TWI306272B - - Google Patents

Description

1306272 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於，將玻璃基板等的基板，藉著轉子等 來進行搬送乃至於各種處理之搬送處理裝置。 【先前技術】 從以往，如專利文獻1所揭示般地，已知有爲了提升 •處理效率，沿著基板的搬送線來配置各種處理裝置，讓玻 璃基板等藉著轉子等來進行搬送乃至於各種處理之搬送處 理裝置。 如是，也有著：在沿著基板的搬送線所配置的各種處 理裝置之搬送處理裝置，例如於UV照射裝置（乾式單元， dry unit )的下游側配置洗淨裝置（濕式單元，wet unit ) ，把基板送入到UV照射裝置進行除去附著於表面的有機 物後，用洗淨裝置來洗淨玻璃基板的表面之場合。 # [專利文獻1]日本特開20〇4-281"1號公報 【發明內容】 〔發明欲解決之課題〕 在此，如上述般地，在具有鄰接UV照射裝置與洗淨 裝置之構成的搬送處理裝置，例如因任何的理由，使跨過 u V照射裝置與洗淨裝置的基板停住的場合，產生了於洗 淨處理所產生的洗淨液在基板表面上從洗淨裝置側流向 UV照射裝置側的問題。 -4 - (2) 1306272 在該場合，於U V照射裝置5 0的燈（未圖示）涉及 到顯像液，帶來了發生故障或是功能降低等的影響。 〔爲解決課題之手段〕 爲解決上述課題’本發明係，關於一邊搬送基板一邊 對基板進行各種處理之搬送處理裝置之中，構成有：編排 有供給處理液於該基板面之濕式單元，並以鄰接於濕式單 參元或者是圍繞著濕式單元的方式來設有減壓室；於減壓室 形成基板的搬入口及搬出口，搬入口或搬出口之其中一方 的上緣部爲在不接觸到供給於基板表面的處理液之範圍下 設定的比較低，又在減壓室的底部形成從前述基板落下的 處理液之回收口。 若是由關於本發明之搬送處理裝置，編排有供給處理 液於該基板面之濕式單元，並以鄰接於濕式單元或者是圍 繞著濕式單元的方式來設有減壓室，於減壓室形成基板的 鲁搬入口及搬出口，搬入口或搬出口之其中一方的上緣部爲 在不接觸到供給於基板表面的處理液之範圍下設定的比較 低’又在減壓室的底部形成從前述基板落下的處理液之回 收口之故，當基板通過搬入口或是搬出口之際，外部空氣 引入到減壓室內，藉由此時的氣流讓殘留基板表面的處理 液從基板表面落下。其結果，不會讓殘留的處理液附著於 基板表面一直帶到下一個處理裝置。 作爲前述濕式單元，例如考慮有顯像液的供給單元或 者是洗淨單元。又考慮有例如蝕刻單元、剝離單元。 (3) 1306272 〔發明效果〕 若是由本發明的搬送處理裝置，於相鄰接的裝置間， 可以防止當從一方的處理裝置到另一方的處理裝置時帶入 處理液之故，可以避免例如因帶入處理液使得裝置故障或 是功能下降。又，也可以去除基板上之殘留的處理液，也 是可以圖求有例如處理液的回收率。 從而，可以加上了高度的信賴性，亦實現了處理效率 不低的搬送處理裝置。 【實施方式】 以下，根據添附圖面來說明本發明的實施型態。 圖1係顯示搬送處理裝置之一實施型態的槪略構成圖 (一部份）；圖2係減壓室的重要部位的縱剖面圖。 在搬送處理裝置1 ’如圖1所示，鄰接於作爲濕式單 魯元的顯像裝置10，配置有減壓室20。於這些顯像裝置10 與減壓室20內’透過搬送用轉子2…，來通過玻璃基板W 〇 尙且，也於顯像裝置1 〇及減壓室2 0的前段及後段’ 配置有未圖示的各種處理裝置。 在顯像裝置10，於形成箱狀的盒體’形成有基板的搬 入口 12與搬出口 13，於盒體內配置有顯像液供給噴嘴14 。又，於減壓室20的頂板部，連接有使減壓室20內爲負 壓之排氣導管2 1 ’於前後的側面’形成有基板的搬入口 -6- (4) 1306272 22與搬出口 23。 接著’於本實施型態，特別是，減壓室20的搬出口 23之上下方向的尺寸係，上緣部爲在不接觸於供給於基板 W的表面的液體（顯像液）的範圍下設定的比較低。又， 於減壓室20的底部，設有顯像液的回收口 24。 由此，基板W爲通過搬出口 23之際，如圖2所示， 基板W上面與搬出口 23的上緣之間的間隙變小，且減壓 肇室20內爲負壓之故，所以外部空氣沿著基板W上面且更 順勢進入到減壓室20內；基板W的表面上所盛著的殘留 顯像液係，藉著氣流從基板W的長邊流落下來。 又，流落的顯像液係，藉著設於減壓室20的回收口 24來回收之故，例如也可以提升回收率。 具體而S，基板W表面的洗淨液係在壓力的交界線 (搬出口 23附近）成爲停止的狀態，成爲僅搬送基板w 過去。此時，顯像液係把交界線作爲基準，超越了表面張 馨力之殘留的顯像液流落到基板W外。 尙且，記述有進入到減壓室2 0的空氣係更爲順勢， 若是有與鄰接單元的壓力差的話，也是極少的壓力差，是 沒有問題的。 搬出口 2 3的上緣部係，限於可以在基板w通過時沒 有障礙的程度下形成的比較狹窄，也因基板W的尺寸或 裝置構成、甚至於排氣量等’其高度是有所不同的。更佳 的是，顯像液的表面張力爲之故，3mm以上是較合 (5) 1306272 又，說明僅把搬出口 23之一方的上緣部設定的較低 之場合，從兼顧如上述之基板W的尺寸或是裝置構成， 甚至於排氣量等來看’不僅是一方的上緣部，也可以把兩 方（搬入口 22及搬出口 23 )的上緣部設定的比較低。 於該場合’把一方（搬出口 23)的高度與另一方（搬入口 22 )的高度設成相異之下，也是可以得到與上述同樣的作 用。例如’利用把搬出口 23的上緣部設定的更靠近於基 鲁板W表面的場合，搬入口 22的上緣部係不爲搬出口 23 的上緣部的程度之下來靠近於基板W表面。 圖3係有關於本發明之其他的實施型態之搬送處理裝 置之圖（一部份），在該實施型態，本發明適用於清洗裝 置。尙且’於清洗裝置30的前後，配置有未圖示之各種 裝置。 在清洗裝置3 0，從上游側向下游側，把第1清洗室 31、第2清洗室32、第3清洗室33、以及第4清洗室34 ®沿著搬送線來配置。於第4清洗室3 4供給新液（清洗液 )’在第4清洗室34所使用的清洗液係回到串聯式水箱 (cascade tank) 35的第1室35a，第1室35a的清洗液 爲供給到第3清冼室33。尙且，由第3清洗室33，清洗 液也回到第1室3 5 a。 又’從串聯式水箱3 5的第1室3 5 a溢出到第2室3 5 b 的清洗液係送到第2清洗室，在第2清洗室3 2所使用的 清洗液係回到另—個串聯式水箱3 6，把該串聯式水箱3 6 內的清洗液（最污濁的清洗液）供給到第1清洗室3〗。尙 -8- (6) 1306272 且，從一方的串聯式水箱3 5的第1室3 5 a，一部份的清洗 液也可以流到另外一方的串聯式水箱3 6。 接著，在本實施型態，做有把第2清洗室32內兼具 有減壓室的構造，與上述的實施型態的場合同樣地，把第 2清洗室32的搬出口 32之上下方向尺寸’在不接觸到供 給於基板W的表面的液體（清洗液）的範圍下設定的比 較低。 φ 由此，玻璃基板W爲，從第2清洗室移送到第3清 洗室33之際，玻璃基板W當通過搬出口 37’於玻璃基板 W的表面產生引入到內部的氣流，玻璃基板W表面的清 洗液係藉由氣流刮落，藉著第2清洗室3 2的底部的回收 口 3 8，回到串聯式水箱3 6。由此，最污濁的清洗液不會 帶到第3清洗室33，提升了清洗液的回收率。 圖4係有關於本發明之更進一步之其他的實施型態之 搬送處理裝置之圖（一部份），在該實施型態，本發明適 •用於洗淨裝置。 在本實施型態的搬送處理裝置，沿著基板W的搬送 方向到上游側的UV照射裝置50，洗淨裝置40配置於下 游側。尙且，也於UV照射裝置50及洗淨裝置40的前段 及後段，配置有未圖示的各種處理裝置。 於洗淨裝置40內，配置洗淨液供給噴嘴4 1與洗淨刷 42’洗淨裝置4〇的全體收納於減壓室60內。於該減壓室 60，形成玻璃基板W的搬入口 62與搬出口 61，又把排氣 口 63開口於側面，更可以把回收口 64設於底面。 -9 - (7) 1306272 接著，在本實施型態，與上述的實施型態之搬出口 23 同樣地，把搬入口 62之上下方向的尺寸，在不接觸到供 給於基板W的表面的液體（洗淨液）的範圍下設定的比 較低。 於以上，也例如因任意的理由跨在UV照射裝置50 與洗淨裝置4 0的基板W停止住的場合，經由與上述的實 施型態的場合同樣的作用，可以避免於洗淨處理，生成的 ®洗淨液在基板W表面從洗淨裝置40側流向UV照射裝置 50側。 由此，於UV照射裝置50的燈（未圖示）涉及到顯 像液，產生了發生裝置故障或是功能降低等的問題。 尙且’本發明並不限定於上述的實施型態，在未脫離 本發明的要旨的下範圍下，亦是可以得到其他各式各樣的 構成。 Φ【圖式簡單說明】 〔圖！〕顯示關於本發明之搬送處理裝置之一實施型 態之槪略構成圖（一部份）。 〔圖2〕減壓室的重要部分之縱剖面圖。 〔圖3〕顯示關於本發明之搬送處理裝置之其他的實 施型態之槪略構成圖（一部份）。 〔圖4〕顯示關於本發明之搬送處理裝置之更進一步 之其他的實施型態之槪略構成圖（一部份）。 (8) (8)1306272 【主要元件符號說明】 1 :搬送處理裝置 2 :搬送用轉子 1 0 :顯像裝置 12 :搬入口 1 3 :搬出口 1 4 .顯像液供給噴嘴 2 〇 :減壓室 1 · 卩來j導s 2 2 :搬入口 23 :搬出口 2 4 :顯像液之回收口 30 :清洗裝置 31 :第1清洗室 3 2 :第2清洗室 33 :第3清洗室 34 :第4清洗室 3 5 :串聯式水箱 3 5 a :串聯式水箱的第1室 3 5 b :串聯式水箱的第2室 3 6 :串聯式水箱 37 :搬出口 3 8 ··回收口 40 :洗淨裝置 -11 - 1306272 Ο) 4 1 :洗淨液供給噴嘴 4 2 :洗淨届!| 50 : UV照射裝置 6 0 :減壓室 61 :搬出口

62 :搬入口 6 3 :排氣口 64 :回收口

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Claims (1)

1306272 Π) 十、申請專利範圍 1- 一種搬送處理裝置，係一邊搬送基板一邊對該基 板進行各種處理；其特徵爲·· #有胃處理液供給於該基板面之濕式單元，並以鄰 濕式單元或者是圍繞著前述濕式單元的方式來設 有減壓室； 於述減壓室形成前述基板的搬入口及搬出口，前述 鲁搬入口及搬出口之至少其中一方的上緣部爲在不接觸到供 給於前述基板表面的處理液之範圍下設定的比較低，又在 前述減壓室的底部形成從前述基板落下的處理液之回收口 〇 2. 如申請專利範圍第1項所記載之搬送處理裝置， 其中： 前述濕式單元係爲顯像液的供給單元。 3. 如申請專利範圍第1項所記載之搬送處理裝置， #其中： 前述濕式單元係爲洗淨單元。 -13-