TWI316528B - Modified pigment products and black matrixes comprising same - Google Patents

Modified pigment products and black matrixes comprising same Download PDF

Info

Publication number
TWI316528B
TWI316528B TW092100242A TW92100242A TWI316528B TW I316528 B TWI316528 B TW I316528B TW 092100242 A TW092100242 A TW 092100242A TW 92100242 A TW92100242 A TW 92100242A TW I316528 B TWI316528 B TW I316528B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
pigment product
alk
black matrix
polymer
Prior art date
Application number
TW092100242A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200306336A (en
Inventor
N Step Eugene
A Belmont James
Original Assignee
Cabot Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cabot Corp filed Critical Cabot Corp
Publication of TW200306336A publication Critical patent/TW200306336A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI316528B publication Critical patent/TWI316528B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/08Ingredients agglomerated by treatment with a binding agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B68/00Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology
    • C09B68/40Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology characterised by the chemical nature of the attached groups
    • C09B68/41Polymers attached to the pigment surface
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/44Carbon
    • C09C1/48Carbon black
    • C09C1/56Treatment of carbon black ; Purification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/44Carbon
    • C09C1/48Carbon black
    • C09C1/56Treatment of carbon black ; Purification
    • C09C1/565Treatment of carbon black ; Purification comprising an oxidative treatment with oxygen, ozone or oxygenated compounds, e.g. when such treatment occurs in a region of the furnace next to the carbon black generating reaction zone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/10Treatment with macromolecular organic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

⑴ 1316528 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 拮術领域 本發明係關於改良的顏料產品及含這些改良顏料產品 之分散物、黑色基質及樹脂組合物。 先前技術 黑色基質為藉分離個別彩色像素在彩色顯示器中用於 改良影像對比之材料的一般名稱。在液晶顯示器(LCD)中 ,黑色基質為具高光遮避能力之薄膜且在彩色濾光片之三 色元件間形成。在使用薄膜電晶體(TFT)之LCD中,黑色基 質亦防止因TFT中反射光之光引發電流之形成。 傳統上液晶顯示器中之黑色基質層由氣相沈積Cr/Cr〇 製造。雖然鉻基膜有極佳之光遮避能力,但金屬氣相沈積 法為昂貴的。此外,鉻之使用及拋棄受逐漸增加限制之環 境法規的管制。鉻膜亦具較低之阻抗,其限制LCD之電子 設計於可能設計组態之子集中》 黑色顏料(如碳黑)已用在聚合組合物以製造具阻抗性 之黑色基質。然而’典型系統已不能提供合適平衡之整體 性質。例如,儘管含碳黑顏料之黑色基質可提供要求之光 遮蔽能力(換之’光密度(0D)在1微米厚下大於3),典型 上此膜只有一般之阻抗。另一方面,若產生高阻抗之膜, 0D典型上為低的。 具有機基團之改R顏料亦已揭示用於彩色遽光片之緊 色基質中。儘管這些材料提供具良好整體性能之黑色基質 及分散物,留下對具改良性質(特別是阻抗及光密度)之黑 發明說明續頁 1316528 ⑵ 色基質之需求。 發明内容: 本發明係關於含連接至少一個聚合基團之顏料的改良 顏料產品。在一具體實施例中,聚合基團包括至少一種可 光聚合基及至少一種離子或可離子化基》在另一具體實施 例中,聚合基團具化學式-X-Sp-[PP],其中X直接連接在顏 料上’其代表亞芳香基、雜亞芳香基或烯煙基且代表 玄間基。基團PP代表含至少一種可光聚合基及至少一種 酸性基之聚合物。改良顏料亦可在液體媒介中以形成分散 物。 本發明尚關於含連接至少一個聚合基團之顏料的改良 顏料產品,其中顏料為酞酸二丁酯吸收約25至7〇 mL/1〇〇 g 之碳黑。改良顏料亦可在液體媒介中形成分散物β 本發明尚關於一種黑色基質,其藉應用光敏感層在基板 上、照射光敏感層影像轉移,及顯影並乾燥塗層形成。光 敏感層包括如前面所述之改良黑色顏料產物。 本發明尚關於-種樹脂組合物,其包括:a)光敏感樹脂 及b)如前面所述之改良顏料產品。 應了解前面之一般敘述及下面之詳細敘述皆只為依申 請專利範圍例示及解釋的且打算提供本發明之進一步解 釋。 本發明係關於改良顏料產品,以及含改良顏料產品之黑 色基質、分散物及樹脂組合物。 發明說明續頁 1316528 本發明之改良顏料產品包括具至少一個聚合基團之顏 料。此顏料可為任何形式之顏料,如黑色顏料及其他顏色 之顏料。較佳之顏料為碳產品,如碳黑。亦可使用不同顏 料之混合物。這些顏料亦可結合多種不同形式分散劑使用 以形成穩定分散物。 黑色顏料之代表性實例包括種種碳黑(黑顏料7)如槽黑 、爐黑及燈黑,且包括例如可購自卡博特(Cabot)公司在 Regal®、Black Pearls®、Elftex®、Monarch®、Mogul®、及 Vulcan® 商標下販售之碳黑(如 Black Pearls® 2000、Black Pearls® 1400 、Black Pearls® 1300 ' Black Pearls® 1100、Black Pearls® 1000 、Black Pearls® 900、Black Pearls® 880、Black Pearls® 800、Black Pearls® 700、Black Pearls® L、Elftex® 8、Monarch® 1400、 Monarch® 1300、Monarch® 1100、Monarch® 1000、Monarch® 900 、Monarch® 880、Monarch® 800、Monarch® 700、Mogul® L、Regal® 330、Regal® 400、Vulcan® P)。其他適當之碳黑包括但不限 於(狄格沙(Degussa)公司之)Printex 40、Printex 80、Printex 300 、Printex L、Printex U、Printex V、特黑 4、特黑 5、特黑 250 、FW200 ’(哥倫比亞(Colombian)公司之)Raven 780、Raven 890 、Raven 1020、Raven 1040、Raven 1255、Raven 1500、Raven 5000 、Raven 5250,及三菱化學公司之MA100與MA440。 顏料可選自寬範圍之傳統彩色顏料。彩色顏料可為藍、 黑、棕、靛、綠、白、藍紫、深紫紅、紅、橘、黃色,以 及其混合。合適種類之彩色顏料包括例如蒽醌、酞花青藍 、酉太花青綠、重氮、單偶氮、皮蒽酮、3S、雜環黃、喳吖 1316528 ⑷ 發明說明續頁 啶酮及硫代靛音類β酞花青藍之 銅及其衍生物(藍顏料15卜…==㈣花音藍 顏料4 8、橘顏料4 9、紅顏料i 2 2 冑例包括橘 .,, Λ Λ . a 頗科 19 2、紅顏料 2 Ο 2、 红顏科20幻' 紅顏料207、紅顏料 y 監者顏料1 9及链昝 ι_。蒽s昆之代表性實例包括紅顏料43、紅顏料叫紫 壤酮紅)、紅顏料216 (溴化线酮紅)及紅顏料2叫皮茵嗣 紅)。范之實例包括紅顏料123 (朱紅)、紅顏料149 (深紅) 、紅顏料丨79(茶色)、紅顏料19〇 (紅)、藍紫顏料”、紅顏 料189(紅帶黃)及紅顏料224。靛青之代表性實例包括紅顏 料86、紅顏料87、紅顏料88、紅顏料181、紅顏料198 '藍 紫顏料36及藍紫顏料38。雜環黃之代表性實例包括黃顏料 1、黃顏料3、黃顏料12、黃顏料13、黃顏料14、黃顏料17 、黃顏料65、黃顏料73、黃顏料74、黃顏料15卜黃顏料玉17 、只顏料128及瓦顏料138。這類顏料可由一些來源(包括 巴斯夫(BASF)公司、英格爾哈德(Engelhard)公司及太陽(sun) 化學公司)購得粉末或麼縮塊。其他適合彩色顏料之實例 在染料顏色索引(Colour Index)第三版中敘述(印染人員協 會(The Society of Dyers and Colourists, 1982)。 顏料之其他實例包括Hostafine®系列如Hostafine® Yellow GR (顏料 13)、Hostafine® Yellow (顏料 83)、Hostafine® Red FRLL (顏料 9)、Hostafine® Rubine F6B (顏料 184)、Hostafine® Blue 2G (藍顏料 15:3)、HostaHne® Black T (黑顏料 7),及 Hostafine® Black TS (黑顏料 7)、Normandy Magenta RD-2400、Paliogen Violet 5100、Paliogen® Violet 5890、Permanent Violet VT2645、Heliogen Green 1316528 (5) 發明說明續頁 L8730 ' Argyl Green XP-lll-S ' Brilliant Green Toner GR 0991 ' Heliogen® Blue L6900、L7020、Heliogen® Blue D6840、D7080、 Sudan Blue OS、PV Fast Blue B2G01、Irgalite Blue BCA、Paliogen® Blue 6470、Sudan III、Sudan II、Sudan IV、Sudan Orange G、Sudan Orange 220、Paliogen® Orange 3040、Ortho Orange OR 2673、 Paliogen® Yellow 152、1560、Lithol Fast Yellow 0991K、Paliotol Yellow 1840、Novoprm® Yellow FG 1 ' Permanent Yellow YE 0305 、Lumogen Yellow D0790、Sueo-Gelb L1250、Suco-Yellow D1355 、Hostaperm® Pink E、Fanal Pink D4830、Cinquasia Magenta、Lithol Scarlet D3700 ' Toluidine Red ' Scarlet for Thermoplast NSD PS PA 、E. D. Toluidine Red、Lithol Rubine Toner、Lithol Scarlet 4440 、Bon Red C、Royal Brilliant Red RD-8192、Oracet Pink RF、 Paliogen® Red 3871K、Paliogen® Red 3340、及Lithol Fast Scarlet L4300、這些可自來源如赫特斯塞拉尼斯(Hoechst Celanese) 公司、保羅優理西(Paul Uhlich)、美國赫特斯、汽巴嘉基 (Ciba-Geigy)、艾爾迪西(Aldrich)、杜邦、加拿大優吉克爾曼 (Ugine Kuhlman)、多明尼彩色公司(Dominion Color Company) 、馬魯德(Magruder)、及麥迪森(Matheson)、克爾曼(Coleman) 、貝爾(Bell)。 顏料可具寬範圍之BET表面積(以氮吸收測量)。顏料之 表面積為約10至600 m2/g較佳。表面積以約20至250 m2/g更 佳,而以約20至100 m2/g最佳。若顏料之較佳表面積不易 得到,熟諳此藝者已認可顏料可受傳統尺寸研磨或減少技 術(如球或喷射磨粉)以減少顏料之粒子大小至要求之大 -10- 1316528 ^ _ (6) 發明說明續頁 小0 顏料亦可具寬範圍之酞酸二丁酯吸收(DBp)值,此值為 顏料之結構或分歧之測量。顏料之DBp值為約25至 mL/100 g較佳,以約30至50 mL/100 g更佳,而以約3〇至4〇 mL/100 g最佳。此外,顏料可具寬範圍之主要粒子大小。 主要粒子大小為約1 〇至1〇〇請較佳’以丨5至6〇 nm更佳。較 佳之顏料接近基本本上完全球形之幾何。亦可使用具其他 形狀(如針狀及片狀)之顏料。 發明之改良顏料產品包括連接至少一種聚合基團 顏料 叫 °聚合基團可為任何形式能連接在顏料上之聚合基固 I如墊塑性聚合基團或熱固性聚合基團。聚合基團可為 機水合物、交替聚合物、接枝聚合物、嵌段聚合物、▲ 勿及/或杭狀聚合物。此外,聚合基團可為單暂 水合物、JL聚人私 _
° 、二元共聚物、及/或含任何數目不间 重複單开夕;^ J ^ Q物°聚合基團之實例包括但不限於聚碳酸 醋 '聚醚、聚酯、奄π ^ ,, 曰 #丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙 ’、聚胺,及聚嫌柄 取你. 永婦聚合基團包括苯基醚或二苯基醚及 « ^ 一 例如,聚合基團可為由環氧雙酚A、授 乳雙酚A之寡聚躲士 哀 枯取 "物或環氧酚醛清漆製備之聚合物。另—# 住聚合基團包括茇 权 甘软 ♦ G烯及順丁烯二酸酐、順-丁烯酸、劣 其崃或衍生物。例 次 酸紅士 〗如,聚合基團可為苯乙烯及順-丁歸二 半酿之聚合物。 點逄沾,舌* 聚《基圏亦可在沿著聚合物上之多個 %過在重複單體s _ klTL上適當選擇之取代基連接至顏料。 在本發明之—夏 π 八體實施例中,改良顏料產品包括連接至 -11- 1316528 ⑺ 發明說明績頁 少一種聚合基團之顏料,其中該聚合基團包括至少一種可 光聚合基及至少一種離子或可離子化基。在此使用之“可 光聚合基”一詞定義為在曝光(如紫外光、紅外光或電子束 輻射)下能形成聚合材料之任何有機官能基。這包括為光 反應性(換言之,其形成反應物種如曝光下之自由基)有時 亦稱為光起始劑之基團,以及與由光反應性基團形成之反 應物種反應之基團。實例包括偶氮基及乙埽末飽和基。較 佳之可光聚合基包括丙燁酸根、甲基丙婦酸根、乙婦基及 苯乙埽基。最佳者為丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。 對此一具體實施例,聚合基團尚包括至少一種離子或可 離子化基。在此使用之“離子基”為陰離子或陽離子且與相 反電荷之抗衡離子相連,而“可離子化基”為在使用媒介中 能形成可離子基者。 聚合基困可包括至少一種陰離子或可陰離子化基。陰離 子基為負電荷離子基,且可由具能形成陰離子(可陰離子 化基)如酸性取代基之可離子化基之基團產生。其亦可為 可離子化取代物之鹽中之陰離子。當可離子化取代物形成 陰離子時,可離子化取代物之pKa小於11較佳。陰離子基 尚可由具pKa小於11之可離子化基之物種及pKa小於1 1之 可離子化取代物之鹽產生。可離予化取代物之pKa指可離 子化取代物整體之pKa,而非只是酸性取代物之pKa。pKa 小於1 0更佳,更小於9最佳。 陰離子基之代表性實例包括-COO·、-S〇3·、-0S03-、-ΗΡ〇3·、 -Ρ〇3_2、-ΟΡ〇3·2、-R,S-、-R,〇-,而可陰離子化基之代表性實例 -12· 1316528 ⑻ 發明說明續頁 包括-COOH、-S〇,H、ργ» η -P〇3H2、_R丨SH、-R,〇H及-SO2NHC0R,,其 中R,代表取代或未取代芳香基及/或烷基。陰離子或可陰 離子化基包括錢基、《基、㈣基或其鹽類較佳^ 佳者為幾酸基或其鹽。 聚α基團可包括至少—個陽離子或陽離子化基。陽離子 基為正負荷有機離子基’其可由能形成陽離子(可陽離子 化基)如胺之可離子化取代物產±。例如,烷基或芳香基 胺可在酸性媒介中質子化形成銨基-NR,2H+,此處RI代表2 取代或未取代芳香基及/或烷基之有機基團。此胺之 小於5較佳。陽離子基亦可為正電荷有機離子基。實例包 括四級銨基(-nr’/)及四級鳞基(-PR,3+)。這裏R,代表氫或如 取代或未取代芳香基及/或烷基之有機基團。陽離子或可 陽離子化基包括胺基或其鹽較佳β 在本發明之第二具體實施例中,改良顏料產品包括具至 少一種聚合基團之顏料,其中該聚合基團具化學式 -X-Sp-[PP]。X直接連接在顏料上’其代表亞芳香基或雜亞 芳香基或伸烷基,且以Sp基取代。Sp代表空間基。基團 PP代表包括重複單體基團或多單體基團或二者皆有之聚 合基團。聚合基團可視需要包括至少一種可光聚合基,視 需要之至少一種離子或可離子化基,或視需要二者皆有。 聚合基團包括至少一種可光聚合基較佳》聚合基團尚包括 至少一種離子或可離子化基更佳。聚合基團亦尚可以額外 基團取代。含基困PP之單體重複單元之總數以不大於約 5 0 0個單體重複單元較佳,而以不大於約1 〇 〇個單體重複單 -13- 發明說明續頁 1316528 (9) 元更佳。 基團P P可為如上所述之任何形式之聚合基團,例如單 質聚合物、共聚合物、三元共聚物、及/或含任何數目之 不同重複單元之聚合物。基團PP尚可為隨機聚合物、交 替聚合物、接枝聚合物、欲段聚合物、星狀聚合物、及/ 或梳狀聚合物。基團PP之較佳實例為前面所述者。 基團Sp代表空間基,在此作為二基團之連接。基團Sp 可為鍵結或化學基。化學基之實例包括但不限於-C02-、 -02c- ' -CO- ' -OS〇2- ' -S〇3- ' -S〇2- ' -SO2C2H4O- ' -SO2C2H4S-、-S02C2H4NR-、-0-、-S-、-NR-、-NRC0-、-C0NR-、-NRC02-、-02CNR-、-NRCONR-、-NRC0CH(CH2C02R)_、-NRC0CH2CH(C02R)_ 、-N(COR)(CO)-、-OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR-、-OOC-Alk-C0NR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-COO(CH2-CH2)xO-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-C0NR(A0X)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、-0-(CH2-CH2)-S02-、醯亞 胺基、亞芳香基、伸烷基及其類似物。R (可為相同或不 同)代表氫或如取代或未取代芳香基或烷基之有機基團, A lk代飽和或未飽和環或線性伸烷基如環己烷二基,AOX代 表約1至約12個碳之氧化伸烷基,而X為1至500間之整數。 基團X代表亞芳香基或雜亞芳香基或伸烷基。X直接連 接至顏料且尚以Sp基團取代。芳香基團尚可由任何基團 如一或多個纟充基或芳香基取代。亞芳香基為亞苯基、亞茶 基、或二亞苯基、及雜亞芳香基較佳。當X代表伸烷基時 ,實例包括但不限於取代或未取代伸烷基(可為分歧或未 -14- 1316528 00) 分歧的)。伸烷基可由一或多個基團如芳香基團取代。實 例包括但不限於CVC!2基團,像甲缔、乙燁、丙烯或丁缔 基團。X為亞芳香基較佳。 基團X可由一或多個官能基取代。官能基之實例包括但 不限於 R"、OR"、COR"、COOR"、OCOR"、幾酸根、鹵素、 CN、NR”2、S03H、磺酸根、硫酸根、NRn(COR")、CONR"2、 N〇2、P〇3H2、膦酸根、磷酸根、N=NR"、SOR,、NS02Rn,其 中R”(可為相同或不同)為獨立之氫、分歧或未分歧之 CrCw取代或未取代、飽和或未飽和烴,如烷基、婦基、 炔基、取代或未取代芳香基、取代或未取代雜芳香基、取 代或未取代烷基芳香基、或取代或未取代芳烷基。 如前面結構所示,基團PP透過空間基Sp連接至顏料。 此外,基團PP亦可在沿著聚合物上之多個點透過在重複 單體單元上適當選擇之取代基接至顏料。這些取代基亦可 包括空間基或如前所述之-X_SP-基團。如此,這些基團可 在末端或沿著骨幹之點上連至顏料。另外’這些基團可為 任何形式之聚合基團’如隨機聚合物、交替聚合物、接枝 聚合物、嵌段聚合物、星狀聚合物、及/或梳狀聚合物》 在一較佳具體實施例中’基團PP代表具化學式 [T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物’其中η代表重複單元Q-γ在聚合物 之數目且為1-2 0之整數°Q包括雙酚基醚基團,例如 -0-C6H4-C(CH3)2-C6H4-〇-、-〇-C6H4-CH2-C6H4-0-或-〇-C6H4-i 基 -C6H4-0- °Y包括取代丙燒二基,且包括具化學式 -CH2-CH(Z)-CH2-之基團,其中 Ζ為-ΟΗ或-OOC-Alk-COOH或其 1316528 ~~ (11) 發明說明續頁 鹽。Aik代表飽和或未飽和環或線性烷基,如環己烷二基β z 亦可為至空間基之鍵結。在此情況中,較佳之空間基Sp包 括-OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR-、-OOC.Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、 -00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-或-0-(CH2-CH2)-S02-,其中 R (可為相同 或不同)為氫或取取代或未取代芳香基或烷基,A OX代表 約1至約1 2個碳之氧化伸烷基,而X為1至5 0 0間之整數。T 代表末端基且包括例如烷基酯基團如乙酸根及丙酸根。T 尚包括可光聚合基且可為如ch2=ch-coo-或ch2=c(ch3)-C00-之基團較佳。 在第二較佳具體實施例中,基團PP代表具化學式 [A-(CR2B)n-CR2A]之聚合物,其中η代表重複單元B在聚合物 中之數目且為1至20之整數。R (可為相同或不同)為氫或取 代或未取代芳香基或姨*基。人及^包括苯基酸基團及取代 丙烷二基,且尚可包括可光聚合基°基團Α之實例包括具 下式之基團: C6H4- 或 C6H3(CH3)-,
I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ 基團B之實例包括具下式之基團: -C6H3- 或-c6h2(ch3)-,
I I Ο-Υ-Τ Ο-Υ-Τ Y及T如前所述° -16- 1316528 __ (12) 發明說明績頁 本發明之改良顏料使用熟諳此藝者所知之方法改良使 这有機基團連接至顏料。例如,在本發明分散物中使用之 改良顏料可用美國專利第5,851,280、5 698,016、5,922,118及 5,837,045號’及 PCT 公開案 w〇 99/51690與 W0 00/22051 中敘述 之方法製備’其敘述在此以提及之方式完全併入本文。這 提供比吸收基(如聚合物、界面活性劑及其類似物)更安全 連接基團於顏料上。 改良顏料亦可包括具至少一個有機基團之顏料,其中該 有機基團包括與具第二化學基團形成具第三有機基困之 顏料的第一化學基團之顏料的反應產物。對此,改良顏料 可使用熟諳此藝者所知的方法製備。例如,改良顏料可使 用PCT公開案第WO 01/51566號中所述之方法製備,其整個 在此以提及之方式併入本文。如此,例如有機基團可包括至 少一個親電子基(如(2 _硫酸乙基)颯基或苯甲酸基)及至少 一個親核聚合物(如聚胺或環氧雙酚A聚合物之胺衍生物) 之反應產物。在這些附著之有機基團上之進一步反應(如 酿化反應)亦為可行》其他實例亦在前面陳述之參考文獻 中揭示。 連接聚合基團之量可改變以達到要求性能之頁獻。連接 聚合基團之總量為約O.OOi至約1〇 〇微莫耳聚合基團/m2表 面積顏料較佳(以氮吸收(B E T法)測量)。速接聚合基團之 量在約0.01至約5.0微莫耳/m2間更佳,而以在約0_05至約3.0 微莫耳/m2間最佳。此外,改良顏料尚可包.括額外連接有 機基團。這可產生進一步改良之性質。在一較佳具體實施 -17· (13) 1316528 發明說明續頁 例中’改良顏料包括聚合基團及離子基、可離子化基或離 子及可離子化基之混合物。實、例包括前面所述用於連接含 離子或可離子化基之聚合基團者。離子或可離子化基包括 羧酸、磺酸基、或其鹽類較佳。 改良顏料可藉清洗(如過濾、離心、或二種方法之結合) 純化以移除未反應之生料、副產物鹽及其他反應雜質。產 物亦可藉例如蒸發分離,或可藉過濾及使用熟諳此藝者所 知之技術乾燥回復。 本發明之改良顏料產品亦可與液體媒介結合形成分散 物°液體之形式將視連接改良顏料之聚合基困之形式及量 而足°儘管可使用水溶液及非水溶液液體’液體媒介為非 水溶液媒介較佳。實例包括含乙氧基乙醇、乙氧基乙醇乙 酸酿、丁氧基乙醇、丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙 基卡必醇乙酸酯、二甘醇、環己酮、丙乙醇單甲基醚、丙 二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸酯、及其混合物之非水溶液媒 介。亦可加水溶液溶劑,例如水及水溶性醇。 改良顏料產品可使用熟諳此藝者所知之任何方法(包 例如使用高剪力混合)形成分散物。改良顏料之量以分 物總重為基礎在約1%至6〇%間,且以在以重量計約 则間較^分散物可由最小料組外⑷^及/或: 加工步驟形成。然而’可包括添加 面二 劑及共同溶劑。例如可添加錢感樹脂 氧酚醛清漆。 衣虱雙酚A或:
步純化或分類 以移除雜 •18· 1316528 發明說明續頁 質及因製造過程之結果共同存在分散物中之其他不適分 游離物種。例如分散物可純化以移除任何不適當游離物種 如未反應之處理劑。使用薄膜或離子交換之超過濾/透析 之已知技術可用於純化分散物並移除大量游離離予及不 要之物種。可選擇之交換抗衡離子步驟亦可在純化過程中 發生,藉此可形成改良顏料之部份之抗衡離子以另一抗衡 離子(包括如兩性離子)利用已知之離子交換技術(如超過 濾、逆滲透、離子交換管柱及其類似物)交換或取代。可 交換之抗衡離子之特別實例包括但不限於Na+、K+、u+、 NH4+、Ca2+ ' Mg2+、Cl·、NCV、Ν02·、乙酸根及 Br-。 本發明尚關於黑色基質《如前面所述,黑色基質藉應用 光敏感層在基板上、照射光敏感層影像轉移,及顯影並乾 燥塗層形成。對本發明之黑色基質’光敏感層包括含具一 種聚合基團之黑色顏料的改良黑色顏料產品。黑色顏料為 碳產品較佳,而以碳黑最佳。碳黑如前面所述具寬範圍之 表面積、結構及主要粒予大小,但以DBP值為約25至7〇 功L/1 〇〇 g較佳。 聚合基團可為前面敘述之任一聚合基團。如此,聚合基 團可包括至少一種可光聚合基及至少一種離子或可離子 化基。例如,聚合基團可藉化學式_X-Sp_[pp]代表之基團, 其中X、Sp& PP如前面所定義。 離子或可離予化基之選擇視顯影黑色基質使用之方法 而疋。例如,若使用鹼性顯影劑,離子或可離子化基以陰 離予或可陰離子化基較佳。若使用酸性顯影劑,以陽離子 •19- 1316528 發明說明續頁 (15) 或可陽離子化基較佳。 本發明黑色基質尚可包括光敏感樹脂,例如由環氧雙紛 A或環氧盼越清漆製備之樹脂。其他光敏感樹脂為熟諳此 藝者所習知者。 體積電阻率及光密度為黑色基質材料重要之性質。體積 電阻率為材料阻止電傳導能力之測量且能使用技藝界所 知之技術(例如ASTM步驟D257-93中定義)測量。光密度 (〇D)為材料不透明度之測量且典型上使用光譜儀測量二 〇D視幾個因子而定,包括膜厚。本發明黑色基質之體積 電阻率大於或等於1〇13 〇hm-Cm較佳。本發明黑色基質2光 密度在1微米膜厚下亦大於約3β 在本發明黑色介質中改良顏料之連接聚合基團量可改 變以達到I求整體性能貢獻。連接聚合基團之總量如前面 所述且範圍為約0.001至約10.0微莫耳聚合基團岫2表面積 顏料(以氮吸收(BET法))測量,以約〇.〇1至5〇微莫耳更/ 且以約0.05至3.0微莫耳/m2最佳。 本發明黑色基質之光敏感層包括足以達到要求心性 質〈改良黑色顏料的量。改良黑色顏科之量將視顏料之形 式及連接聚合基團之量而定。光敏感層 .., 〜瓚中改艮黑色顏料之 量在10%至70%間,以20%至60%較佳,工 ,,^ 而以30%至50%最 佳。頃發現比傳統黑色顏料需要較低 顏料產生要求之整體性質。 千…改良黑色 値官未想 取人甘 民頦料產品之連 聚口基團分離顏料粒子且藉以減少 ϋ顏料粒予之黑 *20- (16) 1316528 發明說明續頁 基材之導電度。此外,咸信含具至少一個具化學式 •X-Sp-[pP]之聚合基團之顏料的改良顏料1導致更有效率 $離粒子並產生極高體積電阻率之黑色基質。咸信通常較 高密度之連接基團導致高體積電阻率。連接聚合基團亦讓 改良顏料良好分散在光敏感層中,藉以產生高〇d (甚至在 較低負載下卜可光聚合基團之存在使改良顏料在照光下 反應,如此在光敏感層内交聯。離子或可離子化基使任何 未光聚合材料可顯影。 本發明尚關於一種樹脂组合物,其包括:a)光敏感樹脂 及b)改良顏料產品,其中此樹脂組合物已藉照光硬化。樹 脂組合物尚包括光起始劑。改良顏料產品如前面所述且包 括且至少一種聚合基團,其中聚合基團包括至少一種可光 聚合基及至少一種離子或可離子化基。例如,聚合基團可 具化學式X-Sp-[PP],其中X、Sp及PP如前面所述》顏料為 酉太酸二丁酯吸收(DBP)為25至70mL/100g之碳黑,光敏感樹 月曰可為熟谶此藝者習知的任一種’例如環氧雙驗A樹脂或 環氧齡越清漆樹脂。樹脂組合物可藉任何光源硬化,例如 紅外或紫外光。 本發明尚由實際上只打算做例示用之下列實例更易了 解。 實例 實例1 -製備聚合妝 在6 6 °C將丙浠酸(4.8 g)緩慢加入3 0克雙酚A環氧樹脂 (EPON 1001F ’ 可得自 Res〇iuti〇n performance pr〇duots)溶於 3〇 g •21- (17) 1316528 發明說明績頁 THF之攪拌溶液卜將溴化四甲基銨(〇·2 g)加入作觸媒及加 入曱氧基氫醌(0.1 g)作抗氧化劑。以酸數目量測監視反應 。在回流THF中反應30小時後,將六氫酞酸酐(1〇 5g)加入 反應並在相同溫度下額外擾拌2小時。產生之幾基丙晞酸 化聚合物溶液(在THF中)冷卻至室溫並在不進一步分離 下使用。 實例2-改良聚合物 將1,4-苯二胺(2.95 g)與250 mL THF—同加入實例1之聚合 物溶液,在溶解後,將5.6 g二環己基碳二醯胺(DCC)加入 。反應混合物在室溫攪拌2小時並藉過濾純化以移除沈澱 之尿素。 實例3 -製備改良顏料產品 實例2之改良聚合溶液及30 g碳黑旋轉定子。碳黑之表 面積為50 m2/g且DBP為46 mL/100 g。加甲烷磺酸(0.96 g)。將 0.69 g NaN〇2於1〇 g水中之溶液,並持續混合額外3小時。產 生之分散藉首先使用丙酮/THF (20/80)溶液隨後用丙酮而 最後用丙二醇甲氧基醚乙酸酯(PGMEA)之透析純化。產生 分散物透過一系列濾心(20微米、5微米、1微米及0.5微米) 連續過濾。 實例4-聚合膜之製備 實例3之改良碳黑分散物可與在乙酸丁氧基乙酯(65% 固體,Akros Chemicals製造之Actilane 340)之羧酸化環氧甲酚 醛清漆聚合物溶液混合。之後產生之配方可由1.5密爾bird bar塗佈在不銹鋼片並在烘箱中9 0 °C下烘乾4 5分鐘。產生乾 -22- 1316528 (18) 發明說明續頁 燥膜(40%改良碳黑及60%聚合物)預期厚度為約7微米。膜 之體積電阻率根據ASTM步驟D257-93測量。產生乾燥膜預 期具良好之整體性質。 實例5 -聚合物之改良 將Actilane 340 (31.2 g,在乙酸丁氧基乙酯中之65%溶液, Akros Chemicals製造之幾酸化環氧甲驗紛趁清漆聚合物)溶 解於300 mL乾THF中。將1,4-苯二胺(PDA,1.68 g)加入聚合 物溶液中。在溶解PDA後,加二環己基碳二醯胺(DCC,3.22 克)。反應混合物在室溫氬氣下攪拌24小時並藉過濾純化 以移除沈積之尿素。 實例6-聚合物之改良 將Actilane 340 (150 g,在乙酸丁氧基乙酯中之65%溶液, Akros Chemicals製造之羧酸化環氧甲盼酚·越清漆聚合物)溶 解於700 mL乾N-甲基吡咯酮(NMP)中。將1,4-苯二胺(PDA, 6.55 g)加入聚合物溶液中。在溶解PDA後,滴入二環己基碳 二醯胺(DCC,60 ml在亞甲基二氯之1 Μ溶液)。反應混合物 在室溫氬氣下攪拌1 9小時並藉過濾純化以移除沈澱之尿素。 實例7 -聚合物之改良 將 Sarbox SB404 (30 g,在 PGMEA中之 55%溶液,Sartomer 製造之苯乙埽及具丙烯酸羥基乙酯之順-丁烯二酸半酯之 聚合物)溶解於150 mL NMP中。將1,4-苯二胺(PDA,1.08 g) 加至聚合物溶液中。在溶解PDA後,加二環己基碳二醯胺 (DCC,2.78 g)。反應混合物在室溫氬下攪拌24小時並藉過 濾純化以移除沈澱之尿素。 -23- (19) 1316528 發明說明續頁 實-例8 -製希改良顏料產品 實例5之改良聚合物溶液及3〇 g破黑在旋轉定子中混合 並升至401之溫度。此碳黑之表面積為5〇 m2/ga dbp為46 ml/100 g。力口甲;t完績酸(0.95 g)。滴入在1〇 g水中之0.75 g NaN〇2 落液,且在4 (TC持續混合額外3小時。產生混合物藉首先 使用水/THF (10/90)混合物隨後用THF而最後用PGMEA之 透析純化《產生分散物包括具26%之聚合物連接水準(以 TGA測定)之改良顏料產品且固體含量為20.7%。 實例9 -製備改良顏料產品 將表面為 50 m2/g且 DBP為 46 ml/100 g之碳黑(150 g)、1400 mL之NMP及100 mL水在55°C之旋轉定子中混合》加績酸(5.7 g)並授拌1 0分鐘。在10 mL水中溶解NaN02 (4.5 g)並缓慢添 加。之後反應混合物以旋轉定子混合2小時。 實例6之改良聚合物溶液加至旋轉定子中之反應混合物 内。亦添加甲烷磺酸(10.8 g) ’溫度增加至55。(:。最後,將 在1 0 g水中之4.5 g NaN02之溶液緩慢加入。.反應混合物以 旋轉定子混合額外2小時。產生分散物藉首先使用水/NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用PGMEA之透析純化。產 生分散物包括聚合物連接水準為34.8% (以TGA測定)且固 體含量為17.3%之改良顏料產品》 實例1 0 -製備改葙料连品 將實例7之改良聚合物溶液及30 g碳黑在旋轉定子中混 合並升至55°C。碳黑之表面積為50 m2/g且DBP為46 mL/100 g 。加甲烷磺酸(0,95 g)。滴入在1〇 g水中0.75 g NaN02之溶液 -24- 1316528 _ (2〇) 發明說明績頁 ’且在5 5 °C持續攪拌額外3小時。產生分散物藉首先使用 水/NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用pgmEA之透析 純化。產生分散物包括聚合物連接水準為29.8% (以a測 定)且固體含量為18.5%之改良顏料產品》 置例11 -製備改良葙料產品 將表面積為1〇〇 m2/g且DBP為31 mL/l〇〇 g之碳黑(150 g)、 1400 mL之NMP及100 mL水在55°C旋轉定子中混合。加磺酸 (5.7 g)並攪拌1〇分鐘。將NaN02 (4.5 g)溶解於1〇 mL水中並緩 慢添加。之後反應混合物以旋轉定子混合2小時。 將貫例6之改良聚合物溶液加至旋轉定子中之反應混合 物内。亦添加甲燒績酸(10.8 g) ’溫度增加至$ 5 。最後, 將在1 0 g水中之4.5 g NaN〇2之溶液緩慢加入。反應混合物 以旋轉定子混合額外2小時。產生分散物藉首先使用水 /NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用PGMEa之透析純 化。產生分散物包括聚合物連接水準為17 6% (以TGA測定) 且固體含量為16.9%之改良顏料產品。 實例12-製備聚合膜 將實例8、9、1 0及1 1之改良碳黑分散物與Actilane 340 (65%固體,由Akros Chemicals製備)及PGMEA混合以得到約 20%固體含量。 對體積電阻率之量測’產生配方以1微米醫生之刀刃塗 佈在鋼Q板上並在烘箱内9 0 °C烘乾4 5分鐘》產生之烘乾膜 (40%改良碳黑及60%聚合物、45%改良碳黑及55%聚合物 ’以及5 0 %改良碳黑及5 0 %聚合物)之厚度為約5 _ 8微米(在 -25- 發明說明續頁 1316528 (21) KLA Tencor Alpha Step 500 Surface Profilometer上測量)。膜之 體積電阻率使用裝有ETS 803B電阻率探針之Keithley Model 65儀器使用交替極化法測量。對大部份之量測施加電壓為 + /-5 V。 對光密度(OD)量測,配方旋轉塗佈在玻璃片上並在烘 箱中90 °C烘乾45分鐘。產生烘乾膜(40%改良碳黑及60%聚 合物、45%改良碳黑及55%聚合物、以及50%改良碳黑及 5 0%聚合物)之厚度為約0.6-1.7微米(在KLA Tencor Alpha Step 500 Surface Profilometer上測量)。〇D 使用 X-Rite 361T Transmission Densitometer測量 e 由實例8分散物產生之烘乾膜之體積電阻率為1.2 x i〇14 ohm-cm (40%改良碳黑)及2 X 1014 〇hm-cm (50%改良碳黑)。由 實例9之分散物之烘乾膜的體積電阻率為6 5 x 1013 〇hm-cm (40%改良碳黑)、5.4 X 1〇13 〇hm-cm (45%改良碳黑)及 7 X 1〇13 ohm-cm (50%改良碳黑)。由實例1〇分散物之烘乾膜之體積 電阻率為3.5 X 1〇13 〇hm-cm (40%改良碳黑)。由實例1 1分散 物之烘乾膜之體積電阻率為7x 1〇n 〇hm_cm (4〇%改良碳黑) 及3 X 1〇13 ohm-cm (45%改良碳黑)。見到之光密度一般為約 3.0/μιη ’特別是對含50%改良碳黑。因此,找到使用本發明 改良顏料產品製備膜之良好性質(特別是電子及光性質) 組合。 前面敘述之本發明較佳具體實施例以描述及敘述之目 的呈現°這不打算為無遺漏的或限制本發明於揭示之精確 形式。改良及變化根據前面教導為可行的,或可由本發明 -26· 發明說明續頁 1316528 (22) 之實施學到。選擇及敘述之具體實施例為了解釋本發明原 理及其實際應用以使熟諳此藝者能在種種具體實施例中 利用本發明且以種種改良符合特殊用途之預期。本發明範 圍藉附帶之申請專利範圍及同等物界定。 -27-

Claims (1)

1316參28i〇〇242號專利申請案 中文申請專利範圍_ 年6 r»(9M 公告 拾、申請專对範圍 1. 一種改良顏料產品,其包括連接至少一種聚合基團之顏 料,其中該聚合基團包括至少一種可光聚合基團及至少 一種離子或可離子化基團, 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物;及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連,而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 2. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該離子或 可離子化基團係陰離子或可陰離子化基團。 3. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該顏料為 碳黑。 4. 如申請專利範圍第3項之改良顏料產品,其中該碳黑具 約25至70 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收(DBP)。 5. 如申請專利範圍第4項之改良顏料產品,其中該碳黑具 約30至50 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收(DBP)。 6. 如申請專利範圍第5項之改良顏料產品,其中該碳黑具 約30至40 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收(DBP)。 7. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該可光聚 合基團包括乙婦化未飽和基。 8. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該可光聚 83048-980612.doc 申請專利範圍續頁 1316528 合基團包括丙烯酸酯基、曱基丙烯酸酯基、乙烯基、或 苯乙烯基。 9. 如申請專利範圍第8項之改良顏料產品,其中該可光聚 合基團為丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯。 10. 如申請專利範圍第2項之改良顏料產品,其中該陰離子 或可離子化基團包括羧酸或其鹽。 11. 如申請專利範圍第2項之改良顏料產品,其中該陰離子 或可陰離子化基團為具化學式-OOC-Alk-COOH之基團或 其鹽,其中Aik代表飽和或未飽和環狀或線性烷基。 12. 如申請專利範圍第1 1項之改良顏料產品,其中Aik代表 環己烷二基。 13. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該聚合基 團包括笨基醚基及經取代丙烷二基。 14. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該聚合基 團包括由環氧雙齡·Α、環氧雙盼A之寡聚物、或環氧盼 醛清漆製備之聚合物。 15. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品,其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 16. 如申請專利範圍第1 5項之改良顏料產品,其中該液體媒 介為非水溶液媒介,其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑:乙氧基乙醇、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單曱基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 83048-980612.doc 1316528 t請專職μ頁 π.如申請專利範圍第1 5項之改良顏料產品,其尚包括光敏 感樹脂。 18. 如申請專利範圍第1 7項之改良顏料產品,其中該光敏感 樹脂由環氧雙酚Α樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備。 19. 一種改良顏料產品,其包括連接至少一種具化學式 -X-Sp-[PP],其中X (直接連接至顏料)代表亞芳香基、雜 亞芳香基、或伸烷基,Sp代表空間基,而PP代表含至 少一種可光聚合基團及至少一種離子或可離子化基團, 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物;及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連,而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 20. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該離子或 可離子化基團為陰離子或可陰離子化基團。 21. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該顏料為 碳黑。 22. 如申請專利範圍第2 1項之改良顏料產品,其中該碳黑具 約25至70 mL/100 g之Ϊ大酸二丁酯吸收(DBP)。 23. 如申請專利範圍第22項之改良顏料產品,其中該碳黑具 約30至50 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收(DBP)。 24. 如申請專利範圍第2 3項之改良顏料產品,其中該碳黑具 83048-980612.doc 申請專利範圍續頁 1316528 約30至40 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收(DBP)。 25. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該可光聚 合基團包括乙烯化未飽和基。 26. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該可光聚 合基團包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基、或 苯乙烯基。 27. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該可光聚 合基團為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 28. 如申請專利範圍第20項之改良顏料產品,其中該陰離子 或可陰離子化基團包括羧酸或其鹽。 29. 如申請專利範圍第2 0項之改良顏料產品,其中該陰離子 或可陰離子化基團為具化學式-OOC-Alk-COOH或其鹽之 基團,其中Aik代表飽和或未飽和環或線性烷基。 30. 如申請專利範圍第29項之改良顏料產品,其中Aik代表 環己烷二基。 31. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該聚合基 團包括苯基醚基及經取代丙烯二基。 32. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中該聚合基 團包括由環氧雙酚A、環氧雙酚A或環氧酚醛清漆製備 之聚合物。 33. 如申請專利範圍第19項之改良顏料產品,其中PP代表 具化學式[T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物,其中Q包括雙苯基醚 基,Y包括取代丙烷二基,T包括末端基,而η為1至20 之整數。 34. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品,其中Τ包括可 83048-980612.doc 吟倉專利範圍筇,ί I 1316528 光聚合基團。 35. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品,其中τ包括烷 基自旨β - 36. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品,其中: Q 為-〇-c6h4-c(ch3)2-c6h4-o-、-o-c6h4-ch2-c6h4-o-、或 -〇-c6h4-第基-c6h4-o-; Y為-CH2-CH(Z)-CH2-,其中 Z為-OH、-OOC-Alk-COOH或 其鹽,或至Sp之鍵結,而Aik代表飽和或未飽和環或線 性烷基,且 T 為 ch2=ch-coo-或 CH2=C(CH3)-COO-。 37. 如申請專利範圍第36項之改良顏料產品,其中Sp為 -OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR- ' -OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-' -00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-' -OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、或-0-(CH2-CH2)-S02-,其中 R,可為 相同或不同,其為氫或取代或未取代芳香基或烷基, AOX代表約1至約12個碳之氧化伸烷基,而X為1至500 間之整數。 38. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品,其中pp代表 具化學式[A-(CR2B)n-CR2A]之聚合物,其中A&B包括笨基 醚基及取代丙烷二基,R可為相同或不同,其為氫或取 代或未取代芳香基或烷基且n為1至20之整數。 39. 如申請專利範圍第3 8項之改良顏料產品,其中Α及Β尚 包括可光聚合基團。 83048-980612.doc 1316528 h青專利範圍續頁 40. 如申請專利範圍第3 8項之改良顏料產品,其中: A為 C6H4- 或 C6H3(CH3)-及 I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ B 為-C6H3- 或 -C6H2(CH3)-;其中 I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ Y 為 _CH2-CH(Z)-CH2-,其中 Z 為-OH,_OOC-Alk-COOH 或 其鹽’或至S p之鍵結’且A1 k代表飽和或未飽和環或 線性烧基,且 T 為 CH2=CH-COO-或 CH2 = C(CH3)-COO-。 41. 如申請專利範圍第40項之改良顏料產品,其中T包括烷 基酯。 42. 如申請專利範圍第40項之改良顏料產品,其中Sp為 -OOC-Alk-COO- ' -OOC-Alk-CONR- ' -OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02- ' -00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-或-0-(CH2-CH2)-S02-,其中 R,其可為 相同或不同,為氫或取代或未取代芳香基或烷基,AOX 代表約1至約1 2個碳之氧化伸炫基,而X為1至5 0 0間之 整數。 43. 如申請專利範圍第1 9項之改良顔料產品,其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 44. 如申請專利範圍第4 3項之改良顏料產品,其中該液體媒 介為非水溶液媒介,其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑:乙氧基乙醚、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 83048-980612.doc •6· 1316528 巾_請糊範圍續頁 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 45. 如申請專利範圍第4 3項之改良顏料產品,其尚包括光敏 感樹脂。 46. 如申請專利範圍第45項之改良顏料產品,其中該光敏感 樹脂為由環氧雙酚A樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備之 樹脂。 47. —種改良顏料產品,其包括連接至少一種聚合基團之顏 料,其中該顏料為酞酸二丁酸吸收(DBP)約25至70 mL/100 g 之碳黑,且該聚合基團包括至少一種可光聚合基團及至 少一種離子或可離子化基團, 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物;及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連,而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 48. 如申請專利範圍第47項之改良顏料產品,其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 49. 如申請專利範圍第48項之改良顏料產品,其中該液體媒 介為非水溶液媒介,其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑:乙氧基乙醚、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 83048-980612.doc 申請專利範囡續頁 1316528 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單曱基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 50. 如申請專利範圍第4 8項之改良顏料產品,其尚包括光敏 感樹脂。 51. 如申請專利範圍第50項之改良顏料產品,其中該光敏感 樹脂為由環氧雙酚A樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備之 樹脂。 52. —種黑色基質,其藉應用光敏感層在基板上,照射光敏 感層影像轉移、及顯影與乾燥該塗層形成,其中該光敏 感層包括一種如申請專利範圍第1項之改良顏料產品。 53. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質尚包括光敏感樹脂。 54. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質,其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1013 ohm-cm。 55. 如申請專利範圍第54項之黑色基質,其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 56. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質,其中該顏料為碳產 品。 57. 如申請專利範圍第5 6項之黑色基質,其中該碳產品為酞 酸二丁酯吸收約25至70 mL/100 g之碳黑。 58. 如申請專利範圍第52項之黑色基質,其中該聚合基團包 括苯基醚基及經取代丙烷二基。 59. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質,其中該聚合基團包 括由環氧雙酚A、環氧雙酚A之寡聚物' 或環氧酚醛清 83048-980612.doc 申請專利範園續頁I 1316528 漆製備之聚合物。 60. —種黑色基質,其藉應用光敏感層在基板上、照射光敏 感層影像轉移、及顯影與乾燥該塗層形成,其中該光敏 感層包括一種如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品。 61. 如申請專利範圍第60項之黑色基質,其進一步包括光敏 感樹脂。 62. 如申請專利範圍第60項之黑色基質,其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1〇13 〇hm-cm。 63. 如申請專利範圍第62項之黑色基質,其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 64. 如申請專利範圍第60項之黑色基質,其中該顏料為碳產 品。 65. 如申請專利範圍第64項之黑色基質,其中該碳產品為酞 酸二丁酯吸收約25至70 mL/100 g之碳黑。 66. 如申請專利範圍第60項之黑色基質,其中該聚合基團包 括苯基醚基及經取代丙烷二基。 67. 如申請專利範圍第60項之黑色基質,其中包括由環氧雙 酚A、環氧雙酚A之寡聚物、或環氧酚醛清漆製備之聚 合物。 68. 如申請專利範圍第6 0項之黑色基質,其中P P代表具化 學式[T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物,其中Q包括雙苯基醚基,Y 包括取代丙烷二基,T包括末端基,而η為1至20之整數。 69. 如申請專利範圍第6 8項之黑色基質,其中Τ包括該可光 聚合基圑。 83048-980612.doc 1316528 70.如申請專利範圍第68項之黑色基質,其中T包括烷基醚。 71_如申請專利範圍第68項之黑色基質,其中: Q 為-0-C6H4-C(CH3)2-C6H4-〇-、-0-C6H4-CH2-C6H4-0·、或 -〇-C6H4-苐基-C6H4-0-; Y 為-CH2-CH(Z)-CH2-,其中 Z 為-OH、-OOC-Alk-COOH、 或其鹽,或至Sp之鍵結,而Aik代表飽和或未飽和環或 線性烷基;且 _ 丁為 ch2=ch-coo-或CH2=C(CH3)-COO-。 72.如申請專利範圍第7 1項之黑色基質,其中Sp 為-OOC-Alk- C00-、-00C-Alk-C0NR-、-00C-Alk-C0NR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)_ S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、-〇〇C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C0NR(A0X)x-Alk-NR- (CH2-CH2)-S〇2-、或-〇-(CH2-CH2)-S02-,其中 R可為相同或不 * 同,為氫或取代或未取代芳香基或烷基,AOX代表約i * 至約1 2個碳之氧化伸烷基,而X為1至5 〇 〇間之整數。 φ 73.如申請專利範圍第60項之黑色基質,其中pp代表具化 學式[A-CCRzBh-CRsA]之聚合物,其中a及B包括笨基醚基 及取代丙烧一基,R可為相同或不同,為氫或取代或未 取代芳香基或炫基且η為1至2〇之整數。 74. 如申請專利範圍第73項之黑色基質,其中八及Β尚包括 可光聚合基團。 75. 如申請專利範圍第7 3項之黑色基質,其中·· Α為 C6H4-或 及 Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ 83048-980612.doc -10- 1316528 丨 Λ— Β為-C6H3-或 -C6H2(CH3)-;其中 I I O-Y-T O-Y-T Y 為-CH2-CH(Z)-CH2-,其中 Z 為 _OH、-OOC-Alk-COOH 或 其鹽,或至S p之鍵結,而A1 k代表飽和或未飽和環或 線性烷基;而 T 為 ch2=ch-coo-或 CH2=C(CH3)-COO-。 76. 如申請專利範圍第7 5項之黑色基質,其中T包括烷基酯。 77. 如申請專利範圍第75項之黑色基質,其中Sp為-OOC-Alk- COO-'-〇〇C-Alk-CONR-'-OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S〇2_、_〇〇C-Alk-COO(CH2-CH2)xO_(CH2-CH2)-S〇2-、-OOC-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02- ' -OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、或-〇-(CH2-CH2)-S02-,其中 R可為相同或不 同,為氫或未取代芳香基或烷基,AOX代表約1至12個 碳之氧化伸院基’而x為1至500間之整數。 78. —種黑色基質’其藉應用光敏感層至基板上、照射光敏 感層影像轉移、及顯影並乾燥該塗層形成’其中該光敏感 層包含一種如申请專利範圍第47項之改良顏料產品。 79. 如申請專利範圍第78項之黑色基質,其尚包括光敏感樹 80. 如申請專利範圍第78項之黑色基質,其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1013 ohm-cm。 81. 如申請專利範圍第80項之黑色基質,其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 82. —種樹脂組合物,其包括:a)光敏感樹脂及b)如申請專 利範圍第1項之改良顏料產品,其中該樹脂組合物藉照 83048-980612.doc -11 - 1316528 光硬化。 83. —種樹脂組合物,其包括:a)光敏感樹 利範圍苐1 9項之改良顏料產品’其中該 光硬化。 84. —種樹脂組合物,其包括:a)光敏感樹 利範圍第4 7項之改良顏料產品。 申請專利範圍續頁 脂及b)如申請專 樹脂組合物藉照 脂及b)如申請專
83048-980612.doc 12-
TW092100242A 2002-01-07 2003-01-07 Modified pigment products and black matrixes comprising same TWI316528B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US34630602P 2002-01-07 2002-01-07
US40841402P 2002-09-05 2002-09-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200306336A TW200306336A (en) 2003-11-16
TWI316528B true TWI316528B (en) 2009-11-01

Family

ID=26994791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW092100242A TWI316528B (en) 2002-01-07 2003-01-07 Modified pigment products and black matrixes comprising same

Country Status (9)

Country Link
US (2) US7175946B2 (zh)
EP (1) EP1463778B1 (zh)
JP (1) JP2006503114A (zh)
KR (1) KR100892546B1 (zh)
AT (1) ATE440124T1 (zh)
AU (1) AU2003206405A1 (zh)
DE (1) DE60328862D1 (zh)
TW (1) TWI316528B (zh)
WO (1) WO2003057784A2 (zh)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004198717A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Showa Denko Kk カラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物及びその組成物に用いるカーボンブラック分散液組成物
US9156991B2 (en) 2004-05-26 2015-10-13 Sakata Inx Corp. Process for producing resin-coated pigment, resin-coated pigment, aqueous pigment dispersion and aqueous colorant composition containing the same
US7807321B2 (en) * 2004-10-15 2010-10-05 Cabot Corporation High resistivity compositions
US20060159843A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Applied Materials, Inc. Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems
US8728223B2 (en) 2006-05-16 2014-05-20 Cabot Corporation Low viscosity, high particulate loading dispersions
US8585816B2 (en) 2006-05-16 2013-11-19 Cabot Corporation Low viscosity, high particulate loading dispersions
JP2010516860A (ja) * 2007-01-24 2010-05-20 キャボット コーポレイション 改質顔料を生成するための方法
CN101688070B (zh) 2007-04-24 2014-02-12 卡伯特公司 引入了低结构炭黑的涂料组合物和由其形成的器件
JP5523677B2 (ja) * 2007-09-26 2014-06-18 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、およびカラーフィルタ
NL2007340C2 (en) 2010-09-03 2012-08-14 Cabot Corp Modified fillers and elastomeric composites comprising same.
WO2012051264A1 (en) 2010-10-15 2012-04-19 Cabot Corporation Surface modified organic black pigments, surface modified carbon blacks, pigment mixtures using them, and low dielectric black dispersions, coatings, films, black matrices, and devices containing same
JP5864787B2 (ja) 2012-03-02 2016-02-17 キャボット コーポレイションCabot Corporation 変性フィラー及びそれを含む官能性エラストマーコンポジット
US9175150B2 (en) 2012-03-02 2015-11-03 Cabot Corporation Modified carbon blacks having low PAH amounts and elastomers containing the same
JP6173556B2 (ja) 2013-03-13 2017-08-02 キャボット コーポレイションCabot Corporation 組み合わされた低誘電率、高抵抗率及び光学濃度特性、ならびに、制御された電気抵抗率を有するフィラー−ポリマー組成物を含むコーティング、それから製造されるデバイス及びその製造方法

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3479300A (en) * 1965-10-22 1969-11-18 Cabot Corp Carbonaceous products
US4014844A (en) * 1970-06-26 1977-03-29 Agence Nationale De Valorisation De La Recherche (Anvar) Process for grafting polymers on carbon black through free radical mechanism
US4187194A (en) * 1972-01-03 1980-02-05 Xerox Corporation Encapsulation process
JPS5823646B2 (ja) * 1975-12-29 1983-05-17 富士写真フイルム株式会社 ジキキロクタイノセイホウ
CA1253726A (en) * 1982-06-28 1989-05-09 Masataka Shirasaki Polarization rotation compensator and optical isolator using the same
JPS6317917A (ja) * 1986-07-11 1988-01-25 Nippon Steel Chem Co Ltd 炭素質材料の表面処理方法
US4946509A (en) * 1989-05-23 1990-08-07 Sun Chemical Corporation Diarylide pigment compositions
US5281261A (en) * 1990-08-31 1994-01-25 Xerox Corporation Ink compositions containing modified pigment particles
EP0649065B1 (en) * 1993-08-27 1999-03-03 Minolta Co., Ltd. Chargeability-relating member comprising carix allene compound
EP0677556A3 (en) 1994-04-15 1997-02-26 Toyo Ink Mfg Co Coated pigment and coloring composition.
US5418277A (en) * 1994-04-26 1995-05-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous ink jet inks containing fluorinated polymers
US5545504A (en) * 1994-10-03 1996-08-13 Xerox Corporation Ink jettable toner compositions and processes for making and using
US5952429A (en) * 1995-06-14 1999-09-14 Nippon Shokubai Co., Ltd. Carbon black graft polymer, method for production thereof, and use thereof
JPH09124954A (ja) * 1995-11-06 1997-05-13 Nippon Oil Co Ltd 硬化性組成物
US5782968A (en) * 1995-12-06 1998-07-21 Nippon Oil Co., Ltd. Method for producing black pigment
US6110994A (en) * 1996-06-14 2000-08-29 Cabot Corporation Polymeric products containing modified carbon products and methods of making and using the same
US5698016A (en) * 1996-06-14 1997-12-16 Cabot Corporation Compositions of modified carbon products and amphiphilic ions and methods of using the same
US5837045A (en) * 1996-06-17 1998-11-17 Cabot Corporation Colored pigment and aqueous compositions containing same
US5895522A (en) * 1997-08-12 1999-04-20 Cabot Corporation Modified carbon products with leaving groups and inks and coatings containing modified carbon products
US5964935A (en) * 1997-08-22 1999-10-12 Copytele, Inc. Initiator-treated pigment particles and method for preparing same
US6068688A (en) * 1997-11-12 2000-05-30 Cabot Corporation Particle having an attached stable free radical and methods of making the same
US6472471B2 (en) * 1997-12-16 2002-10-29 Cabot Corporation Polymeric products containing modified carbon products and methods of making and using the same
US5914806A (en) * 1998-02-11 1999-06-22 International Business Machines Corporation Stable electrophoretic particles for displays
JP4870261B2 (ja) * 1998-04-03 2012-02-08 キャボット コーポレイション 分散性を改良された改質顔料
US6103380A (en) * 1998-06-03 2000-08-15 Cabot Corporation Particle having an attached halide group and methods of making the same
US6235829B1 (en) * 1998-07-24 2001-05-22 Marconi Data Systems Inc. Modification of chargeable pigment particles
US6150433A (en) * 1998-07-31 2000-11-21 Hewlett-Packard Company Ink-jet ink compositions containing modified macromolecular chromophores with covalently attached polymers
JP3435371B2 (ja) * 1998-09-14 2003-08-11 株式会社日本触媒 カーボンブラックグラフトポリマーおよびその用途
US6458458B1 (en) * 1998-10-13 2002-10-01 Cabot Corporation Polymer coated carbon products and other pigments and methods of making same by aqueous media polymerizations or solvent coating methods
JP4704571B2 (ja) * 1999-03-05 2011-06-15 キャボット コーポレイション 有色顔料の調製方法
US6372820B1 (en) * 1999-05-06 2002-04-16 Cabot Corporation Polymerized modified particles and methods of making the same
EP1220879B1 (en) 1999-10-01 2003-05-07 Cabot Corporation Modified pigments having steric and amphiphilic groups
EP1226216B1 (en) * 1999-10-28 2011-08-10 Cabot Corporation Ink jet inks, inks, and other compositions containing colored pigments
CN100386390C (zh) * 1999-10-28 2008-05-07 卡伯特公司 喷墨油墨、油墨以及含着色颜料的其它组合物
EP1252237B1 (en) * 2000-01-07 2006-08-09 Cabot Corporation Polymers and other groups attached to pigments and subsequent reactions
DE10012784A1 (de) * 2000-03-16 2001-09-27 Degussa Ruß
EP1961789B1 (en) * 2000-07-06 2012-10-10 Cabot Corporation Modified pigment products, dispersions thereof, and compositions comprising the same
US20020147252A1 (en) * 2001-02-02 2002-10-10 Adams Curtis E. Ink compositions comprising salts with polyvalent ions
US6645287B2 (en) * 2001-04-27 2003-11-11 Cabot Corporation Coating compositions comprising high t-area carbon products
US6602335B2 (en) * 2001-05-08 2003-08-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pigment solubilization via treatment with strong base and substitution
KR20040030534A (ko) * 2001-05-15 2004-04-09 쇼와 덴코 가부시키가이샤 감광성 착색 조성물, 이 조성물을 사용한 컬러필터 및 그제조방법
US6402825B1 (en) * 2001-07-27 2002-06-11 Lexmark International, Inc Surface modified carbon black
US6641656B2 (en) * 2001-10-17 2003-11-04 Cabot Corporation Dispersions comprising modified pigments
AU2003226020A1 (en) * 2002-03-27 2003-10-13 Cabot Corporation Method for attachment of one or more organic groups onto a particle
US7173078B2 (en) * 2002-04-12 2007-02-06 Cabot Corporation Process for preparing modified pigments
US6699319B2 (en) * 2002-05-06 2004-03-02 Cabot Corporation Process for preparing modified pigments
US6833026B2 (en) * 2002-05-10 2004-12-21 Cabot Corporation Modified pigments and process for preparing modified pigments
US6841335B2 (en) * 2002-07-29 2005-01-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging members with ionic multifunctional epoxy compounds
US7271206B2 (en) * 2003-12-23 2007-09-18 Industrial Technology Research Institute Organic-inorganic hybrid compositions with sufficient flexibility, high dielectric constant and high thermal stability, and cured compositions thereof
CA2558425A1 (en) * 2004-03-08 2005-09-22 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006503114A (ja) 2006-01-26
KR20040079921A (ko) 2004-09-16
EP1463778B1 (en) 2009-08-19
KR100892546B1 (ko) 2009-04-09
WO2003057784A2 (en) 2003-07-17
WO2003057784A3 (en) 2003-10-16
US20030129529A1 (en) 2003-07-10
EP1463778A2 (en) 2004-10-06
ATE440124T1 (de) 2009-09-15
US20070060664A1 (en) 2007-03-15
US7175946B2 (en) 2007-02-13
DE60328862D1 (de) 2009-10-01
AU2003206405A1 (en) 2003-07-24
TW200306336A (en) 2003-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI316528B (en) Modified pigment products and black matrixes comprising same
DE60319167T2 (de) Verfahren zur UV-Härtung von Tonerbildern bei einem elektrophotographischen Verfahren
JP3940535B2 (ja) ブラックレジスト用感放射線性組成物
TW201100379A (en) Oxime ester, radical polymerization initiator, polymerizable composition, negative resist and image pattern
JP2004292672A (ja) カーボンブラック分散液
CN103635541A (zh) 染料分散液、彩色滤光片用感光性树脂组合物、彩色滤光片、液晶显示装置及有机发光显示装置
TW200831618A (en) Pigment dispersed composition for black matrix and photoresist including the same
TWI791651B (zh) 黑色顏料分散組成物及含有其的黑色顏料分散抗蝕劑組成物
TW201215649A (en) Pigment dispersion, method for producing the same, photosensitive colored resin composition using the pigment dispersion, ink for ink jet, toner for electrophotographic printing, and color filter
CN101256356A (zh) 放射线敏感性组合物、彩色滤光片和液晶显示元件
JP2019133154A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
TW201232170A (en) Coloring composition, color filter, and display component
JP2019139230A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
KR20210027114A (ko) 블랙 매트릭스용 안료 분산 조성물 및 이를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물
JP2019113823A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP5047057B2 (ja) カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP2019109512A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP2004054213A (ja) カラーフィルター用顔料分散物及びそれを含有するカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物
TW201039061A (en) Photosensitive composition, and color filter and display device using the same
TWI659070B (zh) 彩色濾光片用紅色著色劑組成物
JP5124341B2 (ja) カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP2003238838A (ja) カラーフィルタ用赤色系顔料分散レジスト組成物
JP2019101425A (ja) 赤色感光性組成物及びカラーフィルタ
JP2019133149A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP2019105820A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees