JP4937750B2 - インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ - Google Patents
インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ Download PDFInfo
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Description
Claims (22)
- インプリント・リソグラフィ・システムであって、
インプリント・ヘッドと、
前記インプリント・ヘッドに対向して配設され、ウェハ・チャックを含む移動ステージと、
第1と第2の対向する面を有し、前記第1面にモールド・パターンを有するテンプレートと、
前記移動ステージに結合するテンプレート移載システムとを備え、そのテンプレート移載システムは、ベース部である本体と前記移動ステージとは別の方向に前記本体から延びる支持部材とを有するテンプレート移載ホルダを含み、前記支持部材は、前記モールド・パターンを前記本体から離して維持しながら、前記テンプレート移載ホルダに対して、前記第1面を接触させ、前記テンプレートを固定するように構成され、
前記第1面に真空作用を適用するために、前記支持部材と流体連通する真空システムをさらに含み、前記支持部材は、前記テンプレートにしっかり取り付けられるようになっており、前記テンプレートのX−Y平面内での動きを可能にしながら、Z方向の動きを制限し、
前記テンプレート移載ホルダと前記テンプレートの間の相対位置を調整するインプリント・リソグラフィ・システム。 - 前記移動ステージとは別の方向に前記本体から延びる複数の離間した歯をさらに含み、
前記歯の各々は、前記本体に弾性的に結合し、前記支持部材上に前記テンプレートを誘導し、前記テンプレートを選択的に締め付けるように傾斜面を有して取付られる請求項1に記載のインプリント・リソグラフィ・システム。 - 前記本体は、複数のチャンバを含み、チャンバのそれぞれが、チャンバ内に形成された開口を有し、チャンバ内に配設されたブッシングを含み、前記複数の支持部材の1つと結合し、前記複数の支持部材の前記それぞれは、ボスに結合するコンプライアント部材を含み、前記ボスは、前記ブッシングに選択的に載置されるように前記チャンバ内に配設され、境界を区画し、その境界は、前記チャンバに対して前記支持部材を中央に置くために円錐台形状を有する請求項1に記載のインプリント・リソグラフィ・システム。
- 前記複数の支持部材の前記それぞれは、Delrin AF(登録商標)から形成される請求項3に記載のインプリント・リソグラフィ・システム。
- 第1と第2の対向する表面を有し、モールド・パターンが前記第2表面から延びるインプリント・リソグラフィ・テンプレート用のホルダであって、
第1と第2の対向する面を有する本体と、
前記第1面から延び、前記第2表面を支持するように構成された複数の支持部材と、
前記第2面とは別の方向に前記第1面から延びる複数の離間した歯と、前記複数の支持部材を取り付けるために、前記第2表面に真空作用を適用するための、前記支持部材と流体連通する真空システムとを備え、前記複数の支持部材は、X−Y平面における前記テンプレートと前記本体の間の動きを可能にしながら、Z方向における前記テンプレートと前記本体の間の動きを制限するようになっており、前記複数の歯の各々は、前記支持部材上で前記テンプレートを誘導し、前記テンプレートを選択的に締め付けるように傾斜面を有するように構成され、
前記テンプレート用のホルダと前記テンプレートの間の相対位置を調整するホルダ。 - 前記本体は、前記第1と第2の対向する面を貫通して延びるチャネルをさらに含み、前記複数の支持部材のサブセットはそれぞれ、前記チャネルと流体連通する貫通路を含む請求項5に記載のホルダ。
- 前記複数の歯は、前記テンプレートと接触することによって曲がりやすいように、弾性材料から形成される請求項5に記載のホルダ。
- 前記複数の歯のサブセットは、前記複数の歯の前記それぞれの一端から、前記本体の方に内向きに延びる傾斜面を含み、前記歯は、弾性材料から形成される請求項5に記載のホルダ。
- 前記複数の歯のサブセットは、Delrin AF(登録商標)から形成される請求項5に記載のホルダ。
- テンプレート移載基板と、
第1と第2面を有し、前記第1面は、前記テンプレート移載基板とは別の方向に面し、
前記第2面は、前記テンプレート移載基板に面し、形成されたモールド・パターンを有するテンプレートと、
前記テンプレートを前記テンプレート移載基板に取り付けるために、前記第2面と前記テンプレート移載基板の間に配設された重合インプリント材料と
を備えるテンプレート移載アセンブリ。 - 前記重合インプリント材料は、前記モールドのサブセクションを囲む請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記重合インプリント材料は、前記モールドの小部分を密封する請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記重合インプリント材料は、前記モールド全体を囲む請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記重合インプリント材料は、前記モールド全体をカプセル化し、環境から前記モールドを密封する請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記テンプレートは、前記モールドを囲む周辺溝をさらに含み、前記重合インプリント材料は、前記テンプレート移載基板と、前記周辺溝と重なる前記第2面の領域との間に配設される請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記テンプレート移載基板は半導体ウェハを備える請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- 前記テンプレート移載基板は半導体ウェハを含み、前記半導体ウェハは、前記半導体ウェハに結合した付加的なテンプレートを有する請求項10に記載のテンプレート移載アセンブリ。
- インプリント・リソグラフィ・テンプレートを移動させる方法であって、
テンプレートを移載する基板を用意し、
インプリント用流体の選択された容積を、前記テンプレート移載基板上に形成させ、
前記テンプレートを前記選択された容積上に設置し、
前記インプリント用流体を固体インプリント材料に変換させることを含み、前記選択された容積は、モールドと前記テンプレート移載基板の間である空間を維持しながら、前記テンプレートを前記テンプレート移載基板にしっかり取り付けるのに十分な量である、移動させる方法。 - 変換させることは、前記インプリント材料を変換することによって、前記固体インプリント材料が前記モールドのある部分を囲むように前記テンプレートを前記選択された容積上に付勢することをさらに含む請求項18に記載の方法。
- 変換することは、前記インプリント材料を変換することによって、前記固体インプリント材料が前記モールドの小部分を密封するように前記テンプレートを前記選択された容積上に押し付けることをさらに含む請求項18に記載の方法。
- 変換することは、前記インプリント材料を変換することによって、前記固体インプリント材料が前記モールドを完全に囲むことをさらに含む請求項18に記載の方法。
- 変換させることは、前記インプリント材料を変換させることによって、前記固体インプリント材料が、前記モールドをカプセル化し、環境から前記モールドを密封するように前記テンプレートを前記選択された容積上に押し付けることをさらに含む請求項18に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/437,476 | 2003-05-14 | ||
US10/438,224 | 2003-05-14 | ||
US10/437,476 US6951173B1 (en) | 2003-05-14 | 2003-05-14 | Assembly and method for transferring imprint lithography templates |
US10/438,224 US6805054B1 (en) | 2003-05-14 | 2003-05-14 | Method, system and holder for transferring templates during imprint lithography processes |
PCT/US2004/014720 WO2004103666A2 (en) | 2003-05-14 | 2004-05-11 | Method, system, holder and assembly for transferring templates during imprint lithography processes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007504683A JP2007504683A (ja) | 2007-03-01 |
JP4937750B2 true JP4937750B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=33479226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006532954A Active JP4937750B2 (ja) | 2003-05-14 | 2004-05-11 | インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (2) | EP2177951A1 (ja) |
JP (1) | JP4937750B2 (ja) |
KR (1) | KR101055640B1 (ja) |
AT (1) | ATE487579T1 (ja) |
DE (1) | DE602004030001D1 (ja) |
WO (1) | WO2004103666A2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7523701B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-04-28 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography method and apparatus |
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US7665981B2 (en) | 2005-08-25 | 2010-02-23 | Molecular Imprints, Inc. | System to transfer a template transfer body between a motion stage and a docking plate |
EP1934669A4 (en) * | 2005-08-25 | 2009-12-16 | Molecular Imprints Inc | SYSTEM FOR TRANSFERRING A TEMPLATE TRANSFER BODY BETWEEN A MOTION PLAY AND A DOCKING PLATE |
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- 2004-05-11 AT AT04751888T patent/ATE487579T1/de active
- 2004-05-11 KR KR1020057021605A patent/KR101055640B1/ko active IP Right Grant
- 2004-05-11 EP EP10151773A patent/EP2177951A1/en not_active Withdrawn
- 2004-05-11 JP JP2006532954A patent/JP4937750B2/ja active Active
- 2004-05-11 EP EP04751888A patent/EP1622750B1/en active Active
- 2004-05-11 DE DE602004030001T patent/DE602004030001D1/de active Active
- 2004-05-11 WO PCT/US2004/014720 patent/WO2004103666A2/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004103666A2 (en) | 2004-12-02 |
KR101055640B1 (ko) | 2011-08-09 |
JP2007504683A (ja) | 2007-03-01 |
DE602004030001D1 (de) | 2010-12-23 |
KR20060017514A (ko) | 2006-02-23 |
WO2004103666A3 (en) | 2005-03-24 |
EP1622750B1 (en) | 2010-11-10 |
EP2177951A1 (en) | 2010-04-21 |
EP1622750A2 (en) | 2006-02-08 |
ATE487579T1 (de) | 2010-11-15 |
EP1622750A4 (en) | 2009-04-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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