JPS63269519A - マスクの収納ケ−ス - Google Patents

マスクの収納ケ−ス

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Publication number
JPS63269519A
JPS63269519A JP62103990A JP10399087A JPS63269519A JP S63269519 A JPS63269519 A JP S63269519A JP 62103990 A JP62103990 A JP 62103990A JP 10399087 A JP10399087 A JP 10399087A JP S63269519 A JPS63269519 A JP S63269519A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
pressing
case
pin
mounting member
Prior art date
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Pending
Application number
JP62103990A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Takiguchi
滝口 雅夫
Hisao Izawa
伊沢 久男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPS63269519A publication Critical patent/JPS63269519A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はX線、特に軟X線を用いたりソグラフィに使用
されるX線マスク等のように円形のマスクを収納するケ
ースに関するものである。
(従来の技術) 近年、高い解像力を有する転写方式として、波長が数オ
ングストロームから十数オングストロームの間の軟X線
を使用したX線露光方法が注目されている。軟X線(以
下単にX線とする)の線源としては、特性X線を発する
ターゲットに電子ビームを照射する方式、プラズマを利
用した方式、又はシンクロトロン軌道放射(SOR)を
利用した方式等が知られている。
ところで半導体素子の製造に使われるマスクは、紫外光
を用いたフォ°トリソグラフィの場合のように光学ガラ
スを使うことはできず、もっばらX線の透過率が高い高
分子薄膜(メンブレン)で構成される。この薄膜は通常
、厚み1〜5μm程度の光学的にも透明なポリイミドに
よって作られてぃそしてX線の吸収率が高い金(Au)
等の層を薄膜上に蒸着し、金の層に所定の微細回路パタ
ーンをエツチングすることによって、X線露光用のマス
クとしている。このように薄膜上に回路パターン等の層
(w、さl〜5μm程度)を形成するため、薄膜はほぼ
一定の張力ではるように円形(リング状)のフレームに
貼り付けられている。
この円形フレームとしては、直径2〜4インチ程度のシ
リコンウェハが利用されている。シリコンウェハは本来
半導体素子を作り込むための厚さ0゜65m程度の基板
であるが、X線露光用のマスクとして使用される。マス
クの作り方で一般的な方法は、ほぼ円形のシリコンウェ
ハ(直線な切り欠き部、又はノツチを存する)の一方の
表面全体にポリイミド等の薄膜を貼り付けた後、この薄
膜の表面に金(Au)によって回路パターン等をパター
ニングする。その後、シリコンウェハの薄膜とは反対側
の表面から、薄膜(回路パターン)が現われるまでシリ
コンウェハの中央部を円形又は多角形にエツチングする
。これによりシリコンウェハはほぼリング状のフレーム
となって薄膜(回路パターン層)を張設することになる
このようにX線露光用のマスクは非常に弱いものであり
、その取り扱いに際しては細心の注意を特徴とする特に
露光に使用しないマスクは、ゴミ等の異物が付着しない
ように所定のケースに収納する必要がある。従来、この
種のケースとしては、シャーレ状の形をして、上蓋と下
蓋とに分離できる構造のものが知られている。
(発明が解決しようとする問題点) 従来のマスクケースは、上蓋と下蓋とをねじりながらは
ずす形式をしており、ケース内でのマスクの位置は不安
定であり、単に保管のみを目的としたものであった。こ
のためマスクを収納した状態でケースを搬送する場合、
ケース内部でマスクが不要に移動して異物が発生したり
、マスクを傷付けることがあった。さらにケースからマ
スクを取り出してX線露光装置に装着させる場合も、専
ら手動にて行なわざるをえず、人手を介する圧出による
異物の発生等はさけられず、搬送の自動化が強く望まれ
てきた。
(問題点を解決する為の手段) 上記問題点を解決するために、本発明においてはX線マ
スク(M)をほぼ水平に載置するための載置部材(1)
を内部に有するケースとし、このケースは一部(前扉4
)が開閉可能な構造であって、マスクを略密閉状態で収
納する。そしてR置部材の周辺の複数ケ所には、マスク
の周囲端面の押圧して、マスクを81部材上の所定位置
に位置決めするための押圧部材(10,11,12、l
0C1IIC,12C)が設けられる。さらに保管時等
には押圧部材が常にマスクを押圧する状態とし、マスク
の出し入れの際には押圧部材がマスク周囲端面から対比
した状態になるように、ケース外部から操作可能な操作
部材(8)を設けるようにした。
(作用) 本発明では、マスクがケース内で所定の位置にクランプ
されており、そのクランプがケース外部より解除できる
ので、保管のみならず、自動搬送装置にも使用できるた
め、マスク搬送において人手がかからなくなる。
(実施例) 第1図は本発明の実施例によるX線マスクの収納ケース
の構造を示す平面図であり、第2図は第1図中のA−A
矢視断面図である。
第1図、第2図に示すように、本実施例のケースにはマ
スクMをほぼ水平に載置する円筒状の載置部材1が四辺
形の下蓋2の内部に設けられる。
下蓋2はケースの側壁2a、2b、前壁の一部2C1及
び後壁2dと一体に形成され、後壁2dの一部にはヒン
ジによって開閉する上蓋3が取り付けられる。前壁の一
部2Cには第2図に示すように前rii4がヒンジ5に
よって開閉自在に設けられている。前扉4の一端部には
第1図に示すように側壁2bよりも突出した突出部4a
が形成されている。この前扉4の内側両端部と、側壁2
a、2bとの間にはスプリング6(第1図では一ケ所の
み図示)が張設され、常時前扉4が閉まるように付勢さ
れる。
また側壁2a、2bの一部には上壁3を閉めるように付
勢するトグル式の押え部材7a、7bが設けられ、押え
部材7a、7bの先端部は上壁3の凹部3a、3bを下
蓋2側へ押圧する。
さて、!!置部材lの上面には、マスクMのパターン面
(金等によるパターン層が形成された面)が下を向くよ
うに載置される。そのため載置部材lの内円周はパター
ン層に接触しない程度の径に定められる。また載置部材
lの外周径はマスクMの直径よりもわずかに小さくなる
ように定められる。載置部材1の側面には、側壁2aを
貫通してほぼ中心を水平に通るように棒状の操作部材8
がスライド可能に設けられている。このため載置部材8
には径方向に貫通した孔1aS lbが形成されている
。操作部材8の操作端は側壁2aから外部に突出しない
ように設けられる。
載置部材1の周辺3ケ所には、マスクMを位置決めする
ための押圧部材10.11.12が設けられている。押
圧部材10は下蓋2にピン10aを中心に回動自在に軸
支され、載置部材1の内部に植設されたピン13との間
にかけ渡されたコイルバネ14によって、常に載置部材
1の中心に向けて付勢される。押圧部材lOの一部には
載置部材1の側面と当接する当接部10bと、マスクM
の円周端面と当接するローラ10cとが設けられている
。ローラlocは第2図にも示すように上端面がマスク
Mとの当接部分の径よりも大きくなるようなツバ状に形
成されている。また、この押圧部材lOの一部には操作
部材8の終端が当接するように配置され、操作部材8を
側壁2aの内部に押し込んだとき、押圧部材lOは当接
部10bが載置部材1の側面から離れるように、第1図
中、時計まわりの方向に回動する。尚、第2図に示すよ
うに、コイルバネ14は載置部材1の一部をくりぬいた
貫通孔ICを通るように配置される。
一方、押圧部材11はL字状に形成され、L字の屈曲部
に設けられたピンllaを中心に回動自在に下蓋2に軸
支される。押圧部材11の一部には、載置部材1の側面
と当接する当接部11bと、マスクMの直線的な切欠き
(以下オリフラ部と呼ぶ)と当接する2つのローラll
cとが設けられている。そして押圧部材11は、ピン1
3との間に張設されたコイルバネ15によって当接部1
1bが載置部材lの側面に常時当接する方向に付勢され
る。また押圧部材11の他端側は、ピン11dを介して
操作部材8の一部に係合している。このため第1図中、
操作部材8が左方へ押圧されると、押圧部材11は当接
部11bがR置部材lの側面から離れる方向に回動する
押圧部材12は、ピン12aを中心に回動自在・ に下
蓋2に軸支され、押圧部材12の一部にはマスクMの円
周端面と当接するローラ12cが設けられる。押圧部材
12もピン13との間に引張されたコイルバネ16によ
ってローラ12cが常時ビン13の方向に向くように付
勢される。さらに押圧部材12の他端はピン12bを介
して操作部材8の一部に係合している。従って操作部材
8が第1図中で左方に押圧されると、押圧部材12はピ
ン12aを中心に反時計まわりに回動し、マスクMの押
圧が解除される。
以上説明した構成には図示していないが、載置部材lの
上面のマスクI置面には、マスクMのフレーム部の3ケ
所が接触するように、デルリン等の合成樹脂材が付着さ
れ、マスクMの載置部材l上での横ずれを容易にしてい
る。
次に上記ケースの作用、動作について説明する。
本実施例のケースは、マスクの自動搬送装置と組み合わ
せて使用することを前提としている0本発明はマスク自
動搬送装置を対象とするものではないので、ここでは搬
送装置の説明を省略するが、基本的には前扉4の突出部
4aと係合する扉開閉機構、操作部材8と係合して、こ
れをエアシリンダ等で押圧するマスク押圧解除機構、及
び解放された前壁部2cから水平にケース内部に進入し
、マスクMの上面(フレーム部上面)を吸着して取り出
すためのマスク保持アーム機構等を有している。
本実施例のケースを自動搬送装置の所定位置にセットす
る。そして、そのマスクMを使った露光が行なわれると
き、扉開閉機構によって前扉4が解放される0次に搬送
アームの吸着部がケース内のマスクMの上方まで進入し
、搬送アーム、又はケースが相対的に上下動して、搬送
アームの吸着面がマスクMのフレーム上面に接触する。
このとき搬送アームの吸着部によってマスクMが吸着さ
れる。バキュームセンサー等によって吸着が確認された
後、マスク押圧解除機構は、エアシリンダ等の働きによ
って操作部材8を側壁2a内に押圧する。これによって
3つの押圧部材10.11.12はそれぞれ回動し、各
ローラIOc、llc、12cはマスクMの端部から所
定距離だけ離れて位置する。その後、搬送アームは吸着
したマスクMを各ローラloc、llc、12cの上面
よりも上方まで持ち上げ、ケース外部へ水平に引き出さ
れる。
そして露光装置での露光動作が終了し、マスクMをケー
スに収納する場合は、前84を開き、各ローラ10c、
lie、12cを載置部材lから離れた位置に退避させ
た後、搬送アームによって吸着されたマスクMを載置部
材1の上方まで進入させる。そして搬送アームを降下さ
せて、マスクMを載置部材1上に受は渡すとともに、真
空吸着を解除する。その後、マスク押圧解除機構による
操作部材8の押圧動作を解除する。これによって操作部
材8はコイルバネ14.15.16の付勢力によって第
1図中右方へスライド移動する。マスクMが載置部材1
上に所定の精度で受は渡されたものとすると、押圧部材
1O111の各ローラlQc、IICがそれぞれマスク
Mの円周端とオリヘラ部に当接した後、当接部tob、
ttbのそれぞれが載置部材1の側面に当接して押圧部
材l0111の回動が規制される。その後、わずかに遅
れて押圧部材12のローラ12cがローラlQC,II
Cの夫々に分力が働(ようにマスクMの端部をほぼ45
@方向に押圧する。これによってマスクMは載置部材1
上の所定位置に常に一定の精度で位置決めされて、ロー
ラ10c、llc、12cにより挟持される。その後、
前扉4が閉成され、マスクMはほぼ密閉状態で収納され
る。
以上、マスク自動搬送装置を用いたマスクMの取り扱い
を説明したが、一番初めにマスクMをケース内に収納す
るときは、トグル式のバネ7a、7bを解除して上蓋3
を開き、操作部材8を押し込むか、又はローラllc、
12cを指で退避させるかした後、マスクMを載置部材
1上にオリフラ部をローラllc側に合わせて載置し、
各ローラ10c、llc、12cを押圧させるようにす
ればよい。
(発明の効果) 以上、本発明によれば、X線露光用のマスクは収納ケー
ス内で常時位置決めされた状態で押圧保持されているた
め、ケース自体を搬送する場合も、マスクが不要に動い
て傷付くことがないといった効果が得られる。またマス
クが位置決めされているため、自動搬送の際の受は渡し
が確実であり、安全な搬送作業ができる。さらにケース
のマスク自動搬送装置への装着は、一義的な位置にでき
ることから、マスクを自動搬送して露光装置へ受は渡す
間に、ことさら別のマスクプリアライメント(予備位置
決め)ja構を設ける必要がないため、搬送装置の構成
を小さくコンパクトにでき、又搬送時間も短くなるとい
った利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例によるX線露光用のマスクの
収納ケースの構成を示す平面図、第2図は第1図中のA
−A矢視部の断面を示す断面図である。 各図中において、 1・・・R置部材 2・・・下蓋 3・・・上蓋 4・・・前扉 8・・・操作部材 10.1112・・・押圧部材 10c、llc、12c・・・ローラ M・・・マスク

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、ほぼ円形のマスクを略密閉状態で収納し、該マ
    スクの出し入れの際は、一部が開閉する構造となった収
    納ケースであって、 前記マスクをほぼ水平に載置するための載置部材と;該
    載置部材の周辺の複数ケ所に設けられ、前記マスクの周
    囲端面を押圧して前記マスクを前記載置部材上の所定位
    置に位置決めする押圧部材と;前記ケースの外部から操
    作可能に設けられ、該押圧部材の押圧動作と退避動作と
    を選択する操作部材とを設けたことを特徴とするマスク
    の収納ケース。
  2. (2)、前記収納ケースは前記マスクをほぼ水平に出し
    入れするために、1つの側壁が開閉可能に構成され、該
    開閉可能な側壁を除く他の側壁に前記操作部材が設けら
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    マスク。
JP62103990A 1987-04-27 1987-04-27 マスクの収納ケ−ス Pending JPS63269519A (ja)

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JP62103990A JPS63269519A (ja) 1987-04-27 1987-04-27 マスクの収納ケ−ス

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JP62103990A JPS63269519A (ja) 1987-04-27 1987-04-27 マスクの収納ケ−ス

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007504683A (ja) * 2003-05-14 2007-03-01 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ

Cited By (2)

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JP2007504683A (ja) * 2003-05-14 2007-03-01 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ
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