度。因此，溝部之記錄層膜厚度增厚部分，會使記 錄之訊號橫向擴張，而容易增加訊號干擾。前述溝部與溝 間部之記錄膜厚度之差，於塗佈有機色素溶液時將更容易 產生。 又，於2層型光記錄媒體中，記錄再生光之入射面至 設置於裏側之第2層基板，爲確保記錄再生光之反射率， 其導向溝之深度多設定較以往爲更淺。因此，會降低導向 溝之物理性阻隔效果，而於記錄時因基板之樹脂的流動變 形等而產生過度之變形，而更容易增大訊號干擾之情形。 本發明.，即爲解決前述問題所提出者。 即，本發明之目的爲提供一種於高速記錄用途上可得 到良好記錄再生特性之光記錄媒體。 爲解決前述問題，本發明提出一種將連接於逆向層合 物的透明樹脂層之彈性模數（E)與厚度（t)之積（Ext )調整至特定範圍之方法。 即，本發明提供一種具備有依序具有基板與，反射層 與記錄層之逆向層合物與，設置於逆向層合物之記錄側的 透明樹脂層，且透明樹脂層之厚度（t)與25±5t下之彈 性模數（E)之積（Ext)爲2.0xl04MPa· //m以上之光 記錄媒體。 又，透明樹脂層之厚度（t)與2 5±5°C下之彈性模數 (E)之積（Ext)以 30.0X104MPa· //m 以下爲佳。 又，構成透明樹脂層之樹脂於25±5°C下之彈性模數 (E)以 3.0xl03MPa 以上，6.0xl03MPa 以下爲佳。 (5) 1360122 又，適用於本發明之光記錄媒體中，其構成逆向層合 物之記錄層，以含有有機色素爲佳。特別是如後述圖1所 示之2層型光記錄媒體中，可降低記錄於基板、反射層與 記錄層所形成之逆向層合物時之訊號干擾，而改善MT( % )。又，於基板與反射層之間，或反射層與記錄層之間 ，'可再適當的設置其他層。

又，適用於本發明之光記錄媒體中，於構成逆向層合 物之記錄層相鄰接的透明樹脂層之間，可再設置中間層。 設置中間層時，可防止透明樹脂層所滲出之成份污染或溶 解連.接於透明樹脂層之記錄層。 又，適用於本發明之光記錄媒體中，與逆向層合物相 鄰接之透明樹脂層之逆向層合物層側之相反側上，可依序 設置第2反射層與第2記錄層與透明基板，而展開形成多 層型光記錄媒體。 又，本發明可形成具有經由光照射以對光資訊進行記 錄·再生之記錄層，與設置於記錄層之光射入面側之透明 樹脂層，與設置記錄層之光射入面之相反側之反射層，且 透明樹脂層之厚度（t)與25 ±5 °C下之彈性模數（E )之 積（Ext)爲2.0xl04MPa· μπι以上之光記錄媒體》 即，於光射入面之相反側具有反射層之記錄層的光射 入面側上，設置具有特定（Ext)數値之透明樹脂層的光 記錄媒體，可抑制會影響至鄰接之軌道部的過度變形狀態 ，進而降低高速記錄下之訊號干擾，而改善抖動狀態。前 述性能之改善，並不限於膜面入射型之光記錄媒體，於多 1360122

層型之光記錄媒體中，於設置在光射入面之裏側的記錄層 亦具有顯著效果。 其中’透明樹脂層以由玻璃轉移溫度爲1 50 °C以上之 透明樹脂層所構成者爲佳。使用前述透明樹脂作爲透明樹 脂層之結構時，可增大透明樹脂層之硬度，因而可改善抖 動狀態。 '又，本發明提供一種光記錄媒體，其爲依序具有基板 | 、反射層、記錄層與透明樹脂層之光記錄媒體，其特徵爲 反射層含有以銀（Ag)爲主成份之金屬，且膜厚度爲 30nm以上80nm以下。 即，本發明所適用之光記錄媒體，其爲依序具有基板 、反射層、記錄層與透明樹脂層之逆向層合物結構，且含 有膜厚度爲30nm以上8〇nm以下之主成份爲銀（Ag)之 金屬的反射層時，可使由記錄層側入射至反射層之一部分 光束穿透，如此，可使記錄層記錄資訊時之能量產生擴散 φ，例如於含有有機色素之記錄層上形成記錄標記之追記型 光記錄媒體時，可抑制鄰接之軌道受到訊號干擾之現象， 因而可改善抖動現象。 其中’反射層以含有5〇%以上Ag爲佳’又，以Ag 爲主成份.，且含有0.丨原子％至15原子％之由Ti、Bi ' Zn 、Cu、Pd與稀土族金屬中1種以上之元素爲佳。 依前述本發明之內容，可得到一種於高速記錄用途上 可得到良好記錄再生特性之光記錄媒體。 以下將對實施本發明之最佳形態（以下亦稱爲發明之 -9- (7) (7)

1360122 實施形態）進行說明。又，本發明中，並未限定於 實施形態，於本發明技術範圍內皆可作各種變化作 形態。 (第1實施形態） 圖1爲說明本發明所適用之光記錄媒體之第1 態（其例如，單側入射2層型DVD )之塗。圖1 明基板上層合反射層與光記錄層所得光碟基板（逆 物11)與，透明基板上依序層合記錄層與反射層 碟基板（正向層合物12)所形成之2層型光記錄媒 如圖1所示般，光記錄媒體100爲具有，逆向 11之由溝及岸台（Land)或預置坑洞（Pre-Pit) 之碟狀光透過性基板（1) 101，與設置於此基板（ 之雷射光1 1 〇的入射面側之反射層（1 ) 1 02，與含 之記錄層（1 ) 103，與中間層1〇4。又，正向層爸 爲具有由溝及岸台（Land)或預置坑洞（Pre-Pit) 之碟狀光透過性基板（2) 109，與設置於基板（： 之含有色素之記錄層（2) 108，與將由基板（2) 入射之雷射光110的能量分散之半透明反射層（2) 與設置於反射層（2) 107上之保護塗覆層106。其 向層合物11與正向層合物12係以中間層104與保 層106成對向方式，介由透明樹脂層105層合，而 層型光記錄媒體100。又，記錄層（1 ) 103與記鐘 以下之 爲實施 實施形 爲由透 向層合 所得光 體100 層合物 所形成 1)10 1 有色素 Γ物 12 所形成 2 ) 109 109側 107， 中，逆 護塗覆 構成2 I層（2 -10- (8) 1360122 )1 0 8，係經由正向層合物1 2之基板（2 ) 1 0 9側所入射 之雷射光110以進行光資訊之記錄再生。 (逆向層合物） 以下，將對構成光記錄媒體100之逆向層合物11之 各層進行說明。如圖1所示般，逆向層合物11係由基板 (1) 101，與層合於基板（1) 101上之反射層（1) 102 | ，與記錄層（1 ) 103，與中間層104 (以下簡稱L1層） 所構成。 (基板（1 )) 構成基板（1) 101之材料以具有光透過性，低雙折 射率等優良光學特性爲佳。又，以具有容易射出成形等優 良成形性爲佳。此外，又以吸濕性較小爲佳。又，光記錄 媒體100以具有某種程度之剛性，而可具有形狀安定性爲 Φ佳。前述材料並未有特別限定，例如可爲丙烯酸系樹脂、 甲基丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚烯烴系樹脂（特別 是非晶質聚烯烴）、聚酯系樹脂、聚苯乙烯樹脂、環氧樹 月旨、玻璃等。又，亦可使用於玻璃等之基體上，設置由光 硬化性樹脂等放射線硬化樹脂所形成之樹脂層之基體等》 其中，就光學特性、成形性等之高生產性、費用、低吸濕 性、形狀安定性等觀點而言，以聚碳酸酯爲較佳。又，就 耐薬性、低吸濕性等觀點，以非晶質聚烯烴爲佳。又，就 高速回應性等觀點而言，以玻璃基板爲佳。 -11 - (9) (9)1360122 又、基板（1) 101並非一定必須具有光透過性，就 提高機械安定性，增大剛性等觀點時，可將適當的材料舖 設於裏層。前述材料，例如以A1爲主成份之A1-Mg合金 等A1合金基板；以Mg爲主成份之Mg.Zn合金等Mg合 金基板；矽、鈦、陶瓷、紙等之基板或其組合等。 逆向層合物11所構成之基板（1) 101之導向溝部之 溝深度’以記錄再生波長爲λ時，通常爲λ/100以上，較 佳爲2Α/100以上，更佳爲3又/100以上，但又以；1/6以 下爲佳。例如’記錄再生光之波長（記錄再生波長）爲入 = 660nm時，基板（1) 101之溝深度，通常爲6.6nm以 上，較佳爲13nm以上，更佳爲20nm以上。 又’基板（1) 101之溝深度上限，於此例示爲 1 1 Onm以下爲佳。特別是本實施形態所適用之光記錄媒體 100時，通過基板（2) 109與透明樹脂層105而入射至記 錄層（1) 103之雷射光110之光量及反射光量，經通過 記錄層（2) 108及反射層（2) 107而衰減，使反射率降 低，因而以7又/1 00以下爲佳之條件作爲溝深度之上限。 例如，記錄再生波長爲；I = 660nm時，基板（1 ) 1〇1之 溝深度以46.2nm以下爲佳，更佳爲6λ/100以下。 逆向層合物11中基板（1) 101之溝寬爲，以軌道間 距爲Τ時μ通常爲Τ/10以上，較佳爲2Τ/10以上，更佳 爲3Τ/10以上。又，通常爲8Τ/10以下，較佳爲7Τ/10以 下’更佳爲67710以下。基板（1) 101之溝寬於此範圍 時，可得到良好之軌道性，而可得到充分之反射率。例如 -12- (10) 1360122 ，軌道間距爲74〇nm時，基板（〇 ι〇1之溝寬通常爲 74nm以上’較佳爲148nm以上，更佳爲222nm以上。又 ’其上限，於此例示中，通常爲5 92nm以下，較佳爲 5 1 8nm以下，更佳爲444nm以下。基板（1 ) ! 〇丨以具有 某種程度之厚度爲佳’基板（1) 101之厚度.，通常爲 0.3mm以上爲佳。且爲3mm以下，又以1 5mm以下爲更 佳。 (反射層（1 )) 構成逆向層合物11之反射層（1) 1〇2之材料，並未 有特別限定’例如可將Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、

Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、

Fe、Co、Rh ' Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、

Po、Sn、Bi、稀土類金屬等金屬及半金屬單獨或以合金形 式使用。其中又以A u、A1、A g爲佳，特別是含有5 0 %以 •上Ag之金屬材料，就費用便宜、反射率高等觀點而言爲 較佳。 又’以Ag爲主成份，再含有〇_ι原子％至15原子％ 之由Ti、Zn、Cu、Pd、Au及稀土類金屬所成群所選出之 至少1種元素者爲佳。含有Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Au及 稀土類金屬中2種以上元素時，其各自之含量可爲o.i〜 1 5原子％亦可，又以其合計含量爲〇 _丨原子％〜1 5原子％ 者爲更佳。 更佳之合金組合爲，以Ag爲主成份，再含有0.1原 -13- (11) 1360122 子％至15原子％之由丁丨、81、211、（^11、？(1、八11所成群中 所選出之至少1種元素。必要時，可再含有再含有0.1原 子％至1 5原子％之至少1種稀土類元素。稀土類金屬之中 ，以钕爲最佳。具體而言，例如 AgPdCu、AgCuAu、 AgCuAuNd、AgCuNd、AgBi > AgBiNd 等。又，本實施形 態中所使用之合金組成比例爲上述範圍者。 又’ 「以Ag爲主成份」，係指合金組成中之Ag含 | 量’通常爲50%以上’較佳爲70%以上，更佳爲80%以上 之意β又，亦可使用純Ag。 反射層（1 ) 1 02以僅由Au所形成之層具有較小結晶 粒’且具有優良耐腐蝕性而爲較佳。又，反射層（1) 102 也可使用由Si所形成之層。又，也可使用由金屬以外之 材料，而以低折射率薄膜與高折射率薄膜交互層合之方式 多層膜，再將其作爲反射層使用亦可。 形成反射層（1) 102之方法，例如可使用濺鍍法、 •離子蒸鍍法、化學蒸着法、真空蒸鍍法等。 逆向層合物11中之反射層（1)102，極期待其具有 高反射率、且具有高耐久性。爲確保高反射率時，反射層 (1) 102之厚度’通常爲30nm以上，較佳爲40nm以上 ’更佳爲50nm以上。但’就生產上降低單位工作時間， 減低費用等觀點，通常爲400nm以下，較佳爲300nm以 下。 其中’本實施形態所適用之光記錄媒體1〇〇中，逆向 層合物11之反射層（1) 102爲含有以銀爲主成份之金屬 -14- (12) (12)1360122 時，反射層（1) 102之膜厚度以30nm至80nm之範圍爲 更佳。特別是以銀爲主成份時之反射層（1) 102的膜厚 度爲30nm至8 0nm之範圍時，可使反射層（1) 102之反 射率降低與透過率之上昇達到平衡，而可使能量擴散，因 而具有可改善訊號干擾之傾向。 逆向層合物11中，反射層（1) 102爲含有以銀爲主 成份之金屬，且膜厚度爲上述特定範圍時，可改善訊號干 擾傾向之理由，應爲以下所述內容。即，反射層（1) 1 〇2 之膜厚度越薄時，反射層（1) 102之反射率（R)會降低 ，又，反射層（1) 102之透過率（T)會上昇。圖5爲說 明反射層之膜厚度與透過率（T)，反射層之膜厚度與反 射率（R)關係之圖。圖5(a)爲反射層之膜厚度與透過 率（T)之關係，圖5(b)爲反射層之膜厚度與反射率（ R)之關係圖。如圖5(a)所示般，反射層之膜厚度較 80nm左右爲薄時，會使透過率（T)上昇，膜厚度較 3 Onm爲薄時，透過率（T)會超過5 %。又’如圖5(b) 所示般，反射層之膜厚度較8 Onra左右爲薄時’會使反射 率（R)降低，膜厚度較3 Onm爲薄時’反射率（R)會低 於85 %。又，於圖5.中，反射率（R)與透過率（T) ’ 爲於使用波長65 Onm之光，對單層之銀反射層（其中， 折射率η = 0·05、衰退常數k=4.25)進行計算所得者。 如前所述般，隨著反射層（1) 1〇2透過率（τ)之上 昇將會產生能量擴散。如此，應可降低記錄層（1) 103 於記錄時之記錄標記内或記錄標記間之熱干擾’其結果可 -15- (13) 1360122 使記錄層（1 ) 1 03因過度蓄熱或變化得到抑制，進而降 低訊號干擾現象。 又，反射層（1) 102之膜厚度遠較以往之膜厚度爲 薄，因而反射層（1) 102具有可更嚴密的以基板之溝槽 形狀進行包覆（塗敷）之傾向。因此，即使軌道間距狭窄 時，也能明確的區隔出溝部與溝間部，而可降低訊號干擾 現象。 但是若因反射層（1) 102之膜厚度過度薄化時，將 會造成反射率（R)急遽降低而爲不佳。因此’記錄層（1 )103之膜厚度以3 0nm以上爲佳，又以40nm以上爲更 佳。又，通常含有以銀爲主成份之金屬的反射層之膜厚度 爲100nm以上，此時，因透過率（T)過低，故能量幾乎 不能產生擴散。因此，記錄層（1) 之膜厚度以8 Onm 以下爲較佳。 又，反射層（1 ) 102通常若形成較l〇〇nm爲薄之厚 φ度時，除可縮短濺鍍時間以外，於濺鍍之際’亦可減緩基 板（.1) 101溫度之上昇。因此可使濺鍍之原子凝集（ migration)緩和化，故粒径較小，且可形成優良且表面粗 度較小之反射層（1 ) 1 02，使得費用之使用效率上亦得到 改善。 (記錄層（1)) 逆向層合物11中之記錄層（1)103，通常含有例如 與CD-R、DVD-R、DVD+R等單面型記錄媒體所使用之 -16 - (14) 1360122 記錄層爲相同程度感度之色素。前述色素，以具有350nm 〜900nm左右之可見光〜近紅外線區域最大吸收波長λ max，且適合記錄藍色至近微波雷射之色素化合物爲佳。 其中又以通常可用於CD-R之波長770nm〜83 0nm左右之 近紅外線區域雷射（例如 780nm，83 0nm )、可用於 DVD-R之波長 620nm〜690nm左右之紅色雷射（例如 63 5nm、660nm、6 8 Onm )、波長 410nm 或 515nm 等一般

所稱藍色雷射等適合記錄之色素爲佳。又，亦可使用相變 化型材料。 記錄層（1 ) 1 03所使用之色素，並未有特別限定， 通常可使用有機色素材料。有機色素材料例如大環狀偶氮 環烯（annulene )系色素（酞菁色素、萘菁色素、波菲啉 (porphyrin)色素等）、pyrromethene系色素、聚甲川（ polymethine)系色素（花青（cyanine)色素、半花青（ merocyanine )色素、四方酸系色素等）、惠醒系色素、 甘菊環（azulene )系色素、含金屬偶氮系色素、含金屬 吲哚苯胺系色素等。其中又以含金屬偶氮系色素，具有優 良記錄感度，且具有優良耐久性、耐光性等而爲較佳。前 述色素可將1種或2種以上混合使用。 又、記錄層（1) 103中，爲提高記錄層之安定性或 耐光性時，可使用一重項氧抑制劑之過渡金屬鉗合化合物 (例如乙醯乙酸酯鉗合物、聯苯基二硫醇、水楊酸醛肟、 聯二硫- 二酮等）等，或使用爲提高記錄感度所使用之 金屬系化合物等記錄感度提昇劑亦可。其中所稱金屬系化 -17- (15) 1360122 合物’爲包含過渡金屬等之金屬的原子、離子、或其組合 等形式（cluster)之化合物等，例如乙烯二胺系錯合物、 偶氮甲川系錯合物、苯基羥基胺系錯合物、菲繞啉系錯合 物、二羥基偶氮苯系錯合物、二肟系錯合物、硝基胺基酚 系錯合物、吡啶基三阱系錯合物、乙醯乙酸酯系錯合物、 金屬雙五圜系錯合物、波菲啉系錯合物等有機金屬化合物 °金屬原子並未有特別限定，通常以過渡金屬爲佳。 • 更、記錄層（1 ) 1 0 3中’必要時，可再倂用膠黏劑 、平滑劑、消泡劑等。較佳之膠黏劑例如聚乙烯基醇、聚 乙烯醇吡咯烷酮、硝基纖維素、乙酸纖維素、酮系系樹脂 、丙烯酸系系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、胺基甲酸乙酯系樹 月旨、聚乙烯醇縮丁醛、聚碳酸酯 '聚烯烴等。 記錄層（1) 103之成膜方法並未有特別限定，通常 例如可使用真空蒸鍍法、濺鍍法、刮刀（doctor blade ) 法、鑄模法、旋轉塗佈法、浸漬法等一般常用之薄膜形成 φ法等’就量產性、費用面等觀點而言，以使用旋轉塗佈法 等濕式製膜法爲佳。又，就製得均勻記錄層之觀點而言， 以使用真空蒸鍍法爲佳。 使用旋轉塗佈法成膜時，其迴轉數以lOrpm〜 1 5 000rpm爲佳。於旋轉塗佈法之後，再進行一般之加熱 處理以去除溶劑。於刮刀法、鑄模法、旋轉塗佈法、浸漬 法等塗佈方法以形成記錄層所使用之塗佈溶劑，只要爲不 會浸入基板之溶劑即可，而未有特別限定。例如可使用二 丙酮醇、3-羥基-3-甲基-2-丁酮等酮醇系溶劑；甲基溶纖 -18- (16) (16)1360122 劑（cellosolve )、乙基溶纖劑等溶纖劑系溶劑；η-己烷 、η-辛烷等鏈狀烴系溶劑；環己烷、甲基環己烷、乙基環 己院、二甲基環己院、η -丁基環己垸、tert -丁基環己院、 環辛烷等環狀烴系溶劑；四氟丙醇、九氟戊醇、六氟丁醇 等全氟烷醇系溶劑；乳酸甲酯、乳酸乙酯、2-羥基異丁酸 甲酯等羥基羧酸酯系溶劑等。 爲去除前述溶劑所進行之加熱處理，就溶劑之去除， 與可以簡便設備進行去除之觀點而言，通常以較所使用溶 劑之沸點爲略低脂溫度下進行，通常爲60 °C〜100 °C之範 圍內進行。又，加熱處理之方法並未有特別限定，例如可 於基板（1) 101上塗佈爲形成記錄層（1) 103所使用之 含有色素之溶液經成膜後，始其保持於一定溫度、一定時 間（通常爲5分鐘以上、較佳爲10分鐘以上，但通常爲 30分鐘以内，較佳爲20分鐘以内）下之方法等。又，也 可使用紅外線、遠紅外線進行短時間（例如5秒〜5分鐘 )照射，以加熱基板（1) 101之方法等。 真空蒸鍍法時，例如，將有機色素與，必要時添加之 各種添加劑等之記錄層成份，置入放置於真空容器内之坩 鍋中，隨後將真空容器内以適當的真空幫浦排氣至10_2〜 l(T5Pa左右後’將坩鍋加熱使記錄層成份蒸發後，使其蒸 鏟於放置於坩鍋上之基板之方式進行。 逆向層合物11之記錄層（1) 103之厚度，通常爲 5 0nm以上，較佳爲6〇nm以上，但，通常爲150nm以下 ’較佳爲lOGnm以下。記錄層（i) 1〇3之厚度於此範圍 -19- (17) 1360122 時’可確保記錄訊號振幅寬度以外，亦可抑制感度之降低 。又’記錄層（1) 103之厚度過大時也會產生感度降降 低之情形。 (中間層） 中間層104，必要時可設置於逆向層合物11上。一 般而言，中間層104爲防止由透明樹脂層1〇5所滲出之成 | 份污染或溶解記錄層（1) 103，而設置於記錄層（1) 103 與透明樹脂層105之間。中間層104之厚度通常爲lnm以 上’較佳爲2nm以上。中間層104之厚度於此範圍時， 即可有效的抑制由透明樹脂層1 0 5所滲出之成份。但，中 間層104之厚度以200〇nm以下爲佳，較佳爲500nm以下 。中間層104之厚度於此範圍時，可防止光透過率之降低 。又，中間層104爲由無機物所產生之層時，成膜會有需 要較長時間之情形，爲抑制生產性之降低，提高膜應力以 φ使其爲良好範圍時，以200nm以下爲佳。特別是中間層 104使用金屬時。爲防止光透過率過度降低，中間層104 之厚度以20nm以下爲佳。 構成中間層1 04之材料，例如可爲金屬薄膜、酸化矽 、氮化砂、MgF2、Sn〇2、ZnS-Sn02等介電體。 又，基板（1) 1〇1與記錄層（1) 103之間、基板（2 )109與記錄層（2 ) 108之間、記錄層（2 ) 108與反射 層（2 ) 1 07之間等，可分別設置與中間層104爲相同材 料所形成之層》 -20- (18) 1360122 (透明樹脂層） 其次，將說明設置於鄰接逆向層合物11之雷射光 1 1 0入射面側之透明樹脂層1 05。 本實施形態所用之2層型光記錄媒體1 00之透明樹脂 層105，爲由可使基板（2 ) 109側入射之雷射光1 10到達 記錄層（1 ) 1 03程度之光透過性材料所構成。特別是與 _ 逆向層合物11之關係中，透明樹脂層105之彈性模數（E )(單位：Mpa)與透明樹脂層105之厚度（t )(單位： //m)之積（Ext.)(單位：MPa· μπ〇經具有特定數値 以上之大小時，於逆向層合物11之記錄層（1) 103之光 資訊記錄上，可抑制會影響至鄰接之軌道部的過度變形。 其結果可降低光記錄媒體100於L1層之高速記錄上的訊 號干擾現象，進而改善抖動情形。其中，透明樹脂層1〇5 之「透明」係指不具有可使入射於光記錄媒體1〇〇之雷射 φ光110產生散亂的構造之意。其中，「散亂J則爲對光記 錄媒體100之記錄再生特性上產生極大影響程度之散亂之 意。 本實施形態所適用之2層型光記錄媒體100中，透明 樹脂層105之彈性模數（Ε)(單位：Mpa，溫度25±5ec 下之測定値。）與透明樹脂層1 〇5之厚度（t)(單位：# m )之積（Ext)(單位：MPa_ ym)爲 2.0xl04MPa· 以上、較佳爲 2.5xl04MPa· 以上、更佳爲 4.0x 104MPa· /zm 以上、最佳 5.0xl04MPa· 以上、特佳 -21 - (19) (19)1360122 爲 7.0xl04MPa · # m 以上、更特佳爲 9.0x 104MPa · // m 以上，特特佳爲l〇.〇xl〇4MPa. 以上。（Ext)爲2.0 xl04MPa.以m以上時，可確保透明樹脂層105之機械強 度（剛直性），於L1層（圖1 )之記錄層（1 ) 103之光 資訊記錄上，可抑制會影響至鄰接之軌道部的過度變形。 又，透明樹脂層1〇5之彈性模數（E)(單位：Mpa )與透明樹脂層105厚度（t)(單位：以m)之積（Ext) (單位：MPa· //m)之上限，通常爲 30.0xl04MPa· 以下、較佳爲21.0xl04MPa. 以下、更佳爲I7.5x 104MPa. /zm 以下、最佳爲 13.5xl04MPa· //m 以下。（ Ext)之上限爲30.0xl04MPa. 以下時，對2層型光記 錄媒體100之L1層（圖1)而言，可得到良好之對焦， 而可對記錄層（1) 103進行適當的記錄再生。又，例如 爲膜面入射型光記錄媒體時，可降低與相對物透鏡之焦點 距離，而可進行良好之高密度記録。 構成透明樹脂層105之樹脂，其彈性模數（E)通常 爲 1.0xl03MPa以上、較佳爲2.0xl〇3MPa以上、更佳爲 3.0xl03MPa以上、最佳爲4.0xl03MPa以上《使用彈性模 數（E)爲1.0xl03MPa以上之樹脂以構成（Ext)爲2·0χ 104MPa. 以上之透明樹脂層105時，於L1層（圖1 )之記録•再生上，可使所謂之封閉效果更爲提昇。其中 彈性模數（E)之上限通常爲6.0xl03MPa以下。使用彈性 模數（E)爲6.0xl03MPa以下之樹脂時，例如可使用塗佈 等溶液法對透明樹脂層105進行製膜，而極適合工業上使 -22- (20) 1360122 用。 其次，將對透明樹脂層105之厚度（t 圖3爲說明透明樹脂層之厚度（t)之圖。f 明樹脂層爲由單一樹脂所構成之情形，圖 數樹脂層所構成之透明樹脂層之情形。即 105之厚度（t )將對透明樹脂層105爲由單 之情形（樣式a )，與透明樹脂層105爲由 構成之透明樹脂層之情形（樣式b)作下述; (樣式a ) 如圖3(a)所示般，連接於逆向層合 層爲由單一樹脂所構成之情形中，透明樹脂 h)之2分之一（h/2)爲以連接於逆向層合 厚度作爲透明樹脂層之厚度（t)。 透明樹脂層1〇5爲由單一樹脂所構成時 合物11之L1層之訊號干擾產生較大影響之 爲透明樹脂層1〇5連接於逆向層合物11之 明樹脂層1 〇 5未與逆向層合物1 1鄰接側之苦 之記錄層（1) 1〇3記錄光資訊時，推測其 隣接軌道擴大之局部拘束力的動能。因此 105爲由單一樹脂所構成時，爲L1層與L0 )之間隔的2分之一 ’連接於逆向層合物] 厚度爲透明樹脂層105之厚度（〖）。 圖1所示2層型光記錄媒體1 〇〇之情形 )作一說明。 圔3 ( a)爲透 3 ( b )爲由多 ，透明樹脂層 一樹脂所構成 多數樹脂層所 之說明。 物之透明樹脂 層之膜厚度（ 物側部分之膜 ，會對逆向層 部分，推測應 部分。即，透 15分，於L1層 缺乏可抑制向 ，透明樹脂層 層（圖1参照 1 1側部分之膜 中，透明樹脂 -23- (21) 1360122

層105膜厚度（h)通常爲200#m以下，較佳爲l〇〇/im 以下，更佳爲80/z m以下。特別是於DVD2層光碟規格 中，L1層與L0層之間隔爲40/zm〜70/zm爲佳，此時， 透明樹脂層1 05之膜厚度（h )以70 // m以下爲佳。例如 於（樣式a)之情形下之透明樹脂層105的厚度（t)，通 常爲20//m以上。又，若透明樹脂層105之膜厚度（h) 爲5vm以下之情形中，透明樹脂層105之厚度（t)爲5 //m。又，透明樹脂層105之膜厚度（h)爲35#m以上 時，透明樹脂層105之厚度（t)爲35//m。 (樣式a)之情形中，透明樹脂層105之厚度（t)於 此範圍時，2層型之光記錄媒體100之L1層可得到焦距 ，使L0層與L1層可經由光學性區分而可得到良好之再 生，且，記錄層（1) 103亦可適當的記錄再生。又，例 如後所述，如圖2所示般，爲膜面入射型之光記錄媒體之 情形時，可減少相對物透鏡之焦點距離，而可進行良好之 高密度記錄。特別是2層型光記錄媒體100中，（樣式a )情形之透明樹脂層105之厚度（t) 20/z m〜28 /z m爲最 佳。（樣式a)情形之透明樹脂層105之厚度（t)於此範 圍時，透明樹脂層105之彈性模數（E)與透明樹脂層 105 之厚度（t)之積（EM)爲 2_〇xl04(MPa· /zm)以 上時，可使L 1層得到安定之記錄狀態。 (樣式b ) 其次，如圖3(b)所示般，透明樹脂層爲由多數之 -24- (22) 1360122 樹脂層（透明樹脂層（1 )、透明樹脂層（2 ) . ··透明 樹脂層（η))所構成之情形中，前述多數之樹脂層中， 連接於逆向層合物之樹脂層的膜厚度爲透明樹脂層之厚度 (t)。但，連接於逆向層合物之透明樹脂層（1)之膜厚 度爲35gm以上之情形時，透明樹脂層之厚度（t)爲35 μ m。 製造2層型光記錄媒體1〇〇之方法，例如，於具有 L1層之逆向層合物11上，塗佈光透過性樹脂A，另一方 B 面，於具有L0層之正向層合物12上塗佈樹脂B，使樹脂 A與樹脂B接触而硬化而製得2層光碟之方法等。此情形 中，如前所述般，透明樹脂層105未與逆向層合物π鄰 接側之樹脂層（由樹脂B所構成之樹脂層），於L1層之 記錄層（1 ) 1 03記錄光資訊時，推測其缺乏可抑制向隣 接軌道擴大之局部拘束力的動能。因此，於具有L0層之 正向層合物12側之樹脂層，可使用連接於逆向層合物n |側之樹脂層爲相異之紫外線硬化樹脂、紫外線硬化黏著劑 等。又，透明樹脂層105爲緩和全體之応力時，可使用柔 軟之樹脂層與（Ext)爲特定數値以上之樹脂層進行層合 爲佳。 又，（樣式b)之情形中，2層型光記錄媒體10〇之 透明樹脂層105之全體膜厚度通常爲2 00 //m以下，較佳 爲100〆m以下’更佳爲8〇μ m以下。特別是於dVD2層 光碟規格中，L1層與L0層之間隔爲40/zm〜7〇ym。又 ’由多數之樹脂層所構成之透明樹脂層105中，連接於逆 -25- (23) (23)1360122 向層合物11之樹脂層（圖3(b)之透明樹脂層（1)) 之膜厚度爲35/zm以上之情形中，透明樹脂層1〇5之厚 度（t)爲35/zm。連接於逆向層合物11之樹脂層（圖3 (b)之透明樹脂層（1))之膜厚度通常爲3/zm以上爲 佳，較佳爲4//m以上，更佳爲l〇//m以上’特佳爲15 Mm以上。透明樹脂層105之厚度（t)過度小時’將會 有未能充分發揮降低訊號干擾効果之疑慮。 又，由多數之樹脂層所構成之透明樹脂層105中’連 接於逆向層合物11之樹脂層（圖3(b)之透明樹脂層（ 1))之膜厚度爲5"m以下之情形時，厚度（t)爲5/zm 之數値係依以下方法計算（Ext )而得。即，透明樹脂層 105之彈性模數（E )與透明樹脂層105之厚度（t)之積 (Ext)爲使用相當於厚度（t) 5#m之樹脂層的複合體 之透明樹脂層（1 )，與透明樹脂層（2 )計算而得。即’ 例如，將連接於逆向層合層11之樹脂層（圖3(b)之透 明樹脂層（1 ))之彈性模數作爲E1，膜厚度爲1 μ m，連 接於逆向層合物11所連接之樹脂層（圖3(b)之透明樹 脂層（1))之樹脂層（圖3(b)之透明樹脂層（2)) 之彈性模數作爲E2時，（Ext)由Ε1χ1 + Ε2χ4之方式計算 。又，此例示爲透明樹脂層（1)與透明樹脂層（2)之合 計膜厚度爲5 // m以上之例。例如透明樹脂層（1 )、透 明樹脂層（2 )、透明樹脂層（3 )爲5 # m之形成亦可依 上述計算例爲基準依（EM)計算即可。 其次，將對構成透明樹脂層1〇5之材料的具體例作一 -26- (24) (24)1360122 説明。 構成透明樹脂層1 0 5之材料，例如熱塑性樹脂、熱硬 化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（含延 遲硬化型）等。構成透明樹脂層105之材料可由其中作適 當之選擇使用。熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂等，必要時可 以將其溶解於適當之溶劑之方式製得，再將其經塗佈、乾 燥（加熱）而形成。紫外線硬化性樹脂可無須處理下將其 溶解於適當溶劑中製得塗佈液後，再塗佈此塗佈液，經紫 外光照射使其硬化而形成。前述材料可單獨或混合後再使 用皆可。 塗佈方法例如可使用旋轉塗佈法或鑄模法等方法，其 中又以旋轉塗佈法爲佳。高黏度之樹脂可使用網板印刷等 方法進行塗佈。紫外線硬化性樹脂以使用於2 〇 °c〜4 〇 r 下爲液狀者爲佳。其爲無需使用溶劑下即可進行塗佈，而 可得到良好之生產性之故。又’塗佈液之黏度以製作至 20mPa· s〜1.0xl〇3mPa. s 之黏度爲佳。 構成透明樹脂層105之材料中，紫外線硬化性樹脂以 具有高度透明度，硬化時間較短等製造上之優點而爲較佳 。紫外線硬化性樹脂例如自由基系紫外線硬化性樹脂與陽 離子系紫外線硬化性樹脂等，無論任一種皆可使用。自由 基系紫外線硬化性樹脂爲使用含有紫外線硬化性化合物與 光聚合起始劑爲必要成份所得之組成物。紫外線硬化性化 合物例如可使用單官能（甲基）丙烯酸酯及多官能（甲基 )丙烯酸酯作爲聚合性單體成份使用。其可分別、單獨或 -27- (25) 1360122 將2種類以上合倂使用皆可。其中丙烯酸酯與甲基丙烯酸 酯合倂稱爲（甲基）丙烯酸酯。 單官能（甲基）丙烯酸酯例如具有置換基之甲基、乙 基、丙基、丁基、戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、十二 烷基、十六烷基、十八烷基、環己基、苄基、甲氧基乙基 、丁氧基乙基、苯氧基乙基、壬基苯氧基乙基、四氫呋喃 '縮水甘油基、2-羥基乙基、2-羥基丙基、3-氯-2-羥基丙 | 基、二甲基胺基乙基、二乙基胺基乙基、壬基苯氧基乙基 四氫呋喃基、己內酯改性四氫呋喃基、異菠烯基、二環戊 烷基、二環戊烯基、二環戊烯氧乙基等基之（甲基）丙烯 酸酯等。 多官能（甲基）丙烯酸酯之例，如1、3 -丁二醇、1 、4-丁烷二醇、1、5-戊二醇、3-甲基-1、5-戊二醇、1、 6-己烷二醇、新戊二醇、1' 8-辛烷二醇、1、9-壬烷二醇 、三環癸烷二甲醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二 •醇、三丙二醇、聚丙二醇等二（甲基）丙烯酸酯、三（2· 羥基乙基）異氰酸酯之二（甲基）丙烯酸酯等。 又’對新戊二醇1莫耳附加4莫耳以上之乙烯氧化物 或丙烯氧化物所得之二醇之二（甲基）丙烯酸酯、對雙酚 A 1莫耳附加2莫耳之乙烯氧化物或丙烯氧化物所得之二 醇之（甲基）丙烯酸酯、對三羥甲基丙烷1莫耳附加3莫 耳以上之乙烯氧化物或丙烯氧化物所得之三醇之二或三（ 甲基）丙烯酸酯、對雙酚A丨莫耳附加4莫耳之乙烯氧化 物或丙稀氧化物所得之二醇之（甲基）丙稀酸酯、三經甲 -28- (26) (26)1360122 基丙烷（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯 、二季戊四醇之聚（甲基）丙烯酸酯、乙烯氧化物改性磷 酸（甲基）丙烯酸酯、乙烯氧化物改性烷基化磷酸（甲基 )丙烯酸酯等。 又，前述聚合性單體可同時合倂使用者，例如聚合性 低聚物，例如聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯 酸酯、環氧基（甲基）丙烯酸酯、胺基甲酸乙酯（甲基） 丙烯酸酯等等。 又，自由基系紫外線硬化性樹脂，通常爲配合光聚合 起始劑使用。光聚合起始劑以分子開裂型或脫氫型者爲佳 。前述光聚合起始劑例如，分子開裂型例如苯偶因異丁醚 、2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基基噻噸酮、苄基、2,4,6-三甲基苯醯基二苯基膦氧化物、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉苯基）-丁烷-1-酮、雙（2,6-二甲氧基苯醯基）-2,4,4-三甲基苄基膦氧化物等。 又，其可倂用1-羥基環己基苯基酮、苯偶因乙基醚 、苄基二甲基縮醛、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基）-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮與，2-甲基-1-(4-甲基硫苯基）-2-嗎琳基丙烷-1-酮等。脫氫型光聚合 起始劑例如二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、間苯二苯酮、4· 苯醯基-4’-甲基-二苯基硫化物等。 又，前述光聚合起始劑可同時倂用増感劑。増感劑例 如，三甲基胺、甲基二甲醇胺、三乙醇胺、P·二乙基胺基 乙醢苯酮、p-二甲基胺基苯甲酸乙酯、p_二甲基胺基苯甲 -29- (27) (27)1360122 酸異戊酯、N，N-二甲基苄基胺與4,4’-雙（二乙基胺基） 二苯甲酮等。 陽離子系紫外線硬化性樹脂例如，含有陽離子聚合型 光起始劑之環氧樹脂等。環氧樹脂例如雙酚A·環氧氯丙 烷型、脂環式環氧、長鏈脂肪族型、溴化環氧樹脂、縮水 甘油酯型、縮水甘油醚型、雜環系等。環氧樹脂中，以使 用遊離之氯與氯離子之含量較低者爲佳。氯之含量以1重 量％以下爲佳，更佳爲0.5重量％以下。 陽離子聚合型光起始劑例如可爲鐵鹽、碘鎗鹽、二偶 氮鑰鹽等。碘鎗鹽例如二苯基碘鎗六氟次磺酸鹽、二苯基 硫六氟銻鹽、二苯基碘鎗四氟硼鹽、二苯基碘.鎗四（五氟 苯基）硼鹽、二（十二烷基苯基）碘鑰六氟磷酸鹽、二（ 十二烷基苯基）碘鎗六氟銻鹽、二（十二烷基苯基）碘鑰 四氟硼鹽、二（十二烷基苯基）碘鑰四（五氟苯基）硼鹽 等。 又如，4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基）苯基碘鑰六氟磷 酸鹽、4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基）苯基碘鎗六氟銻鹽、 4 -甲基苯基- 4-(1-甲基乙基）苯基碘鎗四氟硼鹽、4 -甲基 苯基-4-(1_甲基乙基）苯基碘鎗四（五氟苯基）硼鹽等 〇 相對於陽離子型紫外線硬化性樹脂100重量份，陽離 子聚合型光起始劑之比例通常爲0.1重量份〜20重量份， 較佳爲0.2重量份〜5重量份。又，爲使紫外線光源之波 長區城中之近紫外線區域或可見光區域之波長可更有効利 -30- (28) (28)1360122 用時，可倂用公知之光増感劑。此時所使用之光増感劑例 如可爲蒽、苯酮二哄、苄甲基縮醛、二苯甲酮、乙醯苯酮 等。 又，紫外線硬化性樹脂中，必要時可再配合改良各種 特性之目的而添加其他添加劑，例如熱聚合阻礙劑、阻胺 苯胺' 阻胺胺、亞磷酸酯等所代表之氧化防止劑、可塑劑 與環氧基矽烷、氫硫基矽烷、（甲基）丙烯酸矽烷等。前 述添加劑，可選擇使用對紫外線硬化性化合物具有優良溶 解性，且不會阻礙紫外線透過性之物質。 本實施形態所適用之光記錄媒體100中，使透明樹脂 層105之彈性模數（E)與厚度（t)之積（Ext)達到2.0 x】04MPa · /zm以上之具體步驟並未有特別限定，其可使 用將具有適當硬度之樹脂中調製至最適當之範圍之方法， 擴大膜厚度調整範圍之方法，例如可使用以下之方法。例 如，於上述紫外線硬化性樹脂中，增加分子内具有2個以 上甲基丙烯醯基、較佳爲具有3個以上之單體成份之組成 的方法；增加與直鏈高分子二醇混合之含有聚酯二醇等支 鏈之高分子二醇成份之組成的方法；將主鎖爲硬嵌段之低 聚物成份的支鏈低分子量化而增大分子內濺結之方法；添 加特定量之聚異氰酸酯、胺樹脂、環氧化合物、矽烷化合 物、金屬鉗合物卜化合物等交聯劑之方法等。經由前述處 理，可增大透明樹脂層1 〇 5本身之彈性模數，使構成透明 樹脂層I 〇 5之樹脂的玻璃轉移溫度（Tg )可達到超過例如 1 5 0 °C左右之高點。 (29) 1360122 又，紫外線硬化性樹脂中，又以具有低光散射 黏度’且可經由旋轉塗佈方式塗佈之陽離子型紫外 性樹脂爲佳。又，透明樹脂層105之厚度爲10// 時，因無需考慮因氧氣所造成之硬化阻礙，故就種 ，添加比、組成內容之自由度更大等因素，以使用 系紫外線硬化樹脂爲佳。 又’光記錄媒體（商品）等亦可依以下之方法 明樹脂層。 (1) 將光碟破壞、對取出之光碟截面以2次 微鏡（SEM)觀察，以觀察透明樹脂層之微細結構 )。若透明樹脂層中前記微細結構之差異性，可由 向之透明樹脂層間觀察得知時，則可知該透明樹脂 不同之樹脂層合所得者。 (2) 將透明樹脂層之截面以顯微FT-IR法測 透明樹脂層之紅外線吸收圖譜。將對照樣品之樹脂 方法比較其紅外線吸收圖譜結果，得知樹脂之組成 對照光譜有所關聯，而成某種特定程度之關係。即 方向之透明樹脂層間，若前述紅外線吸收圖譜具有 ’則得知其微不同樹脂層合所得者。前述組成內容 述對照樣品之組成內容相比較時，可達到某種程度 〇 (3) 將透明樹脂層使用熱分解GC-MS法分析 得知樹脂之組成內容。 (4 )將透明樹脂層剝離取出，使用動態黏彈 性與低 線硬化 m以上 類更多 自由基 檢測透 電子顯 (組織 厚度方 層爲由 定，得 依上述 與與該 ，厚度 差距時 ，與前 之特定 ，即可 性模數 -32- (30) (30)1360122 測定裝置直接測定其Tg、彈性模數。 (正向層合物） 其次，將對構成本實施形態所適用之光記錄媒體100 的正向層合物12作一說明。如圖1所示般，正向層合物 12爲由具有作爲記錄再生光之雷射光110的入射面之基 板（2) 109與，於基板（2) 109上方，依序層合記錄層 (2) 108、反射層（2) 107及保護包覆層106 (以下，亦 稱爲L0層）所構成。 正向層合物12之基板（2) 109爲使用與逆向層合物 11之基板（1) 101相同之材料所構成。但，基板（2) 109需具有光透過性之性質。基板（2) 109之溝寬度（半 値寬）爲，以軌道間距爲T時，通常爲2T/10以上，較佳 爲3 T/9以上。於此範圍時，則可充分確保反射率。例如 軌道間距爲740nm時，基板（2) 109之溝寬通常爲 148nm以上’較佳爲246nm以上。又，基板（2) 109之 溝寬通常爲7T/10以下，較佳爲6T/10以下。例如，軌道 間距爲740nm時，光透過性之基板（2) 1〇9之溝寬通常 爲518nm以下，較佳爲444nm以下時，則可使溝形狀呈 現良好之轉印性。 基板（2) 109之溝深度，於記錄再生光波長爲又時 ’通常於λ /10以上時，可充分確保反射率，而爲較佳。 更佳爲λ/8以上，最佳爲λ/6以上。例如，記錄再生光 之波長（記錄再生波長）爲λ=660ηιη之情形中，基板（ -33- (31) (31)1360122 2) 109之溝深度通常爲66nm以上，較佳爲83 nm以上， 更佳爲以上。但，基板（2) 109之溝深度的上限 通常S 2λ /5以下時，可使溝形狀呈現良好之轉印性而爲 較佳’更佳爲2 λ /7以下。例如，記錄再生波長爲660nm 之情形中，通常爲264nm以下，較佳爲1 89nm以下。 (記錄層（2 )) 正向層合物12之記錄層（2) 108中，爲含有與逆向 層合物Η之記錄層（1) 103爲相同之色素。正向層合物 12之記錄層（2) 1〇8之厚度，依記錄方法等之不同其膜 厚度異有所不同，而未有任何特別限定，爲製得充分之變 調度時’通常爲20nm以上，較佳爲30nm以上，更佳爲 4Onm以上。但’因必須具有可使光線透過之條件，故通 常爲20 0nm以下，較佳爲1 80nm以下，更佳爲1 50nm以 下。又’記錄層（2) 108之厚度係指厚膜部份之膜厚度 (基板（2) 109之溝部中記錄層（2) 108之厚度）。 (反射層（2)) 正向層合物12之反射層（2) 107爲使用與逆向層合 物11之反射層（1) 102爲相同之材料所構成β正向層合 物12之反射層（2) 107，對由基板（2) 109側所入射之 記錄再生光的雷射光110具有較小之吸收，其光透過率通 常爲4 0 %以上，且通常必需具有3 0 %以上之適度光反射率 。例如，可設置薄層之具有高反射率之金屬，以維持適當 -34- (32) (32)1360122 之透過率。又，其以具有某種程度之耐腐食性爲佳。又， 以具有可避免反射層（2) 107之上層（此處係指透明樹 脂層105)所滲出之其他成份影響位於反射層（2) 107下 層位置之記錄層（2) 108之阻隔性爲佳。 反射層（2) 107之厚度，爲確保光透過率可維持通 常40%以上時，通常爲50nm以下，較佳爲30nm以下， 更佳爲25nm以下。但，爲避免記錄層（2 ) 108受到反射 層（2) 107之上層所滲出之成份所影響，通常爲3 nrn以 上，較佳爲5nm以上。 (保護包覆層） 正向層合物12之保護包覆層106爲以防止反射層（2 )107之氧化，防塵或防傷害等目的，而設置於反射層（ 2) 107之透明樹脂層105側。保護包覆層106之材料， 只要可保護反射層（2) 107之物質則無特別限定。有機 物質之材料例如可使用熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子 線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等。又，無機物質例如 氧化矽、氮化矽、MgF2、Sn02等介電體。其中又以使用 紫外線硬化樹脂層層合所得者爲佳。又，保護包覆層106 並非一定要設置，其可於反射層（2) 107上直接形成透 明樹脂層105亦可。 (第2實施形態） 其次，圖2爲本實施形態所適用之光記錄媒體之第2 -35- (33) (33)1360122 實施形態之說明圖。圖2爲顯示使用由與基板側之相反側 所入射之記錄再生光對光資訊進行記錄再生之膜面入射型 光記錄媒體200。如圖2所示般，光記錄媒體200爲，基 板201與，設置於基板201上之反射層202與，層合於反 射層2 02上之記錄層203與，爲保護記錄層2 03所設置之 中間層204所形成之逆向層合物上，再於雷射光210之入 射面側層合透明樹脂層205所得者。光記錄媒體200，經 由照射由透明樹脂層205側對記録層203照射之雷射光 21 0，已進行資訊之記錄•再生。又，中間層204可依必 要性而設置，並非必要之條件。 構成逆向層合物之基板20 1，爲使用與第1實施形態 之光記錄媒體1〇〇中之逆層合物11的基板（1)101爲相 同之材料所形成者。又，同様的，構成反射層202、記錄 層203及中間層204之材料，亦各自使用與第1実施形態 之光記錄媒體1〇〇之逆向層合物11之反射層（1) 102、 記錄層（1) 103及中間層104中所說明之材料爲相同之 材料。又，各層之厚度等，亦與前述光記錄媒體100中所 説明之範圍爲相同之範圍。 更、透明樹脂層205，如前所述般，爲使用與前述光 記錄媒體100中之透明樹脂層105爲相同之材料所構成， 又，透明樹脂層205之彈性模數（E )及厚度（t )之積（ Ext)，可製作與第1實施形態之光記錄媒體1〇〇中之透 明樹脂層105爲相同之範圍。即，透明樹脂層205之厚度 (t)爲與第1實施形態之光記錄媒體100中之透明樹脂 -36- (34) (34)1360122 層105爲相同般，於透明樹脂層205爲由單一樹脂所構成 時，爲透明樹脂層205之膜厚度（h)之2分之l(h/2) ，連接於逆向層合物側之部分的膜厚度爲透明樹脂層之厚 度（t)。透明樹脂層20 5爲由多數之樹脂層所構成時， 前述多數之樹脂層中，連接於逆向層合物之樹脂層的膜厚 度爲透明樹脂層205之厚度（t)。但，連接於逆向層合 物之樹脂層的膜厚度爲35//m以上時，透明樹脂層205 之厚度（t )爲3 5 v m。 【實施方式】 〔實施例〕 以下、將以實施例爲基礎對本實施形態作更具體之説 明。又，本實施形態中，於未超過本發明之技術領域範圍 下，並不受以下實施例所限定》 (實施例1〜實施例7 ) 依以下方式，製作具有逆向層合物之2層型光記錄媒 體，並測定記錄於構成逆向層合物之記錄層（1 )之光資 訊的 Μ T ( % )及 S T ( % )。 (光記錄媒體之製作） (1)(逆向層合物之製作） 首先，使用表面形成溝型之Ni陰模，經由將聚碳酸 酯射出成型結果，得形成有間距0.74 μ m、寬3 3 0nm、深 -37- 1360122 30nm之溝的直徑120mm、厚度0.60mm之基板（1)。其 次’於基板（1)上’濺鍍80nm之Ag-Bi-Nd合金以形成 反射層（1)。其次，製作含有有機色素化合物爲由下述 化學式所示含金屬偶氮色素之色素A與色素B之混合物 (A:B=60:40重量％)之四氟丙醇溶液（濃度2重量％) ’並將其由反射層（1)上滴下，經旋轉塗覆後，於70°C 下乾燥30分鐘，而形成記錄層（1)。記錄層（1)之厚 度爲，溝部之膜厚度（圖1中逆向層合物之溝部的記錄層 膜厚度）與溝間部之膜厚度（圖1中之逆向層合物之溝間 鄣的記錄層膜厚度）皆爲約8 Onm。

隨後，於記錄層（1)上’濺鍍130nm之ZnS_Si〇2 ( 組成比爲80:20原子％)以形成中間層’而製得逆向層合 物之光碟1。 (2)(正向層合物之製作） 首先製作形成有深 l6〇nm、寬 3〇〇nm、軌道間距 -38 - (36) 1360122 740nm導向溝之聚碳酸酯製基板（2)，於此基板（2)之 形成有導向溝之面上，滴下含有前述含金屬偶氮色素之色 素A與色素B之混合物（A.B = 60:40重量％ )的四氟丙 醇溶液（濃度1重量％〜2重量％)，經旋轉塗佈後，於 7(TC下乾燥30分鐘，而形成記錄層（2)。記錄層（2) 之厚度（圖1:正向層合物之溝部的記錄層膜厚度）爲約 lOOnm。其次，於記錄層（2)上，濺鍍17nmAg-Bi合金 (Bi : 1 .0原子％ )以形成反射層（2 )，又，於反射層（ 2 )上旋轉塗佈紫外線硬化樹脂（S D 3 4 7 )使其硬化，形 成膜厚度3pm之保護包覆層，而製得正向層合物之光碟 2 ° (3)(2層型光記錄媒體之製作） 於依上述方法所製得之逆向層合物之光碟1之中間層 上’以膜厚度23//m之方式調整旋轉塗佈器以塗佈樹脂A φ (大日本油墨公司製自由基系紫外線硬化樹脂：彈性模數 (E) = 4.0xl〇3MPa，玻璃轉移溫度（Tg) = ]74t )。又 ’於正向層合物之光碟2之保護包覆層上，以膜厚度23 之方式調整旋轉塗佈器以塗佈樹脂！：（大日本油墨公 司製製自由基系紫外線硬化樹脂S D - 6 0 3 6 :彈性模數（E )=68 0MPa，玻璃轉移溫度（Tg ) = 5(TC )。其次，將 分別塗佈有樹脂之光碟1與光碟2，以塗佈樹脂面成對向 之方式重疊，其次，由光碟2(正向層合物）之基板（2 )側照射紫外線，使樹脂A及樹脂F硬化，而製得分別 -39- (38) (38)1360122 樹脂層的樣品2及樣品4之光記錄媒體中，爲透明樹脂層 全體之膜厚度的2分之1厚度（樣式a)。又，樣品 樣品7之光記錄媒體中，透明樹脂層全體之膜厚度爲46 μ m。 依則述方式製作之光記錄媒體（樣品1〜樣品7)中 ’於構成逆向層合物之記錄層（1)上，依下述高速記錄 條件下記錄光資訊’並使記錄之光資訊再生，測定其Μ T (% )及ST ( % )。其結果如表1所示。 又’光資訊之高速記錄條件係如下所示》 測試機：脈衝科技公司製DDU-1000 (波長662nm、 ΝΑ = 0.65 ) 記錄速度：DVD之4倍速（線速度15.3 m/s) 記錄脈衝形式：依DVD-R規格書Ver. 2.1記載之內 容爲準》

記錄能量：26mW〜27.5mW 記錄能量差距：3 m W以上 抖動測定：以1倍速再生。 (参考例1〜参考例3) 如下所示般，製作具有逆向層合物之2層型光記錄媒 體’並依實施例1相同方法般，測定光資訊之MT ( % ) 及 ST ( % )。 與實施例1所使用之樣品1相同般，於正向層合物之 光碟2的保護包覆層上，以膜厚度23//m之方式塗佈樹 -41 - (40) (40)1360122 以高速記錄條件下記錄光資訊，並使錄之光資訊再生，測 定其Μ T ( % )及S T ( % )。其結果如表】所示。 又，表1中—倂記載製作樣品1〜樣品1 〇之透明樹 脂層所使用之樹脂之彈性模數（Ε (單位：MPa ))、透 明樹脂層之厚度（t (單位：//m)) '玻璃轉移溫度（Tg (單位：°C ))。又，彈性模數（E )爲使用動態黏弾性 試験機（理奧公司製：DDV系列）’並於測定周波数 3.5 Ηz、昇溫速度3 °C /m i η之條件下測定。 又、透明樹脂層之厚度，爲使用掃描型電子顯微鏡觀 寒2次電子線觀察像（SEM像）’或使用透過電子顯微 鏡以截面向爲基礎測定者。厚度（t )爲取5點測定結果 之平均値。

-43- (41) 1360122 〔表1〕 \ 樣 品 樹 脂 E(Mpa) /(°c ) 厚度t (β m) Tg (°C ) E x t (Mpa· μ m) MT (%) ST (%) 1 1 A 4000/(25) (b)23 174 92000 6.6 5.8 2 2 B 3 000/(30) (a)24 18 1 72000 6.7 6.5 實 3 3 B 3000/(30) (b)23 18 1 69000 6.6 5.9 施 4 4 C 2200/(30) (a)23 147 50600 7.4 5.9 例 5 5 C 2200/(30) (b)15 147 33000 7.96 6.3 6 6 D 1 1 00/(3 0) (b)23 76 253 00 7.8 6 7 7 C 2200/(30) (b)10 147 22000 7.98 6.2 參 1 8 E 2300/(30) (b)8 149 1 8400 7.8 6.3 考 2 9 C 2200/(3 0) (b)5 147 11000 7.98 6.11 例 3 10 F 680/(3 0) (a)23 50 1 5640 8.5 6.4

又，表1中，製作透明樹脂層所使用之樹脂係如下所 示0 樹脂A:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬化樹 脂（彈性模數：l_4xl03MPa/ ( 150°C )) 樹脂B:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬化樹 脂（彈性模數：1·05χ103 MPa/ ( 150°C )) 樹脂C:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬化樹 脂 SD-347 (彈性模數：340MPa/ ( 150°C )) 樹脂D:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬化樹 脂 SD-394C 彈性模數：66MPa/(150°C)) -44- (42) 1360122 樹脂E:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬 脂 SD-318 (彈性模數：2 8 0MPa/ ( 150°C )) 樹脂F:大日本油墨公司製製自由基系紫外線硬 脂 SD-6036C 彈性模數：〇MPa/(150°C )) 特別是樹脂A及樹脂B中，可依前述方法，將 交聯密度之丙烯酸單體與具有使交聯結構形成剛直構 丙烯酸單體以組合之方式以控制特定彈性模數（E ) 璃轉移溫度（Tg)。 其次，將對表1所示結果作一説明。 圖4爲樣品1〜樣品1〇之（Ext)與MT ( %)之 圖。圖4中，基於表1所示結果，於樣品1〜樣品] ，相對於連接於逆向層合物之透明樹脂層的彈性模婁 )與，透明樹脂層之厚度（t)之積（Ext)(横軸） 逆層合物之記錄層（1)所記錄之光資訊再生訊號爲 之MT ( % )之數値形成線性關係。 如圖4所不般，（Ext)爲2.0xl04MPa. //m以 ’ MT(%)爲 8 以下，超過 4.0xl04MPa. //m 時爲 ，爲 6.0 X 104MPa . m時爲 7%左右，又，超過 104MPa. ym 時，MT(%)爲 6.5%左右，於 9·0χ10· • y m以上時，Μ Τ ( % )可得到安定之6.5 %左右之 値。又’於l〇.〇x】〇4MPa. 時，可使ΜΤ(%)保 小値之理想狀態。 又’於考量表1所示樹脂之玻璃轉移溫度時，連 逆向層合物之透明樹脂層的玻璃轉溫度以】50°C以上 化樹 化樹 提高 造之 、玻 關係 丨0中 k ( E ，以 基礎 上時 7.5% 6.9 X 4MPa 良好 持最 接於 爲佳 -45- (43) (43)1360122 。此點應爲玻璃轉移溫度越高之樹脂，越容易形成較硬之 透明樹脂層。 又，評估方法中較佳之條件爲，測試機以使用搭載具 有波長662nm之半導體雷射，對向物透鏡之開口數（NA )0.65之測試機，記錄以使用DVD之4倍數記錄（記錄 線速度：15.3m/s)，再生爲使用相同之測試機，並以 DVD之1倍速進行再生。又，記錄之最短標記長爲0.44 β m。 由圖4所示結果得知，連接於逆向層合物之透明樹脂 層的彈性模數（E)與厚度（t)之積（Ext)爲特定數値 以上時，於逆向層合物之記錄層（1)上以高速進行記錄 時，與相鄰軌道未記錄之單一軌道記錄情形的ST ( % )相 比較時，確認可迴避因未空置軌道下以連續軌道記錄情形 時Μ T ( % )之悪化等問題。 即，經由調整以連接於逆向層合物之透明樹脂層的彈 性模數（Ε)與厚度（t)之積（Ext)作爲指標之表體的 硬度、強度至待定範圍時，即可提供一種於逆向層合物之 構造中，可抑制影響至相鄰軌道部之過度變形，亦可降低 高速記錄下之訊號干擾’具有良好抖動性質之光記錄媒體 。可高密度記錄之例’例如記錄最短標記長0.44 // m以下 之記錄條件下，可確保良好之記錄特性之意。 通常之光碟製品，因多未於空置軌道之情形下進行記 錄，故Μ T ( % )爲反應該光碟訊號品質之値。Μ T ( % ) —般必須低於】〇%，又以8%以下爲佳，更佳爲7%以下。 -46 - (44) 1360122 超過10%時，會有增大失敗（error)之傾向。 如對樣品1〜樣品1 0評估結果般，其與民生機 不相同，於使用不含有搭載有讀取之半導體雷射之個 異變動要因的測試機進行記錄再生時，MT ( % )通 8%以下，較佳爲7.5%以下，更佳爲7%以下。MT ( % 過8%時，則會產生未能充分保證製造價値之情形。 同樣的，使用上述測試機進行記錄再生之情形的 (% )，通常必須爲7 %以下。超過此數値時，於連 錄下Μ T ( % )極容易超過8 %以上。 又，ΜΤ(°/。）之能量差（power margin)以越廣 越佳，例如可得到MT ( % ) 9%以下之能量差，以2. 以上爲佳，較佳爲3mW以上，更佳爲4mW以上。能 過小時，常會因溫度變化等所造成之雷射光源之光量 而使能量差變大，而會有未能得到良好之記錄特性之 。又，樣品1〜樣品1 〇之記錄能量差皆爲3mW以上 好値。 (實施例8) 如下述方式，製造具有逆向層合物之2層型光記 體，並測定構成逆向層合物之記錄層（1)所記錄之 訊的 MT ( %)及 ST ( % )。 首先，使用表面形成溝之Ni陰模’經由將聚碳 射出成型結果，得形成有間距〇.74em、寬3 3 0nm 30nm之溝的直徑120mm、厚度〇.60mm之基板（1) 器並 體差 常爲 )超 1 st 續記 範圍 5mW 量差 變動 疑慮 之良 錄媒 光資 酸酯 、深 。其 -47- (45) 1360122 次，於基板（1)上，濺鍍80nm之Ag-Bi(0_35原子％ )-Nd ( 0.2原子％ )合金以形成反射層（1 )。其次，製 作含有實施例1之偶氮色素與類似色素之混合物（重量添 加比50: 50)之四氟丙醇溶液（濃度2重量％ )，並將其 由反射層（1)上滴下，經旋轉塗覆後，於70°C下乾燥30 分鐘，而形成記錄層（1)。記錄層（〗）之厚度爲，溝部 之膜厚度（圖1中逆向層合物11之溝部的記錄層膜厚度 | )與溝間部之膜厚度（圖1中之逆向層合物11之溝間部 的記錄層膜厚度）皆爲約80nm。隨後，於記錄層（1 )上 形成由無機物所形成之中間層，而製得逆向層合物之光碟 1 ° 又，依實施例1相同方法製作正向層合物。 於依上述方法所製得之逆向層合物之光碟1之中間層 上，以膜厚度25/zm之方式調整旋轉塗佈器以塗佈樹脂B (大曰本油墨公司製自由基系紫外線硬化樹脂：彈性模數 • (E) = 3.0xl〇3MPa，玻璃轉移溫度（Tg) =18]°C)。又 ’於正向層合物之光碟2之膜面上，以與光碟1相同膜厚 度25 之方式調整旋轉塗佈器以塗佈樹脂]5。其次，將 分別塗佈有樹脂之光碟I與光碟2，以塗佈樹脂面成對向 之方式重疊’其次，由光碟2(正向層合物）之基板（2 )側照射紫外線’使樹脂B硬化，而製得形成有透明樹脂 層之2層型光記錄媒體。 對於依此方式製作之光記錄媒體中構成逆向層合物之 記錄層（1 ) ’依以下記錄條件記錄光資訊，並使記錄之 -48- (46) 1360122 光資訊再生，隨即測定ΜΤ(°/β)及§τ(%)。又， 訊之記錄條件係如下所示。 測試機· 2.4Χ倍記錄/脈衝科技公司製ddu-1000 長 662nm、ΝΑ = 0.65 ) 8X倍s己錄/脈衝科技公司製〇DU_1〇〇〇T5(j 65 8.5nm、NA=〇.65) 記錄速度：DVD之2·4倍速（線速度9 22m/s ; 亦記載爲2.4X。又，！倍速爲線速度3 84m/s)與8 (線速度30.72m/s;以下亦記載爲。 記錄脈衝形式：依DVD + R規格書Ver. 21記載 容爲準。 ’ 抖動測定：以1倍速再生。 又’記錄能量於2.4X記錄時爲216inw，於8X 時P0=50mW，Pm=29.5mW。其結果與以下之比較例 比較例2之結果共同記載於表2中。 (比較例1、比較例2 ) 於實例8中’將反射層（1 )之膜厚度分別限 1 OOnm (比較例1 )與丨2〇nrn (比較例2 ) ’其他皆 同條件製作2層之光記錄媒體（比較例1與比較例2 個樣品）’並依實施例8相同方法進行2.4X記錄與 記錄。其結果如表2所示。 又’記錄能量於比較例1中，2.4 X記錄下爲2 1 · ’ 8X 記錄下 P0=50mW、p〇=29.5mW。比較例 2 光資 (波 皮長 以下 倍速 之內 記錄 定爲 依相 等2 \ 8X 6 m W 中， -49- (50) 1360122 103.·.記錄層（1) 1 0 4, 204…中間層 105, 205...透明樹脂層 1 06...保護包覆層 1 07...反射層（2 ) 1 08 ···記錄層（2 ) 109·.·基板（2 ) 1 1 0, 2 1 0…雷射光

201 ...基板 2 0 2…反射層 203 ...記錄層

Claims (1)

1360122 第094122889號專利申請案中文申請專利範圍修正本 民國100年11月25日修正 十、申請專利範圍 1.—種光記錄媒體，其特徵爲具備依序具有基板，與 反射層與記錄層之逆向層合物，與設置於前述逆向層合物 之前述記錄層側的透明樹脂層，

且，構成該透明樹脂層之樹脂於25±5°C下之該彈性模數 (E)爲 3.0xl03MPa 以上，6_0xl03MPa 以下， 前述透明樹脂層之厚度（t)與25 ±5 °C下之彈性模數（E )之積（Ext)爲 2.0xl04MPa· ym 以上》 2 .如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中該透明 樹脂層之厚度（t)與25 ±5 °C下之該彈性模數（E)之積 (Ext)爲 30.0xl04MPa· 以下。 3 .如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中該透明 樹脂層之膜厚度（h )爲20 v m以上，200 μ m以下。

4.如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中該記錄 層爲含有有機色素之記錄層。 5 .如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中該記錄 層與該透明樹脂層之間尙含有中間層。 6.如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中與該透 明樹脂層之該逆向層合物側的相反一邊，尙依序設置有第 2反射層與第2記錄層與透明基板。 7 · —種光記錄媒體，其特徵爲具有經由光照射以進行 資訊之記錄及/或再生之記錄層，與 1360122 設置於前述記錄層之光射入面側之透明樹脂層，與 設置於前述與記錄層之前述光射入面爲相反側之反射 層， 且’構成該透明樹脂層之樹脂於25±5°C下之該彈性模數 (E)爲 3.〇xl〇3MPa 以上，6.0xl03MPa 以下， 前述透明樹脂層之厚度（t)與25±5t下之彈性模數（E )之積（Ext)爲 2.0xl04MPa· /zm 以上。 8. 如申請專利範圍第7項之光記錄媒體，其中該透明 樹脂層爲由具有玻璃轉移溫度爲1 5 0 °C以上之透明樹脂所 構成。 9. 如申請專利範圍第7項之光記錄媒體，其中該透明 樹脂層之該光射入面側依序具有直接或介由其他層之第2 反射層與第2記錄層，該記錄層與該第2記錄層之間隔爲 40/z m 〜70// m。 -2-