TWI309316B - Apparatus for and method of manufacturing liquid crystal display - Google Patents

Description

1309316 九、發明說明： t發明所屬之技術領域3 相關申請案 此申請案主張2005年7月14日提申之韓國申請案 5 2005-0063617之優先權，該申請案之内容加入本文中作為 參考資料。 發明領域 本發明係有關於一種用以製造液晶顯示器的裝置及方 - 法，尤其是，緊密地黏接著一轉印感光膜至作為一液晶顯 10 示面板之一基板的裝置及方法。 【先前技術3 相關技藝之說明 一液晶顯示器（''LCD")包括一液晶顯示面板，一背光 單元以及一驅動單元。該液晶顯示面板包括一在其上形成 15 薄膜電晶體的一薄膜電晶體（''TFT〃）基板，一其上備置濾 色器的·一滤色器基板’以及在兩個基板之間注射的液晶。 近幾年來，為絕緣基板，已使用塑膠取代玻璃，因為它可 製造成較薄，且較具可撓性的基板，與玻璃比較，較適合 移動式的顯示器。 20 在薄膜電晶體基板的製造過程中，通常會以所欲圖樣 形成閘門電極，源/汲電極，活動區，無機層，有機層以及 畫素電極。此外，在一濾色器基板的製造方法中，通常會 在所欲圖樣中形成黑色矩陣及濾色器。為形成這些所欲圖 樣，可重覆地如所欲地執行數種方法，如沉積一薄膜，配 5 1309316 ’及钱刻該 置—光阻層於該薄膜上，曝光並發展該光阻層 薄膜。 基本±係藉由錄㈣、纽在㈣局且配置 土板上的薄膜上，然後透過—軟烤方法蒸發在液態光 的一溶劑而備置。替代性地，其可透過層合一轉印光 膜至擬佈局且配置在一基板上的薄膜來備置。

在上述方法中，以液態光阻塗敷的基板必須承受一軟 烤方去，其為以12〇°c的溫度處理液態光阻之熱處理，以基 毛’奋劑等。因在匕’該方法的缺點在於以塑膠製成的絕緣基 10板在敕烤過程中會變形。為克服此問題，已有人提出在光 阻層塗敷前預熱塑膠製的絕緣基板，以防止熱變形。 然而，在後一種方法中，塑膠製的絕緣基板須承受高 壓’以緊密地黏接轉印感光膜至基板。配置有擬佈局之薄 膜的基板基本上具有一粗糙的表面。因此，若轉印感光膜， 15由於高壓之施用而未完美地黏至基板，氣泡會存在基板及 轉印感光膜之間。因此，為解決此問題，轉印感光膜包括 在一光阻層上的一襯墊層。襯塾層可使光阻層藉由其彈性 特性完美地黏至基板的表面，以在感光膜層合後，減少光 阻層及基板之間殘餘的氣泡數量。因此，為減少氣泡的數 20 量，襯墊層必須為彈性的。襯墊層的彈性隨著在一預定溫 度範圍内增加的溫度而增加。因此，必須將適合的熱施加 至轉印感光膜，以減少氣泡的數量。 然而，此熱處理是有問題的，因為它會造成以塑膠製 成之絕緣基板的變形，因而增加製造成本。 6 1309316 【發明内容】 發明之概要 因此，本發明的一特徵為備置一種用以製造一液晶顯 示裝置之裝置，其可阻止以塑膠製成的一絕緣基板的熱變 5 形，降低製造成本，並強化生產率。 此外，本發明的一特徵為備置一種用以製造一液晶顯 示裝置之方法，其可阻止以塑膠製成的一絕緣基板的熱變 形，降低製造成本，並強化生產率。 # 本發明的其他特徵將在下文中說明，且其部份在下文 10 中十分的明顯，或可藉由實施本發明而得知。 本發明的上述以及/或其他特徵可藉由製造一液晶顯 示器的裝置而達成，其包括：用以支持一基板的一第一支 持元件，以及配置在基板上的一轉印感光膜；具有面對第 一支持元件的一第一表面的一第二支持元件；®比鄰第二支 15 持元件之第一表面而定位的一彈性元件；用以移動第一支 持元件，及第二支持元件，使其相互靠近及離開的一驅動 • 機構；以及用以接收第一支持元件及第二支持元件的一真 空室。 依據本發明的一例示實施例，基板包括以塑膠製成的 20 一絕緣基板。 依據本發明的一例示實施例，該裝置另包括一流體注 射結構體，其用以注射流體至第二支持元件及彈性元件之 間，其中彈性元件為真空室或第二支持元件所支持。 依據本發明的一例示實施例，彈性元件以橡膠製成。 7 1309316 據本發明的一例示實施例，流體為交氟。 第一據本發明的-例示實施例，真空室包栝：用以容納 -从支持凡件的—第'"容納部份；以及用以容納第二支持 70的一第二容納部份。 社接康本發明的—例示實施例，該裝置$包括一熱產生 體丨與至少第一走持元件及第二支持元件之一者聯 結。 康本發明的—例示實施例，該熱產生結構體以一耐 熱元件製成。 依據本發明的—例示實施例，該裝置穷包括一轉印機 八用以傳送至少轉印感光膜及基板之〆|第一支持元 件的—接收位置上。 依據本發明的-例示實施例，轉印機構包括一滚筒。 本么月的上述以及/或其他特徵亦藉由備置製造一液 15晶顯示器的方法而達成，其包括：⑷配i表面上具有一轉 印感光臈之—基板至在-第-支持元件上的〆接收位置； 〇>)備置具有面對第—支持元件的_第—表面π第二支持 几件；以及(C)朝向移動第一及第二支持元件成相互靠近及 離開，以按堡轉印感光膜於基板上。 〇 依據本發明的一例示實施例，該方法另包括：（d)淨空 在基板及轉印感光膜之間的空氣。 依據本發明的一例示實施例，該第二支持元件另包括 此鄰第二支持元件的第一表面定位的—彈性元件，且其中 (c)流體注射至第二支持元件及彈性元件之間。 1309316 依據本發明的一例示實施例，該轉印感光膜包括：一 光阻層；在光阻層上的一可滲透氧的保護層；在可滲透的 氧保護層上的一底層；以及在底層上的一靜電保護層。 依據本發明的一例示實施例，其包括傳送至少基底及 5 轉印感光膜之一至第一支持元件的接收位置上。 依據本發明的一例示實施例，該傳送包括移動支持在 第一長條材料上的基板，支持在第二長條材料上的轉印感 光膜，或兩者至接收位置。 • 依據本發明的一例示實施例，第一支持元件及第二支 10 持元件配置在一真空室中，而空氣的淨空藉由施加真空至 真空室中而完成。 依據本發明的一例示實施例，熱施加至至少第一支持 元件及第二支持元件之一。 依據本發明的一例示實施例，使用一耐熱結構體施加 15 熱。 須瞭解的是，以上的大體說明及以下詳細說明為例示 ♦ 及說明性的，其用以詳細說明本發明。 圖式簡單說明 第1圖為依據本發明之一第一實施例，製造一液晶顯示 20 器的一裝置的橫戴面圖； 第2A至2D圖為用以說明使用依據本發明之第一實施 例的裝置，以製造一液晶顯示器的方法之橫截面圖； 第3圖為依據本發明之一第二實施例，以製造一液晶顯 示器的一裝置之橫截面圖；以及 9 1309316 第4圖為依據本發明之一第三實施例，以製造一液晶噸 示器的一裝置之橫截面圖。 ’‘ 【貧式】 較佳實施例之詳細說明 5 以下將詳細地說明本發明之顯示在圖式中的例示實施 例，而在其他實施例中，與第一實施例類似的元件以類似 的標號表示，且省略重覆的說明。 用以製造液晶顯示器的一第一實施例將配合第1圖加 以說明。第1圖為依據本發明之一第一實施例，製造一液晶 10顯示器的一裝置之橫截面圖。 參看第1圖，依據本發明的第一實施例之一液晶顯示器 製造裝置1包括一第一支持元件10，一第二支持元件2〇，一 彈性元件30，一驅動部60，一真空室40以及一流體注射元 件50。 15 第一支持元件10支持一基板200,在其表面上有階梯部 份’且備有數個圖樣，而在基板200上備有一轉印感光膜 3〇〇，其藉由一按壓方式接近基板200黏接。第一支持元件 10及第二支持元件2〇朝向彼此按壓，以使得基板200及轉印 感光膜300相互緊密接觸。第一支持元件10可以鋁或其他材 20 料製成，其硬度足以承受施加至其上的壓力，並具有高度 的熱導性。 基板200可為用以製造一液晶顯示面板的一薄膜電晶 體基板或一濾色器基板。基板200包括一絕緣基板210，而 絕緣基板210以可形成一薄且具可撓性的基板的塑膠製 10 1309316 成，但非絕對的。亦即，絕緣基板2i〇亦可以破璃形成。適 合的塑膠材料包括聚破酸酯、聚醯亞胺、聚鱗颯(pES)、聚 丙烯酸納(PAR)、聚乙二酯(PEN)以及聚乙烯對苯二甲酸酯 (PET)。基板200備有擬佈局在其表面上的—薄膜。基板2〇〇 5的表面具有階梯部份，因為數個圖樣藉由數個佈局方法之 步驟而形成在其上，亦即，基板200的表面上具有凸部份（以 標號代表），以及凹部（以標號、代表）。 如第2A圖所示，轉印感光膜3〇〇包括—底層wo，一不 透氧層320,以及大體上自底部向上疊置的一光阻層31〇。 10 一蓋層（未顯示)備置在光阻層310的上部份上，但在感光膜 黏至基板200的表面上之前移開。在底層33〇之底表面上備 置一靜電保護層340。在一基本的LCD製造方法中，一襯墊 層形成在不透氧層320及底層330之間。然而，若使用依據 本發明的第一實施例之製造裝置，則不須要襯墊層。因而 15可藉由使用依據本發明之第一實施例的製造裝置減少LCD 的製造成本。理由如下： 底層330可作為維持轉印感光膜3〇〇之形狀的一骨架， 且可在轉印感光膜300的光阻層310黏至基板2〇〇，並曝光 後’自靜電保護層340上移開。 20 不透氧層320配置在底層330的一上部上，不透氧層32〇 阻止氧氣在光阻層310因曝光而硬化前滲入光阻層31〇中。 不透氧層320可在曝光及蝕刻步驟之後，以與光阻層一 起形成灰燻的方式移開。 光阻層310配置在不透氧層320的一上部份上。光阻層 1309316 310為大體上黏至基板200之表面的一層，且在曝光過程中 硬化。光阻層310在配置於基板200上時為固態，因為它經 過一加熱過程，譬如軟烤過程，以在其施加至基板200上之 前，移除其中的溶劑。 5 底層330的背面上配置靜電保護層340。靜電保護層保 護基板200在轉印感光膜300黏至基板200後，底層330移除 過程中不受靜電干擾。 第二支持元件2〇配置成面對第一支持元件1〇，使得在 製4過程中第一支持元件20及第一支持元件10以人工方式 10相互按屋。第二支持元件20亦可以與第一支持元件10相同 的材料製成，亦即，具有良好導熱性及足夠硬度的銘。 在第二支持元件20的表面上配置一彈性元件3〇。當第 一支持元件10及第二支持元件2〇按壓在一起時，彈性元件 ls 7傳遞第二支持元件_㈣至在第-支持元件10上的轉 P感光膜300。彈性元件3〇為可延伸的，以促使轉印感光膜 • 300緊密地黏至基板2〇〇的階梯上表面，且其以具有彈性的 橡膠材料製成，以在壓力移開後回復至其原來的形狀。彈 生凡件3〇的邊緣固定至一真空室40的-第二容納部份。 2〇中第一支持元件10及第二支持元件20容納在真空室40 a ’真以4()包括以第-支持元件1G容納在其上的一第— 部份4卜以及以第二支持元件20容納在其上的第二容 ^部份42 °當第—容納部份41及第二容納部份42相互接合 之”至40關閉。一至驅動部（未顯示）架設在真空室4〇 卜其移動第—容納部份41及第二容納部份42，使其相 12 1309316 互靠近及離開。 一真空產生元件45架設在真空室40之外，並經由一真 空排氣管47連接至真空室40之内部。當一真空閥46打開 時，真空產生元件45淨化在真空室4〇中的空氣。真空產生 5 元件45可為一真空泵。 在真空室40之外，-驅動部60備置在第一容納部份41 的-下部份上，使得它連接至第-支持元件1〇，穿透第一 容納部份41 ’驅動部60移動第一容蜗部份41及第二容納部 i 份42，使得配置在第一容納部份41上的第一支持元件1〇， 1〇以及配置在第二容納部份42上的第二支持楊2()相互靠 近，以使第-支持X件1G及第二支持元件购向彼此按 麼。亦即’第-支持元件10及第二支持元件2〇重覆地藉由 驅動部60而靠近及分開。驅動部60可架設在對應於第二容 納部份42之上的此位置之一位置，或第_容納部份々〗及第 15 二容納部份42的兩侧上。 在真空至40之外側，架設一流體注射元件刈，其通過 • 鍾注射t53而連脑真”40。備置碰注射元件50， 以朝向轉印感光膜300移動彈性元件3〇，使得轉印感光膜 300完美地黏至基板200的整個上表面。亦即，若流體注射 20元件50注射流體至第二支持元件20及彈性元件30之間，彈 性元件30由於注射的流體而擴張，使得轉印感光膜3〇〇完美 地與基板200的表面緊密接觸，甚至與備有階梯表面的一基 板200上之凹部表面（以標號、代表）接觸。由於容易處 理，可使用空氣作為流體。 13 1309316 以下將配合第2A至2D圖說明依據本發明之第一實施 例的製造裝置1。第2A至2D圖為用以說明本發明之方法的 橫戴面圖。 依據本發明的方法，參看第2Α圖，基板200備置在第一 5支持元件10上，然後轉印感光膜300配置在基板200上。在 此階段，真空室40被打開，亦即，第一容納部份41及第二 容納部份42被分開。因此，十分容易裝載基板2〇〇及轉印感 光膜300至第一容納部份41的第一支持元件1〇上。 參看第2Β圖，移開在基板2〇〇及轉印感光膜300之間的 1〇空氣。在此步驟中，一室驅動部（未顯示)移動第一容納部份 41及第二容納部份42相互靠近，然後相互接合，以關閉並 密封真空室40。然後，在真空室40中的空氣藉由打開為一 真空泵的真空產生元件45之真空閥46，並開始真空泵的工 作而排出。在此步驟中，基板2〇〇及轉印感光膜3〇〇之間的 15空氣，尤其是在基板200的凹部（以標號代表）中的空 氣被移開。藉由此步驟，可減少在基板200及轉印感光膜300 之光阻層310之間產生的氣泡量。因此，在本發明的方法中 不須要一襯墊層，因為在此步驟中，大體上會形成氣泡的 空氣可完全移除。此外，由於不須移除氣泡的加熱過程， 乂塑膠製的絕緣基板210不會變形。因此，可減少製造成 本’以及液晶面板的瑕疲率，並藉由縮短製造時間而增加 產量。 如第2C圖所示’第一支持元件10及第二支持元件2〇按 壓在—起，以移動轉印感光膜300成與基板200緊密接觸。 14 1309316 在此步驟中，連接至第-支持元件10的驅動部份6〇移動第 -支持元件U)，以與第二支持元件2G靠近，如第糊所示。 因此，轉印感光膜300移動成與在第二支持元件紙的彈性 元件30緊密接觸。 5 接下來’參看第犯圖，流體注射元件50的流體閥52被 打開，流體經由流體注射管53注射於第二支持元件及彈性 兀件30之間。在此實施例中，由於易於處理，使用空氣是 較佳的選擇。因此，由於流體壓力而擴張的彈性元件版 彈性，在第二支持元件20上的彈性元件3〇施加壓力至轉印 10感光膜300。因此，轉印感光膜300移動成固定至基板2〇〇的 不平均表面中，最好至基板200的凹部（、、B")的表面上， 使得轉印感光膜300較佳地與基板200的整個表面緊密接 觸。 ” 在此實施例中’第-支持元件1〇及第二支持元件2〇在 15流體注射前相互靠近，但本發明的方法不限於此。流體可 在第一支持元件10及第二支持元件20相互靠近之前注射， 或可在第-支持元件10及第二支持元件2G正在接近時注 射。 當流體壓力藉由流體注射元件50而移除，且真空式4〇 20的真空移除後，備有緊密地黏至基板200的表面之轉印感光 膜300的基板2〇〇被取至真空室之外。 如上所述’依據本發明，黏至基板200的轉印感光膜3〇〇 之一襯墊層非絕對必要的，且在液晶顯示面板的製造過程 中，可省略移除氣泡的加熱過程。因此，可避免以塑膠製 15 1309316 的絕緣基板210變形。進而減少成本，並增加產量。 以下將說明依據本發明之第二實施例的一液晶顯示面 板之一製造裝置。第3圖為依據本發明之第二實施例的製造 裝置之橫截面圖。 5 在依據本發明的第二實施例製造裝置2中，彈性元件32 固定至第二支持元件，尤其是第二支持元件2〇的一側面， 此點與彈性元件3〇固定至真空室4〇的第二容納部份42的第 一實施例不同。因此，作為一流體通路，以注射流體至第 二支持圓20及彈性元件30之間的流體注射管53穿透第二支 10持元件20，並延伸至第二支持元件20上。依據本發明的第 一實施例之製造裝置2具有依據本發明之第一實施例的製 造裝置1相同的優點。 依據本發明之第二實施例的製造裝置2另備有一熱產 生部，譬如，其上施加電位的電阻線12備置在第一支持元 15件10的内側。電阻線12提供至第一支持元件10的熱量較造 成塑膠製的絕緣基板變形的熱量少，以增加轉印感光膜3〇〇 及基板200之間的黏接。可選擇地，一電阻線可備置在第__ 支持元件20的内側，或第一支持元件10及第二支持元件2〇 上。 20 如上所述，依據本發明的製造裝置2的一些元件是不同 的，但使用製造裝置2製造液晶顯示面板的方法與使用依據 本發明的第一實施例之製造裝置1的方法是相同的。因此， 不再重複說明使用依據第二實施例之製造裝置2製造液曰 顯示面板的方法。 16 1309316 以下將配合第4圖說明依據本發明之第三實施例的製 造液晶顯示面板的方法。第4圖為依據本發明之一液晶顯示 面板之製造裝置的橫截面。 參看第4圖，依據本發明的第三實施例之一製造裝置3 5另備有包括滾筒72、74的一滾筒系統70，其用以自真空室 40之外向内移動基板2〇〇及轉印感光膜3〇〇。 下滾筒72連續地移動基板2〇〇，以配置基板200在第一 支持元件10的容納部上。上滾筒74連續地移動轉印感光膜 • 300至配置在第一支持元件丨〇上的基板2〇〇之對應位置，使 10得轉印感光膜300配置在基板200上。數個基板2〇〇藉由一偶 合元件400串連，使得第二支持元件20可連續地移動並配置 在基板200上。此外，數個轉印感光膜3〇〇藉由偶合元件4〇〇 串連，使得其可連續地移動並備置在基板2〇〇上。偶合元件 4〇〇可以合成樹脂製造，如聚對苯二甲酸乙酯（pET)膜，其 十分薄但堅固。當真空室40的第一容納部份41及第二容納 • 部份42接合時，偶合元件400按壓在第一容納部份41及第二 容納部份42之間。由於偶合元件400薄且具可撓性，它不會 不良地影響真空室40。 依據本發明的第三實施例之製造裝置3具有與第一及 第二實施例的製造裝置1 ' 2相同的優點。依據本發明的第 三實施例之製造裝置3具有的額外優點為，轉印感光膜3〇〇 點接至基版2〇〇的步驟可連續地執行。而非分批方式執行。 因此，可增加液晶顯不面板的產量。 如上所述，依據本發明之第三實施例的製造裝置3的一 17 1309316 些元件與依據第一、二實施例之製造裝置1、2不同，但使 用製造裝置3製造液晶顯示面板的方法與使用製造裝置1及 2之方法相同。因此，不再重複說明使用製造裝置3製造液 晶顯不面板的方法。 5 如上所述，本發明備置一種製造液晶顯示面板的製造 及方法，其可降低製造成本，增加產能，並防止以塑膠製 的絕緣基板變形。 雖然僅本發明的三個實施例說明如上，熟悉此技藝人 § 士應可暸解到在不脫離申請專利範圍所界定之範圍下其可 10 作改變。在本文中，''第一〃、"第二〃之詞的使用並不代表 其順序，而係用以相互區別元件。此外，使用 ''一 〃及類 似之詞並不在數量上具有限制的意義，僅係指至少標號之 一的元件之備製。 【圖式簡單說明3 15 第1圖為依據本發明之一第一實施例，製造一液晶顯示 器的一裝置的橫截面圖； • 第2A至2D圖為用以說明使用依據本發明之第一實施 例的裝置，以製造一液晶顯示器的方法之橫截面圖； 第3圖為依據本發明之一第二實施例，以製造一液晶顯 20 示器的一裝置之橫截面圖；以及 第4圖為依據本發明之一第三實施例，以製造一液晶顯 示器的一裝置之橫截面圖。 【主要元件符號說明】 1 液晶顯示器製造裝置 10 第一支持元件 18 1309316 12 電阻線 60 驅動部 20 第二支持元件 70 滾筒系統 30 彈性元件 72 滾筒 40 真空室 74 滾筒 41 第一容納部份 200 反 42 第二容納部份 210 絕緣級 45 真空產生元件 300 轉印感光膜 46 真空閥 310 光阻層 47 真空排氣管 320 不透氧層 50 流體注射元件 330 底層 52 流體閥 340 靜電保護層 53 流體注射管 400 偶合元件 19

Claims (1)

1309316 第95119028號專利申請案申請專利範圍修正本97.10.31 十、申請專利範圍： 1. 一種用以製造一液晶顯示器的裝置，其包括： 一第一支持元件，其用以支持一基板以及配置在基 板上的一轉印感光膜； 5 一第二支持元件，其具有面對第一支持元件的一第 一表面； 一彈性元件，其配置成毗鄰第二支持元件的第一表 面； • 一驅動機構，其用以移動第一支持元件及第二支持 10 元件，以使其相互靠近及離開； 一真空室，其用以容納第一支持元件及第二支持元 件。 2. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中基板包括塑膠製的 一絕緣基板。 15 3.如申請專利範圍第1項的裝置，其另包括一流體注射結 構體，其用以注射流體至第二支持元件及彈性元件之 ® 間，其中彈性元件為真空室或第二支持元件所支持。 4.如申請專利範圍第1項的裝置，其中彈性元件以橡膠製 成。 20 5.如申請專利範圍第3項的裝置，其中流體為空氣。 6. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中真空室包括： 用以容納第一支持元件的一第一容納部份；以及 用以容納第二支持元件的一第二容納部份。 7. 如申請專利範圍第1項的裝置，其另包括一熱產生結構 20 1309316 體，其與至少第一支持元件及第二支持元件之一者聯結。 8. 如申請專利範圍第7項的裝置，其中熱產生結構體以耐 熱元件製成。 9. 如申請專利範圍第1項的裝置，其另包括一轉印機構， 5 其轉印至少轉印感光膜及基板之一至第一支持元件的一 接收位置。 10. 如申請專利範圍第9項的裝置，其中轉印機構包括一滚 筒。 11. 一種製造液晶顯示器的方法，其包括： 10 (a)配置一表面上具有一轉印感光膜之基板至在一 第一支持元件上的一接收位置； (b) 備置一具有面對第一支持元件的一第一表面之 第二支持元件； (c) 移動第一支持元件及第二支持元件朝向彼此靠 15 近，以按壓轉印感光膜至基板上；以及 (d) 淨空在基板及轉印感光膜之間的空氣。 12. 如申請專利範圍第11項的方法，其中第二支持元件另包 括定位成毗鄰第二支持元件的第一表面之一彈性元件， 且在（c)過程中，於第二支持元件及彈性元件之間注射流 20 體。 13. 如申請專利範圍第11項的方法，其中轉印感光膜包括： 一光阻層； 在光阻層上的一防氧滲透層； 在防氧滲透層上的一底層；以及 21 B09316 在底層上的一靜電保護層。 14. 如申請專利範圍第11項的方法，其中（a)包括傳送至少基 板及轉印感光膜之一至第一支持元件的接收位置上。 15. 如申請專利範圍第14項的方法，其中該傳送包括移動支 5 持在第一長條材料上的基板，支持在一第二長條材料上 的轉印感光膜或兩者至接收位置。 16. 如申請專利範圍第11項的方法，其中第一支持元件及第 二支持元件配置在真空室中，且空氣的淨空藉由施加真 • 空至真空室中而完成。 10 17.如申請專利範圍第11項的方法，其中對至少第一支持元 件及第二支持元件之一者加熱。 18.如申請專利範圍第17項的方法，其中使用一耐熱結構體 來加熱。

22 1309316 七、指定代表囷： (一） 本案指定代表圖為：第（1 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 1 液晶顯示器製造裝置 47 真空排氣管 10 第一支持元件 50 流體注射元件 20 第二支持元件 52 流體閥 30 彈性元件 53 流體注射管 40 真空室 60 驅動部 41 第一容納部份 200 基板 42 第二容納部份 210 絕緣基板 45 真空產生元件 300 轉印感光膜 46 真空閥