TWI294136B - Plate for a plasma panel with reinforced porous barrier ribs - Google Patents
Plate for a plasma panel with reinforced porous barrier ribs Download PDFInfo
- Publication number
- TWI294136B TWI294136B TW091114255A TW91114255A TWI294136B TW I294136 B TWI294136 B TW I294136B TW 091114255 A TW091114255 A TW 091114255A TW 91114255 A TW91114255 A TW 91114255A TW I294136 B TWI294136 B TW I294136B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- mineral
- substrate
- array
- barrier rib
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
- H01J2211/361—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like characterized by the shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
- H01J2211/366—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like characterized by the material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
1294136
五、發明說明(1) - ----^ 笋t,月係關於電漿影像顯示面板用板體,包括基材, 被覆至-陣列電極,本身被覆高孔 碍肋條 ,EP 1 017 〇83(Th⑽son)即揭示此種板羊體。 巧 傳統上’障碍肋條旨在界定電池,以形成電漿面板内 的放電區。 在多孔性障碍肋條的優點當中,可資一提者有如下: 可以在比孔隙率不超過2 %的濃密習知障碍肋條 更低的溫度製造; 一使電漿面板容易抽氣;在二板體結合在一起後, ,其間留下以障碍肋條為界的放電區,必須把板體間所 氣體抽除,再把放電氣體喷入抽氣後空間内;當障碍肋 濃密時,抽氣步驟需持續,若無數十小時,也要許多小時 ,就經濟觀點t,此點非常致命,使用開放孔隙率的 孔隙性障碍肋條,可大為縮短抽氣時間。 此種板體-般用作電漿面板的後板體;為製造電漿面 板’-般實務是在此種板體的障碍肋條頂面,施以透明 亦^有至少-陣列電極’其定向是與後板體的電極 直父,在後板體的電極和前板體的電極交接處,被障 條壁、後板體和前板體為界之區_,_ ' 的電極間施加適當電位差產生光放電之區域 $ 為製造具有記憶體效果和共平面電極^a°c電漿面 刚板體具有成對共平面電極陣列,被覆介質層; 電極一般亦被覆介質層;電漿面板再 # 9 體的 之系統: 板再匕括供電於適當電極
第5頁 1294136 案號 911142M 五、發明說明(2) 一在所謂定址期 的放電區内,產生電荷 在所謂持續期 月 曰 修正 可在前板體的介質層,於要作 以及 —…;a 可對介質層下方的各對電極門 串職波,只在此等帶電荷,作動連串的“ 設有障碍肋條陣列的板體電極,成成對電極 ,則了般用來作動放電壓,意即對電池定址。 士面 為防止斷電,並保護板體免受放電作用和, f板體:介質|,是由一般含鉛的礦物 :: 成,使其可在50 0- 60〇 t範圍燒烤。 /辰在材枓製 立=此,上述板體之製法包括,在形成電極 肋條材料的胚層澱積之前,澱積基於礦物介質^ 和有機黏合劑的均勻厚度胚層,一嘀 二私末 如此密實化:燒烤步驟。 磨材,以形成障碍肋:層亦有保護電極的功能,同時噴上 然而’此附加步驟渉人 有負面影響。 μ質㈢的應用和燒烤,對經濟 此外,多孔性障碍肋 比習用濃密障碍肋條更胪弱·:、缺:··由於其結構關係, 是寬度低於或等於7〇 ’纟狹障碍肋條情況下,尤其 本啦月之目的,在於提 〇 ,具有強化多孔性障碍肋^供上述類型更間早結構之板體 為此目的,本;:利用更經濟方法製成。 τ勺為電漿影像顯示面板,包括義 第6頁 1294136 曰 五、發明說明(3) 材’被覆至少一陣列雷;1¾,太IΦ 碍肋條陣列,其孔隙率在25 %以〒上?匕!物材料製成的障 在該面板内形成放電區,其特徵為,:括ΐ定電池’以便 =於:電極陣列和該障碍肋條陣列之二孔下層 枓I成,其孔隙率大於2 & %。 係由礦物材 j障碍肋條習用上包括基底側面和 板體的活性表面區域内完全覆蓋電極;辦基底下層在 面區域」意指相當於面板之電池。 板體凹的活性表 已知: 黏著於基$底下層可穩定多孔性障碍肋條,並實質改進其 更易得多孔性下層Γ層特别心濟,因在低溫比非孔性下層 當基材粗度低,而障碍肋士 之黏著於基材更為關㈣;有賴二章碍肋條 及其黏著於基材。上因而改進障碍肋條之穩定性 與具有高比例破璃的澧宓音 肋條亦有機械穩定性和對==條相,,多1性障碍 材-般由玻璃製成,=的問題’·因為此等基 肋條的玻璃狀材料為難;在:m黏於;璃比濃密障碍 ==及此等障碍著=進 而多孔性之基材;所以,太 匕-、疋狹 务月基底下層也有在燒烤之前 1294136 修正 -^^114255^ 五、發明說明(4) =之後,把障碍肋條固定於 =(里胚材,即未燒烤狀態)包括七剌;若形成障碍肋 光罩的除去步ΐ則ΐ有障碍肋條特點,接著是此保護性 當中,最特二 Ϊ二優點特別卓著,因為在此步驟 障碍肋條寬度以小於或等於7有/成弱或失穩之虞。 ’蓋因如此障碍肋條在板體製造中:為佳,尤其是側面 態或燒烤前的胚材狀態;本 2弱,無論是燒烤狀 =條;在具有斜侧面的障碍用;”= 度中間測量。 丨承障况下,見度疋在雨 基底下層厚度在板體的每一 ,即此板體活性表面的每一點:二在10 和40 之間 池底部再由基底下層的表 全放電區;板體的電 電極區或基材區。9 ^ ,不具有板體的洞孔暴露 介質=$電極和該基底下層間最好沒有中介層’尤其是 形成電池底部的基底下層,即使 護電極免受電漿放電的作用和冲蝕;蓋 #油足以保 本發明板體電極開始時引起的放電比例,二;J微’ 體於正常使用時在電漿面板上放電的總數。七明板 板上:實上,ί影像在例如具有本發明板體的後面所嗖面 板j顾不,而在前面具有被覆介質層的成對共平面 列時,大部份放電發生在前板體成對電極' 陣
1294136 案號 911142BR 五、發明說明(5) ’稱為持縯放電;在持續期之間,於二板體的對立電極門 可發生放電,故特別接近本發明板體的電極,此等放電ς 別旨在作動面板的電池;往往稱為位址放電,只構成放電 總數的小比例;覆蓋本發明板體的電極之基底下層,雖然 為多孔性,卻足以保護其不受位址放電的作用和腐蝕;前 面的介質層則一般充分濃密到本身可避免任何破裂之虞, 必要時可確保AC面板習知之記憶體效應。 技 含有適合反光的成份;以使用 ,使朝電池底部發射的輻射不 的電漿面板之發光效率即告提 按照變化例,基底下層 氧化鈦於此目的為佳。 有賴如此所得反光效果 致喪失,而包括本發明板體 高0
Fn μ 保護電極(詳後)、…,即在面板製造, 經濟觀點言,使用進發光效率;京 舉可免介置特殊介質層和特殊反光層。^因為出 障碍肋條亦可含有反光成份,以 欲得多孔性障碍肋條,其 進表先效率。 物填料和礦物黏合劑章二欠a的礦物材料宜包括轉 劑重量比例在下以肋條的礦物材料内之礦物黏告
右基底下層的礦物^^ ^ J 礦物黏合劑,則基底下居的2 /物填料和視需要而定之 比例,以i勒下為佳斗内之礦物黏合劑重量 :尤其是如果電極為銀絮二又传夕孔性下層之較佳方式 1 ’而下層W或障碍肋條具有反 1294136
哿移動入:便改進奄光效率’此低礦物黏合劑含量可防止 尤和進入障碍肋條,並防止礦物材料變色, 尤其頁,以免使反光性能劣化。 5, ^ ^另一 ^化例,基底下層材料與障碍肋條的材料一 致。此舉可簡化板體的製造。 i 一 本發明靶圍情況下’板體可包括若干基底下層, :、料和障碍肋條相同,另外則含有適合反光的成 份0 本發明板體宜含有磷層,至少部份覆蓋於障碍肋 面和該下層。 此層磷的性質一般視障碍肋條為界的電池行或列而異 ;因此澱積於電池壁上的磷具有把放電的紫外線輻射轉^ 為習用於顯示影像的三種主色之一的可見輻射;一般而言 ,具有不同主色的相鄰電池即形成圖像元素或圖素。Q 此等磷最好直接澱積在多孔性下層和多孔性障碍肋條 上’已知此孔隙率有益於磷的黏著;則不必有黏性介置” 層0 在把障碍肋條的基底結合於基底下層之表面上任一點 ’曲率半徑最好大於或等於10/zm ;已知如此曲率半徑更 有利於障碍肋條之穩定,以及磷澱積之均勻性。 障碍肋條本身最好被覆頂層;如EP 722, 1 7 9、EP 893, 81 3和US 5, 90 9, 0 83所述,在障碍肋條頂部的頂層例 如旨在: 一當障碍肋條由喷沙形成(詳後)時,形成保護性光
五、發明說明(7) 罩’·和/或 高度之;::黑色矩陣和/或形成-|,以補正障碍肋條 ^ = ‘的亦在“型並具有記憶體效果之電漿$ ϋ Ig 不面板,包括本發 木 < 兔水&像顯 該障碍助體效果的放電’在板想之間提: 徵為本及本發明電聚面板板想之製法,其特 在基材上形成至少一陣列的電極; 在該陣列電極和基材上 叠主層胚材,下声和主声一 .^至夕基底下層胚材和重 劑的粉末混拌物一者均基於擴物材料和有機黏合 喷以磨料: =便除去部份該主層胚材,俾形成該陣列之障碍 肋條胚材,該障碍肋條包括基底、頂部和侧:, 以及 以便避免(即使不能限制)除去該基底下層胚材, 故在整個塗膜上無一洞孔; 在適於除去有機黏合劑的條件下燒烤,並將障碍 條和該基底下層的礦物材料凝固; 該基底下層胚材的、组成份和厚度,適於使下層的磨耗 率在該喷磨材料條件下’比主層的磨耗率為低。 基部下層和主層澱積在初始板體或基材,具有陣列電 1294136
一案號 91114255 五、發明說明(8) 極,使各在板體活性表面上具有 比主層 使用同 及放電 等電池 之電極 全受到 以,基 條胚材 由燒烤 定之礦 填料粒 在此粉 適於使 礦物填 按照本發明,下層磨耗率在二麻=的厚度 磨耗率為小,即在噴料之際 二磨耗條件下 樣磨料,以形成障碍肋條。、门樣刼作條件下 以 此 德;二在藉喷磨料形成障碍肋條的步驟後, 的底部即利用基底下層的表面形盔,池, ΐί:區μ基底下層會部份被磨料所::路:ϊί 文刀用馬,在噴磨料形成 下層電極;而在燒烤後,電池底部仍缺 基底下層表面形成。 …、 基底下層礦物材料包括礦物填料,和視 物黏合劑;此下層的礦物材料粉末,尤其是該礦物 徑,適當時’該礦物黏合劑之性質,以及此黏合劑 末中之比例,此粉末成份之混拌方法和燒烤條件, 燒烤後所得基底下層之體積密度低於或等於此下声 料理論密度之75 %。 s
因此,礦物黏合劑在基底下層的礦物材料内所佔比例 ,以低於1 3 %為佳;此比例在此情況下甚至可為零。 有賴此下層,即具有孔隙率大於25 %,而如^電極陣 列是藉澱積包括導電性材料和有機黏合劑之胚材層所形成 ,則在製程結束時,在基底下層胚材和障碍肋條胚材燒烤 之同時,甚至更容易燒烤此陣列電極,因為此基底下層和
1294136 —S^_9H14255 五、發明說明⑼^ ----^iL日 攸:__ 障碍肋條的孔隙率 — 、 合劑之分解生成物。于更容易除去包含電極層的有機黏 在基底下層和主層, 務是對此塗膜施加聚合以剪:則毛操作之前,-般實 於待形成障碍肋條陣列 ^^保言蒦性光罩,具有相當 當於障碍肋條頂部的主声又此光罩之目的在於保護相 作之後,但在燒烤之前θ域不党磨耗’·因此,在磨耗操 ,-般是藉“:::溶:要把時;;, ,二 ==合於基底下層…上… 曰磨耗率和障碍肋條主層磨耗率間之差異命' ,基底 一如於板體上障碍肋條陣列之習知 ς =小。 易除去的有機黏合劑,可為基底下層和主層埋燒烤時容 層和主層使用在溶劑媒質内之液體施:時,可=此基 劑内:溶性黏合劑’以便容易除去,而無任二:選用溶 沙之别施加光罩,而且此光罩藉噴麗鹼性水溶丄在噴 宜選用抗水性有機黏合劑,宜選自包括纖維=除去時, 酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、松香樹脂,和基於=脂、丙烯 醇之樹脂;基底下層有機黏合劑以基於聚乙烯=聯聚乙烯 尤其疋當基底下層的有機黏合劑與主層之=為佳。 為同族時,基底下層内的有機黏合劑比例機勒合劑 機黏合劑比例為大。 1且比主層内的有 基底下層的有機黏合劑玻璃化溫度,宜比主 黏合劑玻璃化溫度低,尤其是低於或等於6 〇 t。層的有機 第13頁 1294136 月 曰 羞正 案號 91114255^ 五、發明說明(10) 本發明製法最好不包含在形成電極 層’尤其是介質中介層,和澱積基底下層積中介 中介層,則本發明製法即可比前案法义:介質 本發明製法最好在形成至少一陣 為經濟。 次燒烤加熱處理。 逼極後’只包含一 右利用包括例如銀、鋁或銅的導電性 劑之胚材層殿積形成電極陣列,則本發=有^合 最f燒烤,而在澱積電極胚材層 ‘:;;3單一 間燒烤;有賴下層的孔隙率,來自雷:J底下層間不需中 層之幾4:璃;=過之;”加以損壞;此ΐ 寄生擴散現象,·彡障碍肋條 極材料之 列燒烤為宜。 、 以不必再將電極陣 本發明製法在板體溫度超 佳。 、48U e蚪,不含有步驟為 礦物障碍肋條材料包括礦物童 劑;此礦物材料,尤其是礦物料和礦物黏合 礦物黏合劑性質,以及黏合劑在料之粉末粒徑、 條之體積密度,低於該礦物填碍肋 面板之抽氣。 條有利於方便和縮短電漿 75心體”度,於其礦物填料材料之理論密度 '^肋條’意即孔隙率大於_之障碍肋條,此等 第14頁 1294136 銮號 91114255 θ 五、發明說明(11) 障碍肋條宜使用礦物黏合劑的重量比例低於〗3 %之材料; 礦物黏合劑一般使用熔點低的玻璃或玻璃料;在此等礦物 黏合劑低比例之情況下,礦物黏合劑宜包括體氧 水解觸石夕酸塩,可改進多孔性障碍肋 製法宜包括在覆蓋電極陣列的下層胚材上,以及障碍 之基底和侧面上,澱積磷質胚材層和有機黏合劑層; b驟本身為前案技藝已知者;有賴本發明,4層胚材以 1樣方式潤濕障碍肋條壁和電池底部,因其包含一致的材 7 ,因此,可得更均勻的分佈和更佳之磷勻化性;燒烤後 溆:得磷對障碍肋條壁和電池底部的更佳, 黏性中介層。 本發明由如下參照附圖所示非限制性實施例之說明, p可更加清楚明白,附圖中: 板 第1圖表示本發明具有下層的板體一具體例之電漿面 第2^圖表不_本發明具有下層的板體另一具體例。 號 為簡化圖示起見,具有同樣功能的元件使用一致符 他罐ΪΪΪ:用板體1〇開始,一般是由鈉鈣玻璃製成;其 他絕緣材料亦可用於板體,惟要禁得起燒烤溫度。 加電^用二了列習知方法之-,按已知方式對此板體施 式於道:Ϊ ί網印糊劑,以形成電極胚材陣列,此糊劑係 土於¥電性材料和有機黏合劑之粉末,接著把電極胚材燒
H 第15頁 1294136 一修正 曰 _#號 91114255 五、發明說明(12) 烤,適於除去有機黏合劑,必 而得電極之最適導電係數; 柃,把導電性粉末燒結, 一在糊劑内使用光敏性人 接著實施光蝕法並顯像, 二二诏,施加均勻糊劑層, 同樣條件下燒烤; 獲侍電極胚材陣列,·再在上述 —真空殿積至少一均句 屬或合金,澱積均質光敏性有^厗電性材料,一般為金 後可耐剝脫,以光蝕法將層敏.θ二具有保護性且光敏化 性,把未敏化部份剝脫,以_^使其在電極具有保護 性材料製之電極陣列,並除去剩:::層區’得導電 不含燒烤。 餘的先敏層;所以,此法 2,進行障碍肋條之形成步驟。 戶早5守肋條材料的粉末,一 物黏合劑;障碍肋條燒烤所達^括f物填料和玻璃質礦 的玻璃化溫度,故在有機黏合;;;去:般==等於玻璃 剤,而得充分凝固;欲得高孔了作動礦物黏合 是孔隙率高於25 %時,此破墙在^ =肋條材料,尤其 量含量,以高於或等於2%為佳在=氏肋於條或材料粉末〇内之重 含量愈高,障碍肋條愈狹。 荨於10%,此 基底下層材料粉末亦包括礦物 — 玻璃質礦物黏合劑。 、、’和視而要而定之 障碍肋條材料之礦物填料,選 定之礦物質,具有高度吸收性;度祀圍内穩 鋁、氧化錯、氧化銥、氧化 直: 、自包括軋化 及其此合物;尤其是氧化 第16頁 1294136 月 J务正 曰 遠蕊〜RU14255 五、發明說明(13) 铭’因其係兩拇伞、古 欽則視所需介有面度吸附性能;氧化錯或氧化 堇青石或沸i 礦物填料亦包括富銘紅柱石、 之間;_^好疋4礦物填料有8G%的尺寸在和 U,麂烤後,粒徑一般不變。 按照===可與障碍肋!材料-致或不同; 用的礦物填料以外成才料填料含有曰在供障碍肋條主層 形成t光白色背景,氧化鈦可用作其他成份。 底 均粒Ϊ物黏合劑的平均粒徑最好低於或等於礦物填料之平 按:本發明,欲得具有高孔隙率,尤其是2 重量含量,最好ίιΐί 之隨意礦物黏合劑 含好在13%以下;基底下層材料的粉末可以不 π狀i i丄必要時,礦物填料與礦物黏合劑混拌,而得障 料粉末或基底下層材料粉末;因為心末= =礦物成伤比例極為不同,其混拌方法 物黏合劑在礦物填料粒周圍分散到最•,並 ㈣肋條實質凝固;則公升粉末之典型=步法驟,中 末放二大約4公升容器” ’使用直徑155咖的刀 具,以70 0 〇rpm轉速乾拌約4分鐘。 有機黏合劑宜選自包括纖維素樹月旨、 基m、松香樹脂,和基於交聯聚乙婦醇匕旨甲 基底下層的組成份宜經設計,使基底下層的磨耗率在
第17頁 1294136 案號 五、發明說明(14) 同樣贺料條件 喷磨料的預定 劑比例降低和 藉進行例 方,在噴磨料 件」不但指磨 和結構。 為此設計 主層胚材使用 特殊之磨敏性 一種有益 黏合劑為下層 91114255
下’明顯低於主層磨 條件下之磨耗率,一 /或此黏合劑的固有 行测試,凡精於此道 的預定條件下擁有不 料使用時的條件,也 基底下層胚材之組成 遠較基底下層對磨耗 黏合劑最好使用松香 溶液包含使用基於UV 耗率;胚材層或下層在 般隨此層内的有機黏合 彈性增加而遞減。 之士均可開發胚材層配 同的磨料率;「噴料條 指此材料的性質、組織 物,可例如為障碍肋條 更敏感之有機黏合劑; 〇 交聯性聚乙烯醇之有機 聚乙烯醇用作下層之有機黏合劑時,若基底下層之有 機黏B劑含I由5 %升到1 〇 %,則磨耗測試顯示磨耗率降 低50 % 〇
為此設計基底下層胚材之組成份,此下層所用有機黏 合劑之破璃轉化溫度宜比主層的黏合劑為低;因此,宜使 用玻璃轉化溫度低於或等於6 0 °C之有機黏合劑;例如,使 用玻璃轉化溫度57 °C的丙烯酸或甲基丙烯酸樹脂4 %重量 有機黏合劑,可得高度耐磨性基底下層。 為此設計基底下層胚材之組成份,對主層和基底下層 使用同樣有機黏合劑,基底下層例如可混配有機黏合劑, 含量比主層高2. 5至8倍;例如採用玻璃轉化溫度在156 °C 左右的黏合劑級N 4乙基纖維素,比例(黏合劑重量/礦物
第18頁 1294136 曰 羞正 案號 91114255 五、發明說明(15) 粉末重量)在主層内為2-4 %,相對於 %。 、基底下層内為10-15 使用主層和基底下層用的同 肋條主層的磨耗性可藉用較高分子旦* B劑族’則障碍 ,最好使用在基底下層内之分子:::合劑提高;因此 級。 里奴在主層内為低之等 在喷磨料的條件下,為接古盆 並賦予此下層有更好的耐磨性合劑彈性, ;添!::塑:,該可塑劑調節配合該黏合劑 ;維;成;=應重用以f之虞w 基丁基駄酸i 里(疋相對於礦物粉末重量)的〒 若有機黏合劑使用聚乙烯醇, 合劑添加5 %可塑劑睥,虛:玄/磨耗,貝“式顯不,在黏 須維持限制,业f率降低25%,可塑劑含量必 下声%以下,製成障碍肋條基底之此 層烤後機械強度才不到被相抵。 黏合劑i二同二:/交聯狀態測得,基底下層内此 九/皿又降低所為之任何其他手段亦可用。 式,與复右=辱肋條材料或下層材料之粉末,即以已知方 二 >、有機黏合劑混拌。 材帶之12條層胚材即可利用液體製程’或此預形成層胚 722, 1 7 W紅士而直接殺積在具有電極陣列之板體上,如EP w 9 (杜邦)所載。 特別弄細說明液體澱積如下;液體澱積製成可例 第19頁 1294136 修正 月 曰 _#—號 911142E 五、發明說明(16) 如使用網印、隙塗或簾塗。 在版積操作之前,作如下預備·· 粗机1士應用於主層之液體組成份或糊劑,是將障碍肋條材 枓私末分散於有機黏合劑溶液内; 你^ t應用於基底下層之液體組成份或糊劑,是將障碍肋 條材料粉末分散於有機黏合劑溶液内。 為了對板體在含電極之側面施加全面障碍肋條 ’進行下述程序: 竹 一以已知方式施加基底下層應用組成份之下層,以 便在乾燥後可得一般在〗〇和4 〇 # m間之厚度; 一所得基底下層經乾燥,以便將溶劑蒸發; 一其次,以已知方式施加主層應用組成份之至少一 層,以便在乾燥後可得厚度視所需障碍肋條高 層;和 〜〜土 一將所得主層乾燥,以便將溶劑蒸發。 即得具有電極陣列,被覆基底下層禾;障碍肋條層胚 ’而總體厚度均勻之板體。 以下步驟係關於障碍肋條之形成。 通常使用固體粉末或「沙」為磨料,諸如玻璃粒、金 屬丸或碳酸鈣粉;此操作稱為噴沙;亦可使用液體為磨、 料0 所以,尋求在如此提供板體的主層胚材内形成障碍肋 條胚材,其程序為只在障碍肋條間利用磨耗除去胚材層, 相對地,在障碍肋條處保護此層免受磨耗。 曰
第20頁 1294136 曰 」多正 案號 911142E 五、發明說明(17) 為此,第一種習用方法包含: 一對障碍肋條層胚鉍,#、π a 光罩,具有相當於待形成^ J二=5物材料製之保護性 取丨早鈿肋條陣列之圖索· 一喷磨料,在光罩之圖案 =, 圖案形成障碍肋條胚材;以及一 ”胚材層,並在此等 一除去光罩。 光罩可例如直接網印製成,但 的界定;此光罩亦可利用光孰化光2點是提供有限
;:製成’例如按照下列步驟··全面塗佈= 曝光和顯像(一般使用碳酸鈉溶液)。 透過先罩的UV 光罩的聚合物材料宜基於交聯聚乙 枓的優點是可在熱水裡顯像,因而耗 A),此材 (由其是耐磨性)之溶液’而在磨耗操作二^屬疋素 燒或熱解除去;此除本古、么^ 、 可各易利用燃 俨二 法較之習用剝脫操作,可防止陸 :’尤其是在噴沙於障碍肋條時產生難以淋=== 材料之3 7口力1;頁9 ί内所述另一方法’包含對障碍肋條 主層鉍加頂層,不但充填障碍肋條材料,而且含 有充为大比例的光熟化性有機黏合劑, 因此,在頂層本身内,光罩是由光蝕法製】”喷磨枓’ 179,此法優點是在隸操作後,不必^’去m 第21頁 1294136 修正 曰 案5虎91】14255 五、發明說明(18) 後在燒烤操作之際除去,利用礦物質的 肋條之頂部:,燒烤後,此頂層剩餘部份即形成障碍 頂層的光热化性有機黏合劑宜基於交聯聚乙稀醇;此 材料的優點是特具耐磨性;以典型的(ρνΑ +可塑劑)含 2Γ:广典型加上可塑劑/樹脂含量1對2,可得很高的 耐磨性。 可應用於本發明的其他變化例,係關於使用頂層, 在形成障碍肋條之頂部·· —如ΕΡ 722 1 79和ΕΡ 893 813號所述,可在此頂層 =j物叙末内引進黑色顏料,諸如鈷和鐵氧化物,故在燒 2翻障碍肋條頂部形成黑色㈣,旨在改進電漿面板的 影像顯示對比;和 —如EP 8 93 813號所述,礦物黏合劑在此頂層内之 j,可遠較主層為低,或甚至為零,故當一板體結合於另 反,以形成電漿面板時,障碍肋條頂部會稍微被壓縮, 員壓縮曰在補正障碍肋條高度之不規則,並改進沿 條與其他板體接合處之密封。 、 電將故所得板體具有電極陣列和障碍肋條胚材陣列,界定 池水面板的未來放電區或電池,其中電池底部以及跨越電 菸f部的電極以基底下層覆蓋,可抵抗喷磨料,故按照本 ^ 用來保護電極,在無介質層存在下,免受噴磨料的 具有利用基底下層支持的障碍肋條胚材陣列之板體, 第22頁 1294136 修正 案號 91114255 五、發明說明(19) 即備妥在電池底部,於障碍肋條側面和基底下層澱積磷層 f材之操作;料澱積操作’宜用直接網印的習知技術, 進行如下步驟: 帛備液體糊剤’基本上包括要施加之磷、有機黏 ^劑,以及不溶解障碍肋條胚材黏合劑及其下層胚材黏合 劑之至少一種溶劑或懸浮液; —對板體施用此糊劑’透過具有通孔面向覆有此碟 的區域之網印用網;以及 一把溶劑蒸發。 對所要施加的各種磷重複此等操作,即可得具有電極 陣列和被覆磷的障碍肋條陣列之板體。 八 為澱積磷,亦可使用光蝕法技術,可得更 如利用噴灑與全面塗佈組人, 1 例 德只處a ·扯 口以限制施加於障碍肋條側之 ί = 而,此技術涉及實質上刮除含磷材料,以 利用噴墨、、不用注射器,或微劑量等。克仃方了用,例如 全總成包括下層胚材、障碍肋條胚 ,再在適於從各種胚材層除去有機黏合劑的内 以f碍肋條及其基底下層而t,可將礦物燒= 化合物-般在38 0 t以下除去,㈣在第 口,有機 =斬提升到此溫度所達#,以便除去此等有機化:處物理中 無損胚材層之結構;在第二熱處理步驟中,;1;:,而 2少接近加在障碍肋條内,和視需要溫 的礦物黏合劑之軟化點。 、暴底下層内 1294136 修正 案號9Π14255__年月一日 五、發明說明(20) 、,燒烤加熱處理的第二步驟條件,經調節使障碍肋條材 料充分凝固,而對基底下層和障碍肋條二者仍具有高度孔 隙率;已知在此等條件下進行的燒烤幾乎不造成收縮二 已知製造本發明板體之加熱處理次數大為減少,因 =製成電極陣列後,甚至只用一次加熱處理,即可製成板 由於本發明板體不含特殊介質層,介置於電極和基底 下層之間,關於此介質層的加熱處理即可不用。 使用在480 °C以下分解的習知有機黏合劑,以及軟化 ;=足夠讓障碍肋條在48〇t或以下之溫度凝固㈣ :::卜不必超過480 即可製造整個板體,因而以習知 板ΐΪΞ板f而ΐ,在製造當中’即使不能消除亦可減少 特幻:心f壬何危機,想像得到板體的任何變开》,會造成 =體和前板體(視結構情形)各種組件間“si ,以及電漿面板故障等問題。 』个对片 所以可得如第1圖所示或箆 么 體;此板體具有至少-陣歹另一變化例之本發明板 性障碍胚材"陣列,界定“=,和礦物材料製的多孔 電池底部,電極u被礦物區用之電池,其中在 蓋;在第i圖中,障碍肋條多孔性基底下層18所覆 第2圖内,磷未示。 条側面和電池底部覆蓋磷41 ;在 第2圖内具體例與第1圖 不垂直於板體平面,而在支二,其中障碍肋條具斜侧, 層在障碍肋條形成步驟中因复^早碍肋條的區域外,基底下 u具部份和不規則磨耗,造成圓
第24頁 1294136 Λ 修正 曰 案號 91114255 五、發明說明(21) 滑表面。 已知本發明基底下層1 8可大為改進障碍肋條對基材的 黏著性。 本發明板體可用於設有界定電池或成群電池的障碍肋 條之各種電漿面板。 一參見第1圖,此種AC型並具有記憶體效果的電漿影像 顯示面板,包括本發明第一板體,設有障碍肋條17,利用 下層18支持,已如上述;以及第二板體3〇,具有共平面電 極33,設在以障碍肋條1 7為界的放電區4〇之間;第一板體 之電極11,用來定址放電,完全被本發明下層18覆蓋,至 ν在面板的活性部份;第二板體3 〇的共平面電極3 3,利用 δ己k體效果供持續放電,覆以介質層32和質保護層 31 ° 以下實施例更具體說明本發明,係關於電漿面板後板 體之製造。 實施例1 S按照本發明,在鈉鈣玻璃所製成尺寸為254mmx 162_ 丄厚度3mm具有鋁導體所形成電極陣列的板體上,澱積界 疋放電區尺寸為1 7 2mm X 1 0 0匪的障碍肋條陣列,分佈於板 體全面,間距為3 6 〇 # m。 L製備基尾二^層糊劑:適於獲得基底下層乾胚材,含 (10·/ % + 3· 3 %)重量的(有機黏合劑+有機可塑劑),並適 於獲得孔隙率在2 5 %以上之燒烤過基底下層: —製備有機黏合劑溶液,利用1 3克^級乙基纖維素
1294136 案號 91114255 修正— 曰 五、發明說明(22) 溶入8 3克萜品醇内,再加4斿亨甘 形式編號為SANTICIZER 160卞基丁基酞酸醋,以生成物 一乾燥預拌礦物障碍肋彳欠^、 速混合器内混拌: 肋條材料粉末:下列成份在高 庵Φ、古Γ ί物真料· 9 8克氧化銘;〇. 3和3 # m個粒之双 峰粉末,壓實密度2. 60g/cm3 ; .個抑其合劑:2克石夕酸錯,含15%重量氧化石夕 ίι上和間;軟化點38(TC ; 把1 00克礦^物障狀>/;欠I» ^ ^ . 1,1 ^ ^ ^ 平恃肋條材料分散於95克的上述有 機黏合劑溶液内;以及 mPfl 散液通過三輥磨機’以獲得黏度在37 000 S右的为散液’而在此分散液中凝聚物低於 i // m 〇 胚材’供障碍肋條之用,適於獲得主層乾 上之^日^里有機黏合劑,適於獲得孔隙率在2 5 %以 上之卩早5守肋條; ,製備:ϊϋ4級乙基纖維素樹脂,溶入92克萜品醇内 裝備有機黏合劑溶液; 障碍肋体^ f同樣條件下’以同樣成份,乾燥預拌礦物 丨¥ _肋條材料粉末; ϋ斑人tf 〇〇克礦物障碍肋條材料分散於38· 62克上述有 機黏合劑溶液内;以及 < 月 nlPa /二刀散液通過三輥磨機,以獲得黏度在80 0 0 0 的刀散液,而在此分散液内,凝聚物尺寸在7
第26頁 1294136 i 號 911142W 五、發明說明(23) // m以下。 3 ·澱積基底下層 使用聚酯布,每 然後將所得下層 以基底下層糊劑進行單次網印通過 公分有48支紗,在其面上具有電極陣列 在1 2 0 C乾燥1 2分鐘,以便將溶劑蒸發c 得基底下層胚材,乾厚度在左右。 L·澱積障碍肋1主層 有48”進行四次網印通過,使用聚醋布,每公分 :穴有二同樣糊劑進行—次網印通過…聚醋布 母a刀有9 0支紗,網印在乾燥其 著在120。。乾燥12分鐘。基底下層,每次通過後接 得乾厚度在llOem左右的主層胚材。 5 ·應用保護性弁罩 IMP If度40 _的光敏性乾膜,在溫度110°C /壓力 10 Pa條件下,積層於障碍肋條件主層胚材; 昭射籍用厚度7〇/ΖΙΠ的黑線形成之光罩,以l〇〇mJ/cm2 照射積層膜;和 壓六1 R HZ 〇· 2 %重ϊΝ&2(:〇3的水溶液’在溫度30 °C / 反力1.5 X 1〇 Pa條件下,將照射過膜顯像。 障碍肋條層胚材覆以$合物材料製保護性光罩,具有 相S於待形成障碍肋條陣列之圖案。 八 反^嘴磨料盡「喰H、丨 、 —磨料:富士公司製金屬粒,編號S9,品級1〇〇〇 ; —磨料採用條件:使扁平長方形喷嘴,長度約2〇〇
Η 第27頁 1294136 修正
_案號 91114邓Ρί 五、發明說明(24) 噴嘴出口與板體間距離·· 95mm ; 磨料流量:1 80 0g/min ; 贺嘴運動方向:垂直於板體; 一側面筆直的障碍肋條結構變化例1 :喷沙壓力 〇.〇35MPa ; 利用喷嘴在板體上的掃描速率:5〇mm/min ; 板體位移速度· llOmm/min ; 一格子狀障碍肋條結構變化例2 :噴沙壓力〇 〇 MPa ; ' 利用喷嘴在板體上的掃描速率:5〇mm/min ; 板體位移速度· l〇5min/min。 尸/r传〜果:障5守肋條均勻蝕刻,在各凹腔底部保 材殘餘層,其中央厚度比起初澱積的基底下層稍薄/;、 體活性部份,於此殘餘層和下層電極表面,到處未見一反 ΐ ί Ϊ使用習知方法噴沙所得障碍肋條(停留在特殊介^質同 中;I層上)相較,於此可見障碍肋條基底更圓女 利於後繼步驟中均勻分佈磷。 有 剝脫除去光置 施加 一對光罩在溫度約35 t和壓力約〇.4 χ ι〇5 含1 %Na〇H重量的水溶液; 一用水淋洗;以及 一以空氣刀在5 0 °C乾燥。 多·叛備碑糊劑
第28頁 1294136
對紅、綠、藍三種磷粉各: ,用基於承乙烯醇(PVA)的樹脂水溶液,黏度3 0 〇 mPa · s,猎添加重鉻韃銨成為光敏性;以及 ΜΓ 克各種鱗分散於100克PVA溶液内;添加7克 :4 添加劑’尤指安定劑、消泡劑、亮光 旦·殿積破層胚材 對各種顏色: 布,以:ΪΓ網印此色的碌糊劑,使用每公分含”支紗的 厚約15〃的乾塗膜,接著把鱗層胚材* 以80 0m J/cm2照射 一在按照磷所需分佈的圖案内 胚材層;以及 喷灑 接 把加熱到溫度約3(rc的水,以壓力2x i〇spa $在651乾燥約15分鐘,使照射過的層顯像。 於板體外周 幕 體 此項 在此 密封旨在把板體與另一板體結合 等板體之間留有放電緊密空間, ,以形成電漿螢 旨在充填放電氣 ,在45°C,於此溫度保持為時約2小時3〇 碰同—操作中,密封劑、基底下層、障碍肋條主芦 t f專之有機黏合劑即被除去;有賴此下層和障曰 含礦物黏合劑,障碍肋條和下層即被凝固:: 7条的孔隙率在25 %以上,並利用本發明連續下層 1294136
其孔隙率亦在25%以上;實際上未見有後燒烤 持和強化 收縮。 ’接著在可 抽氣;和 ’以封閉面 il,把前板^如此所得板體 卜 > 一把在400 °c結合在一起的二板體密封 獲得同度真空的條件下,把位於板體間之空間 以放電氣體充填於面板,並加以密封 板0 幸虧本發明製法,可得具有藉磨耗形成障碍肋條陣列 之電漿面板,完全不需前案技藝製程中有關旨在作為電極 保護層,同時形成障碍肋條之介質層應用和燒烤等額外步 此外,障碍肋條儘管多孔且狹窄,卻能穩定,是靠本 發明下層有以致之。 以下第二實施例使本發明之說明完整。 實施例2 此實施例之目的’在於表不使用聚乙歸醇作為基底下 層的有機黏合劑之優點,製備基底下層糊劑之步驟1,和 製造製程主層糊劑之步驟2,如剛剛所述。 實施例2 A · -主層有基於乙基纖維素的黏合劑’樹脂含量3 % (溶劑:萜品醇);而 一基底下層有基於同樣樹脂的黏合劑,樹脂含量 1 0. 6 %,以3 · 3 %可塑劑加以軟化(溶劑:輔品醇)。 在噴磨料或「喷沙」的步驟6,已知主層磨耗率和下
第30頁 1294136 --Ά 91 ^4255_ 车月 ο 修正__ 五、發明說明(27) " - '' 層磨耗率間之因數為4。 實施例2 B : 一主層有基於乙基纖維素之黏合劑,樹脂含量3 % (溶劑:萜品醇)’同實施例2A ; 口、 β —下層有基於聚乙烯醇(15 %PVA)之黏合劑,不加 可塑劑’其中下層為偶氮敏化劑,得以UV交聯,溶劑為 水。
取7 層和下層使用二種不同樹脂,尤其是事實上交聯 ^ ·牡醇不溶於胳品醇’防止下層在應用主層時部份再溶 / IN Ϊ果,障碍肋條間凹腔底部,在實施例2Β内宜較實祐 例2Α更平坦。 干又貝她 已知主層磨耗率和下 稀醇特別有剎私香 ’利於實施本 在噴磨料或「噴沙」的步驟6 層磨耗率間之因數為6。 由此可以推論,使用交聯聚乙 發明方法。
第31頁 1294136 案號 91114255 年月曰 修正 圖式簡單說明 第1圖表示本發明具有下層的板體一具體例之電漿面 板; 第2圖表示本發明具有下層的板體另一具體例。 第32頁
Claims (1)
1294136 案號 六、申請專利範圍 1 · 一種電 一陣列電極(1 (1 7)陣列,其 該面板内形成 層(1 8),插入 間,係由礦物 2 ·如申請 障碍肋條寬度 3·如申請 中該基底下層 之間者。 4·如申請 在電極和該基 層者。 5·如申請 基底下層含有 6 ·如申請 基底下層之該 物黏合劑,基 在1 3 %以下者 7·如申請 基底下層的材 8·如申請 包含磷層,至 A 曰 修正 91114255 漿影像顯示面板,包括基板(10),被覆至少 1 ),其本身被覆以礦物材料製的障碍肋條 孔隙率在25 %以上,旨在界定電池,以便在 放電區(4 0 ),其特徵為,包括多孔性基底下 於該陣列電極(11)和該陣列障碍肋條(17)之 材料製成,其孔隙率在25 %以上者。 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 低於或等於70 //m者。 專利範圍第1或2項之電漿影像顯示面板,其 在該板體每一點之厚度,介於1〇 專利範国第1項之電漿影像顯示面板,其中 底下層之間,不含中介層,尤其是介質中介 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 適合反光之成份者。 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 礦物材料’包括礦物填料和視需要而定之礦 底下層的礦物材料内之礦物黏合劑重量比例 〇 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 料和障碍肋條材料一致者。 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 少部份覆蓋障碍肋條和該下層之侧面者。
第33頁 1294136 ___案號 91114255__年 月 日_修正 六、申請專利範圍 9 ·如申請專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 在障碍肋條基底結合到基底下層的表面任一點,其曲率半 徑大於或等於10 //m者。 I 〇 ·如申請 該障碍肋條本 II · 一種電 ,包括申請專 電極(33)之第 設在以該障碍 1 2· —種製 法,其特徵為 在基材 在該陣 重疊主層胚材 黏合劑之粉末 噴磨料 專利範圍第1項之電漿影像顯示面板,其中 身被覆以頂層者。 漿顯像顯示面板,為AC型,具有記憶體效果 利範圍第1項之第一板體,以及具有共平面 二板體(3 0 ),用於藉記憶體效果持續放電, 肋條(1 7 )為界的板體放電區(4 〇 )間者。 造如申請專利範圍第1項電漿面板板體之方 ,包括如下步驟: 上,形成至少一陣列的電極; 列電極和基材上,澱積至少基底下層胚材和 ,下層和主層二者均係基於礦物材料和有機 混拌物;
以便除去部份該主層胚材,俾形 肋條胚材,該障碍肋條包括基底 且 一 成該陣列之障碍 、頂部和侧面, 以便避免(即使不能限制) 故全塗膜上未見一洞孔·, 在適於除去有機黏合劑,以 下層的礦物材料凝固之條件下,力口 5亥基底下層胚材之組成份和 除去該基底下層胚材, 及使障碍肋條和該基底 以燒烤; 厚度’適於使此下層磨
1294136 ΜΆ 911142.^ 六、申請專利範圍 耗率在該噴料條件下比 1 3 ·如申請專利範圍 該礦物材料包括礦物填 基底下層的礦物材料内 者。 14·如申請專利範圍 的有機黏合劑之比例, 者。 15·如申請專利範圍 的有機黏合劑之玻璃轉 璃轉化溫度為低者。 ^ 16 ·如申請專利範圍 違主層之有機黏合劑, 脂、甲基丙烯酸樹脂、 樹脂者。 17·如申請專利範圍 有機黏合劑係基於聚乙 I8·如申請專利範圍 陣列電極後,只包含單 19 ·如申請專利範圍 過480 °C之步驟者。 2〇·如申請專利範圍 物填料與障碍肋條主層 Λ 曰 修正 主層磨耗率為低者。 第12項之方法,其中當基底下層之 料和視需要而定之礦物黏合劑時, 之礦物黏合劑重量比例在1 3 %以下 第12或13項之方法,其中基底下層 較主層内的有機黏合劑比例為大 第12或13項之方法,其中基底下層 化/JHL度’比主層的有機黏合劑之玻 第12項之方法,其中該基底下層和 係選自包括纖維素樹脂、丙烯酸樹 松香樹脂’和基於交聯聚乙烯醇之 第16項之方法,其中該基底下層之 烯醇者。 第1 2項之方法,其中在形成至少一 次燒烤加熱處理者。 第12項之方法,其中不含有溫度超 第12項之方法,其中基底下層之礦 之礦物填料一致者。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0108628A FR2826776A1 (fr) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Procede de fabrication d'une dalle pour panneau a plasma dotee de barrieres formees par projection d'un materiau abrasif |
FR0112250 | 2001-09-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI294136B true TWI294136B (en) | 2008-03-01 |
Family
ID=26213076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW091114255A TWI294136B (en) | 2001-06-29 | 2002-06-28 | Plate for a plasma panel with reinforced porous barrier ribs |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7339318B2 (zh) |
EP (1) | EP1415316B1 (zh) |
JP (1) | JP4324466B2 (zh) |
KR (1) | KR100852678B1 (zh) |
CN (1) | CN100505137C (zh) |
AU (1) | AU2002317214A1 (zh) |
DE (1) | DE60230875D1 (zh) |
TW (1) | TWI294136B (zh) |
WO (1) | WO2003003398A2 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2818798B1 (fr) * | 2000-12-22 | 2003-02-21 | Thomson Multimedia Sa | Procede de fabrication d'un reseau de barrieres en materiau mineral sur une dalle pour panneau de visualisation a plasma |
FR2855644A1 (fr) * | 2003-05-27 | 2004-12-03 | Thomson Plasma | Panneau a plasma dont les barrieres de partionnement sont en ciment |
EP1530191A3 (en) * | 2003-11-07 | 2008-02-27 | Thomson Plasma S.A.S. | Small-gap plasma display panel with elongate coplanar discharges |
JP4103116B2 (ja) * | 2004-06-09 | 2008-06-18 | 日東電工株式会社 | 積層シート、プラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法、プラズマディスプレイパネル用背面基板、及びプラズマディスプレイパネル |
KR20060113137A (ko) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
KR100612243B1 (ko) * | 2005-05-25 | 2006-08-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
KR100696697B1 (ko) * | 2005-11-09 | 2007-03-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
JP2007280816A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Pioneer Electronic Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル |
JP4853353B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-01-11 | パナソニック株式会社 | プラズマディスプレイ用背面板 |
KR20080105787A (ko) * | 2007-06-01 | 2008-12-04 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4121462C2 (de) * | 1991-06-28 | 1994-09-01 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Hochtemperaturwärmespeichersystem |
JPH0745200A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Noritake Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JP3297782B2 (ja) * | 1994-08-26 | 2002-07-02 | ソニー株式会社 | プラズマアドレス液晶表示装置及びプラズマアドレス液晶表示装置の製造方法 |
US5909083A (en) * | 1996-02-16 | 1999-06-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Process for producing plasma display panel |
US6207268B1 (en) | 1996-11-12 | 2001-03-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet, and pattern-forming method |
JP3649309B2 (ja) | 1996-11-12 | 2005-05-18 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイパネルの形成方法 |
JP3623648B2 (ja) * | 1998-01-30 | 2005-02-23 | 京セラ株式会社 | プラズマ表示装置 |
JPH11306967A (ja) | 1998-04-24 | 1999-11-05 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
JP2000100327A (ja) | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法とプラズマディスプレイパネル |
KR100332097B1 (ko) * | 1999-09-14 | 2002-04-10 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
FR2818798B1 (fr) * | 2000-12-22 | 2003-02-21 | Thomson Multimedia Sa | Procede de fabrication d'un reseau de barrieres en materiau mineral sur une dalle pour panneau de visualisation a plasma |
-
2002
- 2002-06-04 EP EP02745478A patent/EP1415316B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-04 CN CNB028120922A patent/CN100505137C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-04 JP JP2003509482A patent/JP4324466B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-04 AU AU2002317214A patent/AU2002317214A1/en not_active Abandoned
- 2002-06-04 WO PCT/FR2002/001868 patent/WO2003003398A2/fr active Application Filing
- 2002-06-04 US US10/481,360 patent/US7339318B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-04 DE DE60230875T patent/DE60230875D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-04 KR KR1020037016863A patent/KR100852678B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-28 TW TW091114255A patent/TWI294136B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1415316A2 (fr) | 2004-05-06 |
KR100852678B1 (ko) | 2008-08-19 |
US20040169471A1 (en) | 2004-09-02 |
JP4324466B2 (ja) | 2009-09-02 |
WO2003003398A3 (fr) | 2003-11-06 |
CN1526152A (zh) | 2004-09-01 |
JP2004531041A (ja) | 2004-10-07 |
AU2002317214A1 (en) | 2003-03-03 |
DE60230875D1 (de) | 2009-03-05 |
WO2003003398A2 (fr) | 2003-01-09 |
CN100505137C (zh) | 2009-06-24 |
KR20040012968A (ko) | 2004-02-11 |
EP1415316B1 (fr) | 2009-01-14 |
US7339318B2 (en) | 2008-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI294136B (en) | Plate for a plasma panel with reinforced porous barrier ribs | |
US6306948B1 (en) | Molding composition containing a debinding catalyst for making ceramic microstructures | |
WO2001079362A1 (fr) | Encre pour panneau d'affichage et procede permettant de produire un panneau d'affichage a plasma au moyen de ladite encre | |
US6956076B2 (en) | Inorganic particle-containing composition, transfer film comprising the same and plasma display panel production process | |
WO2001071761A1 (fr) | Panneau d'affichage a plasma et son procede de fabrication | |
CN1135599C (zh) | 导电性防反射膜、导电性防反射膜的制造方法及阴极射线管 | |
TW475193B (en) | Process for the manufacture of a plasma panel | |
KR100818222B1 (ko) | 감광성 무기 페이스트 조성물, 시트형 언베이크 바디 및플라즈마 디스플레이 상판의 생산 방법 | |
CN1628365A (zh) | 用水基溶液蚀刻厚膜来制造pdp阻隔筋的方法和组合物 | |
JP2003249175A (ja) | プラズマディスプレイパネルの誘電膜の誘電体組成物及びその製造方法 | |
KR100709526B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트 제조용 미소성적층체, 및 플라즈마 디스플레이 장치의 전면 플레이트제조 방법 | |
JP6608932B2 (ja) | 透明拡散性oled基材及び該基材の製造方法 | |
TW200423178A (en) | Plasma panel with an array of barrier ribs provided with cavities that emerge via their tops | |
JP2010215688A (ja) | 白色ペースト | |
US7710033B2 (en) | Plasma panel comprising cement partition barriers | |
JPH11188630A (ja) | 表示パネルの隔壁形成方法 | |
JPH0831328A (ja) | プラズマディスプレイパネルとその製造方法 | |
JP2000021314A (ja) | プラズマディスプレイ用部材 | |
US20070013310A1 (en) | Plasma display panel and method of manufacturing the same | |
JP2009266658A (ja) | プラズマディスプレイパネルの誘電体層の製造方法 | |
JP2007523442A6 (ja) | セメント分割隔壁を含むプラズマパネル | |
JP3592507B2 (ja) | 誘電体層形成用フィルム | |
JPH09312129A (ja) | Dc型プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 | |
JPH11195380A (ja) | 蛍光面形成方法、蛍光面及びリブ形成方法、無機−有機材料 積層体、プラズマディスプレイパネルの背面板、及びプラズ マディスプレイパネル | |
JP2001101969A (ja) | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法 |