JP3978402B2 - 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばＤＶＤ−Ｒなどの片面側からレーザ光を照射して情報を記録又は再生しうる複数の記録層を備える光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及しつつある。さらに取り扱う情報量の増大により、記憶密度を高めることが望まれている。
【０００３】
種々の光記録媒体の中でもＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒなど、有機色素を含む記録層（色素含有記録層ともいう）を有する光ディスクは比較的安価で、且つ、再生専用の光ディスクとの互換性を有するため、特に広く用いられている。
一例として、色素含有記録層を有する光ディスクとして代表的なＣＤ−Ｒなどの媒体は、透明ディスク基板上に色素含有記録層と反射層とをこの順に有し、これら色素含有記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。
【０００４】
さて、同じく代表的な片面型ＤＶＤ−Ｒ（片面１層ＤＶＤ−Ｒ）は、第１の透明ディスク基板上に色素含有記録層、反射層、これらを覆う保護層をこの順に有し、さらに保護層の上に接着層を介して或いは介さずに、第２のディスク基板（透明でも不透明でも良い）上に反射層を形成したいわゆるダミーディスクを設けた積層構造であり、第１の透明ディスク基板を通して片面側からレーザ光にて記録・再生を行なうものである。ダミーディスクは透明又は不透明のディスク基板のみであっても良いし、反射層以外の層を設けていても良い。
【０００５】
なお、ＤＶＤ+Ｒは、ＤＶＤ−Ｒとほぼ同じ構成であるため、ＤＶＤ−Ｒの説明で代表させる。
また、光記録媒体の記録容量を更に大容量化するために、上記のような片面型ＤＶＤ−Ｒを貼り合わせて２つの記録層を有する媒体とし、両面側から各記録層にレーザ光を照射して記録・再生を行なう（即ち、媒体の一面側からレーザ光を照射し、この一面側に近い方の記録層の記録・再生を行なう一方、媒体の他面側からもレーザ光を照射し、この他面側に近い方の記録層の記録・再生を行なう）両面型ＤＶＤ−Ｒ（両面２層ＤＶＤ−Ｒ）も知られている。
【０００６】
ところで、近年、複数の記録層を有する光記録媒体においては、記録再生装置が大型化，複雑化しないようにし、また、複数の記録層にわたる連続的な再生を可能とすべく、片面側からレーザ光を照射することによってこれらの複数の記録層に対して記録・再生を行なうことができる片面入射型光記録媒体（例えば片面入射２層ＤＶＤ−Ｒ）を実現することが望まれている。
【０００７】
このため、例えば、以下のような構成を有する片面入射型光記録媒体として、例えば２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒ（片面２層ＤＶＤ−Ｒ）が提案されている（例えば特許文献１参照）。
例えば貼り合わせ型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒは、第１透光性基板上に、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第１記録層と、再生用レーザ光の一部を透過し得る半透光性反射膜で構成された第１反射層と、記録用レーザ光及び再生用レーザ光に対して透光性を有する中間層と、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第２記録層と、再生用レーザ光を反射する第２反射層と、第２透光性基板とを順に積層して構成される。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−０６６６２２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近、デュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒとして、上述のような構成を有する貼り合わせ型のもののほかに、第１基板上に第１色素含有記録層，半透明反射層を積層した後（これをデータ基板という）、例えば紫外線硬化性樹脂などの放射線硬化性樹脂を塗布し、表面に凹凸を有するスタンパ（マスター基板）を固着した後、剥離することで凹凸を転写して中間層を形成し、その上に第２色素含有記録層，反射層，接着層，第２基板を積層させてなる積層型のものの開発が進められている。
【００１０】
ここで、同様の方法により作製するものとして、例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭがある。
例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、凹凸を有する第１基板上に第１反射層を形成した後、紫外線硬化性樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化性樹脂層に、凹凸を有するスタンパ（マスター基板）を用いて凹凸を転写するとともに、スタンパの表面上に形成しておいた反射膜が紫外線硬化性樹脂層上に残るようにして、凹凸を転写された紫外線硬化性樹脂層上に第２反射層を形成するようにしている。
【００１１】
このように、例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、マスター基板を用いて凹凸を転写する際に、反射膜が残るようにするため、紫外線硬化性樹脂に対するマスター基板の剥離性を考慮する必要がない。このため、一般に、マスター基板としては、厚さ０．６ｍｍのポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（ヤング率Ｅ：３．０×１０9Ｎ／ｍ2）が用いられている。
【００１２】
一方、マスター基板としては、扱い易さや繰返し使用等を考慮すると、例えば厚さの厚い（例えば１．２ｍｍ）ポリカーボネート製（ヤング率Ｅ：２．２５×１０9Ｎ／ｍ2）の基板やガラス／ＵＶ硬化樹脂（２Ｐ）（ヤング率Ｅ：９．３１×１０9Ｎ／ｍ2）からなる基板などを用いることが考えられる。
しかしながら、デュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板として、ＰＭＭＡ製の基板，厚さの厚いポリカーボネート製の基板，ガラス／ＵＶ硬化樹脂製の基板を用いると、マスター基板の剛性が高く、変形しにくいため、マスター基板を剥離する際に、第１基板（データ基板）が変形し、反りが生じてしまうことになる。
【００１３】
この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。特に、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体の場合には、データ基板（光記録媒体）の反りをできるだけ小さく抑えることが重要になる。
特に、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板を剥離した後に第２色素含有記録層を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）することが必要になるが、マスター基板を剥離させる際にデータ基板に反りが生じてしまった状態で、高温下に保持されると、反りがより大きくなってしまうことになる。
【００１４】
このように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、例えばＤＶＤ−ＲＯＭのような光記録媒体と比べて、反りを小さく抑えるのが難しく、良好な特性のディスクを作製することが難しい。このため、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、反りの制御、即ち、反りを小さく抑えることは特に重要である。本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板をデータ基板から剥離しやすくし、データ基板が変形しにくくして、データ基板に生じる反りを小さく抑えることができるようにした、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明の光記録媒体の製造方法は、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成する樹脂層形成工程を含む光記録媒体の製造方法であって、データ基板とマスター基板とが、データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７の関係を満たすことを特徴としている（請求項１）。
【００１６】
好ましくは、マスター基板及びデータ基板は樹脂からなるものとする（請求項２）。
また、樹脂層形成工程の後に、高温下に保持する工程を含むことが好ましい（請求項３）。
また、樹脂層形成工程の後に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、高温下に保持して色素含有記録層を形成する工程を含むことが好ましい（請求項４）。
【００１７】
本発明の光記録媒体用積層体の製造方法は、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成して光記録媒体用積層体を製造する光記録媒体用積層体の製造方法であって、データ基板とマスター基板とが、データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７の関係を満たすことを特徴としている（請求項５）。
【００１８】
好ましくは、マスター基板及びデータ基板は樹脂からなるものとする（請求項６）。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる光記録媒体（追記型光記録媒体）の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法について、図１，図２を参照しながら説明する。
本実施形態にかかる光記録媒体は、複数の記録層を有し、片面側からレーザ光を照射することでそれぞれの記録層に情報の記録又は再生を行なうことができる片面入射型光記録媒体である。
【００２０】
本実施形態では、積層型の片面入射型光記録媒体（片面入射型ＤＶＤ−Ｒ）として、例えば２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒ（片面２層ＤＶＤ−Ｒ，片面２層ＤＶＤレコーダブル・ディスク）を例に説明する。
（１）光記録媒体の構造
図１は、本実施形態にかかる光記録媒体（光ディスク）を示す模式的な断面図である。
【００２１】
本実施形態にかかる光記録媒体は、図１に示すように、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１光透過性基板）１上に、色素を含む第１記録層（第１色素含有記録層）２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という）３、中間樹脂層（中間層）４、色素を含む第２記録層（第２色素含有記録層）５、反射層６、接着層７、第２基板８をこの順に有してなる。光ビームは第１基板１側から照射され、記録又は再生が行われる。
【００２２】
なお、本実施形態において、透明である（光透過性がある）とは光記録媒体の記録又は再生に用いる光ビームに対して透明である（光透過性がある）ことを言う。また、透明である（光透過性がある）層としては、記録又は再生に用いる光ビームを多少吸収するものも含む。例えば、記録又は再生に用いる光ビームの波長について５０％以上（好ましくは６０％以上）の透過性があれば実質的に光透過性がある（透明である）ものとする。
【００２３】
透明な第１基板１、中間樹脂層４上にはそれぞれ凹凸（ランド及びグルーブ）が形成され、凹部及び／又は凸部で記録トラックが構成される。
ここでは、透明な第１基板１上の記録トラック１１は、光の入射方向に対して凸部で構成される。中間樹脂層４上の記録トラック１２も、光の入射方向に対して凸部で構成される。なお、記録トラック１１，１２は、光の入射方向に対して凹部で構成しても良いし、光の入射方向に対して凹部及び凸部の双方で構成しても良いが、一般には、光の入射方向に対して凸部で構成するのが好ましい。特に断らない限り、本発明において凹凸は記録又は再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【００２４】
これらの記録トラック１１，１２は、所定の振幅，所定の周波数で半径方向に僅かに蛇行させてある（これをウォブルという）。また、記録トラック１１，１２の間のランドにはある規則にしたがった孤立ピット（アドレスピット）が形成され（これをランドプリピット，ＬＰＰ；Land Pre-Pitという）、このランドプリピットによってアドレス情報が予め記録されていても良い。なお、この他に必要に応じ凹凸ピット（プリピット）を有することもある。また、ウォブルの向きを反転させたり、周波数を変調したりして情報を記録することもできる。
【００２５】
次に、各層について説明する。
（ａ）第１基板１について
第１基板１は、透明であるほか複屈折率が小さいなど光学特性に優れることが望ましい。また、射出成形が容易であるなど成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいと反り等を低減できるため望ましい。
【００２６】
更に、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。但し第２基板８が十分な形状安定性を備えていれば、第１基板１は形状安定性が大きくなくても良い。
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。或いは、ガラス等の基体上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。なお、放射線とは、光（紫外線、可視光線、赤外線など）、電子線などの総称である。
【００２７】
なお、光学特性、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
第１基板１は薄い方が好ましく、通常厚さは２ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと記録層の距離が小さく、また基板が薄いほどコマ収差が小さくなる傾向があり、記録密度を上げやすいためである。但し、光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るためにはある程度の厚みが必要であり、通常１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは３０μｍ以上である。
【００２８】
本光記録媒体においては、第１記録層２及び第２記録層５の両方に良好に記録又は再生を行なうために、対物レンズと両記録層との距離を適宜調節することが望ましい。例えば、対物レンズの焦点が両記録層のほぼ中間地点となるようにすると、両記録層にアクセスしやすく好ましい。
具体的に説明すると、片面型ＤＶＤ−Ｒシステムにおいては、基板厚さ０．６ｍｍのときに対物レンズと記録層との距離が最適になるよう調節されている。
【００２９】
従って、本層構成において片面型ＤＶＤ−Ｒ互換の場合は、第１基板１の厚さは、０．６ｍｍから中間樹脂層４の膜厚の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。このとき、両記録層のほぼ中間地点が約０．６ｍｍとなり、両記録層にフォーカスサーボがかけやすい。
なお、第２記録層５と半透明反射層３の間にバッファー層や保護層など他の層がある場合は、０．６ｍｍから、それらの層と中間樹脂層４の膜厚の和の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。
【００３０】
第１基板１には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１記録層２に情報が記録又は再生される。波長６５０ｎｍのレーザを開口数０．６から０．６５の対物レンズで集光して記録又は再生が行なわれる、いわゆるＤＶＤ−Ｒディスクの場合、通常、第１記録層２は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録又は再生に適する。
【００３１】
本光記録媒体においては第１基板１の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１１とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００３２】
このような凹凸を有する基板は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
（ｂ）第１記録層２について
第１記録層２は、通常、片面型記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒ）等に用いる記録層と同程度の感度である。
【００３３】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
更に、第１記録層２と半透明反射層３との組合せにおいて、光の反射、透過及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００３４】
このような有機色素材料としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素など）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素などが挙げられる。
【００３５】
上述の各種有機色素の中でも含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ、耐久性，耐光性に優れるため好ましい。特に下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【００３６】
【化１】
【００３７】
（環Ａ1及びＡ2は、各々独立に置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環であり、環Ｂ1及びＢ2は、各々独立に置換基を有していてもよい芳香族環である。Ｘは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基である。）で表される化合物が好ましい。
本光記録媒体の記録層に使用される有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザ（代表的には７８０ｎｍ，８３０ｎｍなど）や、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ（代表的には６３５ｎｍ，６５０ｎｍ，６８０ｎｍなど）、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆるブルーレーザなどでの記録に適する色素がより好ましい。
【００３８】
色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、上記複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
また記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００３９】
さらに本光記録媒体の記録層には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００４０】
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、本光記録媒体においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
【００４１】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
【００４２】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００４３】
真空蒸着法の場合は、例えば有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０-2〜１０-5Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
（ｃ）半透明反射層３について
半透明反射層３は、ある程度の光透過率を持つ反射層である。つまり、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が４０％以上あり、かつ適度な光反射率（通常、３０％以上）を持つ反射層である。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、半透明反射層３の上層（ここでは中間樹脂層４）の浸み出しにより第１記録層２が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
【００４４】
高透過率を確保するために、半透明反射層３の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２５ｎｍ以下である。但し、第１記録層２が半透明反射層３の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００４５】
半透明反射層３の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く半透明反射層３の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。
【００４６】
なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、反射率が高い点から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
半透明反射層３は膜厚が薄く、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００４７】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００４８】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００４９】
半透明反射層３としてはＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
また、半透明反射層３としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５０】
半透明反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、第１基板１と半透明反射層３との間に、例えば反射率の向上，記録特性の改善，密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層又は接着層を設けても良い。例えば、第１基板１上に、中間層（又は接着層），第１記録層２，中間層（又は接着層），半透明反射層３の順に積層させることで、第１基板１と第１記録層２との間に中間層（又は接着層）を設け、第１記録層２と半透明反射層３との間に中間層（又は接着層）を設けても良い。
（ｄ）中間樹脂層４について
中間樹脂層（樹脂層）４は、透明である必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
【００５１】
そして、中間樹脂層４は、第２記録層５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、中間樹脂層４は通常、樹脂からなるため第２記録層５と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
さらに、中間樹脂層４は、半透明反射層３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。
【００５２】
本光記録媒体において、中間樹脂層４の膜厚は正確に制御することが好ましい。中間樹脂層４の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと２層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００５３】
中間樹脂層４には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層５に情報が記録又は再生される。通常、第２記録層５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録又は再生に適する。本光記録媒体においては中間樹脂層４の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００５４】
このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。以下、このような方法を２Ｐ法（Photo Polymerization法）と称することがある。
中間樹脂層４の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）などの放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。なお、放射線とは、光（紫外線、可視光線、赤外線など）、電子線などの総称である。
【００５５】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、透明であればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００５６】
塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
【００５７】
さて、紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００５８】
本光記録媒体に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル，カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル，ジシクロペンタニル，ジシクロペンテニル，ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６０】
また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
更に、本光記録媒体に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび／または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体に好適である。
【００６１】
このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００６２】
また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００６３】
また、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。
ヨードニウム塩の一例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００６４】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００６５】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００６６】
また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
（ｅ）第２記録層５について
第２記録層５は、通常、片面型記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒ）等に用いる記録層よりも高感度である。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが第１記録層２や半透明反射層３の存在等で減少するため、約半分程度のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００６７】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
更に、第２記録層５と反射層６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００６８】
第２記録層５の材料、成膜方法等についてはほぼ第１記録層２と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第２記録層５の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００６９】
第１記録層２と第２記録層５とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
（ｆ）反射層６について
反射層６は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
【００７０】
高反射率を確保するために、反射層６の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産のタクトタイムを短くし、コストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。反射層６の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層６の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分として下記のものを含んでいても良い。他成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を挙げることができる。
【００７１】
中でもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
反射層６は高耐久性（高耐食性）を確保するため、Ａｇは純銀よりも合金として用いるのが好ましい。
【００７２】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００７３】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００７４】
反射層６としてはＡｕのみからなる層は高耐久性（高耐食性）が高く好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層６として用いることも可能である。
反射層６を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、反射層６の上下に、例えば反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層又は接着層を設けても良い。
（ｇ）接着層７について
接着層７は、透明である必要はないが、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
【００７５】
また、接着層７は反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
本光記録媒体において、接着層７の膜厚は、通常２μｍ以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは５μｍ以上である。但し光記録媒体をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００７６】
接着層７の材料は、中間樹脂層４の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層６と第２基板８との間に挟んで押圧することにより、接着層７を形成できる。
（ｈ）第２基板８について
第２基板８は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層７との接着性が高いことが望ましい。
【００７７】
上述のように第１基板１が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板８は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。但し第２基板８は透明である必要はない。また第２基板８は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。
【００７８】
このような材料としては、第１基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。
【００７９】
なお、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板８はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８０】
第２基板８は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
第１基板１と第２基板８の好ましい組合せの一例は、第１基板１と第２基板８とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
【００８１】
他の好ましい組合せの一例は、第１基板１が０．１ｍｍ程度と薄く、第２基板８が１．１ｍｍ程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第１基板１はシート状であってもよい。
（ｉ）その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層３と中間樹脂層４との間、中間樹脂層４と第２記録層５との間、反射層６と接着層７との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００８２】
バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２記録層５や中間樹脂層４と相溶せず、かつ、ある程度の光透過性をもつ必要があるが、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、（１）金属又は半導体、（２）金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは（３）非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、ほぼ透明な誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００８３】
具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物（酸硫化物）；および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物（Ｙ2Ｏ2Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００８４】
金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
【００８５】
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
バッファー層の厚さは２ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させるおそれもある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり２００ｎｍ以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。
【００８６】
また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2等が挙げられる。
【００８７】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００８８】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本光記録媒体においては、３〜５０μｍが好ましい。
【００８９】
更に、上記光記録媒体には、必要に応じて、記録光又は再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
或いは、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板１を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００９０】
また、本層構成の応用例として、記録層を３層以上有する媒体とすることも可能である。
（２）光記録媒体の製造方法（光記録媒体用積層体の製造方法を含む）
次に、本実施形態にかかる光記録媒体の製造方法について、図２を参照しながら説明する。
【００９１】
まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド，プリピットが形成された透明な第１基板１（第１光透過性基板）を、スタンパをもとに射出成形又は２Ｐ法等により作製する。
次に、図２（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた後、第１基板１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布して、第１記録層２（第１色素含有記録層，色素記録層）を成膜する。
【００９２】
なお、有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、溶媒を除去するために高温下［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］に所定時間［例えば５分以上（好ましくは１０分以上）とし、例えば３０分以下（好ましくは２０分以下）とする］だけ保持される（アニール処理）。これは、低温・短時間であると、第１記録層２の感度やパワーマージンが悪くなるからである。一方、高温・長時間であると、第１基板１の反りが増大し、第１記録層２の色素が劣化してしまうからである。
【００９３】
また、赤外線や遠赤外線を短時間（例えば５秒間〜５分間）照射することにより、ディスクの表面温度を高温［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］にすることによっても、アニール処理は可能である。
次いで、図２（ｃ）に示すように、例えばＡｇ合金などをスパッタ又は蒸着することにより、第１記録層２上に半透明反射層３を成膜する。
【００９４】
このように第１基板１上に第１記録層２，半透明反射層３を順に積層することによって作製されたものをデータ基板１３という。ここではデータ基板は透明である。
そして、図２（ｄ）に示すように、データ基板１３の表面全体に例えば紫外線硬化性樹脂（放射線硬化性樹脂）等の樹脂を例えばスピンコート等により塗布する。なお、ここでは、データ基板１３上に直接樹脂を塗布しているが、これに限られるものではなく、例えばデータ基板１３上に他の層を介して樹脂を塗布しても良い。
【００９５】
次に、表面に凹凸を有する型（スタンパ）を用いて、データ基板１３上に塗布された例えば紫外線硬化性樹脂等の樹脂の表面に凹凸を形成する。型としては、生産性、コストなどの観点から、図２（ｅ）に示すように、樹脂からなるスタンパ（樹脂スタンパ，マスター基板）１５を用いるのが好ましい。
ここでは、樹脂スタンパ１５は、図２（ｅ）に示すように、表面に凹凸を有する樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層（剥離層）１７を有するものとして構成している。なお、樹脂スタンパ１５は、表面に凹凸を有する樹脂基板１６のみからなるものとして構成しても良く、この方が生産性やコストの観点から好ましい。
【００９６】
ここで、樹脂基板１６は、逆（ネガ）の凹凸パターンを有する金属製スタンパ（例えばニッケル製スタンパ）を用いて、例えば射出成形や２Ｐ法等により作製すれば良い。
また、樹脂基板１６は透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものが挙げられる。
【００９７】
例えば、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有するものとして構成される場合、樹脂基板１６は、セパレート層１７との密着性が高い樹脂である必要があり、また、成形性などの高生産性，コスト，低吸湿性，形状安定性などの点を考慮すると、ポリカーボネート樹脂からなるものとするのが好ましい。
【００９８】
また、樹脂基板１６の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、０．５ｍｍ以上とするのが望ましい。厚さの上限は特にないが、通常、３ｍｍ以下で十分である。
なお、樹脂スタンパ１５は、中間樹脂層４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良い。また、透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性及びコストの観点から、樹脂スタンパ１５は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。
【００９９】
例えば、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有するものとして構成される場合、セパレート層１７は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く、剥離性が高いものとすれば良い。また、セパレート層１７は、成膜されたときに樹脂基板１６の凹凸を忠実に反映した凹凸が形成されるものとするのが望ましい。
【０１００】
セパレート層１７の材料としては、中間樹脂層４の樹脂との剥離性の点から、金属又は合金が好ましく、例えばＮｉ，Ａｇ，Ａｕ，Ｃｕ，Ｐｔ及びＰｄから選ばれる金属又はこれらの合金を用いるのが好ましい。
セパレート層１７の厚さは、中間樹脂層４からの剥離性を確保するためにはある程度の膜厚が必要で、２ｎｍ以上とするのが好ましい。一方、基板の凹凸を忠実に反映するためには厚すぎないことが望ましく、通常、２００ｎｍ以下が好ましい。
【０１０１】
一方、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６のみからなるものとして構成される場合、樹脂基板１６は、中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く、剥離性が高いものとする必要があり、また、成形性などの高生産性，コスト，低吸湿性，形状安定性などの点を考慮すると、非晶質ポリオレフィンが好ましい。
例えば、データ基板１３上に塗布された紫外線硬化性樹脂上に樹脂スタンパ１５を載置し、この状態で第１基板１側から紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分に硬化したところで樹脂スタンパ１５を剥離することで、図２（ｆ）に示すように、紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を転写する。
【０１０２】
なお、樹脂スタンパ１５の載置は、紫外線硬化性樹脂の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なわれる。また、ここでは第１基板１側から紫外線を照射しているが、これに限られるものではなく、例えば紫外線硬化性樹脂の側面から照射することもできる。但し、紫外線の照射により第１記録層１がダメージを受けないようにする必要がある。
【０１０３】
このようにして、例えば紫外線硬化性樹脂等の樹脂の表面に凹凸を転写することで、表面に凹凸を有する例えば紫外線硬化樹脂層（放射線硬化樹脂層）等の樹脂層（中間樹脂層）４が形成される。
なお、データ基板１３上に凹凸を有する中間樹脂層４を積層したものを光記録媒体用積層体１４という。このため、上述の図２（ａ）〜（ｆ）を参照しながら説明した各工程を経て光記録媒体用積層体が製造されることになるため、これらの工程を光記録媒体用積層体の製造方法という。
【０１０４】
続いて、図２（ｇ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた後、中間樹脂層４の凹凸を有する側の表面に例えばスピンコート等により塗布し、第２記録層（第２色素含有記録層，色素記録層）５を成膜する。
なお、有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、溶媒を除去するために高温下［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］に所定時間［例えば５分以上（好ましくは１０分以上）とし、例えば３０分以下（好ましくは２０分以下）とする］だけ保持される（アニール処理）。これは、低温・短時間であると、第２記録層５の感度やパワーマージンが悪くなるからである。一方、高温・長時間であると、データ基板１３の反りが増大し、第１記録層２の色素が劣化してしまうからである。
【０１０５】
また、赤外線や遠赤外線を短時間（例えば５秒間〜５分間）照射することにより、ディスクの表面温度を高温［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］にすることによっても、アニール処理は可能である。
そして、図２（ｈ）に示すように、例えばＡｇ合金などを例えばスパッタ又は蒸着することにより第２記録層５上に反射層６を成膜する。
【０１０６】
その後、図２（ｉ）に示すように、例えばポリカーボネートを射出成形して得られた第２基板８としての鏡面基板を、接着層７を介して反射層６に貼り合わせる。つまり、上述のようにして光記録媒体用積層体１４上に順に第２記録層５，反射層６を積層させたものに、接着層７を介して第２基板８を貼り合わせることで、光記録媒体が製造される。
【０１０７】
なお、接着層７は、不透明でも、表面が多少粗くてもよく、遅延硬化型の接着剤を問題なく使用できる。反射層６上に例えばスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、紫外線を照射してから第２基板８を載置し、押圧して、接着層７を形成できる。或いは、反射層６と第２基板８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層７を形成することもできる。
【０１０８】
また、光記録媒体の製造方法は、上述のものに限られず、他の製造方法であっても良い。
ところで、上述のように、例えば紫外線硬化性樹脂（放射線硬化性樹脂）等の樹脂によってデータ基板１３と凹凸を有するマスター基板（樹脂スタンパ）１５とを固着した後、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離して、データ基板１３にマスター基板１５の凹凸を転写して光記録媒体用積層体１４を作製する場合、マスター基板１５の剛性が高くて変形しにくいと、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離する際に、データ基板１３が変形し、反りが生じてしまうことになる。
【０１０９】
この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。特に、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体の場合には、光記録媒体の反りをできるだけ小さく抑えることが重要になる。
また、上述のように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）することが必要になるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じてしまった状態で、高温下に保持されると、反りがより大きくなってしまうことになる。
【０１１０】
このように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、例えばＤＶＤ−ＲＯＭのような光記録媒体と比べて、反りを小さく抑えるのが難しく、良好な特性のディスク（光記録媒体）を作製することが難しい。このため、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、反りの制御、即ち、反りを小さく抑えることは特に重要である。
【０１１１】
また、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを例えばスピンコート等によって塗布することになるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じてしまっていると、有機色素を溶媒に溶解させたものを均一に塗布するのが難しくなる。この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。
【０１１２】
これらの課題を解決するために、本発明者らは、マスター基板（２Ｐ用マスター基板）１５の剛性をデータ基板１３の剛性よりも小さくしておくことを考え出した。
ここで、ｋ：比例定数，Ｐ：基板に働く力，Ｅ：ヤング率，ｈ：基板の厚さとすると、基板の撓みｗは、下記式で表すことができる。
【０１１３】
ｗ＝ｋ×Ｐ／（Ｅ×ｈ3）
これによれば、基板の変形しやすさはＥ×ｈ3で規定できることになる。つまり、Ｅ×ｈ3が大きいほど変形しにくく、Ｅ×ｈ3が小さいほど変形しやすいことになる。
このため、データ基板１３のヤング率をＥｄ、マスター基板１５のヤング率をＥｍ、データ基板１３の厚さをｈｄ、マスター基板１５の厚さをｈｍとした場合に、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比［（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）］が大きいと、マスター基板１５が変形せず、逆にデータ基板１３が変形してしまい、データ基板１３に反りや歪が生じてしまうことになる。
【０１１４】
したがって、反りの小さい良好な特性のディスク（光記録媒体）を得るためには、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比［（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）］を小さくすれば良いことになる。
そこで、本実施形態では、データ基板１３とマスター基板１５とが所定の関係を満たすようにしている。つまり、本実施形態では、データ基板１３とマスター基板１５とが、データ基板１３のヤング率をＥｄ、マスター基板１５のヤング率をＥｍ、データ基板１３の厚さをｈｄ、マスター基板１５の厚さをｈｍとして、下記式で表される関係を満たすようにしている。実際には、下記式で表される関係を満たすようにマスター基板１５の材料の選択や厚さの設定を行なうことになる。
（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７
このように、本実施形態では、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比（Ｅ×ｈ3比）が１．２７以下になるようにしているが、より好ましくは１．１５以下になるようにする。
【０１１５】
一方、Ｅ×ｈ3比の下限値は０．００１以上とするのが好ましく、より好ましくは０．０１以上とし、さらに好ましくは０．１０以上とする。これは、あまり小さいと取り扱いに支障をきたすことになるからであり、また、ある程度大きい方が、マスター基板１５も大きく反らなくなるので、繰り返し使用が可能となり好ましい。
【０１１６】
なお、本実施形態の片面２層ＤＶＤ−Ｒの構成は、色素含有記録層以外は一般的な片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭの構成と同様であるが、片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、一般にスタンパ（マスター基板）の材料としてはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（表面に反射膜が形成されたもの）が用いられている。ＰＭＭＡのヤング率は３．０×１０9であり、一般に厚さが０．６ｍｍのものが用いられるため、Ｅ×ｈ3比は１．３０４となる。
【０１１７】
また、マスター基板１５のヤング率は、１．００×１０9以上とするのが好ましい。一方、マスター基板１５のヤング率は、５．００×１０9以下とするのが好ましい。
また、データ基板１３のヤング率は、１．００×１０9以上とするのが好ましい。一方、データ基板１３のヤング率は、５．００×１０9以下とするのが好ましい。
【０１１８】
さらに、マスター基板１５の厚さは、０．３ｍｍ以上とするのが好ましい。一方、マスター基板１５の厚さは、０．９ｍｍ以下とするのが好ましい。
また、データ基板１３の厚さは、０．３ｍｍ以上とするのが好ましい。一方、データ基板１３の厚さは、２．０ｍｍ以下とするのが好ましい。
このような関係を満たすようにするためには、マスター基板１５及びデータ基板１３の双方を樹脂からなるものとする。
【０１１９】
好ましくは、マスター基板１５は、ポリカーボネート，非晶質ポリオレフィン［例えば日本合成ゴム社製のアートン（登録商標），日本ゼオン社製のＺＥＯＮＥＸ（登録商標），ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）など］からなるものとする。
また、マスター基板１５をセパレート層（剥離層）１７を含むものとして構成する場合、セパレート層１７としては、例えばＡｇ，Ｎｉなどの金属層を設けるのが好ましい。
【０１２０】
したがって、本実施形態にかかる光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法によれば、片面２層ＤＶＤ−Ｒの製造工程において、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離する際に、マスター基板１５が変形しやすくなるため、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離しやすくすることができ、また、データ基板１３が変形しにくくなり、反りを小さく抑えることができるという利点がある。
【０１２１】
これにより、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体において、良好な特性のディスク（光記録媒体）を作製できることになる。
また、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じるのを抑えることができるため、片面２層ＤＶＤ−Ｒを製造する際に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）したとしても、データ基板１３の反りがより大きくなってしまうことがない。このため、本発明は特に色素含有記録層を有する光記録媒体に適用すると効果が大きい。
【０１２２】
また、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを例えばスピンコート等によって塗布することになるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じるのを抑えることができるため、有機色素を溶媒に溶解させたものを均一に塗布することができるようになり、この結果、良好な特性の光記録媒体を作製できることになる。
【０１２３】
なお、本実施形態では、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒに本発明を適用した例を説明したが、これに限られるものではなく、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成する樹脂層形成工程を含む製造方法によって製造される光記録媒体又は光記録媒体用積層体であれば、他の構成の光記録媒体であっても本発明を適用することができる。
【０１２４】
例えば、記録層を１層しか有しない光記録媒体に適用することもできる。また、記録層を３層以上有し、中間樹脂層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。この場合、２層以上有する中間樹脂層のそれぞれを形成するのに本発明を適用することができる。さらに、上述の実施形態ではいわゆる基板面入射型の光記録媒体に本発明を適用する場合について説明したが、いわゆる膜面入射型の光記録媒体に本発明を適用することもできる。
【０１２５】
【実施例】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例では、異なる材質で、様々な板厚を持つ基板をマスター基板として用いて剥離テストを行なった。この結果は下記表１に示すようになった。
【０１２６】
ここでは、全ての実施例及び比較例において、データ基板として、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。ここで、データ基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2である。
なお、表１では、それぞれの実施例，比較例毎に、マスター基板の材質，マスター基板上に設けられる剥離層，ＵＶ硬化性樹脂，マスター基板の厚さｈ（ｍｍ），マスター基板のヤング率Ｅ（Ｎ／ｍ2），マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比（Ｅ×ｈ3比），剥離試験結果を示してある。
【０１２７】
また、反り量は、データ基板をマスター基板又はマスター基板+ニッケル薄膜から剥離した後、１００℃で３０分間ベーキングし、データ基板の端面を接地して他方の端面の接地面からの浮上量を測定して得た。
【０１２８】
【表１】
【０１２９】
（実施例１）
実施例１では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍのポリカーボネート製のマスター基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．００である。
【０１３０】
ここでは、ＵＶ硬化性樹脂の剥離性を考慮してマスター基板上に剥離層を設けるべく、マスター基板上にニッケルをスパッタして厚さ１０ｎｍのニッケル薄膜を形成した。
そして、マスター基板の内周側にスリーボンド社製ＵＶ硬化性樹脂30Y266Eを２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、４０００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは３０μｍであった。
【０１３１】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１３２】
また、データ基板の反り量を測定したところ、２ｍｍであった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例２）
実施例２では、マスター基板として厚さ０．１０ｍｍのポリカーボネート製の基板（ポリカーボネート製シート）を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．１０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は０．００５である。
【０１３３】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板と、マスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例１）
比較例１では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は８．００である。
【０１３４】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（比較例２）
比較例２では、マスター基板として厚さ１．１０ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．１０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は６．１６である。
【０１３５】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（実施例３）
実施例３では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの日本合成ゴム社製のアートンから成るマスター基板を用いた。表１に示すように、アートン製のマスター基板のヤング率Ｅは２．８４×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．２６１である。なお、アートンはＵＶ硬化性樹脂に対して剥離性が良いため、剥離層は設けなかった。
【０１３６】
そして、マスター基板の内周側に大日本インク社製ＵＶ硬化性樹脂ＳＤ３９４を２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、３５００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは１５μｍであった。
【０１３７】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１３８】
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例３）
比較例３では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのアートン製の基板を用いた。表１に示すように、アートン製のマスター基板のヤング率Ｅは２．８４×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１０．０９である。
【０１３９】
そして、実施例３と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（実施例４）
実施例４では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．５９ｍｍの日本ゼオン社製のゼオノア１０６０Ｒから成るマスター基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．５９ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は０．９９である。なお、ゼオノアはＵＶ硬化性樹脂に対して剥離性が良いため、剥離層は設けなかった。
【０１４０】
そして、マスター基板の内周側に大日本インク社製ＵＶ硬化性樹脂ＳＤ３９４を２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、３５００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは１５μｍであった。
【０１４１】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１４２】
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例５）
実施例５では、マスター基板として厚さ０．６０ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．０４である。
【０１４３】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例６）
実施例６では、マスター基板として厚さ０．６２ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６２ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．１５である。
【０１４４】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例４）
比較例４では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は８．３５である。
【０１４５】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（比較例５）
比較例５では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのガラス／ＵＶ硬化樹脂層（２Ｐ）からなるマスター基板を用いた。表１に示すように、ガラス／ＵＶ硬化樹脂層製のマスター基板のヤング率Ｅは９．３１×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は４．１３である。なお、ガラスは０．６ｍｍ、２Ｐは数１０μｍであり、２Ｐのヤング率は不明であるが、２Ｐの厚さはガラスよりも薄く、ヤング率もガラスよりも小さいので、２ＰのＥ×ｈ3（剛性成分）は無視できるものとしてＥ×ｈ3の比を求めた。
【０１４６】
ここでは、ＵＶ硬化性樹脂の剥離性を考慮してマスター基板上に剥離層を設けるべく、マスター基板上にニッケルをスパッタして厚さ１０ｎｍのニッケル薄膜を形成した。
そして、マスター基板の内周側にスリーボンド社製ＵＶ硬化性樹脂30Y266Eを２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、４０００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは３０μｍであった。
【０１４７】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（まとめ）
以上の結果をまとめると、マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比が１．２７を越える場合には、両基板を簡単には剥離させることができず、無理に剥離させようとするとデータ基板が割れてしまうことが分かった。一方、マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比が１．２７以下であれば両基板を容易に剥離させることができ、また、反りの小さい（例えば２ｍｍ以下）良好なデータ基板が得られることが分かった。
【０１４８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法によれば、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板をデータ基板から剥離しやすくし、データ基板が変形しにくくして、データ基板に生じる反りを小さく抑えることができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる光記録媒体の全体構成を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施形態としての光記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１ 第１基板
２ 第１記録層（第１色素含有記録層）
３ 半透明反射層
４ 中間樹脂層（中間層）
５ 第２記録層（第２色素含有記録層）
６ 反射層
７ 接着層
８ 第２基板
１１，１２ 記録トラック
１３ データ基板
１４ 光記録媒体用積層体
１５ 樹脂スタンパ（マスター基板）
１６ 樹脂基板
１７ セパレート層（剥離層）
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばＤＶＤ−Ｒなどの片面側からレーザ光を照射して情報を記録又は再生しうる複数の記録層を備える光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及しつつある。さらに取り扱う情報量の増大により、記憶密度を高めることが望まれている。
【０００３】
種々の光記録媒体の中でもＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒなど、有機色素を含む記録層（色素含有記録層ともいう）を有する光ディスクは比較的安価で、且つ、再生専用の光ディスクとの互換性を有するため、特に広く用いられている。
一例として、色素含有記録層を有する光ディスクとして代表的なＣＤ−Ｒなどの媒体は、透明ディスク基板上に色素含有記録層と反射層とをこの順に有し、これら色素含有記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。
【０００４】
さて、同じく代表的な片面型ＤＶＤ−Ｒ（片面１層ＤＶＤ−Ｒ）は、第１の透明ディスク基板上に色素含有記録層、反射層、これらを覆う保護層をこの順に有し、さらに保護層の上に接着層を介して或いは介さずに、第２のディスク基板（透明でも不透明でも良い）上に反射層を形成したいわゆるダミーディスクを設けた積層構造であり、第１の透明ディスク基板を通して片面側からレーザ光にて記録・再生を行なうものである。ダミーディスクは透明又は不透明のディスク基板のみであっても良いし、反射層以外の層を設けていても良い。
【０００５】
なお、ＤＶＤ+Ｒは、ＤＶＤ−Ｒとほぼ同じ構成であるため、ＤＶＤ−Ｒの説明で代表させる。
また、光記録媒体の記録容量を更に大容量化するために、上記のような片面型ＤＶＤ−Ｒを貼り合わせて２つの記録層を有する媒体とし、両面側から各記録層にレーザ光を照射して記録・再生を行なう（即ち、媒体の一面側からレーザ光を照射し、この一面側に近い方の記録層の記録・再生を行なう一方、媒体の他面側からもレーザ光を照射し、この他面側に近い方の記録層の記録・再生を行なう）両面型ＤＶＤ−Ｒ（両面２層ＤＶＤ−Ｒ）も知られている。
【０００６】
ところで、近年、複数の記録層を有する光記録媒体においては、記録再生装置が大型化，複雑化しないようにし、また、複数の記録層にわたる連続的な再生を可能とすべく、片面側からレーザ光を照射することによってこれらの複数の記録層に対して記録・再生を行なうことができる片面入射型光記録媒体（例えば片面入射２層ＤＶＤ−Ｒ）を実現することが望まれている。
【０００７】
このため、例えば、以下のような構成を有する片面入射型光記録媒体として、例えば２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒ（片面２層ＤＶＤ−Ｒ）が提案されている（例えば特許文献１参照）。
例えば貼り合わせ型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒは、第１透光性基板上に、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第１記録層と、再生用レーザ光の一部を透過し得る半透光性反射膜で構成された第１反射層と、記録用レーザ光及び再生用レーザ光に対して透光性を有する中間層と、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第２記録層と、再生用レーザ光を反射する第２反射層と、第２透光性基板とを順に積層して構成される。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−０６６６２２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近、デュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒとして、上述のような構成を有する貼り合わせ型のもののほかに、第１基板上に第１色素含有記録層，半透明反射層を積層した後（これをデータ基板という）、例えば紫外線硬化性樹脂などの放射線硬化性樹脂を塗布し、表面に凹凸を有するスタンパ（マスター基板）を固着した後、剥離することで凹凸を転写して中間層を形成し、その上に第２色素含有記録層，反射層，接着層，第２基板を積層させてなる積層型のものの開発が進められている。
【００１０】
ここで、同様の方法により作製するものとして、例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭがある。
例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、凹凸を有する第１基板上に第１反射層を形成した後、紫外線硬化性樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化性樹脂層に、凹凸を有するスタンパ（マスター基板）を用いて凹凸を転写するとともに、スタンパの表面上に形成しておいた反射膜が紫外線硬化性樹脂層上に残るようにして、凹凸を転写された紫外線硬化性樹脂層上に第２反射層を形成するようにしている。
【００１１】
このように、例えば片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、マスター基板を用いて凹凸を転写する際に、反射膜が残るようにするため、紫外線硬化性樹脂に対するマスター基板の剥離性を考慮する必要がない。このため、一般に、マスター基板としては、厚さ０．６ｍｍのポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（ヤング率Ｅ：３．０×１０9Ｎ／ｍ2）が用いられている。
【００１２】
一方、マスター基板としては、扱い易さや繰返し使用等を考慮すると、例えば厚さの厚い（例えば１．２ｍｍ）ポリカーボネート製（ヤング率Ｅ：２．２５×１０9Ｎ／ｍ2）の基板やガラス／ＵＶ硬化樹脂（２Ｐ）（ヤング率Ｅ：９．３１×１０9Ｎ／ｍ2）からなる基板などを用いることが考えられる。
しかしながら、デュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板として、ＰＭＭＡ製の基板，厚さの厚いポリカーボネート製の基板，ガラス／ＵＶ硬化樹脂製の基板を用いると、マスター基板の剛性が高く、変形しにくいため、マスター基板を剥離する際に、第１基板（データ基板）が変形し、反りが生じてしまうことになる。
【００１３】
この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。特に、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体の場合には、データ基板（光記録媒体）の反りをできるだけ小さく抑えることが重要になる。
特に、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板を剥離した後に第２色素含有記録層を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）することが必要になるが、マスター基板を剥離させる際にデータ基板に反りが生じてしまった状態で、高温下に保持されると、反りがより大きくなってしまうことになる。
【００１４】
このように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、例えばＤＶＤ−ＲＯＭのような光記録媒体と比べて、反りを小さく抑えるのが難しく、良好な特性のディスクを作製することが難しい。このため、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、反りの制御、即ち、反りを小さく抑えることは特に重要である。本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板をデータ基板から剥離しやすくし、データ基板が変形しにくくして、データ基板に生じる反りを小さく抑えることができるようにした、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明の光記録媒体の製造方法は、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成する樹脂層形成工程を含む光記録媒体の製造方法であって、データ基板とマスター基板とが、データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７の関係を満たすことを特徴としている（請求項１）。
【００１６】
好ましくは、マスター基板及びデータ基板は樹脂からなるものとする（請求項２）。
また、樹脂層形成工程の後に、高温下に保持する工程を含むことが好ましい（請求項３）。
また、樹脂層形成工程の後に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、高温下に保持して色素含有記録層を形成する工程を含むことが好ましい（請求項４）。
【００１７】
本発明の光記録媒体用積層体の製造方法は、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成して光記録媒体用積層体を製造する光記録媒体用積層体の製造方法であって、データ基板とマスター基板とが、データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７の関係を満たすことを特徴としている（請求項５）。
【００１８】
好ましくは、マスター基板及びデータ基板は樹脂からなるものとする（請求項６）。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる光記録媒体（追記型光記録媒体）の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法について、図１，図２を参照しながら説明する。
本実施形態にかかる光記録媒体は、複数の記録層を有し、片面側からレーザ光を照射することでそれぞれの記録層に情報の記録又は再生を行なうことができる片面入射型光記録媒体である。
【００２０】
本実施形態では、積層型の片面入射型光記録媒体（片面入射型ＤＶＤ−Ｒ）として、例えば２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒ（片面２層ＤＶＤ−Ｒ，片面２層ＤＶＤレコーダブル・ディスク）を例に説明する。
（１）光記録媒体の構造
図１は、本実施形態にかかる光記録媒体（光ディスク）を示す模式的な断面図である。
【００２１】
本実施形態にかかる光記録媒体は、図１に示すように、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１光透過性基板）１上に、色素を含む第１記録層（第１色素含有記録層）２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という）３、中間樹脂層（中間層）４、色素を含む第２記録層（第２色素含有記録層）５、反射層６、接着層７、第２基板８をこの順に有してなる。光ビームは第１基板１側から照射され、記録又は再生が行われる。
【００２２】
なお、本実施形態において、透明である（光透過性がある）とは光記録媒体の記録又は再生に用いる光ビームに対して透明である（光透過性がある）ことを言う。また、透明である（光透過性がある）層としては、記録又は再生に用いる光ビームを多少吸収するものも含む。例えば、記録又は再生に用いる光ビームの波長について５０％以上（好ましくは６０％以上）の透過性があれば実質的に光透過性がある（透明である）ものとする。
【００２３】
透明な第１基板１、中間樹脂層４上にはそれぞれ凹凸（ランド及びグルーブ）が形成され、凹部及び／又は凸部で記録トラックが構成される。
ここでは、透明な第１基板１上の記録トラック１１は、光の入射方向に対して凸部で構成される。中間樹脂層４上の記録トラック１２も、光の入射方向に対して凸部で構成される。なお、記録トラック１１，１２は、光の入射方向に対して凹部で構成しても良いし、光の入射方向に対して凹部及び凸部の双方で構成しても良いが、一般には、光の入射方向に対して凸部で構成するのが好ましい。特に断らない限り、本発明において凹凸は記録又は再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【００２４】
これらの記録トラック１１，１２は、所定の振幅，所定の周波数で半径方向に僅かに蛇行させてある（これをウォブルという）。また、記録トラック１１，１２の間のランドにはある規則にしたがった孤立ピット（アドレスピット）が形成され（これをランドプリピット，ＬＰＰ；Land Pre-Pitという）、このランドプリピットによってアドレス情報が予め記録されていても良い。なお、この他に必要に応じ凹凸ピット（プリピット）を有することもある。また、ウォブルの向きを反転させたり、周波数を変調したりして情報を記録することもできる。
【００２５】
次に、各層について説明する。
（ａ）第１基板１について
第１基板１は、透明であるほか複屈折率が小さいなど光学特性に優れることが望ましい。また、射出成形が容易であるなど成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいと反り等を低減できるため望ましい。
【００２６】
更に、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。但し第２基板８が十分な形状安定性を備えていれば、第１基板１は形状安定性が大きくなくても良い。
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。或いは、ガラス等の基体上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。なお、放射線とは、光（紫外線、可視光線、赤外線など）、電子線などの総称である。
【００２７】
なお、光学特性、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
第１基板１は薄い方が好ましく、通常厚さは２ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと記録層の距離が小さく、また基板が薄いほどコマ収差が小さくなる傾向があり、記録密度を上げやすいためである。但し、光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るためにはある程度の厚みが必要であり、通常１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは３０μｍ以上である。
【００２８】
本光記録媒体においては、第１記録層２及び第２記録層５の両方に良好に記録又は再生を行なうために、対物レンズと両記録層との距離を適宜調節することが望ましい。例えば、対物レンズの焦点が両記録層のほぼ中間地点となるようにすると、両記録層にアクセスしやすく好ましい。
具体的に説明すると、片面型ＤＶＤ−Ｒシステムにおいては、基板厚さ０．６ｍｍのときに対物レンズと記録層との距離が最適になるよう調節されている。
【００２９】
従って、本層構成において片面型ＤＶＤ−Ｒ互換の場合は、第１基板１の厚さは、０．６ｍｍから中間樹脂層４の膜厚の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。このとき、両記録層のほぼ中間地点が約０．６ｍｍとなり、両記録層にフォーカスサーボがかけやすい。
なお、第２記録層５と半透明反射層３の間にバッファー層や保護層など他の層がある場合は、０．６ｍｍから、それらの層と中間樹脂層４の膜厚の和の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。
【００３０】
第１基板１には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１記録層２に情報が記録又は再生される。波長６５０ｎｍのレーザを開口数０．６から０．６５の対物レンズで集光して記録又は再生が行なわれる、いわゆるＤＶＤ−Ｒディスクの場合、通常、第１記録層２は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録又は再生に適する。
【００３１】
本光記録媒体においては第１基板１の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１１とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００３２】
このような凹凸を有する基板は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
（ｂ）第１記録層２について
第１記録層２は、通常、片面型記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒ）等に用いる記録層と同程度の感度である。
【００３３】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
更に、第１記録層２と半透明反射層３との組合せにおいて、光の反射、透過及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００３４】
このような有機色素材料としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素など）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素などが挙げられる。
【００３５】
上述の各種有機色素の中でも含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ、耐久性，耐光性に優れるため好ましい。特に下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【００３６】
【化１】
（環Ａ1及びＡ2は、各々独立に置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環であり、環Ｂ1及びＢ2は、各々独立に置換基を有していてもよい芳香族環である。Ｘは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基である。）で表される化合物が好ましい。
本光記録媒体の記録層に使用される有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザ（代表的には７８０ｎｍ，８３０ｎｍなど）や、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ（代表的には６３５ｎｍ，６５０ｎｍ，６８０ｎｍなど）、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆるブルーレーザなどでの記録に適する色素がより好ましい。
【００３８】
色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、上記複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
また記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００３９】
さらに本光記録媒体の記録層には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００４０】
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、本光記録媒体においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
【００４１】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
【００４２】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００４３】
真空蒸着法の場合は、例えば有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０-2〜１０-5Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
（ｃ）半透明反射層３について
半透明反射層３は、ある程度の光透過率を持つ反射層である。つまり、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が４０％以上あり、かつ適度な光反射率（通常、３０％以上）を持つ反射層である。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、半透明反射層３の上層（ここでは中間樹脂層４）の浸み出しにより第１記録層２が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
【００４４】
高透過率を確保するために、半透明反射層３の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２５ｎｍ以下である。但し、第１記録層２が半透明反射層３の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００４５】
半透明反射層３の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く半透明反射層３の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。
【００４６】
なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、反射率が高い点から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
半透明反射層３は膜厚が薄く、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００４７】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００４８】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００４９】
半透明反射層３としてはＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
また、半透明反射層３としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５０】
半透明反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、第１基板１と半透明反射層３との間に、例えば反射率の向上，記録特性の改善，密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層又は接着層を設けても良い。例えば、第１基板１上に、中間層（又は接着層），第１記録層２，中間層（又は接着層），半透明反射層３の順に積層させることで、第１基板１と第１記録層２との間に中間層（又は接着層）を設け、第１記録層２と半透明反射層３との間に中間層（又は接着層）を設けても良い。
（ｄ）中間樹脂層４について
中間樹脂層（樹脂層）４は、透明である必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
【００５１】
そして、中間樹脂層４は、第２記録層５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、中間樹脂層４は通常、樹脂からなるため第２記録層５と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
さらに、中間樹脂層４は、半透明反射層３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。
【００５２】
本光記録媒体において、中間樹脂層４の膜厚は正確に制御することが好ましい。中間樹脂層４の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと２層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００５３】
中間樹脂層４には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層５に情報が記録又は再生される。通常、第２記録層５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録又は再生に適する。本光記録媒体においては中間樹脂層４の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００５４】
このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。以下、このような方法を２Ｐ法（Photo Polymerization法）と称することがある。
中間樹脂層４の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）などの放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。なお、放射線とは、光（紫外線、可視光線、赤外線など）、電子線などの総称である。
【００５５】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、透明であればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００５６】
塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
【００５７】
さて、紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００５８】
本光記録媒体に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル，カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル，ジシクロペンタニル，ジシクロペンテニル，ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６０】
また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
更に、本光記録媒体に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび／または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体に好適である。
【００６１】
このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００６２】
また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００６３】
また、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。
ヨードニウム塩の一例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００６４】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００６５】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００６６】
また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
（ｅ）第２記録層５について
第２記録層５は、通常、片面型記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ+Ｒ）等に用いる記録層よりも高感度である。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが第１記録層２や半透明反射層３の存在等で減少するため、約半分程度のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００６７】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
更に、第２記録層５と反射層６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００６８】
第２記録層５の材料、成膜方法等についてはほぼ第１記録層２と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第２記録層５の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００６９】
第１記録層２と第２記録層５とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
（ｆ）反射層６について
反射層６は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
【００７０】
高反射率を確保するために、反射層６の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産のタクトタイムを短くし、コストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。反射層６の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層６の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分として下記のものを含んでいても良い。他成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を挙げることができる。
【００７１】
中でもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
反射層６は高耐久性（高耐食性）を確保するため、Ａｇは純銀よりも合金として用いるのが好ましい。
【００７２】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００７３】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００７４】
反射層６としてはＡｕのみからなる層は高耐久性（高耐食性）が高く好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層６として用いることも可能である。
反射層６を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、反射層６の上下に、例えば反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層又は接着層を設けても良い。
（ｇ）接着層７について
接着層７は、透明である必要はないが、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
【００７５】
また、接着層７は反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
本光記録媒体において、接着層７の膜厚は、通常２μｍ以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは５μｍ以上である。但し光記録媒体をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００７６】
接着層７の材料は、中間樹脂層４の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層６と第２基板８との間に挟んで押圧することにより、接着層７を形成できる。
（ｈ）第２基板８について
第２基板８は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層７との接着性が高いことが望ましい。
【００７７】
上述のように第１基板１が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板８は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。但し第２基板８は透明である必要はない。また第２基板８は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。
【００７８】
このような材料としては、第１基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。
【００７９】
なお、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板８はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８０】
第２基板８は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
第１基板１と第２基板８の好ましい組合せの一例は、第１基板１と第２基板８とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
【００８１】
他の好ましい組合せの一例は、第１基板１が０．１ｍｍ程度と薄く、第２基板８が１．１ｍｍ程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第１基板１はシート状であってもよい。
（ｉ）その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層３と中間樹脂層４との間、中間樹脂層４と第２記録層５との間、反射層６と接着層７との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００８２】
バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２記録層５や中間樹脂層４と相溶せず、かつ、ある程度の光透過性をもつ必要があるが、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、（１）金属又は半導体、（２）金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは（３）非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、ほぼ透明な誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００８３】
具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物（酸硫化物）；および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物（Ｙ2Ｏ2Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００８４】
金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
【００８５】
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
バッファー層の厚さは２ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させるおそれもある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり２００ｎｍ以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。
【００８６】
また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2等が挙げられる。
【００８７】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００８８】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本光記録媒体においては、３〜５０μｍが好ましい。
【００８９】
更に、上記光記録媒体には、必要に応じて、記録光又は再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
或いは、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板１を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００９０】
また、本層構成の応用例として、記録層を３層以上有する媒体とすることも可能である。
（２）光記録媒体の製造方法（光記録媒体用積層体の製造方法を含む）
次に、本実施形態にかかる光記録媒体の製造方法について、図２を参照しながら説明する。
【００９１】
まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド，プリピットが形成された透明な第１基板１（第１光透過性基板）を、スタンパをもとに射出成形又は２Ｐ法等により作製する。
次に、図２（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた後、第１基板１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布して、第１記録層２（第１色素含有記録層，色素記録層）を成膜する。
【００９２】
なお、有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、溶媒を除去するために高温下［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］に所定時間［例えば５分以上（好ましくは１０分以上）とし、例えば３０分以下（好ましくは２０分以下）とする］だけ保持される（アニール処理）。これは、低温・短時間であると、第１記録層２の感度やパワーマージンが悪くなるからである。一方、高温・長時間であると、第１基板１の反りが増大し、第１記録層２の色素が劣化してしまうからである。
【００９３】
また、赤外線や遠赤外線を短時間（例えば５秒間〜５分間）照射することにより、ディスクの表面温度を高温［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］にすることによっても、アニール処理は可能である。
次いで、図２（ｃ）に示すように、例えばＡｇ合金などをスパッタ又は蒸着することにより、第１記録層２上に半透明反射層３を成膜する。
【００９４】
このように第１基板１上に第１記録層２，半透明反射層３を順に積層することによって作製されたものをデータ基板１３という。ここではデータ基板は透明である。
そして、図２（ｄ）に示すように、データ基板１３の表面全体に例えば紫外線硬化性樹脂（放射線硬化性樹脂）等の樹脂を例えばスピンコート等により塗布する。なお、ここでは、データ基板１３上に直接樹脂を塗布しているが、これに限られるものではなく、例えばデータ基板１３上に他の層を介して樹脂を塗布しても良い。
【００９５】
次に、表面に凹凸を有する型（スタンパ）を用いて、データ基板１３上に塗布された例えば紫外線硬化性樹脂等の樹脂の表面に凹凸を形成する。型としては、生産性、コストなどの観点から、図２（ｅ）に示すように、樹脂からなるスタンパ（樹脂スタンパ，マスター基板）１５を用いるのが好ましい。
ここでは、樹脂スタンパ１５は、図２（ｅ）に示すように、表面に凹凸を有する樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層（剥離層）１７を有するものとして構成している。なお、樹脂スタンパ１５は、表面に凹凸を有する樹脂基板１６のみからなるものとして構成しても良く、この方が生産性やコストの観点から好ましい。
【００９６】
ここで、樹脂基板１６は、逆（ネガ）の凹凸パターンを有する金属製スタンパ（例えばニッケル製スタンパ）を用いて、例えば射出成形や２Ｐ法等により作製すれば良い。
また、樹脂基板１６は透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものが挙げられる。
【００９７】
例えば、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有するものとして構成される場合、樹脂基板１６は、セパレート層１７との密着性が高い樹脂である必要があり、また、成形性などの高生産性，コスト，低吸湿性，形状安定性などの点を考慮すると、ポリカーボネート樹脂からなるものとするのが好ましい。
【００９８】
また、樹脂基板１６の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、０．５ｍｍ以上とするのが望ましい。厚さの上限は特にないが、通常、３ｍｍ以下で十分である。
なお、樹脂スタンパ１５は、中間樹脂層４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良い。また、透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性及びコストの観点から、樹脂スタンパ１５は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。
【００９９】
例えば、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有するものとして構成される場合、セパレート層１７は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く、剥離性が高いものとすれば良い。また、セパレート層１７は、成膜されたときに樹脂基板１６の凹凸を忠実に反映した凹凸が形成されるものとするのが望ましい。
【０１００】
セパレート層１７の材料としては、中間樹脂層４の樹脂との剥離性の点から、金属又は合金が好ましく、例えばＮｉ，Ａｇ，Ａｕ，Ｃｕ，Ｐｔ及びＰｄから選ばれる金属又はこれらの合金を用いるのが好ましい。
セパレート層１７の厚さは、中間樹脂層４からの剥離性を確保するためにはある程度の膜厚が必要で、２ｎｍ以上とするのが好ましい。一方、基板の凹凸を忠実に反映するためには厚すぎないことが望ましく、通常、２００ｎｍ以下が好ましい。
【０１０１】
一方、樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６のみからなるものとして構成される場合、樹脂基板１６は、中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く、剥離性が高いものとする必要があり、また、成形性などの高生産性，コスト，低吸湿性，形状安定性などの点を考慮すると、非晶質ポリオレフィンが好ましい。
例えば、データ基板１３上に塗布された紫外線硬化性樹脂上に樹脂スタンパ１５を載置し、この状態で第１基板１側から紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分に硬化したところで樹脂スタンパ１５を剥離することで、図２（ｆ）に示すように、紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を転写する。
【０１０２】
なお、樹脂スタンパ１５の載置は、紫外線硬化性樹脂の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なわれる。また、ここでは第１基板１側から紫外線を照射しているが、これに限られるものではなく、例えば紫外線硬化性樹脂の側面から照射することもできる。但し、紫外線の照射により第１記録層１がダメージを受けないようにする必要がある。
【０１０３】
このようにして、例えば紫外線硬化性樹脂等の樹脂の表面に凹凸を転写することで、表面に凹凸を有する例えば紫外線硬化樹脂層（放射線硬化樹脂層）等の樹脂層（中間樹脂層）４が形成される。
なお、データ基板１３上に凹凸を有する中間樹脂層４を積層したものを光記録媒体用積層体１４という。このため、上述の図２（ａ）〜（ｆ）を参照しながら説明した各工程を経て光記録媒体用積層体が製造されることになるため、これらの工程を光記録媒体用積層体の製造方法という。
【０１０４】
続いて、図２（ｇ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた後、中間樹脂層４の凹凸を有する側の表面に例えばスピンコート等により塗布し、第２記録層（第２色素含有記録層，色素記録層）５を成膜する。
なお、有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、溶媒を除去するために高温下［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］に所定時間［例えば５分以上（好ましくは１０分以上）とし、例えば３０分以下（好ましくは２０分以下）とする］だけ保持される（アニール処理）。これは、低温・短時間であると、第２記録層５の感度やパワーマージンが悪くなるからである。一方、高温・長時間であると、データ基板１３の反りが増大し、第１記録層２の色素が劣化してしまうからである。
【０１０５】
また、赤外線や遠赤外線を短時間（例えば５秒間〜５分間）照射することにより、ディスクの表面温度を高温［例えば６０℃以上（好ましくは７０℃以上）の温度とし、例えば１１０℃以下（好ましくは１００℃以下）の温度とする］にすることによっても、アニール処理は可能である。
そして、図２（ｈ）に示すように、例えばＡｇ合金などを例えばスパッタ又は蒸着することにより第２記録層５上に反射層６を成膜する。
【０１０６】
その後、図２（ｉ）に示すように、例えばポリカーボネートを射出成形して得られた第２基板８としての鏡面基板を、接着層７を介して反射層６に貼り合わせる。つまり、上述のようにして光記録媒体用積層体１４上に順に第２記録層５，反射層６を積層させたものに、接着層７を介して第２基板８を貼り合わせることで、光記録媒体が製造される。
【０１０７】
なお、接着層７は、不透明でも、表面が多少粗くてもよく、遅延硬化型の接着剤を問題なく使用できる。反射層６上に例えばスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、紫外線を照射してから第２基板８を載置し、押圧して、接着層７を形成できる。或いは、反射層６と第２基板８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層７を形成することもできる。
【０１０８】
また、光記録媒体の製造方法は、上述のものに限られず、他の製造方法であっても良い。
ところで、上述のように、例えば紫外線硬化性樹脂（放射線硬化性樹脂）等の樹脂によってデータ基板１３と凹凸を有するマスター基板（樹脂スタンパ）１５とを固着した後、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離して、データ基板１３にマスター基板１５の凹凸を転写して光記録媒体用積層体１４を作製する場合、マスター基板１５の剛性が高くて変形しにくいと、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離する際に、データ基板１３が変形し、反りが生じてしまうことになる。
【０１０９】
この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。特に、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体の場合には、光記録媒体の反りをできるだけ小さく抑えることが重要になる。
また、上述のように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）することが必要になるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じてしまった状態で、高温下に保持されると、反りがより大きくなってしまうことになる。
【０１１０】
このように、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、例えばＤＶＤ−ＲＯＭのような光記録媒体と比べて、反りを小さく抑えるのが難しく、良好な特性のディスク（光記録媒体）を作製することが難しい。このため、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、反りの制御、即ち、反りを小さく抑えることは特に重要である。
【０１１１】
また、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを例えばスピンコート等によって塗布することになるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じてしまっていると、有機色素を溶媒に溶解させたものを均一に塗布するのが難しくなる。この結果、作製された光記録媒体の記録・再生に影響を及ぼすことになり、良好な特性が得られないことになる。
【０１１２】
これらの課題を解決するために、本発明者らは、マスター基板（２Ｐ用マスター基板）１５の剛性をデータ基板１３の剛性よりも小さくしておくことを考え出した。
ここで、ｋ：比例定数，Ｐ：基板に働く力，Ｅ：ヤング率，ｈ：基板の厚さとすると、基板の撓みｗは、下記式で表すことができる。
【０１１３】
ｗ＝ｋ×Ｐ／（Ｅ×ｈ3）
これによれば、基板の変形しやすさはＥ×ｈ3で規定できることになる。つまり、Ｅ×ｈ3が大きいほど変形しにくく、Ｅ×ｈ3が小さいほど変形しやすいことになる。
このため、データ基板１３のヤング率をＥｄ、マスター基板１５のヤング率をＥｍ、データ基板１３の厚さをｈｄ、マスター基板１５の厚さをｈｍとした場合に、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比［（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）］が大きいと、マスター基板１５が変形せず、逆にデータ基板１３が変形してしまい、データ基板１３に反りや歪が生じてしまうことになる。
【０１１４】
したがって、反りの小さい良好な特性のディスク（光記録媒体）を得るためには、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比［（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）］を小さくすれば良いことになる。
そこで、本実施形態では、データ基板１３とマスター基板１５とが所定の関係を満たすようにしている。つまり、本実施形態では、データ基板１３とマスター基板１５とが、データ基板１３のヤング率をＥｄ、マスター基板１５のヤング率をＥｍ、データ基板１３の厚さをｈｄ、マスター基板１５の厚さをｈｍとして、下記式で表される関係を満たすようにしている。実際には、下記式で表される関係を満たすようにマスター基板１５の材料の選択や厚さの設定を行なうことになる。
（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７
このように、本実施形態では、マスター基板１５のＥｍ×ｈｍ3とデータ基板１３のＥｄ×ｈｄ3の比（Ｅ×ｈ3比）が１．２７以下になるようにしているが、より好ましくは１．１５以下になるようにする。
【０１１５】
一方、Ｅ×ｈ3比の下限値は０．００１以上とするのが好ましく、より好ましくは０．０１以上とし、さらに好ましくは０．１０以上とする。これは、あまり小さいと取り扱いに支障をきたすことになるからであり、また、ある程度大きい方が、マスター基板１５も大きく反らなくなるので、繰り返し使用が可能となり好ましい。
【０１１６】
なお、本実施形態の片面２層ＤＶＤ−Ｒの構成は、色素含有記録層以外は一般的な片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭの構成と同様であるが、片面２層ＤＶＤ−ＲＯＭを作製する場合には、一般にスタンパ（マスター基板）の材料としてはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（表面に反射膜が形成されたもの）が用いられている。ＰＭＭＡのヤング率は３．０×１０9であり、一般に厚さが０．６ｍｍのものが用いられるため、Ｅ×ｈ3比は１．３０４となる。
【０１１７】
また、マスター基板１５のヤング率は、１．００×１０9以上とするのが好ましい。一方、マスター基板１５のヤング率は、５．００×１０9以下とするのが好ましい。
また、データ基板１３のヤング率は、１．００×１０9以上とするのが好ましい。一方、データ基板１３のヤング率は、５．００×１０9以下とするのが好ましい。
【０１１８】
さらに、マスター基板１５の厚さは、０．３ｍｍ以上とするのが好ましい。一方、マスター基板１５の厚さは、０．９ｍｍ以下とするのが好ましい。
また、データ基板１３の厚さは、０．３ｍｍ以上とするのが好ましい。一方、データ基板１３の厚さは、２．０ｍｍ以下とするのが好ましい。
このような関係を満たすようにするためには、マスター基板１５及びデータ基板１３の双方を樹脂からなるものとする。
【０１１９】
好ましくは、マスター基板１５は、ポリカーボネート，非晶質ポリオレフィン［例えば日本合成ゴム社製のアートン（登録商標），日本ゼオン社製のＺＥＯＮＥＸ（登録商標），ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）など］からなるものとする。
また、マスター基板１５をセパレート層（剥離層）１７を含むものとして構成する場合、セパレート層１７としては、例えばＡｇ，Ｎｉなどの金属層を設けるのが好ましい。
【０１２０】
したがって、本実施形態にかかる光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法によれば、片面２層ＤＶＤ−Ｒの製造工程において、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離する際に、マスター基板１５が変形しやすくなるため、マスター基板１５をデータ基板１３から剥離しやすくすることができ、また、データ基板１３が変形しにくくなり、反りを小さく抑えることができるという利点がある。
【０１２１】
これにより、ＤＶＤのようにデータを高密度に記録する光記録媒体において、良好な特性のディスク（光記録媒体）を作製できることになる。
また、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じるのを抑えることができるため、片面２層ＤＶＤ−Ｒを製造する際に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、比較的高温下に保持（いわゆるアニール）したとしても、データ基板１３の反りがより大きくなってしまうことがない。このため、本発明は特に色素含有記録層を有する光記録媒体に適用すると効果が大きい。
【０１２２】
また、片面２層ＤＶＤ−Ｒのような光記録媒体では、マスター基板１５を剥離した後に第２色素含有記録層５を形成するために、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを例えばスピンコート等によって塗布することになるが、マスター基板１５を剥離させる際にデータ基板１３に反りが生じるのを抑えることができるため、有機色素を溶媒に溶解させたものを均一に塗布することができるようになり、この結果、良好な特性の光記録媒体を作製できることになる。
【０１２３】
なお、本実施形態では、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒに本発明を適用した例を説明したが、これに限られるものではなく、データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、樹脂にマスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成する樹脂層形成工程を含む製造方法によって製造される光記録媒体又は光記録媒体用積層体であれば、他の構成の光記録媒体であっても本発明を適用することができる。
【０１２４】
例えば、記録層を１層しか有しない光記録媒体に適用することもできる。また、記録層を３層以上有し、中間樹脂層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。この場合、２層以上有する中間樹脂層のそれぞれを形成するのに本発明を適用することができる。さらに、上述の実施形態ではいわゆる基板面入射型の光記録媒体に本発明を適用する場合について説明したが、いわゆる膜面入射型の光記録媒体に本発明を適用することもできる。
【０１２５】
【実施例】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例では、異なる材質で、様々な板厚を持つ基板をマスター基板として用いて剥離テストを行なった。この結果は下記表１に示すようになった。
【０１２６】
ここでは、全ての実施例及び比較例において、データ基板として、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。ここで、データ基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2である。
なお、表１では、それぞれの実施例，比較例毎に、マスター基板の材質，マスター基板上に設けられる剥離層，ＵＶ硬化性樹脂，マスター基板の厚さｈ（ｍｍ），マスター基板のヤング率Ｅ（Ｎ／ｍ2），マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比（Ｅ×ｈ3比），剥離試験結果を示してある。
【０１２７】
また、反り量は、データ基板をマスター基板又はマスター基板+ニッケル薄膜から剥離した後、１００℃で３０分間ベーキングし、データ基板の端面を接地して他方の端面の接地面からの浮上量を測定して得た。
【０１２８】
【表１】
（実施例１）
実施例１では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍのポリカーボネート製のマスター基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．００である。
【０１３０】
ここでは、ＵＶ硬化性樹脂の剥離性を考慮してマスター基板上に剥離層を設けるべく、マスター基板上にニッケルをスパッタして厚さ１０ｎｍのニッケル薄膜を形成した。
そして、マスター基板の内周側にスリーボンド社製ＵＶ硬化性樹脂30Y266Eを２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、４０００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは３０μｍであった。
【０１３１】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１３２】
また、データ基板の反り量を測定したところ、２ｍｍであった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例２）
実施例２では、マスター基板として厚さ０．１０ｍｍのポリカーボネート製の基板（ポリカーボネート製シート）を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．１０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は０．００５である。
【０１３３】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板と、マスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例１）
比較例１では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は８．００である。
【０１３４】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（比較例２）
比較例２では、マスター基板として厚さ１．１０ｍｍのポリカーボネート製の基板を用いた。表１に示すように、ポリカーボネート製のマスター基板のヤング率Ｅは２．２５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．１０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は６．１６である。
【０１３５】
そして、実施例１と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（実施例３）
実施例３では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの日本合成ゴム社製のアートンから成るマスター基板を用いた。表１に示すように、アートン製のマスター基板のヤング率Ｅは２．８４×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．２６１である。なお、アートンはＵＶ硬化性樹脂に対して剥離性が良いため、剥離層は設けなかった。
【０１３６】
そして、マスター基板の内周側に大日本インク社製ＵＶ硬化性樹脂ＳＤ３９４を２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、３５００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは１５μｍであった。
【０１３７】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板+ニッケル薄膜とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１３８】
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例３）
比較例３では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのアートン製の基板を用いた。表１に示すように、アートン製のマスター基板のヤング率Ｅは２．８４×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１０．０９である。
【０１３９】
そして、実施例３と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（実施例４）
実施例４では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．５９ｍｍの日本ゼオン社製のゼオノア１０６０Ｒから成るマスター基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．５９ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は０．９９である。なお、ゼオノアはＵＶ硬化性樹脂に対して剥離性が良いため、剥離層は設けなかった。
【０１４０】
そして、マスター基板の内周側に大日本インク社製ＵＶ硬化性樹脂ＳＤ３９４を２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、３５００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは１５μｍであった。
【０１４１】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
【０１４２】
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例５）
実施例５では、マスター基板として厚さ０．６０ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．０４である。
【０１４３】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（実施例６）
実施例６では、マスター基板として厚さ０．６２ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６２ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は１．１５である。
【０１４４】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、データ基板とマスター基板とは容易に剥離させることができた。このため、表１では剥離試験結果を「ＯＫ」としている。
また、データ基板の反り量を測定したところ、１ｍｍよりも小さかった（表１参照）。このようにデータ基板の反り量は十分に小さく、反りの小さい良好なデータ基板を得ることができた。
（比較例４）
比較例４では、マスター基板として厚さ１．２０ｍｍのゼオノア製の基板を用いた。表１に示すように、ゼオノア製のマスター基板のヤング率Ｅは２．３５×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが１．２０ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は８．３５である。
【０１４５】
そして、実施例４と同様に、マスター基板とデータ基板とを貼り合わせてディスクを作製し、同様の方法でデータ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（比較例５）
比較例５では、内径１５ｍｍ、外形１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのガラス／ＵＶ硬化樹脂層（２Ｐ）からなるマスター基板を用いた。表１に示すように、ガラス／ＵＶ硬化樹脂層製のマスター基板のヤング率Ｅは９．３１×１０9Ｎ／ｍ2であり、基板の厚さが０．６ｍｍであるから、Ｅ×ｈ3の比は４．１３である。なお、ガラスは０．６ｍｍ、２Ｐは数１０μｍであり、２Ｐのヤング率は不明であるが、２Ｐの厚さはガラスよりも薄く、ヤング率もガラスよりも小さいので、２ＰのＥ×ｈ3（剛性成分）は無視できるものとしてＥ×ｈ3の比を求めた。
【０１４６】
ここでは、ＵＶ硬化性樹脂の剥離性を考慮してマスター基板上に剥離層を設けるべく、マスター基板上にニッケルをスパッタして厚さ１０ｎｍのニッケル薄膜を形成した。
そして、マスター基板の内周側にスリーボンド社製ＵＶ硬化性樹脂30Y266Eを２ｇ滴下した後、同じ大きさのデータ基板を載せて、４０００ｒｐｍで３秒間回転させ、振りきった。これに強度３５０ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を４秒間照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、２枚の基板を固着した。ＵＶ硬化樹脂の厚さは３０μｍであった。
【０１４７】
このようにしてマスター基板とデータ基板とを貼り合わせてなるディスクの内周側から（外周側からでも良い）マスター基板とデータ基板との間にカッターを挿入して、データ基板からマスター基板を剥がそうとしたところ、マスター基板が思うように変形せず、データ基板とマスター基板とを剥離させることはできなかった。むりやり剥離させようとしたところ、データ基板が割れてしまった。このため、表１では剥離試験結果を「ＮＧ」としている。また、データ基板の反り量は測定できなかった。
（まとめ）
以上の結果をまとめると、マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比が１．２７を越える場合には、両基板を簡単には剥離させることができず、無理に剥離させようとするとデータ基板が割れてしまうことが分かった。一方、マスター基板のＥ×ｈ3とデータ基板のＥ×ｈ3の比が１．２７以下であれば両基板を容易に剥離させることができ、また、反りの小さい（例えば２ｍｍ以下）良好なデータ基板が得られることが分かった。
【０１４８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の光記録媒体の製造方法及び光記録媒体用積層体の製造方法によれば、積層型のデュアルレイヤタイプの片面入射型ＤＶＤ−Ｒを作製する際に、マスター基板をデータ基板から剥離しやすくし、データ基板が変形しにくくして、データ基板に生じる反りを小さく抑えることができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる光記録媒体の全体構成を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施形態としての光記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１ 第１基板
２ 第１記録層（第１色素含有記録層）
３ 半透明反射層
４ 中間樹脂層（中間層）
５ 第２記録層（第２色素含有記録層）
６ 反射層
７ 接着層
８ 第２基板
１１，１２ 記録トラック
１３ データ基板
１４ 光記録媒体用積層体
１５ 樹脂スタンパ（マスター基板）
１６ 樹脂基板
１７ セパレート層（剥離層）
Claims (6)
- データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、前記樹脂に前記マスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成する樹脂層形成工程を含む光記録媒体の製造方法であって、
前記データ基板と前記マスター基板とが、前記データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、前記マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、
（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７
の関係を満たすことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。 - 前記マスター基板及び前記データ基板が樹脂からなることを特徴とする、請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
- 前記樹脂層形成工程の後に、高温下に保持する工程を含むことを特徴とする、請求項１又は２記載の光記録媒体の製造方法。
- 前記樹脂層形成工程の後に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させたものを塗布した後、高温下に保持して色素含有記録層を形成する工程を含むことを特徴とする、請求項１又は２記載の光記録媒体の製造方法。
- データ基板上に、直接又は他の層を介して樹脂を塗布し、凹凸を有するマスター基板を固着した後に剥離して、前記樹脂に前記マスター基板の凹凸を転写して樹脂層を形成して光記録媒体用積層体を製造する光記録媒体用積層体の製造方法であって、
前記データ基板と前記マスター基板とが、前記データ基板のヤング率をＥｄ、厚さをｈｄとし、前記マスター基板のヤング率をＥｍ、厚さをｈｍとして、
（Ｅｍ×ｈｍ3）／（Ｅｄ×ｈｄ3）≦１．２７
の関係を満たすことを特徴とする、光記録媒体用積層体の製造方法。 - 前記マスター基板及び前記データ基板が樹脂からなることを特徴とする、請求項５記載の光記録媒体用積層体の製造方法。
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