TWI316528B - Modified pigment products and black matrixes comprising same - Google Patents

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TWI316528B
TWI316528B TW092100242A TW92100242A TWI316528B TW I316528 B TWI316528 B TW I316528B TW 092100242 A TW092100242 A TW 092100242A TW 92100242 A TW92100242 A TW 92100242A TW I316528 B TWI316528 B TW I316528B
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Description

⑴ 1316528 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 拮術领域 本發明係關於改良的顏料產品及含這些改良顏料產品 之分散物、黑色基質及樹脂組合物。 先前技術 黑色基質為藉分離個別彩色像素在彩色顯示器中用於 改良影像對比之材料的一般名稱。在液晶顯示器（LCD)中 ，黑色基質為具高光遮避能力之薄膜且在彩色濾光片之三 色元件間形成。在使用薄膜電晶體（TFT)之LCD中，黑色基 質亦防止因TFT中反射光之光引發電流之形成。 傳統上液晶顯示器中之黑色基質層由氣相沈積Cr/Cr〇 製造。雖然鉻基膜有極佳之光遮避能力，但金屬氣相沈積 法為昂貴的。此外，鉻之使用及拋棄受逐漸增加限制之環 境法規的管制。鉻膜亦具較低之阻抗，其限制LCD之電子 設計於可能設計组態之子集中》 黑色顏料（如碳黑）已用在聚合組合物以製造具阻抗性 之黑色基質。然而’典型系統已不能提供合適平衡之整體 性質。例如，儘管含碳黑顏料之黑色基質可提供要求之光 遮蔽能力（換之’光密度（0D)在1微米厚下大於3)，典型 上此膜只有一般之阻抗。另一方面，若產生高阻抗之膜， 0D典型上為低的。 具有機基團之改R顏料亦已揭示用於彩色遽光片之緊 色基質中。儘管這些材料提供具良好整體性能之黑色基質 及分散物，留下對具改良性質（特別是阻抗及光密度）之黑 發明說明續頁 1316528 ⑵ 色基質之需求。 發明内容： 本發明係關於含連接至少一個聚合基團之顏料的改良 顏料產品。在一具體實施例中，聚合基團包括至少一種可 光聚合基及至少一種離子或可離子化基》在另一具體實施 例中，聚合基團具化學式-X-Sp-[PP]，其中X直接連接在顏 料上’其代表亞芳香基、雜亞芳香基或烯煙基且代表 玄間基。基團PP代表含至少一種可光聚合基及至少一種 酸性基之聚合物。改良顏料亦可在液體媒介中以形成分散 物。 本發明尚關於含連接至少一個聚合基團之顏料的改良 顏料產品，其中顏料為酞酸二丁酯吸收約25至7〇 mL/1〇〇 g 之碳黑。改良顏料亦可在液體媒介中形成分散物β 本發明尚關於一種黑色基質，其藉應用光敏感層在基板 上、照射光敏感層影像轉移，及顯影並乾燥塗層形成。光 敏感層包括如前面所述之改良黑色顏料產物。 本發明尚關於-種樹脂組合物，其包括：a)光敏感樹脂 及b)如前面所述之改良顏料產品。 應了解前面之一般敘述及下面之詳細敘述皆只為依申 請專利範圍例示及解釋的且打算提供本發明之進一步解 釋。 本發明係關於改良顏料產品，以及含改良顏料產品之黑 色基質、分散物及樹脂組合物。 發明說明續頁 1316528 本發明之改良顏料產品包括具至少一個聚合基團之顏 料。此顏料可為任何形式之顏料，如黑色顏料及其他顏色 之顏料。較佳之顏料為碳產品，如碳黑。亦可使用不同顏 料之混合物。這些顏料亦可結合多種不同形式分散劑使用 以形成穩定分散物。 黑色顏料之代表性實例包括種種碳黑（黑顏料7)如槽黑 、爐黑及燈黑，且包括例如可購自卡博特（Cabot)公司在 Regal®、Black Pearls®、Elftex®、Monarch®、Mogul®、及 Vulcan® 商標下販售之碳黑（如 Black Pearls® 2000、Black Pearls® 1400 、Black Pearls® 1300 ' Black Pearls® 1100、Black Pearls® 1000 、Black Pearls® 900、Black Pearls® 880、Black Pearls® 800、Black Pearls® 700、Black Pearls® L、Elftex® 8、Monarch® 1400、 Monarch® 1300、Monarch® 1100、Monarch® 1000、Monarch® 900 、Monarch® 880、Monarch® 800、Monarch® 700、Mogul® L、Regal® 330、Regal® 400、Vulcan® P)。其他適當之碳黑包括但不限 於（狄格沙（Degussa)公司之）Printex 40、Printex 80、Printex 300 、Printex L、Printex U、Printex V、特黑 4、特黑 5、特黑 250 、FW200 ’（哥倫比亞（Colombian)公司之）Raven 780、Raven 890 、Raven 1020、Raven 1040、Raven 1255、Raven 1500、Raven 5000 、Raven 5250，及三菱化學公司之MA100與MA440。 顏料可選自寬範圍之傳統彩色顏料。彩色顏料可為藍、 黑、棕、靛、綠、白、藍紫、深紫紅、紅、橘、黃色，以 及其混合。合適種類之彩色顏料包括例如蒽醌、酞花青藍 、酉太花青綠、重氮、單偶氮、皮蒽酮、3S、雜環黃、喳吖 1316528 ⑷ 發明說明續頁 啶酮及硫代靛音類β酞花青藍之 銅及其衍生物(藍顏料15卜…==㈣花音藍 顏料4 8、橘顏料4 9、紅顏料i 2 2 冑例包括橘 .,, Λ Λ . a 頗科 19 2、紅顏料 2 Ο 2、 红顏科20幻' 紅顏料207、紅顏料 y 監者顏料1 9及链昝 ι_。蒽s昆之代表性實例包括紅顏料43、紅顏料叫紫 壤酮紅）、紅顏料216 (溴化线酮紅）及紅顏料2叫皮茵嗣 紅）。范之實例包括紅顏料123 (朱紅）、紅顏料149 (深紅） 、紅顏料丨79(茶色）、紅顏料19〇 (紅）、藍紫顏料”、紅顏 料189(紅帶黃）及紅顏料224。靛青之代表性實例包括紅顏 料86、紅顏料87、紅顏料88、紅顏料181、紅顏料198 '藍 紫顏料36及藍紫顏料38。雜環黃之代表性實例包括黃顏料 1、黃顏料3、黃顏料12、黃顏料13、黃顏料14、黃顏料17 、黃顏料65、黃顏料73、黃顏料74、黃顏料15卜黃顏料玉17 、只顏料128及瓦顏料138。這類顏料可由一些來源（包括 巴斯夫（BASF)公司、英格爾哈德（Engelhard)公司及太陽（sun) 化學公司）購得粉末或麼縮塊。其他適合彩色顏料之實例 在染料顏色索引（Colour Index)第三版中敘述（印染人員協 會（The Society of Dyers and Colourists, 1982)。 顏料之其他實例包括Hostafine®系列如Hostafine® Yellow GR (顏料 13)、Hostafine® Yellow (顏料 83)、Hostafine® Red FRLL (顏料 9)、Hostafine® Rubine F6B (顏料 184)、Hostafine® Blue 2G (藍顏料 15:3)、HostaHne® Black T (黑顏料 7)，及 Hostafine® Black TS (黑顏料 7)、Normandy Magenta RD-2400、Paliogen Violet 5100、Paliogen® Violet 5890、Permanent Violet VT2645、Heliogen Green 1316528 (5) 發明說明續頁 L8730 ' Argyl Green XP-lll-S ' Brilliant Green Toner GR 0991 ' Heliogen® Blue L6900、L7020、Heliogen® Blue D6840、D7080、 Sudan Blue OS、PV Fast Blue B2G01、Irgalite Blue BCA、Paliogen® Blue 6470、Sudan III、Sudan II、Sudan IV、Sudan Orange G、Sudan Orange 220、Paliogen® Orange 3040、Ortho Orange OR 2673、 Paliogen® Yellow 152、1560、Lithol Fast Yellow 0991K、Paliotol Yellow 1840、Novoprm® Yellow FG 1 ' Permanent Yellow YE 0305 、Lumogen Yellow D0790、Sueo-Gelb L1250、Suco-Yellow D1355 、Hostaperm® Pink E、Fanal Pink D4830、Cinquasia Magenta、Lithol Scarlet D3700 ' Toluidine Red ' Scarlet for Thermoplast NSD PS PA 、E. D. Toluidine Red、Lithol Rubine Toner、Lithol Scarlet 4440 、Bon Red C、Royal Brilliant Red RD-8192、Oracet Pink RF、 Paliogen® Red 3871K、Paliogen® Red 3340、及Lithol Fast Scarlet L4300、這些可自來源如赫特斯塞拉尼斯（Hoechst Celanese) 公司、保羅優理西（Paul Uhlich)、美國赫特斯、汽巴嘉基 (Ciba-Geigy)、艾爾迪西（Aldrich)、杜邦、加拿大優吉克爾曼 (Ugine Kuhlman)、多明尼彩色公司（Dominion Color Company) 、馬魯德（Magruder)、及麥迪森（Matheson)、克爾曼（Coleman) 、貝爾（Bell)。 顏料可具寬範圍之BET表面積（以氮吸收測量）。顏料之 表面積為約10至600 m2/g較佳。表面積以約20至250 m2/g更 佳，而以約20至100 m2/g最佳。若顏料之較佳表面積不易 得到，熟諳此藝者已認可顏料可受傳統尺寸研磨或減少技 術（如球或喷射磨粉）以減少顏料之粒子大小至要求之大 -10- 1316528 ^ _ (6) 發明說明續頁 小0 顏料亦可具寬範圍之酞酸二丁酯吸收（DBp)值，此值為 顏料之結構或分歧之測量。顏料之DBp值為約25至 mL/100 g較佳，以約30至50 mL/100 g更佳，而以約3〇至4〇 mL/100 g最佳。此外，顏料可具寬範圍之主要粒子大小。 主要粒子大小為約1 〇至1〇〇請較佳’以丨5至6〇 nm更佳。較 佳之顏料接近基本本上完全球形之幾何。亦可使用具其他 形狀（如針狀及片狀）之顏料。 發明之改良顏料產品包括連接至少一種聚合基團 顏料 叫 °聚合基團可為任何形式能連接在顏料上之聚合基固 I如墊塑性聚合基團或熱固性聚合基團。聚合基團可為 機水合物、交替聚合物、接枝聚合物、嵌段聚合物、▲ 勿及/或杭狀聚合物。此外，聚合基團可為單暂 水合物、JL聚人私 _
° 、二元共聚物、及/或含任何數目不间 重複單开夕；^ J ^ Q物°聚合基團之實例包括但不限於聚碳酸 醋 '聚醚、聚酯、奄π ^ ,, 曰 #丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙 ’、聚胺，及聚嫌柄 取你. 永婦聚合基團包括苯基醚或二苯基醚及 « ^ 一 例如，聚合基團可為由環氧雙酚A、授 乳雙酚A之寡聚躲士 哀 枯取 "物或環氧酚醛清漆製備之聚合物。另—# 住聚合基團包括茇 权 甘软 ♦ G烯及順丁烯二酸酐、順-丁烯酸、劣 其崃或衍生物。例 次 酸紅士 〗如，聚合基團可為苯乙烯及順-丁歸二 半酿之聚合物。 點逄沾，舌* 聚《基圏亦可在沿著聚合物上之多個 %過在重複單體s _ klTL上適當選擇之取代基連接至顏料。 在本發明之—夏 π 八體實施例中，改良顏料產品包括連接至 -11- 1316528 ⑺ 發明說明績頁 少一種聚合基團之顏料，其中該聚合基團包括至少一種可 光聚合基及至少一種離子或可離子化基。在此使用之“可 光聚合基”一詞定義為在曝光（如紫外光、紅外光或電子束 輻射）下能形成聚合材料之任何有機官能基。這包括為光 反應性（換言之，其形成反應物種如曝光下之自由基）有時 亦稱為光起始劑之基團，以及與由光反應性基團形成之反 應物種反應之基團。實例包括偶氮基及乙埽末飽和基。較 佳之可光聚合基包括丙燁酸根、甲基丙婦酸根、乙婦基及 苯乙埽基。最佳者為丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。 對此一具體實施例，聚合基團尚包括至少一種離子或可 離子化基。在此使用之“離子基”為陰離子或陽離子且與相 反電荷之抗衡離子相連，而“可離子化基”為在使用媒介中 能形成可離子基者。 聚合基困可包括至少一種陰離子或可陰離子化基。陰離 子基為負電荷離子基，且可由具能形成陰離子（可陰離子 化基）如酸性取代基之可離子化基之基團產生。其亦可為 可離子化取代物之鹽中之陰離子。當可離子化取代物形成 陰離子時，可離子化取代物之pKa小於11較佳。陰離子基 尚可由具pKa小於11之可離子化基之物種及pKa小於1 1之 可離子化取代物之鹽產生。可離予化取代物之pKa指可離 子化取代物整體之pKa，而非只是酸性取代物之pKa。pKa 小於1 0更佳，更小於9最佳。 陰離子基之代表性實例包括-COO·、-S〇3·、-0S03-、-ΗΡ〇3·、 -Ρ〇3_2、-ΟΡ〇3·2、-R，S-、-R，〇-，而可陰離子化基之代表性實例 -12· 1316528 ⑻ 發明說明續頁 包括-COOH、-S〇,H、ργ» η -P〇3H2、_R丨SH、-R，〇H及-SO2NHC0R，，其 中R,代表取代或未取代芳香基及/或烷基。陰離子或可陰 離子化基包括錢基、《基、㈣基或其鹽類較佳^ 佳者為幾酸基或其鹽。 聚α基團可包括至少—個陽離子或陽離子化基。陽離子 基為正負荷有機離子基’其可由能形成陽離子（可陽離子 化基)如胺之可離子化取代物產±。例如，烷基或芳香基 胺可在酸性媒介中質子化形成銨基-NR，2H+，此處RI代表2 取代或未取代芳香基及/或烷基之有機基團。此胺之 小於5較佳。陽離子基亦可為正電荷有機離子基。實例包 括四級銨基（-nr’/)及四級鳞基（-PR，3+)。這裏R，代表氫或如 取代或未取代芳香基及/或烷基之有機基團。陽離子或可 陽離子化基包括胺基或其鹽較佳β 在本發明之第二具體實施例中，改良顏料產品包括具至 少一種聚合基團之顏料，其中該聚合基團具化學式 -X-Sp-[PP]。X直接連接在顏料上’其代表亞芳香基或雜亞 芳香基或伸烷基，且以Sp基取代。Sp代表空間基。基團 PP代表包括重複單體基團或多單體基團或二者皆有之聚 合基團。聚合基團可視需要包括至少一種可光聚合基，視 需要之至少一種離子或可離子化基，或視需要二者皆有。 聚合基團包括至少一種可光聚合基較佳》聚合基團尚包括 至少一種離子或可離子化基更佳。聚合基團亦尚可以額外 基團取代。含基困PP之單體重複單元之總數以不大於約 5 0 0個單體重複單元較佳，而以不大於約1 〇 〇個單體重複單 -13- 發明說明續頁 1316528 (9) 元更佳。 基團P P可為如上所述之任何形式之聚合基團，例如單 質聚合物、共聚合物、三元共聚物、及/或含任何數目之 不同重複單元之聚合物。基團PP尚可為隨機聚合物、交 替聚合物、接枝聚合物、欲段聚合物、星狀聚合物、及/ 或梳狀聚合物。基團PP之較佳實例為前面所述者。 基團Sp代表空間基，在此作為二基團之連接。基團Sp 可為鍵結或化學基。化學基之實例包括但不限於-C02-、 -02c- ' -CO- ' -OS〇2- ' -S〇3- ' -S〇2- ' -SO2C2H4O- ' -SO2C2H4S-、-S02C2H4NR-、-0-、-S-、-NR-、-NRC0-、-C0NR-、-NRC02-、-02CNR-、-NRCONR-、-NRC0CH(CH2C02R)_、-NRC0CH2CH(C02R)_ 、-N(COR)(CO)-、-OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR-、-OOC-Alk-C0NR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-COO(CH2-CH2)xO-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-C0NR(A0X)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、-0-(CH2-CH2)-S02-、醯亞 胺基、亞芳香基、伸烷基及其類似物。R (可為相同或不 同）代表氫或如取代或未取代芳香基或烷基之有機基團， A lk代飽和或未飽和環或線性伸烷基如環己烷二基，AOX代 表約1至約12個碳之氧化伸烷基，而X為1至500間之整數。 基團X代表亞芳香基或雜亞芳香基或伸烷基。X直接連 接至顏料且尚以Sp基團取代。芳香基團尚可由任何基團 如一或多個纟充基或芳香基取代。亞芳香基為亞苯基、亞茶 基、或二亞苯基、及雜亞芳香基較佳。當X代表伸烷基時 ，實例包括但不限於取代或未取代伸烷基（可為分歧或未 -14- 1316528 00) 分歧的）。伸烷基可由一或多個基團如芳香基團取代。實 例包括但不限於CVC!2基團，像甲缔、乙燁、丙烯或丁缔 基團。X為亞芳香基較佳。 基團X可由一或多個官能基取代。官能基之實例包括但 不限於 R"、OR"、COR"、COOR"、OCOR"、幾酸根、鹵素、 CN、NR”2、S03H、磺酸根、硫酸根、NRn(COR")、CONR"2、 N〇2、P〇3H2、膦酸根、磷酸根、N=NR"、SOR，、NS02Rn，其 中R”（可為相同或不同）為獨立之氫、分歧或未分歧之 CrCw取代或未取代、飽和或未飽和烴，如烷基、婦基、 炔基、取代或未取代芳香基、取代或未取代雜芳香基、取 代或未取代烷基芳香基、或取代或未取代芳烷基。 如前面結構所示，基團PP透過空間基Sp連接至顏料。 此外，基團PP亦可在沿著聚合物上之多個點透過在重複 單體單元上適當選擇之取代基接至顏料。這些取代基亦可 包括空間基或如前所述之-X_SP-基團。如此，這些基團可 在末端或沿著骨幹之點上連至顏料。另外’這些基團可為 任何形式之聚合基團’如隨機聚合物、交替聚合物、接枝 聚合物、嵌段聚合物、星狀聚合物、及/或梳狀聚合物》 在一較佳具體實施例中’基團PP代表具化學式 [T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物’其中η代表重複單元Q-γ在聚合物 之數目且為1-2 0之整數°Q包括雙酚基醚基團，例如 -0-C6H4-C(CH3)2-C6H4-〇-、-〇-C6H4-CH2-C6H4-0-或-〇-C6H4-i 基 -C6H4-0- °Y包括取代丙燒二基，且包括具化學式 -CH2-CH(Z)-CH2-之基團，其中 Ζ為-ΟΗ或-OOC-Alk-COOH或其 1316528 ~~ (11) 發明說明續頁 鹽。Aik代表飽和或未飽和環或線性烷基，如環己烷二基β z 亦可為至空間基之鍵結。在此情況中，較佳之空間基Sp包 括-OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR-、-OOC.Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、 -00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-或-0-(CH2-CH2)-S02-，其中 R (可為相同 或不同）為氫或取取代或未取代芳香基或烷基，A OX代表 約1至約1 2個碳之氧化伸烷基，而X為1至5 0 0間之整數。T 代表末端基且包括例如烷基酯基團如乙酸根及丙酸根。T 尚包括可光聚合基且可為如ch2=ch-coo-或ch2=c(ch3)-C00-之基團較佳。 在第二較佳具體實施例中，基團PP代表具化學式 [A-(CR2B)n-CR2A]之聚合物，其中η代表重複單元B在聚合物 中之數目且為1至20之整數。R (可為相同或不同）為氫或取 代或未取代芳香基或姨*基。人及^包括苯基酸基團及取代 丙烷二基，且尚可包括可光聚合基°基團Α之實例包括具 下式之基團： C6H4- 或 C6H3(CH3)-，
I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ 基團B之實例包括具下式之基團： -C6H3- 或-c6h2(ch3)-，
I I Ο-Υ-Τ Ο-Υ-Τ Y及T如前所述° -16- 1316528 __ (12) 發明說明績頁 本發明之改良顏料使用熟諳此藝者所知之方法改良使 这有機基團連接至顏料。例如，在本發明分散物中使用之 改良顏料可用美國專利第5,851，280、5 698,016、5,922，118及 5,837,045號’及 PCT 公開案 w〇 99/51690與 W0 00/22051 中敘述 之方法製備’其敘述在此以提及之方式完全併入本文。這 提供比吸收基（如聚合物、界面活性劑及其類似物）更安全 連接基團於顏料上。 改良顏料亦可包括具至少一個有機基團之顏料，其中該 有機基團包括與具第二化學基團形成具第三有機基困之 顏料的第一化學基團之顏料的反應產物。對此，改良顏料 可使用熟諳此藝者所知的方法製備。例如，改良顏料可使 用PCT公開案第WO 01/51566號中所述之方法製備，其整個 在此以提及之方式併入本文。如此，例如有機基團可包括至 少一個親電子基（如（2 _硫酸乙基）颯基或苯甲酸基）及至少 一個親核聚合物（如聚胺或環氧雙酚A聚合物之胺衍生物） 之反應產物。在這些附著之有機基團上之進一步反應（如 酿化反應）亦為可行》其他實例亦在前面陳述之參考文獻 中揭示。 連接聚合基團之量可改變以達到要求性能之頁獻。連接 聚合基團之總量為約O.OOi至約1〇 〇微莫耳聚合基團/m2表 面積顏料較佳（以氮吸收（B E T法）測量）。速接聚合基團之 量在約0.01至約5.0微莫耳/m2間更佳，而以在約0_05至約3.0 微莫耳/m2間最佳。此外，改良顏料尚可包.括額外連接有 機基團。這可產生進一步改良之性質。在一較佳具體實施 -17· (13) 1316528 發明說明續頁 例中’改良顏料包括聚合基團及離子基、可離子化基或離 子及可離子化基之混合物。實、例包括前面所述用於連接含 離子或可離子化基之聚合基團者。離子或可離子化基包括 羧酸、磺酸基、或其鹽類較佳。 改良顏料可藉清洗（如過濾、離心、或二種方法之結合） 純化以移除未反應之生料、副產物鹽及其他反應雜質。產 物亦可藉例如蒸發分離，或可藉過濾及使用熟諳此藝者所 知之技術乾燥回復。 本發明之改良顏料產品亦可與液體媒介結合形成分散 物°液體之形式將視連接改良顏料之聚合基困之形式及量 而足°儘管可使用水溶液及非水溶液液體’液體媒介為非 水溶液媒介較佳。實例包括含乙氧基乙醇、乙氧基乙醇乙 酸酿、丁氧基乙醇、丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙 基卡必醇乙酸酯、二甘醇、環己酮、丙乙醇單甲基醚、丙 二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸酯、及其混合物之非水溶液媒 介。亦可加水溶液溶劑，例如水及水溶性醇。 改良顏料產品可使用熟諳此藝者所知之任何方法（包 例如使用高剪力混合）形成分散物。改良顏料之量以分 物總重為基礎在約1%至6〇%間，且以在以重量計約 则間較^分散物可由最小料組外⑷^及/或： 加工步驟形成。然而’可包括添加 面二 劑及共同溶劑。例如可添加錢感樹脂 氧酚醛清漆。 衣虱雙酚A或：
步純化或分類 以移除雜 •18· 1316528 發明說明續頁 質及因製造過程之結果共同存在分散物中之其他不適分 游離物種。例如分散物可純化以移除任何不適當游離物種 如未反應之處理劑。使用薄膜或離子交換之超過濾/透析 之已知技術可用於純化分散物並移除大量游離離予及不 要之物種。可選擇之交換抗衡離子步驟亦可在純化過程中 發生，藉此可形成改良顏料之部份之抗衡離子以另一抗衡 離子（包括如兩性離子）利用已知之離子交換技術（如超過 濾、逆滲透、離子交換管柱及其類似物）交換或取代。可 交換之抗衡離子之特別實例包括但不限於Na+、K+、u+、 NH4+、Ca2+ ' Mg2+、Cl·、NCV、Ν02·、乙酸根及 Br-。 本發明尚關於黑色基質《如前面所述，黑色基質藉應用 光敏感層在基板上、照射光敏感層影像轉移，及顯影並乾 燥塗層形成。對本發明之黑色基質’光敏感層包括含具一 種聚合基團之黑色顏料的改良黑色顏料產品。黑色顏料為 碳產品較佳，而以碳黑最佳。碳黑如前面所述具寬範圍之 表面積、結構及主要粒予大小，但以DBP值為約25至7〇 功L/1 〇〇 g較佳。 聚合基團可為前面敘述之任一聚合基團。如此，聚合基 團可包括至少一種可光聚合基及至少一種離子或可離子 化基。例如，聚合基團可藉化學式_X-Sp_[pp]代表之基團， 其中X、Sp& PP如前面所定義。 離子或可離予化基之選擇視顯影黑色基質使用之方法 而疋。例如，若使用鹼性顯影劑，離子或可離子化基以陰 離予或可陰離子化基較佳。若使用酸性顯影劑，以陽離子 •19- 1316528 發明說明續頁 (15) 或可陽離子化基較佳。 本發明黑色基質尚可包括光敏感樹脂，例如由環氧雙紛 A或環氧盼越清漆製備之樹脂。其他光敏感樹脂為熟諳此 藝者所習知者。 體積電阻率及光密度為黑色基質材料重要之性質。體積 電阻率為材料阻止電傳導能力之測量且能使用技藝界所 知之技術（例如ASTM步驟D257-93中定義）測量。光密度 (〇D)為材料不透明度之測量且典型上使用光譜儀測量二 〇D視幾個因子而定，包括膜厚。本發明黑色基質之體積 電阻率大於或等於1〇13 〇hm-Cm較佳。本發明黑色基質2光 密度在1微米膜厚下亦大於約3β 在本發明黑色介質中改良顏料之連接聚合基團量可改 變以達到I求整體性能貢獻。連接聚合基團之總量如前面 所述且範圍為約0.001至約10.0微莫耳聚合基團岫2表面積 顏料（以氮吸收（BET法））測量，以約〇.〇1至5〇微莫耳更/ 且以約0.05至3.0微莫耳/m2最佳。 本發明黑色基質之光敏感層包括足以達到要求心性 質〈改良黑色顏料的量。改良黑色顏科之量將視顏料之形 式及連接聚合基團之量而定。光敏感層 .., 〜瓚中改艮黑色顏料之 量在10%至70%間，以20%至60%較佳，工 ,,^ 而以30%至50%最 佳。頃發現比傳統黑色顏料需要較低 顏料產生要求之整體性質。 千…改良黑色 値官未想 取人甘 民頦料產品之連 聚口基團分離顏料粒子且藉以減少 ϋ顏料粒予之黑 *20- (16) 1316528 發明說明續頁 基材之導電度。此外，咸信含具至少一個具化學式 •X-Sp-[pP]之聚合基團之顏料的改良顏料1導致更有效率 $離粒子並產生極高體積電阻率之黑色基質。咸信通常較 高密度之連接基團導致高體積電阻率。連接聚合基團亦讓 改良顏料良好分散在光敏感層中，藉以產生高〇d (甚至在 較低負載下卜可光聚合基團之存在使改良顏料在照光下 反應，如此在光敏感層内交聯。離子或可離子化基使任何 未光聚合材料可顯影。 本發明尚關於一種樹脂组合物，其包括：a)光敏感樹脂 及b)改良顏料產品，其中此樹脂組合物已藉照光硬化。樹 脂組合物尚包括光起始劑。改良顏料產品如前面所述且包 括且至少一種聚合基團，其中聚合基團包括至少一種可光 聚合基及至少一種離子或可離子化基。例如，聚合基團可 具化學式X-Sp-[PP]，其中X、Sp及PP如前面所述》顏料為 酉太酸二丁酯吸收（DBP)為25至70mL/100g之碳黑，光敏感樹 月曰可為熟谶此藝者習知的任一種’例如環氧雙驗A樹脂或 環氧齡越清漆樹脂。樹脂組合物可藉任何光源硬化，例如 紅外或紫外光。 本發明尚由實際上只打算做例示用之下列實例更易了 解。 實例 實例1 -製備聚合妝 在6 6 °C將丙浠酸（4.8 g)緩慢加入3 0克雙酚A環氧樹脂 (EPON 1001F ’ 可得自 Res〇iuti〇n performance pr〇duots)溶於 3〇 g •21- (17) 1316528 發明說明績頁 THF之攪拌溶液卜將溴化四甲基銨（〇·2 g)加入作觸媒及加 入曱氧基氫醌(0.1 g)作抗氧化劑。以酸數目量測監視反應 。在回流THF中反應30小時後，將六氫酞酸酐（1〇 5g)加入 反應並在相同溫度下額外擾拌2小時。產生之幾基丙晞酸 化聚合物溶液（在THF中）冷卻至室溫並在不進一步分離 下使用。 實例2-改良聚合物 將1,4-苯二胺（2.95 g)與250 mL THF—同加入實例1之聚合 物溶液，在溶解後，將5.6 g二環己基碳二醯胺（DCC)加入 。反應混合物在室溫攪拌2小時並藉過濾純化以移除沈澱 之尿素。 實例3 -製備改良顏料產品 實例2之改良聚合溶液及30 g碳黑旋轉定子。碳黑之表 面積為50 m2/g且DBP為46 mL/100 g。加甲烷磺酸（0.96 g)。將 0.69 g NaN〇2於1〇 g水中之溶液，並持續混合額外3小時。產 生之分散藉首先使用丙酮/THF (20/80)溶液隨後用丙酮而 最後用丙二醇甲氧基醚乙酸酯（PGMEA)之透析純化。產生 分散物透過一系列濾心（20微米、5微米、1微米及0.5微米） 連續過濾。 實例4-聚合膜之製備 實例3之改良碳黑分散物可與在乙酸丁氧基乙酯（65% 固體，Akros Chemicals製造之Actilane 340)之羧酸化環氧甲酚 醛清漆聚合物溶液混合。之後產生之配方可由1.5密爾bird bar塗佈在不銹鋼片並在烘箱中9 0 °C下烘乾4 5分鐘。產生乾 -22- 1316528 (18) 發明說明續頁 燥膜（40%改良碳黑及60%聚合物）預期厚度為約7微米。膜 之體積電阻率根據ASTM步驟D257-93測量。產生乾燥膜預 期具良好之整體性質。 實例5 -聚合物之改良 將Actilane 340 (31.2 g，在乙酸丁氧基乙酯中之65%溶液， Akros Chemicals製造之幾酸化環氧甲驗紛趁清漆聚合物）溶 解於300 mL乾THF中。將1,4-苯二胺（PDA，1.68 g)加入聚合 物溶液中。在溶解PDA後，加二環己基碳二醯胺（DCC，3.22 克）。反應混合物在室溫氬氣下攪拌24小時並藉過濾純化 以移除沈積之尿素。 實例6-聚合物之改良 將Actilane 340 (150 g，在乙酸丁氧基乙酯中之65%溶液， Akros Chemicals製造之羧酸化環氧甲盼酚·越清漆聚合物）溶 解於700 mL乾N-甲基吡咯酮（NMP)中。將1,4-苯二胺（PDA， 6.55 g)加入聚合物溶液中。在溶解PDA後，滴入二環己基碳 二醯胺（DCC，60 ml在亞甲基二氯之1 Μ溶液）。反應混合物 在室溫氬氣下攪拌1 9小時並藉過濾純化以移除沈澱之尿素。 實例7 -聚合物之改良 將 Sarbox SB404 (30 g，在 PGMEA中之 55%溶液，Sartomer 製造之苯乙埽及具丙烯酸羥基乙酯之順-丁烯二酸半酯之 聚合物）溶解於150 mL NMP中。將1，4-苯二胺（PDA，1.08 g) 加至聚合物溶液中。在溶解PDA後，加二環己基碳二醯胺 (DCC，2.78 g)。反應混合物在室溫氬下攪拌24小時並藉過 濾純化以移除沈澱之尿素。 -23- (19) 1316528 發明說明續頁 實-例8 -製希改良顏料產品 實例5之改良聚合物溶液及3〇 g破黑在旋轉定子中混合 並升至401之溫度。此碳黑之表面積為5〇 m2/ga dbp為46 ml/100 g。力口甲；t完績酸（0.95 g)。滴入在1〇 g水中之0.75 g NaN〇2 落液，且在4 (TC持續混合額外3小時。產生混合物藉首先 使用水/THF (10/90)混合物隨後用THF而最後用PGMEA之 透析純化《產生分散物包括具26%之聚合物連接水準（以 TGA測定）之改良顏料產品且固體含量為20.7%。 實例9 -製備改良顏料產品 將表面為 50 m2/g且 DBP為 46 ml/100 g之碳黑（150 g)、1400 mL之NMP及100 mL水在55°C之旋轉定子中混合》加績酸（5.7 g)並授拌1 0分鐘。在10 mL水中溶解NaN02 (4.5 g)並缓慢添 加。之後反應混合物以旋轉定子混合2小時。 實例6之改良聚合物溶液加至旋轉定子中之反應混合物 内。亦添加甲烷磺酸（10.8 g) ’溫度增加至55。(：。最後，將 在1 0 g水中之4.5 g NaN02之溶液緩慢加入。.反應混合物以 旋轉定子混合額外2小時。產生分散物藉首先使用水/NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用PGMEA之透析純化。產 生分散物包括聚合物連接水準為34.8% (以TGA測定）且固 體含量為17.3%之改良顏料產品》 實例1 0 -製備改葙料连品 將實例7之改良聚合物溶液及30 g碳黑在旋轉定子中混 合並升至55°C。碳黑之表面積為50 m2/g且DBP為46 mL/100 g 。加甲烷磺酸（0,95 g)。滴入在1〇 g水中0.75 g NaN02之溶液 -24- 1316528 _ (2〇) 發明說明績頁 ’且在5 5 °C持續攪拌額外3小時。產生分散物藉首先使用 水/NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用pgmEA之透析 純化。產生分散物包括聚合物連接水準為29.8% (以a測 定）且固體含量為18.5%之改良顏料產品》 置例11 -製備改良葙料產品 將表面積為1〇〇 m2/g且DBP為31 mL/l〇〇 g之碳黑（150 g)、 1400 mL之NMP及100 mL水在55°C旋轉定子中混合。加磺酸 (5.7 g)並攪拌1〇分鐘。將NaN02 (4.5 g)溶解於1〇 mL水中並緩 慢添加。之後反應混合物以旋轉定子混合2小時。 將貫例6之改良聚合物溶液加至旋轉定子中之反應混合 物内。亦添加甲燒績酸（10.8 g) ’溫度增加至$ 5 。最後， 將在1 0 g水中之4.5 g NaN〇2之溶液緩慢加入。反應混合物 以旋轉定子混合額外2小時。產生分散物藉首先使用水 /NMP (10/90)混合物隨後用NMP而最後用PGMEa之透析純 化。產生分散物包括聚合物連接水準為17 6% (以TGA測定） 且固體含量為16.9%之改良顏料產品。 實例12-製備聚合膜 將實例8、9、1 0及1 1之改良碳黑分散物與Actilane 340 (65%固體，由Akros Chemicals製備）及PGMEA混合以得到約 20%固體含量。 對體積電阻率之量測’產生配方以1微米醫生之刀刃塗 佈在鋼Q板上並在烘箱内9 0 °C烘乾4 5分鐘》產生之烘乾膜 (40%改良碳黑及60%聚合物、45%改良碳黑及55%聚合物 ’以及5 0 %改良碳黑及5 0 %聚合物）之厚度為約5 _ 8微米（在 -25- 發明說明續頁 1316528 (21) KLA Tencor Alpha Step 500 Surface Profilometer上測量）。膜之 體積電阻率使用裝有ETS 803B電阻率探針之Keithley Model 65儀器使用交替極化法測量。對大部份之量測施加電壓為 + /-5 V。 對光密度（OD)量測，配方旋轉塗佈在玻璃片上並在烘 箱中90 °C烘乾45分鐘。產生烘乾膜（40%改良碳黑及60%聚 合物、45%改良碳黑及55%聚合物、以及50%改良碳黑及 5 0%聚合物）之厚度為約0.6-1.7微米（在KLA Tencor Alpha Step 500 Surface Profilometer上測量）。〇D 使用 X-Rite 361T Transmission Densitometer測量 e 由實例8分散物產生之烘乾膜之體積電阻率為1.2 x i〇14 ohm-cm (40%改良碳黑）及2 X 1014 〇hm-cm (50%改良碳黑）。由 實例9之分散物之烘乾膜的體積電阻率為6 5 x 1013 〇hm-cm (40%改良碳黑）、5.4 X 1〇13 〇hm-cm (45%改良碳黑）及 7 X 1〇13 ohm-cm (50%改良碳黑）。由實例1〇分散物之烘乾膜之體積 電阻率為3.5 X 1〇13 〇hm-cm (40%改良碳黑）。由實例1 1分散 物之烘乾膜之體積電阻率為7x 1〇n 〇hm_cm (4〇%改良碳黑） 及3 X 1〇13 ohm-cm (45%改良碳黑）。見到之光密度一般為約 3.0/μιη ’特別是對含50%改良碳黑。因此，找到使用本發明 改良顏料產品製備膜之良好性質（特別是電子及光性質） 組合。 前面敘述之本發明較佳具體實施例以描述及敘述之目 的呈現°這不打算為無遺漏的或限制本發明於揭示之精確 形式。改良及變化根據前面教導為可行的，或可由本發明 -26· 發明說明續頁 1316528 (22) 之實施學到。選擇及敘述之具體實施例為了解釋本發明原 理及其實際應用以使熟諳此藝者能在種種具體實施例中 利用本發明且以種種改良符合特殊用途之預期。本發明範 圍藉附帶之申請專利範圍及同等物界定。 -27-

Claims (1)

1316參28i〇〇242號專利申請案 中文申請專利範圍_ 年6 r»(9M 公告 拾、申請專对範圍 1. 一種改良顏料產品，其包括連接至少一種聚合基團之顏 料，其中該聚合基團包括至少一種可光聚合基團及至少 一種離子或可離子化基團， 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物；及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連，而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 2. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該離子或 可離子化基團係陰離子或可陰離子化基團。 3. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該顏料為 碳黑。 4. 如申請專利範圍第3項之改良顏料產品，其中該碳黑具 約25至70 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收（DBP)。 5. 如申請專利範圍第4項之改良顏料產品，其中該碳黑具 約30至50 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收（DBP)。 6. 如申請專利範圍第5項之改良顏料產品，其中該碳黑具 約30至40 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收（DBP)。 7. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該可光聚 合基團包括乙婦化未飽和基。 8. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該可光聚 83048-980612.doc 申請專利範圍續頁 1316528 合基團包括丙烯酸酯基、曱基丙烯酸酯基、乙烯基、或 苯乙烯基。 9. 如申請專利範圍第8項之改良顏料產品，其中該可光聚 合基團為丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯。 10. 如申請專利範圍第2項之改良顏料產品，其中該陰離子 或可離子化基團包括羧酸或其鹽。 11. 如申請專利範圍第2項之改良顏料產品，其中該陰離子 或可陰離子化基團為具化學式-OOC-Alk-COOH之基團或 其鹽，其中Aik代表飽和或未飽和環狀或線性烷基。 12. 如申請專利範圍第1 1項之改良顏料產品，其中Aik代表 環己烷二基。 13. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該聚合基 團包括笨基醚基及經取代丙烷二基。 14. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該聚合基 團包括由環氧雙齡·Α、環氧雙盼A之寡聚物、或環氧盼 醛清漆製備之聚合物。 15. 如申請專利範圍第1項之改良顏料產品，其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 16. 如申請專利範圍第1 5項之改良顏料產品，其中該液體媒 介為非水溶液媒介，其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑：乙氧基乙醇、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單曱基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 83048-980612.doc 1316528 t請專職μ頁 π.如申請專利範圍第1 5項之改良顏料產品，其尚包括光敏 感樹脂。 18. 如申請專利範圍第1 7項之改良顏料產品，其中該光敏感 樹脂由環氧雙酚Α樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備。 19. 一種改良顏料產品，其包括連接至少一種具化學式 -X-Sp-[PP]，其中X (直接連接至顏料）代表亞芳香基、雜 亞芳香基、或伸烷基，Sp代表空間基，而PP代表含至 少一種可光聚合基團及至少一種離子或可離子化基團， 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物；及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連，而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 20. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該離子或 可離子化基團為陰離子或可陰離子化基團。 21. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該顏料為 碳黑。 22. 如申請專利範圍第2 1項之改良顏料產品，其中該碳黑具 約25至70 mL/100 g之Ϊ大酸二丁酯吸收（DBP)。 23. 如申請專利範圍第22項之改良顏料產品，其中該碳黑具 約30至50 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收（DBP)。 24. 如申請專利範圍第2 3項之改良顏料產品，其中該碳黑具 83048-980612.doc 申請專利範圍續頁 1316528 約30至40 mL/100 g之酞酸二丁酯吸收（DBP)。 25. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該可光聚 合基團包括乙烯化未飽和基。 26. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該可光聚 合基團包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基、或 苯乙烯基。 27. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該可光聚 合基團為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 28. 如申請專利範圍第20項之改良顏料產品，其中該陰離子 或可陰離子化基團包括羧酸或其鹽。 29. 如申請專利範圍第2 0項之改良顏料產品，其中該陰離子 或可陰離子化基團為具化學式-OOC-Alk-COOH或其鹽之 基團，其中Aik代表飽和或未飽和環或線性烷基。 30. 如申請專利範圍第29項之改良顏料產品，其中Aik代表 環己烷二基。 31. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該聚合基 團包括苯基醚基及經取代丙烯二基。 32. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中該聚合基 團包括由環氧雙酚A、環氧雙酚A或環氧酚醛清漆製備 之聚合物。 33. 如申請專利範圍第19項之改良顏料產品，其中PP代表 具化學式[T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物，其中Q包括雙苯基醚 基，Y包括取代丙烷二基，T包括末端基，而η為1至20 之整數。 34. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品，其中Τ包括可 83048-980612.doc 吟倉專利範圍筇,ί I 1316528 光聚合基團。 35. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品，其中τ包括烷 基自旨β - 36. 如申請專利範圍第3 3項之改良顏料產品，其中： Q 為-〇-c6h4-c(ch3)2-c6h4-o-、-o-c6h4-ch2-c6h4-o-、或 -〇-c6h4-第基-c6h4-o-; Y為-CH2-CH(Z)-CH2-，其中 Z為-OH、-OOC-Alk-COOH或 其鹽，或至Sp之鍵結，而Aik代表飽和或未飽和環或線 性烷基，且 T 為 ch2=ch-coo-或 CH2=C(CH3)-COO-。 37. 如申請專利範圍第36項之改良顏料產品，其中Sp為 -OOC-Alk-COO-、-OOC-Alk-CONR- ' -OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-' -00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-' -OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、或-0-(CH2-CH2)-S02-，其中 R，可為 相同或不同，其為氫或取代或未取代芳香基或烷基， AOX代表約1至約12個碳之氧化伸烷基，而X為1至500 間之整數。 38. 如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品，其中pp代表 具化學式[A-(CR2B)n-CR2A]之聚合物，其中A&B包括笨基 醚基及取代丙烷二基，R可為相同或不同，其為氫或取 代或未取代芳香基或烷基且n為1至20之整數。 39. 如申請專利範圍第3 8項之改良顏料產品，其中Α及Β尚 包括可光聚合基團。 83048-980612.doc 1316528 h青專利範圍續頁 40. 如申請專利範圍第3 8項之改良顏料產品，其中： A為 C6H4- 或 C6H3(CH3)-及 I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ B 為-C6H3- 或 -C6H2(CH3)-;其中 I I Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ Y 為 _CH2-CH(Z)-CH2-，其中 Z 為-OH，_OOC-Alk-COOH 或 其鹽’或至S p之鍵結’且A1 k代表飽和或未飽和環或 線性烧基，且 T 為 CH2=CH-COO-或 CH2 = C(CH3)-COO-。 41. 如申請專利範圍第40項之改良顏料產品，其中T包括烷 基酯。 42. 如申請專利範圍第40項之改良顏料產品，其中Sp為 -OOC-Alk-COO- ' -OOC-Alk-CONR- ' -OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S02- ' -00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-或-0-(CH2-CH2)-S02-，其中 R，其可為 相同或不同，為氫或取代或未取代芳香基或烷基，AOX 代表約1至約1 2個碳之氧化伸炫基，而X為1至5 0 0間之 整數。 43. 如申請專利範圍第1 9項之改良顔料產品，其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 44. 如申請專利範圍第4 3項之改良顏料產品，其中該液體媒 介為非水溶液媒介，其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑：乙氧基乙醚、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 83048-980612.doc •6· 1316528 巾_請糊範圍續頁 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 45. 如申請專利範圍第4 3項之改良顏料產品，其尚包括光敏 感樹脂。 46. 如申請專利範圍第45項之改良顏料產品，其中該光敏感 樹脂為由環氧雙酚A樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備之 樹脂。 47. —種改良顏料產品，其包括連接至少一種聚合基團之顏 料，其中該顏料為酞酸二丁酸吸收（DBP)約25至70 mL/100 g 之碳黑，且該聚合基團包括至少一種可光聚合基團及至 少一種離子或可離子化基團， 其中 該聚合基團可為隨機聚合物、交替聚合物、接枝聚合 物、嵌段聚合物、星狀聚合物及/或梳狀聚合物、均質 聚合物、共聚合物或三元聚合物；及 該離子基為陰離子或陽離子且與相反電荷之抗衡離子 相連，而可離子化基為在使用媒介中能形成可離子基 者。 48. 如申請專利範圍第47項之改良顏料產品，其中該改良顏 料產品在液體媒介中以形成分散物。 49. 如申請專利範圍第48項之改良顏料產品，其中該液體媒 介為非水溶液媒介，其包括選自由下列各物組成之群中 之溶劑：乙氧基乙醚、乙氧基乙醇乙酸酯、丁氧基乙醇、 83048-980612.doc 申請專利範囡續頁 1316528 丁氧基乙醇乙酸酯、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、 二乙二醇、環己酮、丙二醇單曱基醚、丙二醇單乙基醚 乙酸酯、乳酸酯、及其混合物。 50. 如申請專利範圍第4 8項之改良顏料產品，其尚包括光敏 感樹脂。 51. 如申請專利範圍第50項之改良顏料產品，其中該光敏感 樹脂為由環氧雙酚A樹脂或環氧酚醛清漆樹脂製備之 樹脂。 52. —種黑色基質，其藉應用光敏感層在基板上，照射光敏 感層影像轉移、及顯影與乾燥該塗層形成，其中該光敏 感層包括一種如申請專利範圍第1項之改良顏料產品。 53. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質尚包括光敏感樹脂。 54. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質，其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1013 ohm-cm。 55. 如申請專利範圍第54項之黑色基質，其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 56. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質，其中該顏料為碳產 品。 57. 如申請專利範圍第5 6項之黑色基質，其中該碳產品為酞 酸二丁酯吸收約25至70 mL/100 g之碳黑。 58. 如申請專利範圍第52項之黑色基質，其中該聚合基團包 括苯基醚基及經取代丙烷二基。 59. 如申請專利範圍第5 2項之黑色基質，其中該聚合基團包 括由環氧雙酚A、環氧雙酚A之寡聚物' 或環氧酚醛清 83048-980612.doc 申請專利範園續頁I 1316528 漆製備之聚合物。 60. —種黑色基質，其藉應用光敏感層在基板上、照射光敏 感層影像轉移、及顯影與乾燥該塗層形成，其中該光敏 感層包括一種如申請專利範圍第1 9項之改良顏料產品。 61. 如申請專利範圍第60項之黑色基質，其進一步包括光敏 感樹脂。 62. 如申請專利範圍第60項之黑色基質，其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1〇13 〇hm-cm。 63. 如申請專利範圍第62項之黑色基質，其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 64. 如申請專利範圍第60項之黑色基質，其中該顏料為碳產 品。 65. 如申請專利範圍第64項之黑色基質，其中該碳產品為酞 酸二丁酯吸收約25至70 mL/100 g之碳黑。 66. 如申請專利範圍第60項之黑色基質，其中該聚合基團包 括苯基醚基及經取代丙烷二基。 67. 如申請專利範圍第60項之黑色基質，其中包括由環氧雙 酚A、環氧雙酚A之寡聚物、或環氧酚醛清漆製備之聚 合物。 68. 如申請專利範圍第6 0項之黑色基質，其中P P代表具化 學式[T-Y-(Q-Y)n-T]之聚合物，其中Q包括雙苯基醚基，Y 包括取代丙烷二基，T包括末端基，而η為1至20之整數。 69. 如申請專利範圍第6 8項之黑色基質，其中Τ包括該可光 聚合基圑。 83048-980612.doc 1316528 70.如申請專利範圍第68項之黑色基質，其中T包括烷基醚。 71_如申請專利範圍第68項之黑色基質，其中： Q 為-0-C6H4-C(CH3)2-C6H4-〇-、-0-C6H4-CH2-C6H4-0·、或 -〇-C6H4-苐基-C6H4-0-; Y 為-CH2-CH(Z)-CH2-，其中 Z 為-OH、-OOC-Alk-COOH、 或其鹽，或至Sp之鍵結，而Aik代表飽和或未飽和環或 線性烷基；且 _ 丁為 ch2=ch-coo-或CH2=C(CH3)-COO-。 72.如申請專利範圍第7 1項之黑色基質，其中Sp 為-OOC-Alk- C00-、-00C-Alk-C0NR-、-00C-Alk-C0NR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)_ S02-、-00C-Alk-C00(CH2-CH2)x0-(CH2-CH2)-S02-、-〇〇C-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02-、-00C-Alk-C0NR(A0X)x-Alk-NR- (CH2-CH2)-S〇2-、或-〇-(CH2-CH2)-S02-，其中 R可為相同或不 * 同，為氫或取代或未取代芳香基或烷基，AOX代表約i * 至約1 2個碳之氧化伸烷基，而X為1至5 〇 〇間之整數。 φ 73.如申請專利範圍第60項之黑色基質，其中pp代表具化 學式[A-CCRzBh-CRsA]之聚合物，其中a及B包括笨基醚基 及取代丙烧一基，R可為相同或不同，為氫或取代或未 取代芳香基或炫基且η為1至2〇之整數。 74. 如申請專利範圍第73項之黑色基質，其中八及Β尚包括 可光聚合基團。 75. 如申請專利範圍第7 3項之黑色基質，其中·· Α為 C6H4-或 及 Ο-Υ-Τ 0-Υ-Τ 83048-980612.doc -10- 1316528 丨 Λ— Β為-C6H3-或 -C6H2(CH3)-;其中 I I O-Y-T O-Y-T Y 為-CH2-CH(Z)-CH2-，其中 Z 為 _OH、-OOC-Alk-COOH 或 其鹽，或至S p之鍵結，而A1 k代表飽和或未飽和環或 線性烷基；而 T 為 ch2=ch-coo-或 CH2=C(CH3)-COO-。 76. 如申請專利範圍第7 5項之黑色基質，其中T包括烷基酯。 77. 如申請專利範圍第75項之黑色基質，其中Sp為-OOC-Alk- COO-'-〇〇C-Alk-CONR-'-OOC-Alk-CONR(CH2-CH2)xNR-(CH2-CH2)-S〇2_、_〇〇C-Alk-COO(CH2-CH2)xO_(CH2-CH2)-S〇2-、-OOC-Alk-C00(A0X)x-(CH2-CH2)-S02- ' -OOC-Alk-CONR(AOX)x-Alk-NR-(CH2-CH2)-S02-、或-〇-(CH2-CH2)-S02-，其中 R可為相同或不 同，為氫或未取代芳香基或烷基，AOX代表約1至12個 碳之氧化伸院基’而x為1至500間之整數。 78. —種黑色基質’其藉應用光敏感層至基板上、照射光敏 感層影像轉移、及顯影並乾燥該塗層形成’其中該光敏感 層包含一種如申请專利範圍第47項之改良顏料產品。 79. 如申請專利範圍第78項之黑色基質，其尚包括光敏感樹 80. 如申請專利範圍第78項之黑色基質，其中該黑色基質之 體積電阻率大於或等於1013 ohm-cm。 81. 如申請專利範圍第80項之黑色基質，其中該黑色基質之 光密度在約1微米之厚度下為約3。 82. —種樹脂組合物，其包括：a)光敏感樹脂及b)如申請專 利範圍第1項之改良顏料產品，其中該樹脂組合物藉照 83048-980612.doc -11 - 1316528 光硬化。 83. —種樹脂組合物，其包括：a)光敏感樹 利範圍苐1 9項之改良顏料產品’其中該 光硬化。 84. —種樹脂組合物，其包括：a)光敏感樹 利範圍第4 7項之改良顏料產品。 申請專利範圍續頁 脂及b)如申請專 樹脂組合物藉照 脂及b)如申請專
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