TWI353954B - Reticle-carrying container - Google Patents
Reticle-carrying container Download PDFInfo
- Publication number
- TWI353954B TWI353954B TW094138349A TW94138349A TWI353954B TW I353954 B TWI353954 B TW I353954B TW 094138349 A TW094138349 A TW 094138349A TW 94138349 A TW94138349 A TW 94138349A TW I353954 B TWI353954 B TW I353954B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- reticle
- container
- door panel
- holder
- movable pin
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
丄 九、發明說明: 【夯明所屬之技術領域】 ^本發明係關於為了收容在搬運使用於在基板上轉印設 〇〇 、 *光機等時的標線片(r e t i c 1 e )之標線片搬運容 半導體元件或液晶顯示元件等之製造係以光微影術 片li::raphy)步驟所實施。在此步驟中,使形成在標線 —包3光罩)之圖案的圖像被以曝光機投影轉印至半導 =圓或麵板等的基板上。此時,在基板上被塗佈有感 先训,破投影之圖案和感光劑相反應,而經過其 則形成電路。 、 〇 乂驟中,為了防止因灰塵等所發生之污染或接觸等 而損傷標線片,其被收容在專用的標線片搬運容器 理。 心 此夺田所形成之電路複雜時,由於必須在基板上|y作 多數個電路圖案’因此’必須準備多數相應的標線片,、並 在基板上疊售多數個圖案而曝光。 【先前技術】 圖2表示在此光微影術步驟中所使用之裝置的一例。圖 中1係在基板上投影•轉印電路圖案之曝光機。2係 容保管多數個標線片之標線片貯存器。3係可收容標線片 之標線片搬運容器。4係被設在曝光機1#口標線片 2之間為了在此等之間以標線片搬運容器3收容標線 狀態的搬運用之搬運執。5係被設在搬運軌4可直接保持 312XP/發明說明書(補件)/95·02/94138349 6 1353954 標::搬運容器3而搬送之搬送機構部。 、、係以控制裝置(未圖示)所控制 7K所必要之碑& u Y 、 此在電路圖 態藉由搬運^ 以被收容在標線片搬運容器3之狀 田搬運執4之搬送機構部5而 狀 曝光機1被搬運。暖本地】& '、、··良片貯存器2朝向 4之搬送機構部5 = 不要的標線片則藉由搬運執 ,稱口ρ 5而被运回到標線片貯存器卜 以上的步驟中所使用之標線片當因 而受損傷時則無法製成正確的電路圖 全且確實地支持標線片其為被收容在標線片搬 —日本專利特開平1(M63G94號公報為此—標 谷^之-例。此專利特開平1〇—163〇94號公報中標^ ^ t持手段係使用銷。作為自下側支持標線片之手:係在 角隅之位置設置標線片支持銷。作為自周圍支 持成在水平方Μ會使標線r 水平移動之止動銷。又,作為自士係。又置可抑制 作為自上側支持標線片之手段# f置標線片押板。由此,則可支持標線片之m方向而固 定之。 礴 在此一標線片搬運容器的下側面,通常設有活動銷槽 〇unematlc pin groove) ’而嵌合於裝置側之活動銷,如 此可正確地使標線片搬運容器定位。此活動銷槽及活動銷 大約在二等邊二角形的各頂點位置各設有3個。 但是’上述以往的標線片搬運容器3,在標線片貯存哭 2收容此標線片搬運容器3時,當標線片搬運容器3的; 312XP/發明說明書(補件>/95-〇2/941383抑 7 向¥更180。時,則活動 嵌合。因此,必須充八、卜/ 槽會變成相反而不能 嵌合,結果,二==搬運容器3的方向以作 【發明内容】吏作業效率減低之問題。 為了解決上述問題,本發明一 a 的方向誤差而謀求作業效率提高者。搬運容器 端具有開π而具有可收容 P =二具有: 開口將其塞住之門板(d〇〇r);及 内:Z覆盘上述 閉芙式容器(_)時可氣密地密封内部之H塞^上述密 的標線片搬運容器,其特徵 二材:二如此 被形成在上述門板的外側表面以上變更 活動銷槽。 你衷罝侧疋位文裝用之 即片貯存器裝著於前述標線片搬運容器時’ 二=,容器的方向誤差也可照樣地安裝,而不須 要過度地注思標線片搬運容器的方向者。 的^述枯密閉英式容器的外側表面對應於上述活動鎖槽 任行上述活動銷槽保持用之支承部配設成可自 方向均可嵌合上述二組活動銷槽如此為佳。 藉此,可層疊複數個標線片搬運容器而不須過度注意其 方向。 【實施方式】 /以下’—面參照附圖—面說明本發明之實施形態。圖1 係自其底面侧觀看門板之斜視圖’圖3表示本實施形態使 標線片搬運容器之密㈣式容器和門板互相分離之狀態 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 8 丄 的斜視圖,圖/生_ 剖面圖,圖,表示本貫施形態之標線片搬運容器的側視 份剖面圖,圖表β不本實施形態之標線片搬運容器的重要部 m 表示無線掉籤之^不薄膜過滤器之重要部份剖面圖,圖7 _ ν織之重要部份剖面圖。 容=:=:係二3及圖4所示,主要由可收 莢式容琴13在閉莢式合益(P〇d)13 ;及,可堵住此密閉 U和門Γ14之門板(d〇〇r)14;及,被設在密閉英式容器 構成。 間可氣密地密封内部之密封材料15;如此所 Η 了、:英:容器13係由在内部可收容標線片Μ本體部 被—體形成在該本體部17的外周且# Η之周緣嵌合部18;如此所構成。 “於門板 容;;被形成為淺盤狀’被設定成在内部可完全收 :;=2的深度。在本體部17的中央部,設有搬運用 伸之板狀水平延 結“可==運 在曝光=3。又’侧部操作凸緣21係被使用作 在曝光機内自密閉莢式衮哭n嬙 助支持手,。7 ^ 機械地分離門板W時之補 有後述之、:叙’在本體部17的外側表面之周緣部,設 對二Π銷槽61之支承部22在—邊各有3個部位而 2 2邊“十設有6個部位。此6個部位之支承部u係 ::於活動銷槽61之位置,而被配設成自任一方向均可 敢一組活動鎖槽6卜各支承部22係以半圓形的板材料 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-02/94138349 9 ^53954 被形成平面形狀。平面半圓形的各 向外側開口。平&车 。卩22被配設成朝 成比基端側更互相土 /、<承部22,其先端側被形 的標線片搬運容哭^ 朝内側傾斜。由此,在下側 月搬運容器u之;7部22則容易嵌合上側的標線 此,可容县日— 由於其可正確地定位,因 铁,此等支定地層疊複數個標線片搬運容器1卜當 形以外的形狀也可以。承又活動鋼槽的話構成半圓 在本體部17的内側之四角隅 25。此標線片保持 ^又有心線片保持裔 線月伴拉仰π 疋為了支持和後述門板14側的標 片保持益45形成成對之標線片 •持器25係,如圖4乃岡^ J稱仔此心線片保 持哭板邻由保持器支承部26及保 寺;板。”7所構成。保持器支承部 板部27之構件。徂姓时士 7如 ~ J又付保得盗 髀、由 ’、' 益支承邛26係和本體部1 7 —起一 體被形成於本體部17内側的四角隅附近。且體而士 _形成在本體部17的角隅角 八 °猎 的一邊抵接在標線片12的上側角 八 支持之傾斜面部28的一邊。在早m成為形成彈性 斜面部28之一邊的一端支承部26中形成傾 ^ 5又有保持器板部27之一端部嵌 二的-端側嵌合用缺口29。在保持器支承 =㈣的一邊之另一端則設有保持器板部_另一端 用缺口 3〇°又,在形成傾斜面部 ,-邊設有凹部31。此一凹部31是為了在設 。㈣之内側的標線片12之上側角部m抵接時可容許傾 312XP/發明說明書(補件)/95-02/9413 8349 10 1353954 斜面部2 8的彎曲之Αβ a — 具有緩衝之功能。亦。即保持器板部27 彈性共同因凹部31而佯持1 /。板^ 27本身所具有的 自外部吸收傳導入之振動 <曲則其了 12之缓彳動專而具有可彈性地支持標線片 力月b°凹部31之縫隙只要!_程度即可。 成彈#岫古技·^, _接於軚線片12的上侧角部12A而形 地支持之傾斜面部28的構件,持器板 彈性高分子材料所形成 行-扳。”7為以 體)、PBT (聚對苯二甲酸;° ’用PEE (聚醋彈性 會發生灰塵之彈性材料:::”、PP(聚丙稀)等不 H —山: 保持裔板部27係由:抵接面板 構成呈::合部34;及,另-端嵌合部35;如此所 籌成而其:面形狀被形成不正常…狀。抵接面板
^為了以保持11板部27嵌合在保持器支承部26之狀 態構成傾斜面部2 8之i盖杜 M J h人上 構件。由於抵接面板33係以具有彈 广成树脂所形成’因此,其本身可彈性變形,同時, :性ί可彈性_曲,並成為自傾斜方向抵接而 弹性地支持私線月〗2的上側角部〗2Α。 一端嵌合部34是為了嵌合彳早拉:S^± 7 Α。 人用缺口 μ幻Γ 支承部26的一端側嵌 售 口二缺口 29,在保持器支承部26上安裝保持器板部27 ::伤。另一端嵌合部35是為了嵌合保持器支承部26的 另一端側嵌合用缺口 30,在保持器支承部 器板…部份。藉此,一端嵌合部34及另一端:::: 35後合於'端側嵌合用缺口 29及另—端側嵌合用缺口抑 時,在保持器支承部26則可固定保持器板部27。 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95·〇2/94〗38;349 ] 3 1353954 ,在本體部17的内相,I + 也„„ ^ 9r 側之四角隅附近,和上述標線片俘牲 裔25—起也設有護 +描& 保持 士雀聪〆 保持益37。在標線片1 2有.夫吟古 相(pelUde)之情形,以及在下側面 二未-有 形,以及在上下兩側面設 ° 4膜46之情 37係在標線片12之上側面二有二情形。護膜保持器 護膜保持器37係具有# 具有機能之構件。 即,護膜保㈣3 7係^2 5㈣的構成。亦 义加n 由.和才示線月保持器25的俘掊if * 承部26同-構成之保持器支 的保持益支 器2 5之保姓。。加 ,及,和標線月保持 、保持。。板邛27同一構成之保持器板 所構成。在保持器板部39 * 25的凹邱Ή π頂惻貝】叹有和標線片保持器 二凹。Ρ 31 R—構成之凹部(未圖示)。 密閉莢式容器(p〇(j)i3的周緣嵌入 圖4所示,被形成自, 口 ° 8係’如圖3及 妝"邮 自本體17之周緣突出至周圍之淺盤 狀;此灸盤狀的周緣嵌合部18係被設定 = 的周圍之深度。在周緣嵌合部 收:: 固定門板14之扣具41。 遗汉有 =二係嵌合於密閉英式容器13的周緣银合部18, 部之構^ 藉由密封材料15氣密地密封内 約平拍狀二係’如圖3〜圖5所示,被形成為大 ^ _狀,在其周緣設有密封溝43。密封材料15 此祖封溝43 ’而可氣密地密封密 _ 、 之間。在門㈣的上面:,?=^ 持構件“。此門板侧支持構件、==門板側支 持互相結合在上述密閉英式容哭】上下兩側可支 13側的標線片保持器25 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 12 之標線片的標線片保持器45 片12之下側面的護 可支持被安裝在標線 支持此專之底座板部48,H 7,及,可-體 之構成係,保持器支承部5 。標線片保持器45 標線片保持器25的保持器板部27T^英式容器13側的 向偏離之鏡像對象所構成 :圖5紙面垂直方 保持器支承部5〇及伴 軲線片保持器45係由 標線片保持器25的:;:=51所構成,此等係和上述 為如照鏡時之對象的構成。^二26,保持器板部2 7成 52也具有和標線片 $反部51的内側之凹部 即’保持器板部藉凹部52彈性地以=能。: 抵::地支持標線片12的下側角部:傾斜方向 上述構成之標線片保持器45 在互相偏離之位置, 不、,,片保持盗25係被設 以此標輪持;25 :互不會干涉地支持標線片… 置。當二二挟持標線片12並支.持於規定位 田对卜在閉夾式容器】3後,庐 的標線片保持器45而自、Γ片也㈣板14 態被支持。護膜保持器47 :間隔規定的距離之狀 之《蒦膜支承部5 6也和资閉贫 容f 13側的護膜保持器37的保持器板部39成為:圖: 之二内:向偏離的鏡像對象之構成。亦即,護膜保持器 糸.饴閉夾式容器13側的護膜保持器37之保 承部38和鏡像對象的保持器支承部55;及,保持器板^ 39和鏡像對象之保持器板部56;如此所構成。在保持器 板部56之内側設有和護膜保持器37的凹部同-構成之凹 3 J 2XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 13 1353954 部(未圖示)。 在門板U的裏面’如圖“斤示,設有2組活動銷槽 (^細心抑。ve ριη)Η。此活動銷槽 光機定位安裝用之構件。活動銷槽61在大約二等邊= 狀頂^置設有3個—組,而在—之_ 二組(61A、61B)’合計設有6根。這是為了在裂置内1 二標線片搬運容器。llB夺,即使作業者將標線片搬運容器 之方向弄錯180。而裝著時,也可照樣地安裝者。 ” 6所示,在密閉芙式容器13形成 ,部62。_膜過據器安裝部62是為了可確實安裝= 二易卸下:專膜過滤n(membrane fnter)63用之部‘。此 ;4膜過濾、器安裝部6 2传由.道;^ β ς . n n 丨」係由.導官65,及,過濾器嵌合筒 4 66 ’及止動器67 ;如此所構成。 導b 65疋為了在内部收容固定薄膜過滤器 此導管65係被一體地設在 之间。p 導管65之外側係開σ且可;本體部17。 J裝卸涛膜過濾、器6 3。又,導瞢 =也m置換標線片搬運容器u内用的氣體之氣體 鬌 遽器嵌合筒部66。此一 4::之内側被塞住且設有過 』I的此過濾器嵌合筒部66是為 ===筒部71之筒部。過滤器嵌合_ 二=在:為自其内側底部朝一^ 1二在導官65的内側面之中間位置設 =止動器67是為了使裝在導管65内的薄膜過減器 63固疋成不會脫落之構件。 心 312XP/發明說明書(補件)/95_〇2/94138349 14 々溥膜過濾器63是為了在標線片搬運容器u的内外容許 氣體出入用之過濾器。此—薄膜過濾器Μ係在標線片搬 運容器的内外側間可防止灰塵等通過而僅容許氣體出 入者。薄膜過濾器63係由:過濾器本體7〇 ;及,嵌合筒 部71 ;及開口筒部72 ;如此所構成。 過漉器本體部70被形成為較厚之圓餘,在内部收容 有過_。過濾器本體部7G的直徑被設^成可繫止上述 止動器67之大小。嵌合筒部71是為了使過濾器本體部 内和標線片搬運容器u内連通之構件。嵌合筒部” 係以薄膜過;慮器63被裝在導管65内之狀態,嵌合在過遽 斋嵌合筒部66而使過遽器本體7〇内和標線片搬運容器 Π内連通者。開口筒部7? |^ 4A 门1 Z疋為了藉由過濾器而使標線片 :運容器11内和外部之筒部連通者。又,過遽器被填充 空氣中之灰塵成分。)而可除去惰性氣體或乾燥 如圖7所示’在門板14的外側表面設有無線標籤 (wlrelesstag)74。此無線標籤74係以覆蓋板?5所覆宴 之狀態而安裝在門板14的相表面。覆蓋板75係以^ 覆蓋無線標籤74之狀態而料其全周且内部被密封 覆蓋板75形成有可收容無線標籤74之凹部μ 鐵74係以被收容在此覆蓋板75的凹部75a之i : 蓋板75之全周㈣著在門板14之外側表面。由此 標鐵74被密封收容於覆蓋板75内。這是因為 = 運容器η搬運中等,其可防止無線標鐵74脫 : 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-02/94丨38349 1353954 壞用者。x,其亦可防 染。此一無線標ft 74传葬^身所致之裝置的污 非接觸狀態可寫人编= 外之^電磁波之變化 收藏有處理、保管等時所=之:件。此一無線標藏74 斤肩要之各種管理資訊。 又,此處::兒Si:::片搬運容器11為如下而被使用。 in, 2 不、片搬運容器11使用於在半導體晶 ®上燒印電路圖案時的處理之例。 干令胆曰日 首先’在標線片搬運容哭〗1 ^ — 標線片12被載置在門板J :線片&此時’ 被安裝在密閉英式容器13之:且線:保持f 45上,而以 片12以門板14側的標線片 1口疋。由此’標線 =;保持_ 二 ί ^ 51" 1 ^ ^ # ^ # ^ ^ ^ 被抵接支持在標線片保持器“= 角部12A 由於在保持器板部…-之内 許保持器板部5卜27之彎曲,因此,其可彈性=谷 線片12。由此,標線片! 2 Α表 、 支持私 全部的自由度並固定在標線片搬運容曰,而可抑制 線=樣1Γ有護膜46時’此護膜46係藉和上述桿 線片12同樣的作用’而藉由護臈保持器 /‘ 如此,標線月12在標線片搬運容器u内各=三一 片’而由作業者在標線片貯存器皮收谷- 量。此時,標線片搬運容器積:子女裝必要的數. 雖然以配合全部所設定的 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95_〇2腕38349 ]6 丄 =向來收容較佳,但是即使方向不同時藉二組活動銷槽 其也可被安農。亦即,即使標線片搬運容器11的方向 t開180:時,二組中之-邊的活動銷㈣可嵌合安裝標 矣片貯存β 2的活動銷。又,在層疊複數個標線片搬運容 器11時,配合活動銷槽61被設在6個部位之支承部22 ,可和^線>|搬運容器丨丨的方向無關係地接受活動鎖槽 1而互相地嵌合,如此使各標線片搬運容器iijl確地定 位並安定地層疊。由此,作業者不必過度注意即可在標線 月貯存器2内安裝標線月搬運容器u。 >其後之標線片搬運容器n的搬運等則全部均以機械實 施二亦即,自標線片貯存器2取出標線片搬運容器U而 收容’以搬送起重機(crane)使其在搬運執上移動,使標 線片搬運容器11㈣標線片12定位(set)在曝光機^ 止之操作全部均以機械所實施(SMIF : Standard Mechanical Interface)〇 搬運執4之搬送機構5係以標線月貯存器2内的標線片 搬運容器11和其中央操作凸緣2〇互相被結合而舉起。然 後,以搬運軌4被移動至曝光機j。 其次,標線片搬運容器11被導入至曝光機丨内。然後 標線片12被移至曝光機丨之自動曝光台(未圖示)上, 其被正確地定位之狀態設置在已被安裝之半導體晶圓上 並自動實施曝光作業。 曝光終了後,標線片12被送回標線片搬運容器丨〗,再 以搬送機構部5移動搬運軌4回到標線片貯存器2。 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 ’在以上之處理步驟中,佑昭诎 訊作步 H己錄在無線標籤74之資 奸 L牵。在私線片搬運容器11的門板14之益綠姆 =’㈣有標線;^12的種類或作業經歷等各種資訊『 ::::光機1内的讀取裝f (未圖示)則以非接觸方式 二制箄㈣之資訊’依照該資訊而實施曝光機1内之 _專。曝光作業終了後’因應必要以寫入裝置(未圖 不-在無線標籤74上寫入標線片12或標線片搬運容器“ 之&歷、作業經歷等。由此’則可順利地實施曝光作章 或管理等。 $ 此時,由於無線標籤74係藉覆蓋板75所密閉收容,因 此除了不會使無線標籤74脫落或機械損傷外,也可防 -业無線標籤74本身所招致之裝置污染。 又,將標線片搬運容器丨丨置於壓力變動之環境時,例 如以飛機運送等,置放在上空比較低氣壓之環境及地上 比較向氣壓之環境時,標線片搬運容器丨丨的内壓有時會 鲁變成比外壓更低。在此情形下,雖然難以使密閉莢式容 益13和門板14分離,但由於薄膜過濾器63可容許氣體在 才不線片搬運谷益U的内外出入’因此’其可防止標線片 搬運谷裔11的内壓變成比外壓更低。由此,可容易使密 閉莢式容器13和門板14分離。 又’要置換標線片搬運容器11内的氣體時,可在薄膜 過;慮器女裝部6 2的導管6 5插入氣體供給管並接續,且對 導管65送入惰性氣體或乾燥空氣。 如上,由於錯開18 〇。設有二組活動銷槽61,因此,即 312χρ/發明說明書(補件)/95-02/94138349 18 丄 使標線片搬運容器n之方向錯誤安裝時,活動銷槽61也 f對2容許而使其安裝。由此,作業者不必過度注意即 可將軚線片搬運容器i i安裝在標線片貯存器2而提高其作 換σ之,作業者將上述標線片搬運容器11弄錯180。方 向之狀態而女裝在標線片貯存器2時,l8〇t>變更方向之二 二,銷^曰61也可谷许此種情形而使前述標線片搬運容 _器11安裝,其不必過度注意上述標線片搬運容器11的方 向即可使其層叠,在上述標線片㈣容器11安裝時則可 提面作業之效率化。 ,在岔閉莢式容器13的本體部17,由於配合活動銷 =61没有6個支承部22,目此,不必注意標線片搬運容器 的方向,即可堆積複數個標線片搬運容器1卜因此, 作業者不必過度注意即可提高其作業性。 山換言之,由於使上述支承部22配設成從任一方向均可 嵌合上述二組活動銷槽61,❿其不必過度注意其方向即 可複數個標線片搬運容器n,因此,其在標線片搬 運令裔11的層疊作業時可謀求作業效率化之提高。 又,標線片12等因標線片保持器25等不會損傷而可安 全且確實地被支持,而可更慎重地處理標線片12等。 又’由於在無線標籤74有記錄管理各種資訊,因此, ===可提高作業效率。此時,由於無線標籤74 係猎覆盍板75所密閉收容’因此,其除了 藏74脱落或機械損傷外,也可防止無線標籤74本;2 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94】38349 19 1353954 之裝置污染。 又’由於藉薄膜過濾器63可容許氣體在標線片搬運容 器11的内外出入’因此,其可防止標線片搬運容器11的 内壓變成比外壓更低’而容易使密閉莢式容器13和門板 • 14分離。又,其可容易地置換標線片搬運容器11内的氣 體。 又’在上述實施形態中’雖然在密閉莢式容器13側設 鲁有1個薄膜過濾器63,但其也可設在門板丨4側。薄膜過 濾态6 3之設置個數也不限於1個,也可設置2個以上。 在密閉英式容器13或門板14之任一邊或雙方,設置1個 .或複數個薄膜過濾器63均可。在此情況下,係設在不會 有其他妨礙之位置。 又,在上述實施形態中,雖然使無線標籤74設在門板 14之外側表面的一個部位,但因應必要也可設置2個以 上。其设置部位並不限於門板i 4也可設在密閉莢式容器 籲13。或設在雙方亦可。基於所被要求之功能、讀取裝置及 寫入裝置之關係,也有設在密閉莢式容器13側者。又, s己錄在無線標籤74之資訊也不限於作業經歷等,其也可 λ 記錄其他各種資訊。 【圖式簡單說明】 圖1(A)、(Β)係自其底面側觀看本發明實施形態之門板 的斜視圖。 圖2表示在光微影術步驟中所使用的裝置之一例的概 略構成圖。 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-〇2沙413 Μ49 20 1353954 .圖3表示使本發明之實施形態的標線月搬運容器使其密 閉莢式容器與門板互相分離狀態的斜視圖。 圖4表示本發明實施形態的標線片搬運容器之側視剖面 , 圖。 圖5表示本發明實施形態的標線片搬運容器之重要部份 剖面圖。 圖6表示本發明實施形態的薄膜過濾器之重要部份剖面 圖。 圖7表示本發明實施形態的無線標籤之重要部份剖面 圖。 【主要元件符號說明】 1 曝光機 2 標線片貯存器 3、11 標線片搬運容II 4 搬運軌 5 搬送機構部 12 標線片 12A 上流側角部 12B 下流側角部 13 敌閉爽式容哭 14 門板 15 密封材料 17 本體部 18 周緣嵌合告|5 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 1353954
ψ 2Ό 中央操作凸緣 21 側部操作凸緣 22 支承部 25、45 標線片保持器 26、55 保持器支承部 27 ' 39 ' 51 保持器板部 28 傾斜面部 29 缺口 30 缺口 31 、 52 、 75Α 凹部 33 抵接面板 34 一端嵌合部 35 另一端嵌合部 37 護膜保持器 38、50 保持器支承部 41 扣具 43 密封溝 44 門板侧支持構件 46 護膜 47 護膜保持器 48 底座板部 56 護膜支承部 61 活動銷槽 61Α 、 61Β 2組活動銷槽 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-02/941383斗9 22 1353954 6-2 薄膜過濾器安裝部 63 薄膜過遽器 65 導管 66 過濾器嵌合筒部 67 止動器 70 過濾器本體部 71 嵌合筒部 72 開口筒部 74 無線標籤 75 覆蓋板 312XP/發明說明書(補件)/95-02/94138349 23
Claims (1)
- 替換本 .十、申請專利範圍: 1. 一種標線片搬運容器,其具備有. (二有一方開口且可收容標線片之内部的密閉笑式容器 覆蓋前述開口之門板;及, 容器之開口的位置 器;其特徵為, 材枓,如此的標線片搬運容 安上述門板的外侧表面形成,以在裝置側定位 '裝用之活動銷槽(kineraatlcpingroove); • 该組活動銷槽之其中一组係A Μ番认± & ..約二等邊Κ…/係由6又置於朝第1方向之大 靜夕ί 之3個銷槽所構成,該組活動 组係由設置於從第1方向朝第2方向變更副。 方向之^約二等邊三角形的3個頂點之3個銷槽所構成。 2如申請專利範圍第i項之標線片搬運容器,其中,在 春的=閉:式容器外側表面中對應於上述活動銷槽位置 從上述黛並保持上述活動銷槽用之支承部,配設成 2方向中之任—方向均可將上述二组㈣ 料敗a至另-密閉英式容器外側表面之支承部。 3.如申請專利範圍第1項之標線片搬運容器,其中,上 述活動鎖槽係在上述門板的外側表面形成為圓筒突起狀。 4·如申請專利範圍第2項之標線片搬運容器,其中,上 係在上述密閉莢式容器之外側表面,形成為嵌合 同大起狀之上述活動銷槽的圓弧板狀。 94138349 24
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004361885A JP2006173273A (ja) | 2004-12-14 | 2004-12-14 | レチクル搬送容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200621598A TW200621598A (en) | 2006-07-01 |
TWI353954B true TWI353954B (en) | 2011-12-11 |
Family
ID=36000873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW094138349A TWI353954B (en) | 2004-12-14 | 2005-11-02 | Reticle-carrying container |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7420655B2 (zh) |
EP (1) | EP1672428A3 (zh) |
JP (1) | JP2006173273A (zh) |
KR (1) | KR101165855B1 (zh) |
CN (1) | CN100564196C (zh) |
TW (1) | TWI353954B (zh) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4581681B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | レチクル保護装置および露光装置 |
US7607543B2 (en) * | 2005-02-27 | 2009-10-27 | Entegris, Inc. | Reticle pod with isolation system |
JP4789566B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2011-10-12 | ミライアル株式会社 | 薄板保持容器及び薄板保持容器用処理装置 |
US7581372B2 (en) * | 2006-08-17 | 2009-09-01 | Microtome Precision, Inc. | High cleanliness article transport system |
JP2009229639A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | E-Sun Precision Industrial Co Ltd | フォトマスクケース |
TWI344926B (en) * | 2008-12-05 | 2011-07-11 | Gudeng Prec Industral Co Ltd | Reticle pod |
TWI411563B (zh) | 2009-09-25 | 2013-10-11 | Gudeng Prec Industral Co Ltd | 光罩盒 |
US8925290B2 (en) * | 2011-09-08 | 2015-01-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Mask storage device for mask haze prevention and methods thereof |
US9260207B2 (en) * | 2013-01-17 | 2016-02-16 | Sergey N. Razumov | Order picking system and method |
CA2975806A1 (en) | 2015-02-03 | 2016-08-11 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly and associated methods |
CN109292280B (zh) * | 2018-09-11 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 用于装载薄膜的盒和装载薄膜的方法 |
US20200144086A1 (en) * | 2018-11-07 | 2020-05-07 | Entegris, Inc. | Reticle support for a container |
TWI705522B (zh) * | 2019-07-30 | 2020-09-21 | 家登精密工業股份有限公司 | 基板容納裝置及其製造方法 |
TWI767515B (zh) * | 2020-05-14 | 2022-06-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 提供有效密封之用於容納基板的容器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10163094A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法並びに搬送装置 |
TW510004B (en) | 1997-08-29 | 2002-11-11 | Nikon Corp | Photomask case, conveying device, and conveying method |
US6216873B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-04-17 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF container including a reticle support structure |
JP4469462B2 (ja) * | 2000-05-25 | 2010-05-26 | 株式会社ニコン | キャリア形状測定機 |
US6895294B2 (en) | 2000-12-04 | 2005-05-17 | Freescale Semiconductor, Inc. | Assembly comprising a plurality of mask containers, manufacturing system for manufacturing semiconductor devices, and method |
US7304720B2 (en) | 2002-02-22 | 2007-12-04 | Asml Holding N.V. | System for using a two part cover for protecting a reticle |
US7380668B2 (en) * | 2004-10-07 | 2008-06-03 | Fab Integrated Technology, Inc. | Reticle carrier |
JP4667018B2 (ja) | 2004-11-24 | 2011-04-06 | ミライアル株式会社 | レチクル搬送容器 |
-
2004
- 2004-12-14 JP JP2004361885A patent/JP2006173273A/ja active Pending
-
2005
- 2005-11-02 TW TW094138349A patent/TWI353954B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-12-05 US US11/293,084 patent/US7420655B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-06 EP EP05026629A patent/EP1672428A3/en not_active Withdrawn
- 2005-12-13 KR KR1020050122647A patent/KR101165855B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-12-14 CN CNB2005101314810A patent/CN100564196C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006173273A (ja) | 2006-06-29 |
KR20060067855A (ko) | 2006-06-20 |
CN100564196C (zh) | 2009-12-02 |
CN1792742A (zh) | 2006-06-28 |
TW200621598A (en) | 2006-07-01 |
EP1672428A2 (en) | 2006-06-21 |
KR101165855B1 (ko) | 2012-07-13 |
US7420655B2 (en) | 2008-09-02 |
US20060126052A1 (en) | 2006-06-15 |
EP1672428A3 (en) | 2007-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI353954B (en) | Reticle-carrying container | |
TWI345545B (en) | Reticle-carrying container | |
US11009803B2 (en) | Mask assembly | |
TWI383931B (zh) | 光罩基底收容箱、光罩基底之收容方法及光罩基底收容體 | |
KR100868744B1 (ko) | 레티클을 보호하기 위해 2개 파트 커버 및 박스를 사용하는시스템 | |
WO2007066536A1 (ja) | 載置トレイ及び薄板保持容器 | |
TW200938458A (en) | Mask case, transfer apparatus, exposure apparatus, mask transfer method and device manufacturing method | |
EP1672429A2 (en) | Reticle-processing system | |
JP2003243301A (ja) | ロボットのレチクル末端エフェクターを用いてレチクルを移動およびロードするための方法および装置 | |
TW408386B (en) | Container and lithography system | |
US11243463B2 (en) | Supporting frame for pellicle, pellicle, method for manufacturing same, exposure master using same, and method for manufacturing semiconductor device | |
TWI303018B (en) | Device for aligning masks in photolithography | |
CN101105637A (zh) | 使用两件式盖子保护模版的系统和方法 | |
JP2000068351A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4356443B2 (ja) | 基板移載装置 | |
JPH10239855A (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH11153855A (ja) | マスクケース、搬送装置及び搬送方法 | |
JP3499118B2 (ja) | ウエハの位置出し方法 | |
JPS61182239A (ja) | 半導体基板の接着装置 | |
JP2007173285A (ja) | ウェーハプローバ装置およびウェーハ検査方法 | |
JPS6074527A (ja) | マスク装着方法及び装置 | |
JPS6292337A (ja) | ウエハ保持装置 | |
JPS63269519A (ja) | マスクの収納ケ−ス | |
JPS61271835A (ja) | 整合装置 | |
TWM341000U (en) | Reticle pod and supporter thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |