TWI297890B - Optical information recording media and manufacturing method thereof - Google Patents

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TWI297890B
TWI297890B TW092104750A TW92104750A TWI297890B TW I297890 B TWI297890 B TW I297890B TW 092104750 A TW092104750 A TW 092104750A TW 92104750 A TW92104750 A TW 92104750A TW I297890 B TWI297890 B TW I297890B
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layer
information recording
optical information
recording medium
manufacturing
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TW092104750A
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Ishida Toshio
Usami Yoshihisa
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Description

1297890 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) (一） 發明所屬之技術領域 本發明係有關一種光資訊記錄媒體，特別是有關一種藉 由加熱型式予以唯讀型的光資訊記錄媒體。 (二） 先前技術 自古以來，藉由雷射光可僅限一次記錄資訊的光資訊記 錄媒體（光碟），係爲已知。該光碟亦稱爲唯讀型CD (所謂 CD - R )，典型的構造爲在透明圓盤狀基板上順序積層由有 機色素所成的記錄層、由金等金屬所成的光反射層、以及 樹脂製保護層者。對該CD - R之資訊記錄藉由照射近紅外線 之雷射光（通常爲780nm附近波長之雷射光）予以進行，記 錄層之照射部分吸光且該光使溫度局部上升，藉由物理或 化學變化（例如凹槽之生成）以變化該部分的光學特性以記 錄資訊。另外，資訊之讀取（再生）亦是藉由與記錄用雷射 光相同波長的雷射光照射於CD - R上予以進行，檢測記錄 層之光學特性變化的部位（記錄部分）與沒有變化的部位（未 記錄部分）之反射率差予以進行。 近年來，要求記錄密度較高的光資訊記錄媒體。對該企 求而言，提案稱爲唯讀型digital (所謂 DVD-R)之光碟（例如「日經新媒體」別冊「DVD」、1 9 9 5年 發行）。該DVD-R係在爲照射的雷射光痕跡之接受溝（預凹 槽）以CD-R之一半以下（0.74〜0.8 μηι)之狹窄溝寬形成的 1297890 明圓盤狀基板上，通常具有2張順序積層有含有機色素 之記錄層、光反射層、及保護層的光碟、在內側貼合記錄 層之構造、或與該光碟相同形狀之圓盤狀保護基板與使記 錄層在內側貼合的構造。然後，對該DVD - R之資訊記錄及 再生，可藉由可是雷射光（通常爲630nm〜680nm範圍波長 之雷射光）照射予以進行，可以比CD _ r更高密度地記錄。 最近，網際網路等之網路或高視訊TV急速普及。而且，開 始 HDTV(High Definition Television)之放映。在該狀態 下必須有可低價、簡便地記錄影像資訊之大容量記錄媒體 。DVD - R在目前雖具有充分作爲大容量記錄媒體之效果，惟 提高大容量化、高密度化之要求時，必須開始可對應此等 要求的記錄媒體。因此，進行開發可以較DVD · R更短波長 之光進行高密度記錄、較大容量之記錄媒體。 因此，於具有含有機色素之記錄層的光資訊記錄媒體中， 提案藉由自記錄層側朝光反射層側照射波長5 3 0nm以下之 雷射光，進行資訊之記錄及再生的記錄再生方法（例如參 照專利文獻1 - 1 5 )。此等方法係藉由在具備卜啉化合物、 偶氮系色素、金屬偶氮系色素、奎酞酮系色素、三次甲基 喹啉藍系色素、二氰基乙烯基苯基架構色素、香豆素化合 物、萘喹啉藍化合物等之記錄層的光碟上照射藍色（波長 4 3 0nm、488nm)或藍綠色（波長 51nm)之雷射光進行資訊記 錄及再生。 然而，藉由本發明人等之檢討，發現以上述公報記載的 光碟記錄，藉由波長4 5 0 η m以下之短波長雷射光照射以記 1297890 ‘ 錄資訊時，無法得到實際上必要的感度，且無法滿足反射 率或變調等其他記錄特性之水準，故必須更爲改良。特別 是上述公報所記載的光碟，可確認於波長4 5 0nm以下之雷 射光照射時記錄特性降低。 另外，目前於上述公報記載的光碟中，檢討藉由在光反 射層上使用銀（Ag)，以更爲提高反射率。然而，在光反射 層上使用Ag時，會有成本提高的問題，使該光碟量產時 會有很大的問題。此外，因形成條件，由Ag所成的光反 射層對腐蝕而言會有耐性降低的問題。 【專利文獻1】 特開平4 - 74690號公報 【專利文獻2】 特開平7 - 3 0425 6號公報 【專利文獻3】 特開平7 - 30425 7號公報 【專利文獻4】 特開平8 - 1 27 1 74號公報 【專利文獻5】 特開平1卜5 3 7 5 8號公報 【專利文獻6】 特開平1 1 -3 34204號公報 【專利文獻7】 特開平1卜3 3 420 5號公報 【專利文獻8】 -8- 1297890 特開平1 1 - 3 3 4206號公報 【專利文獻9】 特開平1 1 - 3 3 4207號公報 【專利文獻1 0】 特開2000 - 43 423號公報 【專利文獻1 1】 特開2000 - 1 085 1 3號公報 【專利文獻1 2】 特開2000 - 1 1 3 504號公報 【專利文獻1 3】 特開2000 - 1 493 20號公報 【專利文獻1 4】 特開2000 - 1 588 1 8號公報 【專利文獻1 5】 特開2000 - 228028號公報 (三）發明之內容 由上述可知，本發明之目的係提供一種光資訊記錄媒體， 其特徵爲藉由使用由銘或銘合金所成的光反射層以降低成 本且具有優異記錄特性之光資訊記錄媒體。 上述目的可·藉由下述所示本發明予以達成。換言之，本 發明之光資訊記錄媒體，其係於形成有軌距20 0〜400nm， 溝深10〜150nm之凹槽的基板上順序設置光反射層、記錄 層、與表層，藉由自該表層側照射波長5 00nm以下之雷射 光進行記錄及再生的光資訊記錄媒體中，其特徵爲光反射 一 9 一 1297890 層由鋁或鋁合金所成。 而且，.本發明光資訊記錄媒體之光反射層的層厚以20〜 2 0 0nm較佳，光反射層之成膜速度以6〜95nm / s較佳。 (四）實施方式 本發明之光資訊記錄媒體，其係於形成有軌距200〜 400nm，溝深1〇〜I50nm之凹槽的基板上順序設置光反射 層、記錄層、與表層，藉由自該表層側照射波長5〇〇11111以 下之雷射光進行記錄及再生的光資訊記錄媒體中，其特徵 爲光反射層由鋁或鋁合金所成。 於下述中詳細說明本發明光資訊記錄媒體。 <光反射層> 光反射層係以提高資訊再生時之反射率爲目的所設置。 於本發明中，光反射層必須爲由與銀（Ag )或金（An )相比、 較爲低價的鋁或鋁合金所成。由鋁或鋁合金所成的光反射 層以對雷射光而言反射率爲70%以上較佳，更佳者爲75% 以上，最佳者爲80%以上。 光反射層所使用的鋁及鋁合金例如含有作爲工業用鋁所 使用的純度99 · 0%以上之純鋁、及鋁合成爲主成份之微量 異元素的合金，就反射率而言以純鋁較佳。 銘合金所含的微重異兀素係以含有0.1〜10質量％ —^種以 上選自於元素周期表記載者較佳。鋁合金所含的異元素之 典型例爲矽（Si )、鐵（Fe)、銅（CU)、錳（Μη)、鎂（Mg)、鉻（Cl-) 、鋅（Ζ η )、鍩（Z r )、鈦（T i )、釩（V )、鎳（N i )、鉍（B i )、銀 (A g )、金（A u )、白金（P t )等。 1297890 於其中鋁合金所含的異元素例如以不會降低反射率之丄 質量％以下的Si或Mg、及Ag、Au、Pt、Cu等較佳。 上述鋁及鋁合金可藉由蒸鍍、濺鍍或離子電鍍，在基板 上形成光反射層。其中，光反射層以藉由濺鍍形成較佳。 於下述中，詳細說明使用濺鍍之本發明光資訊記錄媒體 的光反射層形成方法。 職鍍所使用的放電用氣體以使用A r較佳。而且，縣鍍 的條件係以A r流量1〜5 0 s c c m、能量〇 · 5〜1 0 k W、成膜時 間0 · 1〜30秒較佳，更佳者爲Ar流量3〜20 seem、能量1 〜7kW、成膜時間0 · 5〜15秒，最佳者爲Αι:流量4〜l〇Sccm 、能量2〜6kW、成膜時間1〜5秒。 而且，濺鍍條件以至少一種A r流量、能量、及成膜時 間爲上述範圍者較佳，更佳者爲2個以上在上述範圍，最 佳者爲全部條件在上述範圍。 藉由在上述濺鍍條件形成光反射層，可提高反射率或另 可提高耐腐蝕性，製得具有優異記錄特性之光資訊記錄媒 體。 光反射層之層厚以20〜200nm較佳、更佳者30〜180nm 、最佳者爲35〜160ηπι。層厚小於20nm時，會有無法得到 企求的反射率或保存時會有反射率降低的問題，以及會產 生記錄振幅不充分的問題。層厚比200nm厚時，面狀粗糙 、反射率降低。 此外，光反射層之成膜速度以6〜95nm/s較佳、更佳者 爲7〜90nm/s、最佳者爲8〜80nm/s。成膜速度小於6nm/s -11- 1297890 時，灘鑛中容易混入氧，因氧化導致反射率降低，光反射 層之耐腐餓性降低。成膜速度大於9 5 nm / s時，溫度上升 大、在基板上產生相反情形。 <基板〉 基板例如玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯 酸樹脂；聚氯化乙烯、氯化乙烯共聚物等之氯化乙烯系樹 脂；環氧樹脂；不定形聚烯烴；聚酯；鋁等之金屬；等，視 其所需亦可倂用。其中，就耐濕性、尺寸安定性及價格等 而言以聚碳酸酯或不定形聚烯烴較佳，更佳者爲聚碳酸酯 〇 基板之厚度以1 · 1± 0 · 3mm之範圍較佳。 基板1 0之表面上形成表示追跡用溝或網址信號等資訊之 凹凸（預凹槽）。該預凹槽於聚碳酸酯等之樹脂材料射出成 型或押出成形時，在直接基板上形成較佳。 而且，預凹槽之形成亦可藉由設置預凹槽層予以進行。 預凹槽之材料可使用至少一種丙烯酸之單酯、二酯、三酯 及四酯之單酯（或寡聚物）與光聚合起始劑之混合物。預凹 槽層之形成例如首先精密製作母型（冲模）上塗覆由上述丙 烯酸酯及聚合起始劑所成的混合液，且在該塗覆液層上載 負基板後，經由基板或母型、藉由照射紫外線使塗覆層硬 化以使基板與塗覆層固熔。然後，藉由使基板自母型剝離 製得。預凹槽層之層厚一般爲〇.〇1〜1〇〇 μα、較佳者爲0,05 〜50μΐΏ 〇 基板爲達成更高記錄密度時，與CD-R與DVD-R相比，以 1297890 使用形成有較狹窄的軌距之預凹槽的基板較佳。於本發明 中，基板之預凹槽的軌距必須爲200〜400nm，較佳者爲250 〜3 5 Onm 〇 而且，預凹槽之溝深必須爲10〜150ηιη，較佳者爲20〜 100nm,更佳者爲30〜80nm。另外，該半値寬度以50〜250 m 較佳，更佳者爲100〜200nm。 此外，以平面性之改善、黏合力之提高爲目的時，以在 設置上述光反射層側之基板表面上形成底塗層較佳。 該底塗層之材料例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸•甲基 丙烯酸共聚物、苯乙烯•馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N -羥甲基丙烯醯胺、苯乙烯•乙烯甲苯共聚物、氯颯化聚乙 烯、硝基纖維素、聚氯化乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚醯 亞胺、醋酸乙烯•氯化乙烯共聚物、乙烯•醋酸乙烯共聚 物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質；矽烷偶合 劑等之表面改質劑；等。 底塗層可藉由使上述材料溶解或分散於溶劑中，調製成 塗覆液後將塗覆液藉由旋轉塗覆、浸漬塗覆、擠壓塗覆法 塗覆於基板表面上予以形成。底塗層之層厚一般爲005 〜20μπι、較佳者爲〇.〇1〜ΙΟμιη。 <記錄層> 記錄層以含有在500nm波長之雷射光可記錄及再生下， 在雷射光波長範圍中具有極大吸收之色素較佳。所使用的 色素例如喹啉藍系色素、噁唑系色素、金屬複合物系色素 、偶氮色素、酞菁色素等。 -13- 1297890 具體例如特開平4- 74690號公報、特開平8 - 127174號公 報、特開’平1 1 - 5 3 7 5 8號公報、特開平1 1 - 3 3 4204號公報、 特開平1 1 - 3 3 420 5號公報、特開平1 1 - 3 3 4206號公報、特 開平11-3 34207號公報、特開2000 - 43 42 3號公報、特開 2000 - 1 085 1 3號公報、特開 2000 - 1 588 1 8號公報等各公報 記載的色素、或三唑、三畊、喹啉藍、份菁、胺基丁二烯 、酞菁、肉桂酸、氧化還原系、偶氮、噁唑苯并噁唑、苯 并三唑、等之色素，以喹啉藍、胺基丁二烯、苯并三唑、 酞菁較佳。 記錄層可使上述色素、與視其所需的鍵結劑溶解於適當 的溶劑中以調製塗覆液，然後使該塗覆液塗覆於上述光反 射層表面上以形成塗膜後，藉由乾燥予以形成。另外，於 塗覆液中使其目的所需可添加抗氧化劑、UV吸收劑、可塑 劑、潤滑劑等各種添加劑。 而且，使色素或鍵結劑溶解處理的方法可使用超音波處 理、均混器處理、分散處理、砂磨機處理、攪拌器攪拌處 理等之方法。 記錄層之塗覆液的溶劑例如醋酸丁酯、溶纖劑乙酸酯等 之酯；甲基乙酮、環己酮、甲基異丁酮等之酮；二氯甲烷 、1，2 -二氯乙烷、氯仿等之氯化烴；二甲基甲醯胺等之醯 胺；環己酮等之烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等之醚；乙 醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、二乙酮醇等之醇；2，2 , 3，3 · 四氟丙醇等之氟系溶劑；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、 丙二醇單甲醚等之醇醚類等。上述溶劑就考慮使用的色素 -14- 1297890 及鍵結劑之溶解性時可單獨使用、亦可以二種以上倂用。 鍵結劑例如明膠、纖維塑衍生物、葡聚糖、松香、橡膠 等天然有機高分子物質；及聚胺基甲酸酯、聚乙烯、聚丙 烯、聚苯乙^、聚異丁 希等之煙系樹脂、聚氯化乙嫌、聚 氯化次乙烯、聚氯化乙烯•聚醋酸乙烯共聚物等之乙燃系 樹脂、聚丙烯酸甲醋、聚甲基丙燃酸甲醋等之丙烯酸樹脂 、聚乙烯醇、氯化聚乙烯、環氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠 衍生物、苯酚•甲醛樹脂等之熱硬性樹脂的初期縮合物等 之合成有機高分子。倂用鍵結劑作爲記錄層之材料時，鍵 結劑之使用量對色素而言以0 · 0 1〜5 0倍量（質量比）較佳、 更佳者爲0 · 1〜5倍量。藉由在記錄層中含有鍵結劑，亦 可改良記錄層之保存安定性。 · 如此調製的塗覆液中色素之濃度，一般爲0 · 〇 1〜1 〇質 量％、較佳者爲0.1〜5質量％。 塗覆方法例如噴霧法、旋轉塗覆法、浸漬法、輥塗覆法 、刮板塗覆法、色將刮刀輥法、篩網印刷法等。記錄層可 以爲單層或數層。記錄層之厚度一般爲20〜500nm，較佳 者爲50〜300nm。 而且，塗覆溫度只要是23〜5 0°C即可，沒有特別的問題， 較佳者爲24〜40 °C、更佳者爲25〜37 °C。 爲提高該記錄層之耐光性時，在記錄層上可含有各種防 退色劑。 防退色劑一般可使用單氧急冷劑。單氧急冷劑可使用已 知的專利說明書等刊行物所記載者。 - 15- 1297890 其具體例如特開昭5 8 - 1 7 5 693號公報、同59 - 8 1 1 94號公 報、同60-18387號公報、同60-19586號公報、同60-19587 號公報、同 6 0 - 3 5 0 5 4號公報、同 6 0 - 3 6 1 9 0號公報、同 60-36191號公報、同60-44554號公報、同60-44555號公 報、同60-44389號公報、同60-44390號公報、同60-54892 號公報、同60 - 47069號公報、同6 3 - 209 9 9 5號公報、特開 平4-25492號公報、特公平1-38680號公報、及同6-26028 號公報等各公報、德國專利3 5 03 99號說明書、以及日本化 學會誌1992年10月號第1141頁等記載者。 上述單氧急冷劑等之防退色劑的含量於記錄層之全部固 成份中通常爲0.1〜50質量％、較佳者爲0.5〜45質量％、 更佳者爲3〜40質量％、最佳者爲5〜25質量％。 爲提高與表層之密接性、與色素之保存性時，在所形成 的記錄層表面上亦可形成阻礙層。阻礙層係爲由Zn、S i、 Ti、Te、Sm、Mo、Ge等一原子以上所成的氧化物、氮化物 、碳化物、硫化物等材料所成之層。而且，阻礙層亦可以 使如Zn0-Si02之混雜化者。阻礙層可藉由濺鍍、蒸鍍離子 分布等予以形成，其厚度以1〜lOOnm較佳。 <表層> 表層係使用黏合劑或黏合劑（經由膠黏層或黏合層）形成 於記錄層側之表面上。 表層對記錄及再生所使用的雷射光而言以透過率80%以 上較佳、更佳者爲90%以上。而且，表層以其表面粗度Ra 爲5 n m以下之樹脂片板較佳，該樹脂片板例如聚碳酸酯（ -16 - 1297890 帝人公司製皮亞耶斯（譯音）、帝人化成公司製棒拉頓（譯音 ))、3醋酸纖維素（富士照片公司製富吉塔克（譯音））、PET ( 東雷公司製魯米拉（譯音）），以聚碳酸酯、3醋酸纖維素更 佳。此外，表層之表面粗度Ra係視樹脂種類、製膜方法 、是否含有塡充物等予以決定。另外，表層之表面粗度Ra 例如藉由WYK0公司製HD2000測定。 表層之厚度係藉由爲記錄及再生所照射的雷射光之波長 或NA予以適當規定，以0.03〜0.15mm較佳，更佳者爲〇.〇5 〜0 . 12mm。而且，表層與膠黏層或黏合層組合的厚度以〇 . 〇9 〜0.11mm較佳，更佳者爲0.09 5〜0.105mm。 所使用的黏合劑以使用UV硬化樹脂、EB硬化樹脂、熱 硬化樹脂等較佳，更佳者使用UV硬化樹脂。 黏合劑例如在積層體之貼合面（記錄層等）上所定量塗覆， 使表層片板貼合後，藉由旋轉塗覆使黏合劑均勻地塗覆於 積層體與表層片板之間予以硬化較佳。 塗覆的黏合劑之量係調整於使最終形成的黏合層之厚度 爲0.1〜ΙΟΟμπι、較佳者爲0.5〜50μιη、更佳者爲10〜3〇)Llm 〇 使用UV硬化樹脂作爲黏合劑時，使該UV硬化樹脂直接 、或溶解於甲基乙酮、醋酸乙酯等適當溶劑中予以調製塗 覆液，自分散器供應給積層體表面。而且，爲防止所製作 的光資訊記錄媒體相反時，構成黏合層之UV硬化樹脂以 硬化收縮率小者較佳。該UV硬化樹脂例如大日本油墨化學 工業（股）公司製「SD- 640」等之UV硬化樹脂。 1297890 此外，爲使此等uv硬化樹脂硬化時所使用的uv照射機 可使用任何一種，以使用脈動型uv照射機較佳。此處，uv 照射條件係以脈動間隔爲m s e C以下較佳，更佳者爲μ s e c 以下。另外，1脈動之照射能量沒有特別的限制，較佳者 爲3kW/ cm2以下、更佳者爲2kw/ cm2以下。而且，照射次 數沒有特別的限制，以2 0次以下較佳，更佳者爲1 〇次以 下。 另外，膠黏劑可使用丙烯酸系、橡膠系、矽氧烷系膠黏 劑，就透明性、耐久性而言以丙烯酸系膠黏劑較佳。該丙 烯酸系膠黏劑係以2 -乙基己基丙烯酸酯、正丁基丙烯酸酯 等爲主成份，且爲提高凝聚力時使短鏈之烷基丙烯酸酯或 甲基丙烯酸酯、例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯 酸甲酯、與膠連劑之交聯的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醯 胺衍生物、馬來酸、羥基乙基丙烯酸酯、環氧丙基丙烯酸 酯等共聚合者較佳。藉由適當調整主成份、短鏈成份、爲 加成交聯點之成份的混合比例、種類，可改變玻璃轉移溫 度（Tg)或交聯密度。 與上述黏合劑倂用的交聯劑例如異氰酸酯系交聯劑。該 異氰酸酯系交聯劑可使用二異氰酸甲苯酯、4,4’-二苯基甲 烷二異氰酸酯、六伸甲基二異氰酸酯、二異氰酸二甲苯酯 、萘-1，5 -二異氰酸酯、〇 -甲苯胺異氰酸酯、異佛爾酮二異 氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等之異氰酸酯、以及此等 異氰酸酯與聚醇之生成物、以及藉由異氰酸酯類之縮合生 成的聚異氰酸酯類。此等異氰酸酯類之市售商品例如日本 _ 1 8 - 1297890 聚胺基甲酸酯公司製克隆尼頓（譯音）L、-隆尼頓20 3 0、克隆尼頓203 1、米里歐尼頓 歐尼頓HTL ;武田藥品公司製之塔肯尼頓< 同尼頓D-110N、塔肯尼頓D-200、塔肯尼 拜耶魯（譯音）公司製迪斯毛吉魯（譯音）L . 、迪斯毛吉魯N、迪斯毛吉魯hl等。 <其他層> 本發明之光資訊記錄媒體中除上述任意 各種中間層。例如在光反射層與記錄層之 高反射率或密接性之中間層。 本發明光資訊記錄媒體之雷射光入射側 所使用表層之表面粗度、基板之表面粗度 成條件、記錄層之種類、製膜條件、黏合 條件、保護層之種類塗覆條件等予以適·當ί: 本發明之光資訊記錄媒體例如下所述進 再生。首先，使光資訊記錄媒體以所定線 秒）、或所定的定角速度回轉，且自表層 射藍紫色雷射光（例如波長405nm)等記錄 射光使記錄層吸收該光，局部溫度上升、 改變其光學特性予以記錄資訊。如上所述 再生係可使光資訊記錄媒體以所定的定線 層側照射藍紫色雷射光，藉由檢測該反射 具有5 00nm以下發振波長之雷射光源 415nm之發振波長的藍紫色半導體雷射 S隆尼頓HL、克 丨（譯音）MR、米里 :譯音）D - 1 0 2、塔 頓D - 2 0 2 ;住友 、迪斯毛吉魯I L 層外，亦可設置 間亦可設置爲提 的表面粗度係視 、光反射層之作 層之種類、塗覆 赵定。 行資訊之記錄、 速度（0.5〜10m/ 側經由對物鏡照 用光。藉由該照 例如生成凹槽以 ，經記錄的資訊 速度回轉且自表 光予以進行。 例如具有3 9 0〜 、中心發振波長 -19 - 1297890 425ηπι之藍紫色SHG雷射等。 而且，爲提高記錄密度時，所使用的對物鏡之NA以0 . 7 以上較佳、更佳者爲0 . 8 5以上。 【實施例】 於下述中藉由實施例更詳細地說明本發明，惟本發明不 受此等所限制。 (實施例1 ) 以厚度1 · 1mm、外徑120mm、內徑15mm在具有螺旋狀凹 槽（溝深40nm、寬度150nm、軌距3 40nm)之射出成形聚碳 酸酯樹脂所成基板之具凹槽面上，在A r氣氛中藉由DC濺 鍍以形成由鋁（A 1 :純度9 9 . 9質量％以上）所成的光反射層 。濺鍍之詳細條件記載於表1。 然後，使 2g下述化學式所示之色素 A添加溶解於 10 0ml2,2,3,3-四氟丙醇中，調製色素塗覆液。使該調製 的色素塗覆液藉由旋轉塗覆法、使回轉數變化於 3 0 0〜 4000 r pm之範圍，在23 °C、5 0%RH之條件下塗覆於光反射 層上。然後，在、50%RH之條件下保存1小時，形成 記錄層（凹槽內部之厚度爲l〇〇nm、凹槽上部之厚度爲70nm) 1297890 【化π
形成記錄層後，在乾淨烤箱中實施退火處理。退火處理 係使基板在垂直的通風球中以調距器調整間隔且支持，在 4 0 °C下保持1小時。 其次，在記錄層上藉由RF濺鍍法形成由ZnS-Si02(ZnS :Si02 = 8 : 2(質量比））所成的阻礙層（厚度5〇nm)，製作積 層體。阻礙層之形成條件如下所述。
能量......4kW 壓力......2χ 1 〇-2hPa 時間......1 0秒 然後，在所形成的阻礙層上使UV硬化黏合劑（大日本油 墨公司製ex8204 )大約環繞一周使固定有噴嘴的積層體成 環狀分散，使聚碳酸酯所成的表層（帝人公司製皮亞耶斯 、外徑1 20mm、內徑1 5mm、厚度85μπι)爲中心予以貼合、 載負，以回轉數5 0 0 0 r pm回轉3秒，全面塗覆黏合劑，且 振離多餘的黏合劑。其次，予以回轉且照射紫外線以使黏 合劑硬化，製作實施例1之光資訊記錄媒體。此時，黏合 層之厚度爲15μιτι，使表層片板與黏合層貼合成ΐ〇〇μΐΏ。而 1297890 且，在黏合層中不會產生氣泡下予以貼合。片與膠黏層組 合爲 1 0 0 |Ll πι。 (光資訊記錄媒體之記錄特性評估） -C / N (搬送波對雜訊比）- 使所得的光資訊記錄媒體使用搭載有4 0 5 n m雷射、N A ·· 0 · 8 5讀取裝置之記錄再生評估機（帕魯斯迪克（譯音）公司 製：DDU1 000 )，在記錄能量5mW、線速5m/s之條件下形成 6 0 0 n m之凹槽，且使用光譜分析器測定c / N。結果如表1 所示。 -未記錄雜訊- 使所得的光資訊記錄媒體使用搭載有40 5nm雷射、ΝΑ : 0 . 8 5讀取裝置之記錄再生評估機（帕魯斯迪克（譯音）公司 製：DDU1 000 )，測定未記錄之RF信號寬度及未記錄反射 率，使RF信號寬度以未記錄反射率除之，求取未記錄雜 訊。結果如表1所示。 -22- 1297890 表1 光反射層材質 厚度 (nm) Ar流量 (seem) 濺鍍能量 (kW) 成膜時間 (秒） 未記錄雜訊 (%) C/N (dB) 實施例1 A1 80 5 2 5 5 52 實施例2 A1 40 5 2 2.5 4 52 實施例3 A1 150 5 2 9 10 51 實施例4 A1 80 5 1 10 21 53 實施例5 A1 80 5 0.5 20 33 51 實施例6 A1 80 2 2 4.4 30 49 實施例7 Al-Ti 60 7 5 1.6 4 51 實施例8 A1 60 7 5 1.6 5 51 實施例9 A1 70 5 2 4.4 8 51 實施例10 A1 70 3 2 4.4 10 50 實施例11 A1 70 20 2 4.4 15 50 實施例12 A1 70 22 2 4.4 20 50 實施例13 A1 40 7 1 5.5 30 50 實施例14 A1 60 7 1.5 5 15 51 實施例15 A1 70 7 2 4.4 7 51 實施例16 A1 70 7 7 1.2 10 50 實施例17 A1 50 7 8 0.8 20 51 實施例18 A1 25 7 5 0.5 10 50 實施例19 A1 20 7 5 0.4 15 50 實施例20 A1 60 7 5 1.6 5 52 實施例21 Al-Ta 60 7 5 1.6 4 52 實施例22 Al-Cr 60 7 5 1.6 5 51 比較例1 Ag 80 5 2 5 60 47 比較例2 Au 80 5 2 5 50 45
-23- 1297890 (實施例2〜5 ) 於實施例1中，除光反射層之形成條件如表1所示外，與 實施例1相同地製作實施例2〜，5之光資訊記錄媒體。 使所得光資訊記錄媒體與實施例1進行相同的實驗，評 估記錄特性。結果倂記於表1。 (實施例6〜1 9 ) 以厚度1 . 1mm、外徑120mm、內徑15mm在具有螺旋狀凹 槽（溝深40nm、寬度150nm、軌距320nm)之射出成形聚碳 酸酯樹脂（帝人公司製聚碳酸酯；商品名棒賴頓（譯音 )AD5 5 0 3)所成基板之具凹槽上，以上述表1所示條件，在 A r氣氛中藉由DC濺鍍以形成由鋁或鋁合金所成的光反射 層。而且，實施例7中鋁合金（Al-Ti)之含有率爲2at%。 然後，使2g下述化學式所示之有機物與100ml乳酸甲 酯混合，進行超音波2小時予以溶解，調製色素塗覆液。 使該調製的色素塗覆液藉由旋轉塗覆法、使回轉數變化至 3 00〜4000 ”111,在23°0、50%別之條件下塗覆於光反射層 上。所形成的記錄層係爲凹槽內部之厚度爲100nm、凹槽 上方之厚度爲70nm。 【化2】
- 24- 1297890 形成記錄層後，在2 3 °C下實施退火處理2小時。 然後，在記錄層上藉由RF濺鍍形成由ZnS-Si〇2(ZnS: Si02 = 8:2(質量比））所成的阻礙層（厚度5〇nm)，製作積層 體。阻礙層之形成條件如下所述。
能量......4kW 壓力......2x 10_2hPa 時間······ 1 〇秒 其次，在所形成的阻礙層上藉由旋轉塗覆以1(3〇〜3()()γριώ 塗覆UV硬化黏合劑（大日本油墨公司製SD-661)，於其上 使聚碳酸酯片板（帝人公司製：皮亞耶斯（譯音）、膜厚80μπι) 重疊，然後，變化至300〜4000 rpm且廣佈黏合劑後，藉 由UV照射燈照射紫外線以使黏合劑硬化，製作實施例6〜 19之光資訊記錄媒體。此時，膠黏層之厚度爲20μπι，以 表層片與膠黏層組合爲1 ΟΟμπι。 (光資訊記錄媒體之記錄特性評估） 使所得光資訊記錄媒體與實施例1進行相同的實驗，評 估記錄特性。結果倂記於表1。 (實施例20〜22) 以厚度1 . 1mm、外徑120mm、內徑15mm在具有螺旋狀凹 槽（溝深40nm、寬度150nm、軌距340nm)之射出成形聚碳 酸酯樹脂（帝人公司製聚碳酸酯；商品名棒賴頓（譯音 )AD5 5 0 3 )所成基板之具凹槽上，以上述表1所示條件，在 A r氣氛中藉由DC濺鍍以形成由鋁或鋁合金所成的光反射 層。而且，實施例21及22中鋁合金（Al-Ta、Al-Cr)之含 1297890 有率皆爲2 a t %。 然後，使2g歐拉羅魯（譯音）藍_GN(ciba精製化學公司 製）與10〇11112,2,3,3-四氟丙醇混合，進行超音波2小時予 以溶解，調製色素塗覆液。使該調製的色素塗覆液藉由旋 轉塗覆法、使回轉數變化至300〜400 Or pm，在23 t、5 0%RH 之條件下塗覆於光反射層上。所形成的記錄層係爲凹槽內 部之厚度爲100nm、凹槽上方之厚度爲70nm。 其次，在記錄層上藉由RF濺鍍法形成由ZnS-Si02(ZnS :Si02 = 8: 2(質量比））所成的阻礙層（厚度50nm)，製作積 層體。阻礙層之形成條件如下所述。
能量••••••々kW 壓力......2χ 1 〇-2hPa 時間......1 0秒 其次，在所形成的阻礙層上藉由旋轉塗覆以1〇〇〜3 〇〇 rpm 塗覆UV硬化黏合劑（大日本油墨公司製SD-661)，於其上 使聚碳酸酯片板（帝人公司製：皮亞耶斯（譯音）、膜厚8 〇 μη)) 重疊，然後，變化至300〜4000rpm且廣佈黏合劑後，藉 由UV照射燈照射紫外線以使黏合劑硬化，製作實施例2〇 〜22之光資gJlgS錄媒體。此時，膠黏層之厚度爲2〇gm，以 表層片與膠黏層組合爲ΙΟΟμίΏ。 (光資訊記錄媒體之記錄特性評估） 使所得的光資訊§5錄媒體與實施例1進行相同的實驗， 評估記錄特性。結果倂記於表1。 (比較例1 ) -26- 1297890 於實施例1中，除使光反射層以銀（Ag)取代與胃 施例1相同地製作比較例1之光資訊記錄媒體。 使所得的光資訊記錄媒體與實施例1進Θ彳目胃@胃p 評估記錄特性。結果倂記於表1。 (比較例2 ) 於貫施例1中，除使光反射層以金（A u )取代纟g外 舶實 施例1相同地製作比較例2之光資訊記錄媒體。 使所得的光資訊記錄媒體與實施例1進行相胃W胃驗 評估記錄特性。結果倂記於表1。 由表1之結果可知，實施例1〜2 2之光資訊記錄媒體，藉 由使用銘或銘合金作爲光反射層，表示記錄特性之c / Ν或 未記錄雜訊評估佳。特別是光反射層之機鍍條件中A r流量 、濺鍍能量、及成膜時間皆控制於所定的較佳範圍內者，可 知未記錄雜訊小於1 0%時、抑制於非常低値，具有優異的 記錄特性。此係因藉由具備本發明之光反射層，藉由雷射 光照射所得的熱能量形成凹槽，可有效使用之故。 另外，比較例1及比較例2之光資訊記錄媒體，與實施 例1〜22之光資訊記錄媒體相比時，可知C/N或未記錄雜 訊之評估不佳。此係因在光反射層上使用比鋁或鋁合金具 較高熱傳導率的Ag及Au,故藉由雷射光照射所得的能量 因其高熱傳導率擴散，而無法形成良好的凹槽。 本發明藉由使用鋁或鋁合金所成的光反射層，可提供一 種降低成本、且具有優異記錄特性之光資訊記錄媒體。 -27-

Claims (1)

  1. wmk )正替換頁 第92104750號「光資訊記錄媒體及其製造方法」專利案 (2007年2月7曰修正） 拾、串爾專利範爵 1 · 一種光資訊記錄媒體之製造方法，其係在形成有 200〜400nm軌距以及10〜150nm溝深的基板上依序設 置一光反射層、一記錄層與一表層，該光資訊記錄媒 體藉由自該表層側照射波長5 0 0 n m以下的雷射光以 進行記錄及播放；
    其中該記錄層係含有色素，並且 該光反射層係含有鋁或鋁合金，並以4〜lQsccm 的A r流量、2〜6 k w的能量與1〜5秒的成膜時間之濺 鍍條件下所形成。 2·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中該光反射層對於雷射光而言，其反射率爲70%以 上。 3 ·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法，
    其中該光反射層係含有Al-Ti、A：l-Ta或者是Al-Ci·。 4 ·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中該光反射層係爲高純度的鋁。 5 ·如申請專利範圍第丨項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中該含有鋁合金的光反射層，其可至少含有~種^ 自於Si、Mg、Ag、Au、Pt與Cu的異金屬成分，其所 含之異金屬成分係爲1質量％以下。 6.如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， ^890 ^890
    其中該光反射層的厚度係爲20〜20〇nm。 7·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中該光反射層的成膜速度係爲6〜95nm/s。 8·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中進一步在設置有光反射層側之基板表面上形成 底塗層。 9·如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方法， 其中該記錄層所含有之色素係爲選自於喹啉藍系色 素、噁唑系色素、金屬複合物系色素、偶氮色素以及 酞菁色素等。 1 0·如申請專利範圍第9項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中該記錄層可進一步含有至少一種選自於抗氧 化劑、UV吸收劑、可塑劑及潤滑劑等。 1 1 ·如申請專利範圍第1 0項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中該記錄層可進一步含有防退色劑。 1 2 .如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中記錄層的表面可進一步形成阻礙層。 1 3 .如申請專利範圍第1項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中該表層對於雷射光而言，其透過率爲80 %以 上。 1 4 .如申請專利範圍第1 3項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中該表層之表面粗度Ra係爲5nm以下。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項光資訊記錄媒體之製造方 法，其中該表層之厚度係爲〇.〇3〜0.15mm 1297890 • ^：·· .'： .、 ' ϊ. !: '.'... '- ν ； ...... ' ......, 16.—種光資訊記錄媒體，其係在形成有200〜400nm軌 距以及1 0〜1 5 0 n m溝深的基板上依序設置一光反射 層、一記錄層與一表層，該光資訊記錄媒體藉由自該 表層側照射波長500nm以下的雷射光以進行記錄及 播放； 其中該記錄層係含有色素，並且 該光反射層係含有鋁或鋁合金，並以4〜lOsccm 的Ar流量、2〜6kw的能量與1〜5秒的成膜時間之濺鍍 條件下所形成。
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