KR20060067855A - 레티클 반송용기 - Google Patents

레티클 반송용기 Download PDF

Info

Publication number
KR20060067855A
KR20060067855A KR1020050122647A KR20050122647A KR20060067855A KR 20060067855 A KR20060067855 A KR 20060067855A KR 1020050122647 A KR1020050122647 A KR 1020050122647A KR 20050122647 A KR20050122647 A KR 20050122647A KR 20060067855 A KR20060067855 A KR 20060067855A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reticle
retainer
pod
lid
container
Prior art date
Application number
KR1020050122647A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101165855B1 (ko
Inventor
치아키 마츠토리
코이치 야나기하라
Original Assignee
미라이얼 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미라이얼 가부시키가이샤 filed Critical 미라이얼 가부시키가이샤
Publication of KR20060067855A publication Critical patent/KR20060067855A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101165855B1 publication Critical patent/KR101165855B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Abstract

레티클 반송용기(11)의 방향이 잘못되어도 레티클 스토커(2)에 장착 가능하도록 한다. 일단(一端)에 개구(開口)를 가지고 레티클(reticle)(12)을 수납하는 내부를 가지며, 상기 개구를 덮어 막는 덮개(14)와 상기 덮개(14)로 상기 포드(13)(pod)를 막았을 때 내부를 기밀하게 밀봉(sealing)하는 밀봉재(15)를 구비한 레티클 반송용기(11)이다. 상기 덮개(14)의 외측 표면에 형성되어 장치 측에 위치 결정시켜 장착시키기 위한 키네마틱 핀 글루브(61)를, 180°방향을 바꿔서 두 세트 설치하였다. 상기 포드(13)의 외측 표면 중 상기 키네마틱 핀 글루브(61)에 대응하는 위치에, 상기 키네마틱 핀 글루브(61)를 받아 보관 유지하기 위한 받이부(22)를, 상기 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계하였다.
레티클, 키네마틱 핀 글루브, 받이부, 덮개, 포드

Description

레티클 반송용기{Reticle-carrying Container}
도 1은, 본 발명의 실시 형태와 관련된 덮개를 그 저면(底面) 측에서 본 사시도이다.
도 2는, 사진 석판술(photolithography) 공정에서 사용되는 장치의 일례를 도시하는 개략 구성도이다.
도 3은, 본 발명의 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기를 그 포드(pod)와 덮개를 서로 분리한 상태로 도시한 사시도이다.
도 4는, 본 발명의 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기를 도시하는 측면 단면도이다.
도 5는, 본 발명의 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기의 주요부를 도시하는 단면도이다.
도 6은, 본 발명의 실시 형태와 관련된 멤브레인 필터(membrane filter)를 도시하는 주요부 단면도이다.
도 7은, 본 발명의 실시 형태와 관련된 무선 태그를 도시하는 주요부 단면도이다.
본 발명은, 설정 패턴을 기판에 전사(轉寫)하는 노광기(露光機) 등에서 사용되는 레티클(reticle)을 반송(搬送)할 때 수납하는 레티클 반송용기에 관한 것이다.
반도체 소자나 액정 표시 소자 등의 제조는, 사진 석판술(photolithography) 공정으로 행해진다. 이 공정에서는, 레티클(포토 마스크(photomask)를 포함한다)에 형성된 패턴의 상(像)을, 노광기로 반도체 웨이퍼(wafer)나 유리 플레이트(glass plate) 등의 기판상에 투영ㆍ전사시킨다. 이때, 기판상에는 감광제(a photo sensitizer)가 도포되어 있고, 투영된 패턴이 감광제와 반응하여 그 후 처리를 거쳐 회로가 형성된다.
이 공정에 있어서, 레티클은 먼지 등에 의한 오염이나 접촉 등에 의한 손상 등을 방지하기 위해 전용 레티클 반송용기에 수납하여 취급한다.
이때, 형성하는 회로가 복잡한 경우에는, 기판상에 다수의 회로 패턴을 만들 필요가 있기 때문에, 그에 따라 다수의 레티클이 준비되고, 기판상에 다수의 패턴이 겹쳐져 노광(露光)된다.
이 사진 석판술 공정에서 사용되는 장치의 일례를 도 2로 도시한다. 도 중 부호 (1)은 기판상에 회로 패턴을 투영ㆍ전사하는 노광기이다. (2)는 다수의 레티클이 수납되어 보관된 레티클 스토커(stocker)이다. (3)은 레티클이 수납된 레티클 반송용기이다. (4)는 노광기(1)와 레티클 스토커(2) 사이에 설치되어, 이들 사이에서 레티클을 레티클 반송용기(3)에 수납한 상태로 반송하기 위한 반송 레일이다. (5)는 반송 레일(4)에 설치되어 레티클 반송용기(3)를 직접 파지(把持)하여 운반하기 위한 반송 기구부(機構部)이다.
이들은 제어장치(도시하지 않음)로 제어되고 있다. 이것에 의해, 회로 패턴에 필요한 레티클이 레티클 반송용기(3)에 수납된 상태로 반송 레일(4)의 반송 기구부(5)에 의해, 레티클 스터커(2)로부터 노광기(1)로 반송된다. 노광기(1)에서 불필요해진 레티클은 반송 레일(4)의 반송 기구부(5)에 의해 레티클 스토커(2)로 되돌아온다.
이상의 공정에서 사용되는 레티클은 먼지 등에 의해 오염되거나 접촉 등에 의해 손상되면 정확한 회로 패턴이 불가능하므로, 레티클을 안전하고 확실하게 지지하기 위해 레티클 반송용기(3)에 수납되어 있다.
이 레티클 반송용기(3)의 일례로써, 일본공개특허 평10-163094호 공보가 있다. 이 일본공개특허 평10-163094호 공보에 있어서의 레티클 지지수단은 핀(pin)이다. 레티클을 하측으로부터 지지하기 위한 수단으로써 레티클의 네 모서리 위치에 레티클 지지 핀이 설치되어 있다. 레티클을 주위로부터 수평 방향으로 어긋나지 않게 지지하는 수단으로써 수평 이동을 제어하는 스토퍼 핀(stopper pin)이 설치되어 있다. 또한, 레티클을 상측으로부터 지지하는 수단으로써 레티클 누름기가 설치되어 있다. 이것에 의해, 레티클은 그 XYZ방향이 지지받아 고정된다.
이 레티클 반송용기의 하측면에는 보통 키네마틱 핀 글루브(kinematic pin groove)가 설치되어 있는데, 장치 측의 키네마틱 핀에 감합되는 것으로 레티클 반송용기가 정확하게 위치 결정된다. 이 키네마틱 핀 글루브 및 키네마틱 핀은 거의 이등변 삼각형의 각 정점 위치에 3개씩 설치되어 있다.
상술한 종래의 레티클 반송용기(3)에서는, 이 레티클 반송용기(3)를 레티클 스토커(2)에 수납할 때 레티클 반송용기(3)의 방향이 180°어긋나면 키네마틱 핀과 키네카틱 핀 글루브가 거꾸로 되어 장착이 불가능해진다. 이 때문에 레티클 반송용기(3)의 방향에 충분히 주의하여 장착할 필요가 있으며, 그 결과, 작업효율이 나빠진다는 문제가 있다.
본 발명은 상기 문제를 해결하기 위해, 레티클 반송용기의 방향 오류를 허용하여 작업효율의 향상을 꾀한 것이다. 즉, 본 발명은 일단(一端)에 개구(開口)를 가지고, 레티클을 수납하는 내부를 가지며, 상기 개구를 덮어 막는 덮개와 상기 덮개로 상기 포드(pod)를 막았을 때 내부를 기밀하게 밀봉(sealing)하는 밀봉재를 구비한 레티클 반송용기로, 상기 덮개의 외측 표면에 형성되어 장치 측에 위치 결정시켜 장착시키기 위한 키네마틱 핀 글루브를 180°방향을 바꿔서 두 세트 설치한 것을 특징으로 한다.
이것에 의해, 상기 레티클 반송용기를 레티클 스토커에 장착할 때, 레티클 반송용기의 방향이 잘못되어도 그대로 장착할 수 있으며, 레티클 반송용기의 방향에 대해 과도하게 주의를 기울일 필요가 없어진다.
상기 포드의 외측 표면 중 상기 키네마틱 핀 글루브에 대응하는 위치에는, 상기 키네마틱 핀 글루브를 받아 보관 유지하기 위한 받이부를, 상기 두 세트의 키 네마틱 핀 글루브를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계하는 것이 바람직하다.
이것에 의해, 복수의 레티클 반송용기를 그 방향에 대해 과도한 주위를 기울이지 않고 적층시킬 수 있다.
바람직한 실시 형태
이하, 본 발명의 실시 형태를 첨부 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1은 덮개를 그 저면측에서 본 사시도, 도 3은 본 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기를 그 포드(pod)와 덮개를 서로 분리한 상태로 도시한 사시도, 도 4는 본 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기를 도시하는 측면 단면도, 도 5는 본 실시 형태와 관련된 레티클 반송용기의 주요부를 도시하는 단면도, 도 6은 멤브레인 필터(membrane filter)를 도시하는 주요부 단면도, 도 7은 무선 태그를 도시하는 주요부 단면도이다.
레티클 반송용기(11)는 도 3 및 도 4에서 도시하듯이 주로 레티클(12)을 수납하는 포드(13)와 이 포드(13)를 덮는 덮개(14)와 포드(13)와 덮개(14) 사이에 설치되어 내부를 기밀하게 밀봉하는 밀봉재(15)로 구성되어 있다.
포드(13)는, 레티클(12)을 내부에 수납하는 본체부(17)와 상기 본체부(17)의 외주(外周)에 일체적으로 형성되어 덮개(14)에 감합되는 주연 감합부(18)로 구성되어 있다.
본체부(17)는 접시 모양으로 형성되어 있고, 레티클(12)을 내부에 완전하게 수납할 수 있는 깊이로 설정되어 있다. 본체부(17)의 중앙부에는, 반송용 센터 핸 들링 플랜지(center handling flange)(20)가 설치되어 있다. 본체부(17)의 주연부에는 수평으로 뻗은 판 모양의 사이드 핸들링 플랜지(side handling flange)(21)가 설치되어 있다. 센터 핸들링 플랜지(20)를 반송 장치의 완부(도시하지 않음)에 결합시켜 레티클 반송용기(11)나 포드(13)를 들어올릴 수 있다. 또한, 사이드 핸들링 플랜지(21)는 노광기 내에서 덮개(14)를 포드(13)로부터 기계적으로 분리할 때 보조 지지 수단으로써 이용된다. 또한, 본체부(17) 외측 표면의 주연부에는 후술하는 키네마틱 핀 글루브(kinematic pin groove)(61)의 받이부(22)가 한 변에 세 군데씩, 대향하는 두 변의 총 여섯 군데에 설치되어 있다. 이 여섯 군데의 받이부(22)는 키네마틱 핀 글루브(61)에 대응한 위치에 있어서, 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계되어 있다. 각 받이부(22)는 평면 형상(平面形狀)이 반원형(半圓形)의 판재(板材)로 형성되어 있다. 평면 반원형의 각 받이부(22)는 외측으로 개구(開口)되도록 배치 설계되어 있다. 평면 반원형의 각 받이부(22)는 그 선단측(先端側)이 기단측(基端側)보다 서로 가까워지도록 안쪽으로 조금 기울어져 형성되어 있다. 이것에 의해 하측의 레티클 반송용기(11)의 받이부(22)에 상측의 레티클 반송용기(11)의 키네마틱 핀 글루브(61)가 용이하게 감합되고 정확하게 위치 결정되기 때문에, 복수의 레티클 반송용기(11)를 간단하면서도 안정되게 적층시킬 수 있도록 되어 있다. 물론 이들 받이부의 형상은 키네마틱 핀 글루브를 받는 것이 가능하면 반원형 이외의 형상이어도 된다.
본체부(17) 안쪽의 네 모서리 근방에는 레티클 리테이너(25)가 설치되어 있다. 이 레티클 리테이너(25)는 후술하는 덮개(14) 측의 레티클 리테이너(45)와 쌍 을 이루며, 레티클(12)을 지지하기 위한 부재(部材)이다. 이 레티클 리테이너(25)는 도 4 및 도 5에서 도시하듯이 리테이너 받이부(26)와 리테이너 판부(板部)(27)로 구성되어 있다. 리테이너 받이부(26)는 리테이너 판부(27)를 지지하기 위한 부재이다. 리테이너 받이부(26)는 본체부(17) 안쪽의 네 모서리 근방에, 본체부(17)와 함께 일체적으로 형성되어 있다. 구체적으로는, 본체부(17)의 모서리 부분에 형성된 오각형의 판재에 의해 형성되어, 그 한 변이 레티클(12)의 상측 모서리 부분(12A)에 당접하여 탄성적으로 지지하는 경사면부(28)를 형성하는 변을 이루고 있다. 리테이너 받이부(26) 중 경사면부(28)를 형성하는 변의 일단(一端)에는 리테이너 판부(27)의 일단부가 감합되는 일단측 감합용 노치(notch)(29)가 설치되어 있다. 리테이너 받이부(26) 중 경사면부(28)를 형성하는 변의 다른 일단에는 리테이너 판부(27)의 다른 일단부가 감합되는 다른 일단측 감합용 노치(30)가 설치되어 있다. 또한, 경사면부(28)를 형성하는 변에는 홈 부분(31)이 설치되어 있다. 이 홈 부분(31)은 경사면부(28) 안쪽에 설치되어 레티클(12)의 상측 모서리 부분(12A)이 당접했을 때 경사면부(28)가 휘는 것을 허용하기 위한 부위이다. 이 홈 부분(31)에 의해, 리테이너 판부(27)에 완충 기능이 갖추어진다. 즉, 리테이너 판부(27) 자체가 갖는 탄성과 함께, 홈 부분(31)에 의해 리테이너 판부(27)가 탄성적으로 휘는 것으로, 외부로부터 전해지는 진동 등을 흡수하여 레티클(12)을 탄성적으로 지지하는 완충 기능이 갖추어지는 것이다. 홈 부분(31)의 틈새는 1㎜정도 이상이면 된다.
리테이너 판부(27)는 레티클(12)의 상측 모서리 부분(12A)에 당접하여 탄성적으로 지지하는 경사면부(28)를 형성하는 부재이다. 리테이너 판부(27)는 탄성 고 분자 재료로 성형되어 있다. 구체적으로는, PEE(폴리에스테르 엘라스토머(polyester elastomer)), PBT(폴리부틸렌 테레프탈레이트(polybutylene terepthalate)), PP(폴리프로필렌(polypropylene)) 등의, 먼지 발생이 없는 탄성 재료를 이용한다. 리테이너 판부(27)는 당접면판(當接面板)(33)과 일단 감합부(34)와 다른 일단 감합부(35)로 구성되어 있고, 그 측면 형상이 변칙적(變則的)인 ㄷ자형으로 형성되어 있다. 당접면판(33)은 리테이너 판부(27)를 리테이너 받이부(26)에 감합시킨 상태로, 경사면부(28)를 구성하기 위한 부재이다. 당접면판(33)은 탄성을 가지는 합성 수지로 성형되어 있기 때문에, 그 자체가 탄성적으로 변형되는 동시에, 상기 홈 부분(31)에 의해 탄성적으로 휘어, 레티클(12)의 상측 모서리 부분(12A)이 경사면에 당접하여 탄성적으로 지지되도록 되어 있다.
일단 감합부(34)는 리테이너 받이부(26)의 일단측 감합용 노치(29)에 감합시켜, 리테이너 판부(27)를 리테이너 받이부(26)에 장착시키기 위한 부분이다. 다른 일단 감합부(35)는 리테이너 받이부(26)의 다른 일단측 감합용 노치(30)에 감합시켜, 리테이너 판부(27)를 리테이너 받이부(26)에 장착시키기 위한 부분이다. 이것에 의해 일단 감합부(34) 및 다른 일단 감합부(35)가 일단측 감합용 노치(29) 및 다른 일단측 감합용 노치(30)에 감합되는 것으로, 리테이너 판부(27)가 리테이너 받이부(26)에 고정된다.
본체부(17) 안쪽의 네 모서리 근방에는, 상기 레티클 리테이너(25)와 함께 박막 리테이너(37)도 설치되어 있다. 레티클(12)에는 박막이 설치되어 있지 않은 경우와 하측면에 박막(46)이 설치되어 있는 경우와 상하 양측면에 박막(46)이 설치 되어 있는 경우가 있다. 박막 리테이너(37)는 레티클(12)의 상측면에 박막이 설치된 경우에 기능하는 부재이다. 박막 리테이너(37)는 레티클 리테이너(25)와 같은 구성을 가지고 있다. 즉, 박막 리테이너(37)는 레티클 리테이너(25)의 리테이너 받이부(26)와 같은 구성의 리테이너 받이부(38)와 레티클 리테이너(25)의 리테이너 판부(27)와 같은 구성의 리테이너 판부(39)로 구성되어 있다. 리테이너 판부(39) 안쪽에는 레티클 리테이너(25)의 홈 부분(31)과 같은 구성의 홈 부분(도시하지 않음)이 설치되어 있다.
포드(13)의 주연 감합부(18)는 도 3 및 도 4에서 도시하듯이, 본체부(17)의 주연으로부터 주위로 튀어나오도록 접시 모양으로 형성되어 있다. 이 접시 모양의 주연 감합부(18)는 덮개(14) 주위를 완전히 수납할 수 있는 깊이로 설정되어 있다. 주연 감합부(18)가 대향하는 변에는, 덮개(14)를 고정하기 위한 고정기구(41)가 설치되어 있다.
덮개(14)는 포드(13)의 주연 감합부(18)에 감합시키는 것으로, 포드(13)를 덮고, 밀봉재(15)를 통해 내부를 기밀하게 밀봉(sealing)하기 위한 부재이다. 이 덮개(14)는 도 3∼도 5에서 도시하듯이, 거의 평탄상으로 형성되어 그 주연에 밀봉 홈(43)이 설치되어 있다. 밀봉재(15)는 이 밀봉 홈(43)에 장착되어, 포드(13)와 덮개(14) 사이를 기밀하게 밀봉한다. 덮개(14)의 상측면에는, 그 네 모서리의 위치에 덮개측 지지 부재(44)가 설치되어 있다. 이 덮개측 지지 부재(44)는, 상기 포드(13) 측의 레티클 리테이너(25)와 함께 레티클을 상하 양측으로부터 지지하는 레티클 리테이너(45)와, 레티클(12)의 하측면에 장착된 박막(46)을 지지하는 박막 리테 이너(47)와, 이들을 일체적으로 지지하는 베이스 판부(48)로 구성되어 있다. 레티클 리테이너(45)의 구성은, 리테이너 받이부(50)가 상술한 포드(13) 측의 레티클 리테이너(25)의 리테이너 받이부(27)와 도 5의 지면(紙面)에 수직인 방향으로 어긋난 경상(mirror image) 구성을 이루고 있다. 즉, 레티클 리테이너(45)는 리테이너 받이부(50)와 리테이너 판부(51)로 구성되어 있는데, 이들은 상기 레티클 리테이너(25)의 리테이너 받이부(26) 및 리테이너 판부(27)와, 거울에 비추었을 때와 같은 대상적(對象的)인 구성을 이루고 있다. 리테이너 판부(51) 안쪽의 홈 부분(52)도 레티클 리테이너(25)의 홈 부분(31)과 같은 기능을 갖추고 있다. 즉, 리테이너 판부(51)가 홈 부분(52)에 의해 탄성적으로 휘어, 레티클(12)의 하측 모서리 부분(12B)이 경사면에 당접하여 탄성적으로 지지되도록 되어 있다.
상기 구성의 레티클 리테이너(45)와 레티클 리테이너(25)는 서로 어긋난 위치에 설치되어 서로 간섭하지 않고, 레티클(12)을 지지하도록 되어 있다. 이 레티클 리테이너(25), (45)로 레티클(12)을 사이에 끼고, 규정 위치에서 지지하도록 되어 있다. 포드(13)를 제거한 후에도 레티클(12)은 덮개(14)의 레티클 리테이너(45)에 의해 덮개(14)로부터 규정된 거리만큼 떨어진 상태로 지지되도록 되어 있다. 박막 리테이너(47)의 박막 받이부(56)도, 포드(13) 측의 박막 리테이너(37)의 리테이너 받이부(39)와 도 5의 지면 내 가로 방향으로 어긋난 경상(mirror image) 구성을 이루고 있다. 즉, 박막 리테이너(47)는 포드(13) 측의 박막 리테이너(37)의 리테이너 받이부(38)와 경상(mirror image)인 리테이너 받이부(55)와, 리테이너 판부(39)와 경상인 리테이너 판부(56)로 구성되어 있다. 리테이너 판부(56) 안쪽에는 박막 리테이너(37)의 홈 부분과 같은 구성의 홈 부분(도시하지 않음)이 설치되어 있다.
덮개(14)의 이면에는 도 1에서 도시하듯이 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)가 설치되어 있다. 이 키네마틱 핀 글루브(61)는 노광기에 위치 결정시켜 장착하기 위한 부재이다. 키네마틱 핀 글루브(61)는, 거의 이등변 삼각형의 정점 위치에 설치된 3개를 한 세트로 하여, 180°방향을 바꾼 상태로 두 세트(61A, 61B), 총 6개가 설치되어 있다. 이것은 레티클 반송용기(11)를 장치 내에 장착할 때, 작업자가 레티클 반송용기(11)의 방향을 180°잘못 장착했을 경우에도, 그대로 장착할 수 있도록 하기 위한 것이다.
포드(13)에는 도 6에서 도시하듯이 멤브레인 필터 장착부(62)가 형성되어 있다. 이 멤브레인 필터 장착부(62)는 멤브레인 필터(63)를 확실하게 장착하는 동시에, 용이하게 착탈할 수 있도록 하기 위한 부분이다. 이 멤브레인 필터 장착부(62)는 관(管) 가이드(65)와 필터 감합통부(嵌合筒部)(66)와 스토퍼(stopper)(67)로 구성되어 있다.
관 가이드(65)는 멤브레인 필터(63)를 내부에 수납하여 고정하기 위한 통부(筒部)이다. 이 관 가이드(65)는 포드(13)의 본체부(17)에 일체적으로 설치되어 있다. 관 가이드(65)의 외측은 개방되어 있어, 멤브레인 필터(63)를 착탈할 수 있게 되어 있다. 또한, 관 가이드(65)는 레티클 반송용기(11) 내의 기체를 치환시키기 위한 가스 공급관(도시하지 않음)과 접속시키기 위한 관이기도 하다. 관 가이드(65)의 안쪽은 막혀 필터 감합통부(66)가 설치되어 있다. 이 필터 감합통부(66)는 멤브레인 필터(63)의 감합통부(71)를 감합시키기 위한 통부이다. 필터 감합통부 (66)는 관 가이드(65) 내에 있어서, 그 안쪽 저부로부터 외측을 향해 뻗은 좁은 직경의 통부로써 구성되어 있다. 관 가이드(65) 내측면의 중간 위치에는, 스토퍼(67)가 설치되어 있다. 이 스토퍼(67)는 관 가이드(65) 내에 장착된 멤브레인 필터(63)를 떨어지지 않도록 고정시키기 위한 부재이다.
멤브레인 필터(63)는 레티클 반송용기(11)의 내외에서 기체의 출입을 허용하기 위한 필터이다. 이 멤브레인 필터(63)는 먼지 등의 통과를 방지하고, 기체만이 레티클 반송용기(11)의 내외측 사이에서 출입할 수 있도록 허용한다. 멤브레인 필터(63)는 필터 본체부(70)와 감합통부(71)와 개구통부(72)로 구성되어 있다.
필터 본체부(70)는 두툼한 원반상으로 형성되어 있으며, 내부에 필터가 수납되어 있다. 필터 본체부(70)의 직경은 상기 스토퍼(67)에 계지(係止)하는 크기로 설정되어 있다. 감합통부(71)는 필터 본체부(70) 내와 레티클 반송용기(11) 내를 연결시키기 위한 부재이다. 감합통부(71)는 멤브레인 필터(63)가 관 가이드(65) 내에 장착된 상태로, 필터 감합통부(66)에 감합시켜 필터 본체부(70) 내와 레티클 반송용기(11) 내를 연결시킨다. 개구통부(72)는 필터를 통해 레티클 반송용기(11) 내와 외부를 연결시키기 위한 통부이다. 또한, 필터로써는 0.1∼0.5㎛의 메쉬(mesh)가 충전되어 있어 불활성 가스나 건조공기 중의 먼지 성분을 제거한다.
덮개(14)의 외측 표면에는, 도 7에서 도시하듯이 무선 태그(74)가 설치되어 있다. 이 무선 태그(74)는 덮개판(75)으로 덮인 상태로, 덮개(14)의 외측 표면에 장착되어 있다. 덮개판(75)은 무선 태그(74)를 완전히 덮은 상태로 그 주변 전체를 용착(溶着)시켜 내부를 밀봉하고 있다. 덮개판(75)에는 무선 태그(74)를 수납하는 홈 부분(75A)이 형성되어 있다. 무선 태그(74)는 이 덮개판(75)의 홈 부분(75A)에 수납된 상태로, 덮개판(75)이 덮개(14)의 외측 표면에 그 주변 전체를 용착시킨다. 이것에 의해, 무선 태그(74)는 덮개판(75) 내에 밀봉 수납되어 있다. 이것은 레티클 반송용기(11)의 반송 중 등에 있어서, 무선 태그(74)의 탈락이나 기계적 손상을 방지하기 위해서다. 또한, 무선 태그 자체에 의한 장치의 오염을 방지하기 위해서다. 이 무선 태그(74)는 외부로부터의 전자파의 변화에 의해 비접촉 상태에서 정보를 써넣는다든지 읽어낸다든지 하는 것이 가능한 소자이다. 이 무선 태그(74)에 처리, 보관시에 필요한 여러 가지 관리 정보를 격납(格納)시킨다.
이상과 같이 구성된 레티클 반송용기(11)는 다음과 같이 사용된다. 또한, 여기에서는 레티클 반송용기(11)가 반도체 웨이퍼 상에 회로 패턴을 새길 때의 처리에 사용되는 경우를 예로 설명한다.
우선, 레티클(12)이 레티클 반송용기(11) 내에 수납된다. 이때, 레티클(12)은 덮개(14)의 레티클 리테이너(45)에 배치되고, 포드(13)가 장착되어 고정 기구(41)로 고정된다. 이것에 의해, 레티클(12)이 덮개(14) 측의 레티클 리테이너(45)와 포드(13) 측의 레티클 리테이너(25) 사이에서 지지를 받는다. 구체적으로는, 레티클 리테이너(45)의 리테이너 판부(51)에 레티클(12)의 하측 모서리 부분(12B)이, 레티클 리테이너(25)의 리테이너 판부(27)에 레티클(12)의 상측 모서리 부분(12A)이 각각 경사면에 당접하여 지지를 받는다. 이때, 리테이너 판부(51), (27)의 안쪽에는 홈 부분(52), (31)이 있어 리테이너 판부(51), (27)가 휘는 것을 허용하기 때문에, 레티클(12)은 탄성적으로 지지를 받는다. 이것에 의해, 레티클(12)은 그 표 면에 흠집을 내는 일 없이, 모든 자유도가 제어되어 레티클 반송용기(11) 내에 고정된다.
레티클(12)에 박막(46)이 설치되어 있는 경우는, 이 박막(46)이 상기 레티클(12)과 같은 작용에 의해, 박막 리테이너(47)에 의해 고정된다.
이와 같이 하여 레티클(12)은 레티클 반송용기(11) 내에 한 장씩 수납되고, 작업자에 의해 레티클 스토커(stocker)(2) 내에 필요한 수량만큼 쌓아져 장착된다. 이때, 레티클 반송용기(11)는 모두 설정된 방향에 따라 수납하는 것이 바람직한데, 방향이 잘못된 경우라도 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)에 의해 문제없이 장착된다. 즉, 레티클 반송용기(11)의 방향이 180°어긋나 있는 경우라도 두 세트 중 한쪽의 키네마틱 핀 글루브(61)가 레티클 스토커(2) 내의 키네마틱 핀에 감합되어 장착된다. 또한, 복수의 레티클 반송용기(11)를 적층시키는 경우도 키네마틱 핀 글루브(61)에 맞춰 여섯 군데에 설치된 받이부(22)가 레티클 반송용기(11)의 방향에 관계없이 키네마틱 핀 글루브(61)를 받아 서로 감합되고, 각 레티클 반송용기(11)를 정확하게 위치 결정시켜 안정되게 적층시킨다. 이것에 의해, 작업자는 과도한 주의를 기울이지 않고, 레티클 반송용기(11)를 레티클 스토커(2) 내에 장착시킬 수 있다.
그 후의 레티클 반송용기(11)의 반송 등은 모두 기계적으로 행해진다. 즉, 레티클 스토커(2)로부터 레티클 반송용기(11)를 꺼내서 수납하고, 반송 크레인으로 반송 레일 상을 이동하여, 노광기(1)에 레티클 반송용기(11) 내의 레티클(12)을 세팅할 때까지의 조작이 모두 기계적으로 행해진다(SMIF: Standard Mechanical Interface).
반송 레일(4)의 반송 기구부(5)는 레티클 스토커(2) 내의 레티클 반송용기(11)와 그 센터 핸들링 플랜지(20)로 서로 결합되어 들어 올려진다. 그리고, 반송 레일(4)로 노광기(1)까지 이동된다.
이어서, 레티클 반송용기(11)는 노광기(1) 내에 도입된다. 그 후, 레티클(12)은 노광기(1)의 자동 노광 스테이지(도시하지 않음)로 옮겨져 이미 장착되어 있는 반도체 웨이퍼 상에 정확하게 위치 결정된 상태로 설치되고, 노광 작업이 자동적으로 이루어진다.
노광이 종료되면, 레티클(12)은 레티클 반송용기(11)로 되돌아오고, 다시 반송 기구부(5)로 반송 레일(4)를 이동하여 레티클 스토커(2)로 되돌아온다.
이상의 처리 공정에 있어서는, 무선 태그(74)에 기록된 정보에 근거하여 공정 제어된다. 레티클 반송용기(11)의 덮개(14)의 무선 태그(74)에는, 레티클(12)의 종류나 작업 이력 등과 같은 여러 가지 정보가 기록되어 있는데, 노광기(1) 내에 장착된 독해 장치(도시하지 않음)가 무선 태그(74)의 정보를 비접촉으로 읽어내, 노광기(1) 내에서의 제어 등을 그 정보에 근거해 실시한다. 노광 작업 종료 후에는, 필요에 따라서 입력 장치(도시하지 않음)로 무선 태그(74)에 레티클(12)이나 레티클 반송용기(11)의 이력, 작업 이력 등을 써넣는다. 이것에 의해, 노광 작업이나 관리 등을 원활하게 실시한다.
이때, 무선 태그(74)는 덮개판(75)에 의해 밀폐 수납되어 있기 때문에, 무선 태그(74)의 탈락이나 기계적 손상을 없앨 수 있을 뿐만 아니라, 무선 태그(74) 자 체에 의한 장치의 오염도 방지할 수 있다.
또한, 레티클 반송용기(11)를 압력이 변동하는 환경에 두었을 경우, 예를 들면 비행기에 의한 수송 등과 같이, 상공의 비교적 기압의 낮은 환경과 지상의 비교적 기압의 높은 환경에 두었을 경우, 레티클 반송용기(11)의 내압이 외압보다 낮아지는 일이 있다. 이 경우, 포드(13)와 덮개(14)를 분리하는 것이 어려워지는데, 멤브레인 필터(63)가 레티클 반송용기(11)의 내외에서 기체의 출입을 허용하기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 내압이 외압보다 낮아지는 것을 방지한다. 이것에 의해, 포드(13)와 덮개(14)를 분리하는 것이 용이해진다.
또한, 레티클 반송용기(11) 내의 기체를 치환시키는 경우는, 멤브레인 필터 장착부(62)의 관 가이드(65)에 가스 공급관을 끼워 넣어 접속하고, 관 가이드(65)에 불활성 가스나 건조 공기 등을 보낸다.
이상과 같이, 키네마틱 핀 글루브(61)를 180℃ 어긋나게 하여 두 세트 설치했기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 그 방향이 잘못 장착된 경우에도 키네마틱 핀 글루브(61)가 이것을 허용하여 문제없이 장착할 수 있다. 이것에 의해, 작업자는 과도한 주의를 기울이지 않고 레티클 반송용기(11)를 레티클 스토커(2) 내에 장착할 수 있으며, 작업성을 향상시킬 수 있다.
바꿔 말하면, 작업자가 상기 레티클 반송용기(11)를 180°방향이 어긋난 상태로 레티클 스토커(2)에 장착한 경우에도 180°방향을 바꾼 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)가 이것을 허용하여 상기 레티클 반송용기(11)의 장착을 가능하게 하기 때문에, 상기 레티클 반송용기(11)의 방향에 대해 과도한 주의를 기울이지 않고 적층시킬 수 있으며, 레티클 반송용기(11)의 장착시에 있어서의 작업의 효율화를 꾀할 수 있다.
또한, 포드(13)의 본체부(17)에는 키네마틱 핀 글루브(61)에 맞춰 받이부(22)를 여섯 군데에 설치했기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 방향에 신경 쓰지 않고 복수의 레티클 반송용기(11)를 쌓아 올릴 수 있다. 이것에 의해, 작업자는 과도한 주의를 기울일 필요가 없어지고, 작업성을 향상시킬 수 있다.
바꿔 말하면, 상기 받이부(22)를, 상기 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계하여 복수의 레티클 반송용기(11)를 그 방향에 대해서 과도한 주의를 기울이지 않고 적층시킬 수 있도록 했기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 적층 작업시에 있어서 작업의 효율화를 꾀할 수 있다.
또한, 레티클(12) 등이 레티클 리테이너(25) 등에 의해 흠집나는 일 없이 안전하면서도 확실하게 지지되어 레티클(12) 등을 보다 신중하게 취급할 수 있게 된다.
또한, 무선 태그(74)에 여러 가지 정보를 기록하여 관리하기 때문에, 그 정보에 근거하여 작업 효율을 향상시킬 수 있다. 이때, 무선 태그(74)는 덮개판(75)에 의해 밀폐 수납되어 있기 때문에, 무선 태그(74)의 탈락이나 기계적 손상을 없앨 수 있을 뿐만 아니라, 무선 태그(74) 자체에 의한 장치의 오염도 방지할 수 있다.
또한, 멤브레인 필터(63)에 의해 레티클 반송용기(11) 내외에서의 기체의 출 입을 허용하기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 내압이 외압보다 낮아지는 것을 방지하고, 포드(13)와 덮개(14)를 용이하게 분리할 수 있게 된다. 또한, 레티클 반송용기(11) 내의 기체 치환을 용이하게 할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 멤브레인 필터(63)를 포드(13) 측에 한 개 설치했지만, 덮개(14) 측에 설치해도 된다. 멤브레인 필터(63)의 설치 개수도 한 개로 한정하지 않고, 두 개 이상으로 해도 된다. 포드(13) 또는 덮개(14) 중 어느 한쪽 또는 양쪽에, 한 개 또는 복수 개의 멤브레인 필터(63)를 설치할 수 있다. 이 경우, 다른 것의 방해가 되지 않는 위치에 설치한다.
또한, 상기 실시 형태에서는 무선 태그(74)를 덮개(14) 외측 표면의 한 군데에 설치했지만, 필요에 따라 두 군데 이상 설치해도 된다. 설치하는 장소도 덮개(14)로 한정하지 않고 포드(13)이어도 된다. 양쪽이어도 된다. 요구되는 기능, 독해 장치 및 입력 장치와의 관계로, 포드(13) 측에 설치하는 경우도 있다. 또한, 무선 태그(74)에 기록하는 정보도 작업 이력 등으로 한정하지 않고 여러 가지 정보를 기록할 수 있다.
작업자가 상기 레티클 반송용기(11)를 180°방향이 어긋난 상태로 레티클 스토커(2)에 장착한 경우에도 180°방향을 바꾼 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)가 이것을 허용하여 상기 레티클 반송용기(11)의 장착을 가능하게 하기 때문에, 상기 레티클 반송용기(11)의 방향에 대해 과도한 주의를 기울이지 않고 적층시킬 수 있으며, 레티클 반송용기(11)의 장착시에 있어서의 작업의 효율화를 꾀할 수 있다.
또한, 상기 받이부(22)를, 상기 두 세트의 키네마틱 핀 글루브(61)를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계하여 복수의 레티클 반송용기(11)를 그 방향에 대해서 과도한 주의를 기울이지 않고 적층시킬 수 있도록 했기 때문에, 레티클 반송용기(11)의 적층 작업시에 있어서 작업의 효율화를 꾀할 수 있다.

Claims (2)

  1. 일단(一端)에 개구(開口)를 가지고 레티클(reticle)을 수납하는 내부를 가지는 포드(pod)와, 상기 개구를 덮어 막는 덮개와, 상기 덮개로 상기 포드(pod)를 막았을 때 내부를 기밀하게 밀봉(sealing)하는 밀봉재를 구비한 레티클 반송용기에 있어서,
    상기 덮개의 외측 표면에 형성되어 장치 측에 위치 결정시켜 장착시키기 위한 키네마틱 핀 글루브를, 180°방향을 바꿔서 두 세트 설치한 것을 특징으로 하는 레티클 반송용기.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 포드의 외측 표면 중 상기 키네마틱 핀 글루브에 대응하는 위치에, 상기 키네마틱 핀 글루브를 받아 보관 유지하기 위한 받이부를, 상기 두 세트의 키네마틱 핀 글루브를 어느 쪽 방향으로라도 감합시킬 수 있도록 배치 설계한 것을 특징으로 하는 레티클 반송용기.
KR1020050122647A 2004-12-14 2005-12-13 레티클 반송용기 KR101165855B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004361885A JP2006173273A (ja) 2004-12-14 2004-12-14 レチクル搬送容器
JPJP-P-2004-00361885 2004-12-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060067855A true KR20060067855A (ko) 2006-06-20
KR101165855B1 KR101165855B1 (ko) 2012-07-13

Family

ID=36000873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050122647A KR101165855B1 (ko) 2004-12-14 2005-12-13 레티클 반송용기

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7420655B2 (ko)
EP (1) EP1672428A3 (ko)
JP (1) JP2006173273A (ko)
KR (1) KR101165855B1 (ko)
CN (1) CN100564196C (ko)
TW (1) TWI353954B (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4581681B2 (ja) * 2004-12-27 2010-11-17 株式会社ニコン レチクル保護装置および露光装置
US7607543B2 (en) * 2005-02-27 2009-10-27 Entegris, Inc. Reticle pod with isolation system
JP4789566B2 (ja) * 2005-09-30 2011-10-12 ミライアル株式会社 薄板保持容器及び薄板保持容器用処理装置
US7581372B2 (en) * 2006-08-17 2009-09-01 Microtome Precision, Inc. High cleanliness article transport system
JP2009229639A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 E-Sun Precision Industrial Co Ltd フォトマスクケース
TWI344926B (en) * 2008-12-05 2011-07-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod
TWI411563B (zh) 2009-09-25 2013-10-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd 光罩盒
US8925290B2 (en) * 2011-09-08 2015-01-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Mask storage device for mask haze prevention and methods thereof
US9260207B2 (en) * 2013-01-17 2016-02-16 Sergey N. Razumov Order picking system and method
CA2975806A1 (en) 2015-02-03 2016-08-11 Asml Netherlands B.V. Mask assembly and associated methods
CN109292280B (zh) * 2018-09-11 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 用于装载薄膜的盒和装载薄膜的方法
US20200144086A1 (en) * 2018-11-07 2020-05-07 Entegris, Inc. Reticle support for a container
TWI705522B (zh) * 2019-07-30 2020-09-21 家登精密工業股份有限公司 基板容納裝置及其製造方法
TWI767515B (zh) * 2020-05-14 2022-06-11 家登精密工業股份有限公司 提供有效密封之用於容納基板的容器

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10163094A (ja) * 1996-12-03 1998-06-19 Nikon Corp 露光装置及び露光方法並びに搬送装置
TW510004B (en) 1997-08-29 2002-11-11 Nikon Corp Photomask case, conveying device, and conveying method
US6216873B1 (en) * 1999-03-19 2001-04-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF container including a reticle support structure
JP4469462B2 (ja) * 2000-05-25 2010-05-26 株式会社ニコン キャリア形状測定機
US6895294B2 (en) 2000-12-04 2005-05-17 Freescale Semiconductor, Inc. Assembly comprising a plurality of mask containers, manufacturing system for manufacturing semiconductor devices, and method
US7304720B2 (en) 2002-02-22 2007-12-04 Asml Holding N.V. System for using a two part cover for protecting a reticle
US7380668B2 (en) * 2004-10-07 2008-06-03 Fab Integrated Technology, Inc. Reticle carrier
JP4667018B2 (ja) 2004-11-24 2011-04-06 ミライアル株式会社 レチクル搬送容器

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006173273A (ja) 2006-06-29
TWI353954B (en) 2011-12-11
CN100564196C (zh) 2009-12-02
CN1792742A (zh) 2006-06-28
TW200621598A (en) 2006-07-01
EP1672428A2 (en) 2006-06-21
KR101165855B1 (ko) 2012-07-13
US7420655B2 (en) 2008-09-02
US20060126052A1 (en) 2006-06-15
EP1672428A3 (en) 2007-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101165855B1 (ko) 레티클 반송용기
KR101077719B1 (ko) 레티클 반송용기
KR101029434B1 (ko) 정밀 기판 수납 용기
JP5025962B2 (ja) 薄板収納容器
US6216873B1 (en) SMIF container including a reticle support structure
US7607543B2 (en) Reticle pod with isolation system
JP4903429B2 (ja) 載置トレイ及び薄板保持容器
US20100276324A1 (en) Thin Plate Container
JP2005088921A (ja) 基板収納ケース
KR20060067856A (ko) 레티클 처리 시스템
TW200805545A (en) Method for handling and transferring a wafer case, and holding part used therefor
JP2007141925A (ja) マスク収容容器、露光装置
JP4333404B2 (ja) 搬送装置、搬送方法、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
WO2006035894A1 (ja) 薄膜付基板の支持部材、薄膜付基板の収納容器、マスクブランク収納体、転写マスク収納体、及び薄膜付基板の輸送方法
JP2005086092A (ja) 露光マスク収容器
KR20210122240A (ko) 마스크 어댑터, 마스크 어댑터 장착 공구, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
JP2003092328A (ja) ロードポート装置
JP2001298077A (ja) 基板収納容器
JP6486257B2 (ja) 基板収納容器
JP2006351707A (ja) 基板収納容器
JP2003124291A (ja) 位置測定システム、ロードポート装置及び基板搬送方法
JPS59186320A (ja) レテイクル搬送装置
JPS63265445A (ja) 基板の保管、搬送装置
JP2005135947A (ja) フォトマスク収納用容器
JPH11271961A (ja) ペリクル張設用フレ―ム及びペリクル張設用フレ―ムの搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee