1238406 C1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光資訊記錄媒體及其製造方法，以及 光資訊記錄媒體之基板製造所使用之壓模（stamper* )及 其製造方法，特別是關於製造商名或著作權保護對策用資 訊等之媒體資訊以預設訊洞形式被記錄於溝槽中之光資訊 記錄媒體及其製造方法，以及使用於該基板製造之壓模及 其製造方法。 Φ 【先前技術】 近年來，具有CD (光碟）之數倍記錄容量的DVD (數位影音光碟）被當成影像或聲音等之資訊記錄媒體而 被廣爲利用。另外，關於DVD已經被產品化的有：使用 者側只限定1次可進行資訊記錄之DVD-R (補記錄型之 數位影音光碟），和可以進行資訊覆寫之DVD-RW (可覆 寫型之數位影音光碟），作爲今後的大容量資訊記錄媒 · 體，應會更爲普及。 通常在DVD-R中，光碟之製造商資訊或著作權保護 對策用資訊、用於光碟之資訊記錄再生之雷射光的輸出等 之特定資訊（以下，稱爲媒體資訊）是預先記錄在光碟 上。這些媒體資訊係在光碟製造工程的最後階段，利用記 錄裝置而藉由光照射等使記錄層改變性質而加以記錄。 相對於此，在日本專利特開2000-2 1 024號公報、特 開200 1 -6773 3號公報以及特開2002-2 1 63 64號公報中， -6 - (2) 1238406 揭示有並非將媒體資訊等之資訊記錄於如上述之記錄層’ 而是在光碟之基板製造階段中，預先以浮凸訊洞（以下， 稱爲溝槽中訊洞）之形式記錄在基板的溝槽中之方法。第 2 1圖係顯示利用這些方法所製造之基板的一部份。第 2 1 A圖係基板的部份放大平面圖，槪略顯示形成有溝槽中 訊洞之區域（以下，稱爲溝槽中訊洞區域）。另外，第 21B及第21C圖係分別顯示第21A圖之A’-A’線剖面及 B ’ _ B ’線剖面。如第2 1 B圖所示，在此基板中，以形成平 台及溝槽之基板211的平台表面211a爲基準時之至溝槽 中訊洞217的底面（最下面）217a之深度dp”形成爲比同 樣以平台表面211a爲基準時之至溝槽215的底面（最下 面）215a之深度dg”還深。藉由此，在此基板21 1之圖案 形成面上形成記錄層及反射層以製作光資訊記錄媒體時， 在形成有溝槽中訊洞2 1 7之部位和沒有形成有溝槽中訊洞 2 1 7之溝槽的部份，於所形成之各層的表面高度會產生不 同。藉由利用此溝槽中訊洞部份和溝槽部份之深度的不 同，可將媒體資訊等之資料記錄於溝槽中。 利用上述基板之光資訊記錄媒體係以以下方式製 作。於以均勻厚度形成在母盤表面的光阻照射一定強度之 雷射光，曝光對應溝槽之圖案，同時以強度被調變爲比上 述一定強度之曝光強度還高位準的曝光強度之雷射光予以 曝光對應溝槽中訊洞之圖案。對應溝槽之圖案和對應溝槽 中訊洞之圖案可以連續切換曝光強度以曝光，也可以先曝 光對應溝槽之圖案後，另行曝光對應溝槽中訊洞之圖案。 (3) 1238406 接著，藉由顯像處理曝光完畢之母盤，在母盤上形成對應 上述溝槽以及溝槽中訊洞之所期望的光阻圖案。接著，對 母盤之光阻形成面施以RIE等之蝕刻處理，在母盤之表面 形成對應溝槽以及溝槽中訊洞之所期望的圖案。接著，利 用表面形成有圖案之母盤以製作壓模，進而利用此壓模以 複製基板。藉由在所複製之基板的圖案形成面上形成記錄 膜等之各種層，可以製作光資訊記錄媒體。 但是，在以上述之母盤曝光方法來曝光溝槽中訊洞 對應部份時，如第22A圖以及第22B圖所示，以對應形 成之溝槽中訊洞的訊洞長的時間T 1進行曝光，所以由光 阻所曝光之溝槽中訊洞形成部份2 2 1的磁軌方向長L1變 長相當於照射母盤上之光阻的光點SP2的直徑D之量。 因此，配置在與磁軌方向鄰接的溝槽訊洞形成部份2 2 1 ’ 之間的空間2 2 2之磁軌方向長L 2變短。因此’由光資訊 記錄媒體所讀出之溝槽中訊洞再生訊號的抖動變大。 通常在DVD-R等之光資訊記錄媒體中，爲了抑制預 設訊洞再生訊號的抖動’係如第23圖所示，在溝槽23 1 的一部份設置週期性縫隙2 3 1 a ’在該縫隙部份2 3 1 a另外 形成預設訊洞23 2。在曝光使用於此種光資訊記錄媒體白勺 製造之母盤時，曝光對應預設訊洞232之圖案時之曝光量 可以與曝光對應溝槽231之圖案時之曝光量無關而進行調 整。藉由此，例如藉由降低曝光:預訊洞形成部份時的曝光: 強度，可以形成小的預設訊、洞尺寸’藉由將預設訊洞形成 部份的曝光時間間隔在其前彳羑（曝％ M始端以及_ % '結# -8- (4) 1238406 端）削減特定時間而調整爲短些，可以抑制或者防止預設 訊洞長變得冗長。 但是，在形成溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體中，於 母盤曝光時，單單降低溝槽中訊洞形成部份的曝光強度以 使訊洞尺寸變小，在前後削減溝槽中訊洞形成部份之曝光 時間而使之變短時，溝槽中訊洞形成部份之磁軌方向端部 的曝光量不足，該部份之光阻未被感光至母盤表面。因 此，無法在母盤上精度良好地形成所期望之光阻圖案。另 外，在依據此光阻圖案而進行表面之蝕刻的母盤中，如第 24圖所示，面向溝槽中訊洞形成部份242之磁軌方向的 壁面242b之以溝槽中訊洞形成部份242的底面242a爲基 準時的傾斜角度0變小。在依據此母盤所製作的光資訊記 錄媒體之基板中，會與上述母盤相同，面對溝槽中訊洞之 磁軌方向的壁面之傾斜角度變小，所以由此溝槽中訊洞來 之再生訊號的調變度降低。 且說在基板的圖案形成面上形成含有有機色素的記 錄層之光資訊記錄媒體中，依據形成在基板上之圖案寬度 的不同，在記錄層和反射層之界面的高度位置產生差異。 寬幅之溝槽的記錄層和反射層之界面的高度位置比窄幅之 溝槽低。因此，寬幅之溝槽部份的雷射光的光路長和窄幅 之溝槽部份的雷射光之光路長之間產生差異。在曰本專利 特開平200 1 -3 5 1 268號公報中，揭示有利用此光路長之 差，以進行媒體資訊等之資訊再生方法。但是，形成在此 方法所使用之基板的寬幅溝槽和窄幅溝槽的深度係相同。 -9 - (5) 1238406 但是’在上述光資訊記錄媒體中，實際上在溝槽的 寬幅部份和窄幅部份，雖然在記錄層和反射層之界面的高 度位置產生若干差異，但是卻無法產生獲得再生資訊時足 夠之訊號調變度程度的雷射光的光路長差。即使在種種改 變溝槽的寬幅部份和窄幅部份的尺寸比或記錄層材料的黏 度、基板的旋轉驅動條件等時，也無法獲得足夠之光路長 差。另外’利用如上述之溝槽的寬幅部份和窄幅部份，以 記錄媒體資訊等之資訊的光資訊記錄媒體時，使軌距變窄 有其困難，所以特別是在藉由軌距狹窄化以謀求光資訊記 錄媒體的記錄容量之增加上，並不有利。 另外，在日本專利特開平8- 1 29780號公報及日本專 利特開2002-23 7093號公報中，雖然揭示形成在基板上之 記錄層（色素層）之膜厚因形成在基板表面之訊洞或溝槽 的深度不同而不同之光資訊記錄媒體，但是兩種文獻中之 任何一種都未言及具有溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體。 本發明之目的在於提供：記錄再生特性以及追跡特 性優異，具有溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體及其製造方 法。另外，使用於製造上述光資訊記錄媒體之基板的壓模 及其製造方法。 【發明內容】 如依據本發明之第· 1形態，係提供一種光資訊記錄 媒體，是針對具有：在一面形成有平台、具有平坦底面之 溝槽以及具有平坦底面之溝槽中訊洞的基板；及含有形成 -10- (6) 1238406 在該基板之該一面上的有機色素的記錄層；及形成在該記 錄層上之反射層的光資訊記錄媒體，其特徵爲： 在以dg表示由上述基板之平台表面至上述溝槽之底 面的深度，以dp表示由上述基板之平台表面至上述溝槽 中訊洞之底面的深度，以Tg表示由上述平台表面上的記 錄層和反射層的界面至上述溝槽的記錄層和反射層之界面 的記錄層的凹處深度，以Tp表示由上述平台表面上的記 錄層和反射層之界面至上述溝槽中訊洞的記錄層和反射層 之界面的記錄層的凹處深度時，則dp/dg<Tp/Tg。 在本發明之光資訊記錄媒體中，係在具有平坦底面 之溝槽配置具有平坦底面之溝槽中訊洞，所以與在溝槽中 形成寬幅部和窄幅部之光資訊記錄媒體相比，可以使形成 含有有機色素之記錄層的溝槽部份的記錄層和反射層之界 面的高度位置，和溝槽中訊洞部份的記錄層和反射層之界 面的高度位置之差變大。藉由此，可高調變度而且低抖動 再生記錄在溝槽中訊洞之資訊。在溝槽不設置寬幅部，所 以可以謀求藉由軌距之狹窄化所致之記錄密度的提升。在 本發明之光資訊記錄媒體中，形成含有有機色素之記錄 層，以使得由基板的平台部表面至溝槽中訊洞的底面之深 度（以下，稱爲溝槽中訊洞深度）dp和由基板之平台表 面至溝槽的底面之深度（以下，稱爲溝槽深度）dg之比 dp/dg，和溝槽中訊洞之記錄層的凹處深度Tp和溝槽之記 錄層的凹處深度 Tg 之比 Tp/Tg 的關係滿足 dp/dg<Tp/Tg。藉由此，溝槽中訊洞深度dp以及溝槽深度 (7) 1238406 dg即使未被形成爲可以獲得特定的訊號調變度及徑向推 挽訊號的尺寸時’也可以使通過溝槽之光的光路長和通過 溝槽中訊洞之光的光路長的差變大。因此，對於溝槽深度 d g而言，可使溝槽中訊洞深度d p變淺，所以可使母盤灌 製或基板形成容易化’同時’也可以謀求光資訊記錄媒體 之製造成本的降低。特別是以 1.15 < ( Tp/Tg ) / (dp/dg)爲佳。 在本發明中，期望上述溝槽之記錄層的凹處深度Tg 和上述溝槽中訊洞之記錄層的凹處深度Tp之比Tp/Tg在 1.6 S Tp/Tg S 2.0。藉由此，可以高調變度而且低抖動再 生記錄在溝槽中訊洞之資訊。在本發明之光資訊記錄媒體 中，例如可以獲得60%以上的調變度，而且可將抖動抑制 在8%以下，所以可以獲得實用上足夠之再生特性。另 外，以λ表示光資訊記錄媒體之記錄或者再生所使用之光 的波長，以表示上述基板之折射率時，期望上述溝槽深度 dg爲dg>又Μη。一般透過溝槽部份之光和透過平台部份 之光的光路長差在λ / 4η時，可以最高的對比檢測出溝 槽。在記錄層使用有機色素材料之光資訊記錄媒體中，記 錄層之積層的樣子在溝槽部份和平台部份不同，透過溝槽 部份之光和透過平台部份之光的光路長差會在λ / 4η以 下，無法以良好的對比檢測溝槽。在本發明之光資訊記錄 媒體中，溝槽深度dg形成爲dg> λ /4η之故，可以容易調 整記錄層之積層條件以使得透過溝槽部份之光和透過平台 部份之光的光路長差擴大爲λ/4η。藉由此，可以最高的 -12- (8) 1238406 對比檢測溝槽部份和平台部份。 如依據本發明之第2形態，係提供一種光資訊記錄 媒體，是針對具有：在一面形成有平台、具有平坦底面之 溝槽以及具有平坦底面之溝槽中訊洞的基板；及形成在該 基板之該一面上的反射層；及含有形成在該反射層上的有 機色素的記錄層；及形成在該記錄層上之保護層；及形成 在該保護層上之覆蓋層的光資訊記錄媒體，其特徵爲： 在以dg表不由上述基板之平台表面至上述溝槽之底 面的深度，以dp表示由上述基板之平台表面至上述溝槽 中訊洞之底面的深度，以Tg’表示由上述平台表面上的記 錄層和保護層的界面至上述溝槽的記錄層和保護層之界面 的記錄層的凹處深度，以Tp’表示由上述平台表面上的記 錄層和保護層之界面至上述溝槽中訊洞的記錄層和保護層 之界面的記錄層的凹處深度時，則dp/dg<Tp’/Tg’。 在本發明之光資訊記錄媒體中，雖使光由覆蓋層射 入以進行資訊的記錄再生，但是由於滿足上述 dp/dg<Tp’/Tg’之關係，所以可以獲得與第1形態之光資 訊記錄媒體同樣之效果。 在本發明中，期望上述溝槽之記錄層的凹處深度Tg’ 和上述溝槽中訊洞之記錄層的凹處深度Tp’之比Tp’/Tg’ 爲1.6 S Tp’/Tg’ S 2.0。另外，以λ表示光資訊記錄媒體 之記錄或者再生所使用之光的波長，以η表示上述覆蓋層 之折射率時，期望至上述溝槽之底面的深度gd爲dg>入 / 4 η 〇 -13- (9) 1238406 在上述形態之光資訊記錄媒體中，期望上述溝槽深 度dg和上述溝槽中訊洞深度dp之比dp/dg爲1.4$dp/dg ^ 1.7。爲了獲得特定之訊號調變度和徑向推挽訊號，最 好是通過溝槽之光的光路長和通過溝槽中訊洞之光的光路 長之比爲1.6〜2.0之程度。但是，本發明之光資訊記錄 媒體係藉由利用有機色素材料以形成記錄層，可以擴大溝 槽的光路長和溝槽中訊洞的光路長之差，所以即使在溝槽 深度dg和溝槽中訊洞深度dp之比dp/dg在如上述之1.6 〜2.0以下時，也可以使通過溝槽之光的光路長和通過溝 槽中訊洞之光的光路長的比成爲1.6〜2.0之程度。藉由 此，可以獲得特定之訊號調變度和徑向推挽訊號。另外， 可以高調變度而且低抖動再生記錄在溝槽中訊洞之資訊。 如依據本發明之第3形態，係提供一種光資訊記錄 媒體之製造方法，是針對包含：在母盤形成溝槽和設置在 該溝槽之溝槽中訊洞的母盤灌製（微影）工程；及製作轉 印有上述母盤之上述溝槽以及上述溝槽中訊洞的反轉圖案 之壓模的壓模製作工程；及由該壓模複製基板之基板複製 工程；及在複製之基板的表面至少形成一層膜之成膜工程 的光資訊記錄媒體之製造方法，其特徵爲： 上述母盤灌製工程係含：藉由以第1曝光強度之光 以曝光形成在上述母盤表面的光阻，以在母盤形成上述溝 槽圖案之溝槽曝光工程；及藉由以設定爲比第1曝光強度 還高的第2曝光強度之光以曝光形成在上述母盤表面的光 阻，以在母盤形成上述溝槽中訊洞圖案之溝槽中訊洞曝光 -14- (10) 1238406 工程； 在上述溝槽曝光工程和上述溝槽中訊洞曝光工程之 間，設置以比第1曝光強度還低之第3曝光強度進行曝光 之期間。 在本發明的光資訊記錄媒體之製造方法中，於切換 上述溝槽曝光工程和上述溝槽中訊洞曝光工程時，設置有 以比第1曝光強度還低之第3曝光強度以曝光光阻之期間 (以下，稱爲空白削減量或者空白期間），與單單在前後 削減溝槽中訊洞形成部份的曝光時間間隔而使之變短的情 形相比，可以足夠之曝光量來曝光溝槽中訊洞形成部份之 磁軌方向前端部及後端部。藉由此，形成在母盤上之光阻 可以足夠感光至母盤之界面，藉由顯像處理可以形成對應 所期望之預設格式圖案的光阻圖案。藉由基於此光阻圖案 以進行蝕刻，可以使面對溝槽中訊洞形成部份的磁軌方向 之壁面的傾斜角度變大。因此，依據此母盤而製作壓模， 進而藉由利用此壓模，可以製作具有與形成在母盤表面之 預設格式圖案相同凹凸圖案之基板。另外，藉由在此基板 上形成記錄層或反射層等之各種層，可以製造以高調變度 而且低抖動再生溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體。 在本發明中，期望設置依據上述溝槽中訊洞之再生 訊號的調變度、抖動以及徑向推挽訊號之値，以第3曝光 強度進行曝光之期間。期望空白期間爲溝槽中訊洞再生訊 號之調變度成爲極大而且最大時之値。另外，期望空白期 間爲溝槽中訊洞再生訊號之抖動値成爲極小而且最少時之 -15- (11) 1238406 値。推挽訊號之値係隨著空白期間增加而降低。另外’溝 槽中訊洞在訊號之調變度、抖動以及徑向推挽訊號之3種 參數間有相關連，所以藉由這些關係選擇最適當條件之空 白期間，可以最佳化溝槽中訊洞以及空間之形狀’可以獲 得具有優異之記錄再生特性及追跡特性的高記錄密度之光 資訊記錄媒體。特別是由使上述3種參數成爲最好之觀點 而言，在以T表示時鐘週期時，期望以第3曝光強度進行 曝光之期間（空白期間）爲〇.2T。另外，第3曝光強度 也可以設爲零。 如依據本發明之第4形態，係提供一種壓模之製造 方法，是針對在母盤形成溝槽和設置在該溝槽之溝槽中訊 洞的母盤灌製（微影）工程；及製作轉印有上述母盤之上 述溝槽以及上述溝槽中訊洞的反轉圖案之壓模的壓模製作 工程的壓模之製造方法，其特徵爲： 上述母盤灌製工程係含：藉由以第1曝光強度之光 以曝光形成在上述母盤表面的光阻，以在母盤形成上述溝 槽圖案之溝槽曝光工程；及藉由以設定爲比第1曝光強度 還高的第2曝光強度之光以曝光形成在上述母盤表面的光 阻，以在母盤形成上述溝槽中訊洞圖案之溝槽中訊洞曝光 工程； 在上述溝槽曝光工程和上述溝槽中訊洞曝光工程之 間，設置以比第1曝光強度還低之第3曝光強度進行曝光 之期間。 在本發明中，可以提供使用在製作配置於溝槽的溝 -16- (12) 1238406 槽中訊洞以及空間的形狀被最佳化之光資訊記錄媒體用基 板的壓模之製造方法。 在本發明中，期望設置依據上述溝槽中訊洞之再生 訊號的調變度、抖動以及徑向推挽訊號之値，以第3曝光 強度進行曝光之期間。另外，在以T表示時鐘週期時，期 望以第3曝光強度進行曝光之期間爲0.2T。另外，第3 曝光強度也可以設爲零。 如依據本發明之第5形態，係提供一種壓模，是針 對利用第4形態的壓模之製造方法所製作的壓模，其特徵 爲·· 上述溝槽的底面及上述溝槽中訊洞的底面分別是平 坦的，面對上述溝槽中訊洞之磁軌方向的壁面的傾斜角度 在40度以上而未滿90度。 藉由利用本發明之壓模，可以製作形成有滿足上述 條件之溝槽以及溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體用基板。如 此獲得之基板可由溝槽中訊洞獲得良好調變度的再生訊 號。 【實施方式】 雖利用圖面說明本發明之實施形態，但是本發明並 不限定於此。 如第1圖所示，本發明之光資訊記錄媒體1 0係形成 爲具有以中心AX爲基準之中心孔1 0a的圓盤狀。另外， 如第1圖及第2圖所示，光資訊記錄媒體1 〇係具有在一 -17- (13) 1238406 面形成溝槽8和溝槽中訊洞9等之預設格式圖案1 〇b的基 板1，在此面上依序形成記錄層2、反射層3、以及保護 層4 〇 基板1可以使用利用射出成形法、壓縮成形法或者 射出壓縮成形法所形成之塑膠基板。也可以使用以2P法 (感光性樹脂法）所製作之玻璃基板。 如第3 A圖〜第3 C圖所示，形成在基板1之預設格 式圖案1 〇b係以光學讀出位址資訊等之資訊用的溝槽中訊 洞9以及導引記錄再生用光用之溝槽8所構成，溝槽中訊 洞9係形成在溝槽8上。另外，如第3 B圖所示，上述位 址資訊等之資訊係以溝槽中訊洞9，和與溝槽中訊洞9鄰 接，而沒有形成溝槽中訊洞之溝槽部份（以下，也稱爲空 間）8 ’之排列所構成。在設時鐘週期爲T時，則溝槽中訊 洞9之長度L1及空間8’之長度L2分別被調整爲3T〜11T 或者14T之其中之一的長度。另外，預設格式圖案l〇b係 以光資訊記錄媒體1 〇之中心AX爲基準而形成爲渦捲狀 或者同心圓狀。 基板1係利用在表面具有與上述預設格式圖案相同 凹凸圖案之母盤及由該母盤所獲得之壓模而製作。本發明 之母盤係由以下之母盤灌製方法（微影）所製作。在對於 形成於母盤表面之光阻曝光所期望之溝槽中訊洞的圖案 時，在溝槽中訊洞之圖案曝光期間的前後設置暫時將曝光 光的曝光強度設定爲比曝光溝槽的圖案時之位準還低之期 間（空白期間）而進行曝光。藉由此，可以防止因應雷射 -18 - (14) 1238406 光點之直徑的溝槽中訊洞圖案在磁軌方向變得冗長。另 外，空白期間係依據由光資訊記錄媒體所檢測之溝槽中訊 洞的再生訊號之調變度、抖動及徑向推挽訊號之値而設 定。接著，藉由顯像處理上述經過曝光之母盤，在母盤上 形成所期望之光阻圖案。依據此光阻圖案以進行RIE等之 蝕刻，而在母盤表面形成由溝槽中訊洞圖案和溝槽圖案所 形成之期望的預設格式圖案。溝槽中訊洞圖案和溝槽圖案 都形成爲剖面形狀成爲略梯形狀。藉由利用電鑄法而在以 此方法所製作的母盤之預設格式圖案形成面形成Ni等之 金屬層，可以獲得壓模。 如第3 B圖及第3 C圖所示，形成在如此獲得之基板 1的溝槽中訊洞9係形成爲由剖面形狀爲平坦之底面9a， 和由底面9a之周圍立起之壁面9b所形成之略梯形狀。此 時，溝槽中訊洞9之面對磁軌方向的壁面9b之傾斜角度 0 1係對於溝槽中訊洞9之底面9a形成爲40度以上而未 滿90度。另外，最短之溝槽中訊洞長度a 1和最短之空 間長度A2之比A 1 /A2係約爲溝槽中訊洞9之深度的一半 値部份，而成爲0.8〜I.2，另外，由溝槽中訊洞9之底面 9a至最短空間8’a之高度hi和最短空間以外之空間8，b 的高度h2之比hl/h2爲0.95以上1.0以下。另一方面， 如第3 C圖所示’溝槽8係形成爲由剖面形狀爲平坦之底 面8a’和由底面8a之周圍立起之壁面8b所形成之略梯 形狀。另外’不用說，由基板1之平台面1 c至溝槽8之 底面8a之深度d2係形成爲比基板1之平台面ic至溝槽 -19- (15) 1238406 中訊洞9之底面9 a的深度d 1還淺。在本說明書中，所謂 「略梯形狀」是在數學上之完全的梯形之外，也包含：在 底面和傾斜之壁面相交之角落部及平台面1 c和傾斜之壁 面相交之角落部具有少許圓弧的形狀、或者各面具有少許 變形的形狀。另外，在本說明書中，所謂平坦之底面係指 具有與基板的平台面略微平行，而且在基板的半徑方向及 磁軌方向分別以至少5 Onm之寬度所劃定的平坦部之面。 接著’配合光資訊s5錄媒體之資訊的記錄再生方 式，形成在基板1之記錄層2可以利用低融點合金、相變 化型記錄材料、光磁性記錄材料、有機素色材料等而形 成。在第2圖中，記錄層2雖顯示爲單層，但是因應需要 也可以同種或者不同種之薄膜的積層體而形成記錄層2。 例如，在光磁性記錄媒體時，可藉由由無機介電質形成之 第1強化膜、由垂直磁化膜形成之光磁性記錄膜及由無機 介電質形成之第2強化膜所形成的積層體以形成記錄層。 形成在記錄層2上之反射層3係利用銀或者銀合 金、銘或絕合金、金或者金合金’駄或者欽合金等對於記 錄再生用光的光反射率高的金屬材料或者合金材料形成。 另外’在再生專用之光資訊記錄媒體時，也可以不形成記 錄層’而直接在基板的預設格式圖案形成面形成反射層。 保護層4係保護記錄層2及反射層3免於機械衝擊 或化學變化用之層，利用與構成上述強化膜之無機介電質 相同種類或者不同種之無機介電質或紫外線硬化樹脂等之 有機材料形成。另外，也可以在保護層4上介由紫外線硬 -20- (16) 1238406 化樹脂等而貼合表面平坦且與基板1同樣由塑膠形成的基 板（僞基板）以作爲覆蓋層。 本發明之光資訊記錄媒體的溝槽中訊洞之深度及記 錄層之膜厚係如下述所決定。在設記錄再生用光之波長爲 λ時’由基板射入而通過平台表面到達記錄層和反射層之 界面，由該界面反射，再度通過平台表面而被導入基板側 之光，和由基板反射，通過溝槽中訊洞之底面到達記錄層 和反射層之界面，由該界面反射，再度通過溝槽中訊洞而 被導入基板側之光的光路差成爲λ/6〜λ/3而調整那 些膜厚。另外，溝槽之深度係調整爲在設記錄再生用光之 波長爲λ時，由基板射入，通過平台表面到達記錄層和反 射層之界面，由該界面反射，再度通過平台表面而被導入 基板側之光，和由基板射入，通過溝槽的底面到達記錄層 和反射層之界面，由該界面反射，再度通過溝槽的底面而 被導入基板側之光的光路差成爲λ/16〜λ/8。 另外，如第4圖所示，依據記錄層2之種類或膜 厚，記錄層2和反射層3之界面不平坦，而形成爲因應溝 槽8及溝槽中訊洞9之表面形狀的凹處8’及9’。在此情 形下，預先由實驗求得凹處8 ’及9 ’的深度，因應該値而 調整溝槽中訊洞9之深度d 1、溝槽8之深度d2及記錄層 2之膜厚t的各値以滿足上述光路差之條件。 另外，直接在基板的預設格式圖案形成面形成反射 層3時，例如，在再生專用之光資訊記錄媒體中，設記錄 再生用光之波長爲λ，基板的折射率爲η時，溝槽中訊洞 -21 - (17) 1238406 之深度形成爲λ / 6η〜λ / 3n，溝槽之深度形成爲λ / 1 6n〜λ / 8n即可。 在本發明之光資訊記錄媒體中，溝槽中訊洞及溝槽 之剖面形狀都形成爲具有平坦底面之略梯形狀，所以與具 有底面並不平坦之溝槽的光資訊記錄媒體相比，可以獲得 穩定之徑向推挽訊號。另外，也可以降低由溝槽中訊洞所 檢測出之再生訊號的雜訊。藉由此，可以謀求光資訊記錄 媒體的高記錄密度化和再生訊號的高S/N化。 · 另外，如上述，面對形成在光資訊記錄媒體之基板 的溝槽中訊洞之磁軌方向的壁面之傾斜角度對於溝槽中訊 洞之底面係在40度以上而未滿90度，溝槽中訊洞之最短 預設訊洞長度和最短空間長度之筆爲溝槽中訊洞之深度的 一半値部份：0.8〜1.2，另外，由溝槽中訊洞之底面至最 短空間的高度和溝槽中訊洞之底面至最短空間以外的空間 之高度的比爲0.95〜1.0，所以能夠高調變度且低抖動地 獲得溝槽中訊洞之再生訊號。 ® 在本發明之別的實施形態中，係在光資訊記錄媒體 基板之形成預設格式圖案面設置：利用溝槽中訊洞而預先 記錄媒體資訊之媒體資訊記錄區域，和使用者進行資訊記 錄用之使用者記錄區域。藉由此，不需要在之後利用專用 的記錄裝置而一片片將媒體資訊記錄在光資訊記錄媒體的 記錄層，可以謀求光資訊記錄媒體之製造工程的簡化，及 光資訊記錄媒體之製造成本的降低。 形成在媒體資訊記錄區域的預設格式圖案係與上述 -22- (18) 1238406 實施形態相同，由具有平坦底面之略梯形溝槽狀的溝槽， 和配置在該溝槽而具有平坦底面之略梯形溝槽狀的溝槽中 訊洞所構成。在設時鐘週期爲T時，溝槽中訊洞係以 3T〜11T或者14T之其中一種長度所調變，依據這些長度 不同之多數的溝槽中訊洞的排列以記錄媒體資訊。 如第1 9 A圖所示，在設使用於資訊記錄及再生之雷 射光的波長爲λ，基板Γ之折射率爲η時，基板1 ’之平 台表面1’a至溝槽1 82的底面182a的深度，即溝槽深度 dg係形成爲比；I /4η稍微深一些。另外，由基板1’之平 台表面l’a至溝槽中訊洞183之底面183a之深度，即溝 槽中訊洞深度dp’係形成爲比溝槽深度dg’深。爲了容易 製造基板1 ’，溝槽深度dg ’和溝槽中訊洞深度dp，之比 〇1?’/(1§’係形成爲1.4$(1?’/(1§’$1.7之範圍。 另外，如第20圖所示，在不是由基板1”而是由覆蓋 層5 ”照射雷射光以進行資以進行資訊記錄及再生之光資 訊記錄媒體時，在設使用於資訊記錄及再生之雷射光的波 長爲λ，僞基板5”之折射率爲η時，基板1”之平台表面 l”a至溝槽201的底面201a的深度，即溝槽深度dg，係形 成爲比λ / 4η稍微深一些。另外，由基板1”之平台表面 l”a至溝槽中訊洞2〇2之底面2〇2a之深度，即溝槽中訊 洞深度dp’係形成爲比溝槽深度dg’深。爲了容易製造基 板1，溝槽深度dg，和溝槽中訊洞深度dp，之比dp，/dg，係 形成爲1.4^dp，/dg，S1.7之範圍。 另外，在苯實施形態之光資訊記錄媒體中，構成使 -23- (19) 1238406 用者記錄區域的預設格式圖案係與構成上述媒體資訊記錄 區域用之預設格式圖案相同’可由具有平坦底面之略梯形 溝槽狀的溝槽，和配置於該溝槽而具有平坦底面之略梯形 溝槽狀的溝槽中訊洞所構成’也可以不設置溝槽而設置追 跡控制用之擺動訊洞。 第1 9 A圖所示之記錄層2 ’係藉由將溶解於有機溶劑 之有機色素旋轉塗佈於基板1 ’之預設格式圖案形成面所 形成。在旋轉塗佈時由於受到離心力等之外力，記錄層 2’之表面並不平滑，而形成爲因應溝槽深度dg及溝槽中 訊洞深度dp之凹凸狀。記錄層2 ’係形成爲由基板1 ’之平 台表面1 ’ a上的記錄層2 ’和反射層3 ’之界面至溝槽中訊洞 1 8 3的記錄層2 ’和反射層3 ’之界面之記錄層凹處深度（記 錄層最大凹處深度）Tp比起由基板1’之平台表面l’a上 的記錄層2’和反射層3’之界面至溝槽182的記錄層2’和 反射層3’的界面之記錄層凹處深度（記錄層最大凹處深 度）Tg還厚。另外，形成爲記錄層最大凹處深度Tg和記 錄層最大凹處深度Tp的比Tp/Tg比起溝槽深度dg和溝槽 中訊洞深度dp之比dp/dg還大。藉由此，即使比dp/dg 無法形成爲可以獲得良好調變度和徑向推挽訊號之値時， 也可以使溝槽之雷射光的光路長和溝槽中訊洞之雷射光的 光路長的光路長差（与2x (Tp-Tg))變大。爲了以高訊 號調變度且低抖動再生媒體資訊，Tp/Tg形成爲1.6 € Tp/Tg $ 2.0之範圍。而且，關於長度不同之全部的溝槽中 訊洞，記錄層最大凹處深度Tp被調整爲相同程度的同 -24- (20) 1238406 時’ Tp/Tg之値也形成爲在上述之範圍內。另外，上述有 機色素材料例如可以使用偶氮系色素或花青系色素等，可 以適用在補記錄型光資訊記錄媒體之周知的有機色素材 料。 發明之最好實施形態 實施例1 以下，利用第5圖〜第16圖來說明本發明之第1實 施形態的光資訊記錄媒體之製造方法。 上述之光資訊記錄媒體係經過：在母盤之表面形成 所期望圖案之母盤灌製工程、依據灌製完畢之母盤以製作 壓模之壓模製作工程、以所製作之壓模來複製光資訊記錄 媒體之基板的基板製作工程及在所複製之基板上形成種種 模之成膜工程而製成。 [基板製作用之母盤及壓模之製作方法] 首先，利用第5圖〜第9圖來說明製作本發明之光 資訊記錄媒體的基板1之母盤及壓模之製作方法。如第 5A圖所示，準備直徑 200mm、厚度 6mm之玻璃母盤 5 1。接著，如第5B圖所示，利用旋轉塗佈法在玻璃母盤 51之一側表面51a上均勻形成厚度200nm之光阻52。接 著，將形成有光阻52之玻璃母盤51裝置於第5C圖所示 之母盤灌製裝置（母盤曝光裝置）50。母盤灌製裝置50 主要由：振盪波長35 lnm之雷射光的Kr*氣體雷射振盪器 -25- (21) 1238406 5 3、由音響光調變元件所形成之光調變器5 4、對光調變 器5 4給予調變訊號之訊號源5 5、聚焦透鏡5 6及使玻璃 母盤旋轉之驅動裝置（未圖示出）等構成。如第5C圖所 示，由母盤灌製裝置50之雷射振盪器53所射出的雷射光 LS，介由光調變器54及聚焦透鏡56而照射於玻璃母盤 51上之光阻52。此時，以玻璃母盤51之中心軸BX爲中 心而以特定之旋轉數使玻璃母盤5 1旋轉。另外，移動雷 射光LS (箭頭AR1 )以使玻璃母盤51上之雷射光LS的 照射位置係沿著玻璃母盤5 1之半徑方向而由玻璃母盤5 1 之內側往外側移動。 如上述般，一面移動雷射光LS —面利用光調變器54 而使照射於玻璃母盤5 1之雷射光LS的曝光強度改變。如 第6A圖所示，在本實施例中，使雷射光之曝光強度改變 爲低位準、高位準之2階段。形成不具有溝槽中訊洞形成 部份之溝槽形成部份時的曝光強度係設定爲低位準（以 下，稱爲溝槽位準）。另外，形成具有溝槽中訊洞形成部 份之溝槽形成部份時的曝光強度，關於溝槽中訊洞形成部 份，係設定爲高位準（以下，稱爲訊洞位準），關於其以 外之溝槽形成部份，設定爲溝槽位準。另外，在設訊洞位 準爲100%時，溝槽位準設定爲55%之曝光強度。藉由 此，相對於溝槽中訊洞形成部份之光阻係被曝光至光阻和 母盤之界面，溝槽形成部份之光阻並未被曝光至光阻和母 盤之界面。另外，如設時鐘週期爲T時，各溝槽中訊洞形 成部份係在磁軌方向以3T〜11T或者14T之其中一種通道 -26 - (22) 1238406 位元長形成。另外，時鐘週期T可因應使用之再生裝置而 適當做調整。 另外’在本實施例中，如第6 Α圖所示，每次使曝光 強度由溝槽位準切換爲訊洞位準，或者由訊洞位準切換爲 溝槽位準時，使溝槽中訊洞形成部份之曝光強度暫時成爲 比溝槽位準還低位準之期間（空白期間）BE。在本實施 例中，設空白期間BE之雷射光的曝光強度爲〇位準。藉 由設置空白期間，如第6B圖所示，溝槽中訊洞形成部份 62之前端部62a及後端部62b的光阻曝光量分別成爲相 當於雷射光點SP 1之半徑份的曝光量。藉由此，可以防止 相當於雷射光點SP 1之直徑的溝槽中訊洞之冗長。另外， 溝槽中訊洞形成部份之光阻係如上述以充分之曝光強度所 曝光，所以可以解除溝槽中訊洞形成部份之前端部及後端 部的光阻之曝光不足，可以形成溝槽中訊洞形成部之前端 部及後端部的壁面之傾斜角度成爲40度以上而未滿90度 之加工精度高的溝槽中訊洞形成部份。 空白期間BE係依據由光資訊記錄媒體所檢測之溝槽 中訊洞再生訊號的調變度、抖動及徑向推挽訊號之3種參 數而設定。另外，空白期間BE可以因應形成之溝槽中訊 洞的通道位元長而變更。在本實施例中，在最短通道位元 長3 T之溝槽中訊洞形成部份的曝光時，依據3種之參數 値而設空白期間BE爲0.2T。另外，關於上述空白期間之 設定方向，在以後加以說明。 接著，由灌製裝置取出光阻經過感光之玻璃母盤， -27- (23) 1238406 進行顯像處理。藉由此，如第7 A圖所示，在玻璃母盤5 1 上形成溝槽形成部份7 1、溝槽中訊洞形成部份7 2 °溝槽 形成部份7 1係形成爲剖面成爲V字狀之溝槽形狀°另 外，在溝槽中訊洞形成部份72中，藉由顯像處理’玻璃 母盤5 1上之光阻5 2被去除，玻璃母盤5 1之表面5 1 a顯 現爲露出部7 2 a。 接著，如第7B圖所示，利用未圖示出之RIE (反應 性離子蝕刻）裝置而在C2F6之氣體環境中蝕刻形成在玻 璃母盤51上之光阻52的表面。也可以代替Cj6而使用 CF4或C3F6等氣體。藉由此，溝槽中訊洞形成部份72分 別由玻璃母盤5 1之表面5 la被蝕刻90nm之深度。接 著，如第7C圖所示，爲了使溝槽形成部份7 1之玻璃母盤 5 1的表面5 1 a露出，利用未圖示出之利用02的光阻灰化 裝置，只削除特定厚度之光阻52。藉由此，使溝槽形成 部份71之玻璃母盤表面81a露出。另外，如第8A圖所 示，對於玻璃母盤51之光阻52，再度於C2F6之氣體環境 中進行RIE。藉由此，溝槽形成部份7 1由玻璃母盤表面 5 1a被蝕刻170 nm之深度。同時，溝槽中訊洞形成部份 72由玻璃母盤表面51a被蝕刻260nm之深度。接著，如 第8B圖所示，再度利用光阻灰化裝置（未圖示出），去 除玻璃母盤5 1上之光阻52。藉由此，獲得在表面形成所 期望之凹凸圖案的玻璃母盤51。 如此獲得之玻璃母盤的面對溝槽中訊洞形成部份的 磁軌方向之壁面的傾斜角度、溝槽中訊洞之深度的一半値 -28- (24) 1238406 部份的最短預設訊洞長和最短空間長以及由最短空間之溝 槽中訊洞底面的高度和由最短空間以外的空間的溝槽中訊 洞底面的高度之比，可利用原子間力顯微鏡而求得。 預設訊洞長3 T之溝槽中訊洞的溝槽中訊洞形成部份 之面對磁軌方向的壁面之傾斜角度爲6 0度。另外’具有 其以外之預設訊洞長的溝槽中訊洞形成部份之磁軌方向前 端部及後端部的壁面之傾斜角度都形成爲40度以上而未 滿90度。 ⑩ 溝槽中訊洞之深度的一半値部份之最短預設訊洞長 係形成爲 400nm〜420nm。另外’最短空間長係形成爲 3 5 5 nm〜3 7 5 nm 〇 最短空間之溝槽中訊洞底面起之高度（由最短空間 的溝槽中訊洞底面至溝槽底面之距離）係形成爲 9. Onm〜85 nm (由最短空間之溝槽中訊洞底面至平台面之 距離爲262nm〜2 5 8nm)。另外，最短空間以外之空間的 溝槽中訊洞底面起之高度係形成爲90nm〜85nm。因此， 馨 最短空間之溝槽中訊洞底面起之高度和最短空間以外之空 間的溝槽中訊洞底面起之高度的比係成爲0.95〜1.0。藉 由此，知道由任一種空間之溝槽中訊洞底面起之高度都形 . 成爲幾乎爲相同之高度位置。 接著，對上述玻璃母盤之圖案形成面施以無電解電 鍍以作爲電鍍之前處理。另外，藉由將此電鍍層當成導電 膜利用，由電鑄法形成厚度〇.3mm之Ni層。接著，硏磨 形成在上述玻璃母盤上之Ni層的表面，另外，由玻璃母 -29- (25) 1238406 盤剝離上述Ni層，獲得第9圖所示之壓模9 1。在壓模9 ! 之表面形成有形成於上述母盤之表面的凹凸圖案的反轉圖 案92。另外’也可以利用濺鍍法或蒸鑛法以進行上述電 鍍之前處理的導電膜形成。另外，也可以在壓模接著襯裏 材料等，追加其他工程以進行壓模之製作。 [光資訊記錄媒體之製作方法] 接著’利用第1 〇圖及第11圖說明光資訊記錄媒體 之製造方法。將上述壓模裝置於既有之射出成形裝置，以 射出成形以獲得基板1。基板1係直徑120mm、厚度 0.6mm之聚碳酸酯製基板，如第10圖所示，與形成在玻 璃母盤之溝槽形成部份或溝槽中訊洞形成部份等之凹凸圖 案形狀相同形狀的圖案被轉印於基板1之一面上（平台 7、溝槽8及溝槽中訊洞9 )。利用透過型電子顯微鏡 (TEM )觀察形成於此基板之溝槽中訊洞的底面。知道在 溝槽中訊洞之底面而於基板之半徑方向及磁軌方向分別存 在至少以5 Onm之寬度所劃定的平坦區域。同樣爲之，利 用透過型電子顯微鏡（TEM)觀察形成在基板之溝槽的底 面。知道在溝槽之底面而於基板之半徑方向及磁軌方向分 別存在至少以50nm之寬度劃定的平坦區域。 利用旋轉塗佈法將具有以下述化學式（1)所表示之 偶氮系色素1重量％之濃度的溶液塗佈在此基板1之圖案 形成面上，使得在溝槽間，即在平台部成爲厚度3〇nm。 此時，設上述溶液之塗佈量爲1 g，由開始塗佈起之3 0秒 -30- (26) 1238406 鐘，以lOOrpm之旋轉數，在其後之30秒鐘，以800〜 1 0 0 0 r p m之旋轉數使基板旋轉。另外，在塗佈上述色素溶 液之際，藉由將四氟丙醇當成溶媒使用而作爲偶氮系色素 溶媒，以過濾器加以過濾以去除不純物。另外，色素溶液 之旋轉塗佈係對於以基板1之旋轉中心爲基準，由半徑 2 1 · 0 m m起之外圍部份進行。接著，將塗佈上述色素材料 之基板1以70°C、1小時加以乾燥，進而在室溫冷卻1小 時。如此，在基板1上形成記錄層2(參考第11圖）。 另外，旋轉塗佈時受到離心力等之外力，所以記錄層2之 表面並不平滑，形成爲因應溝槽之深度以及溝槽中訊洞之 深度的凹凸狀。
另外如第1 1圖所示，利用濺鍍法在記錄層2上形成 Ag合金厚度l〇〇nm以作爲反射層3。接著，藉由旋轉塗 佈法在反射層3上形成紫外線硬化樹脂4厚度1 〇 m，進 而在其上對準中心而載置與基板1同樣厚度〇.6mm之聚 碳酸酯製基板（僞基板）5。在此狀態下，對形成有各層 之基板1照射紫外線以使紫外線硬化樹脂4固化，接合形 成有各層之基板1和僞基板5。由此獲得光資訊記錄媒體 -31 - (27) 1238406 [空白期間之設定方法] 以下利用第1 2圖〜第1 6圖以說明空白期間之設定 方法。第1 2 A圖〜第1 2C圖係顯示利用改變空白期間以 進行灌製之3種母盤所製作的各基板之3 T訊號記錄部 (預設訊洞長3 T以及空間長3 T )之磁軌方向的剖面形狀 及平面形狀。另外，這些剖面形狀及平面形狀之測量都是 利用原子間力顯微鏡進行。第1 2 A圖係顯示不設置空白 期間（空白期間〇 )時之基板的磁軌方向的剖面形狀（參 考記號A-1)及平面形狀（參考記號A-2)，第12B圖係 顯示空白期間0.2T時之基板的磁軌方向的剖面形狀（參 考記號B-1)及平面形狀（參考記號B-2)，第12C圖係 顯示空白期間〇 . 3 T時之基板的磁軌方向的剖面形狀（參 考記號C-1)及平面形狀（參考記號C-2)。由這些圖’ 關於空白期間和預設訊洞尺寸，得知有以下之關係。在不 設置空白期間或者空白期間過小時’例如如第1 2 A圖所 示，預設訊洞尺寸變大’因此空間尺寸變小。相對於此’ 例如如第1 2 C圖所示，如空白期間過大，預設訊洞尺寸變 小，因此空間尺寸變大。在本實施例中，如第1 2 B圖所 示，在設空白期間爲〇.2T時，3T預設訊洞之尺寸和3T 空間之尺寸幾乎相等，可以獲得所期望之預設訊洞尺寸及 空間尺寸。 接著，第13Α圖〜第13C圖係顯示在上述3種基板 之預設格式圖案形成面上分別以2 0 0 n m之膜厚塗佈色素 (28) 1238406 記錄膜之光資訊記錄媒體的磁軌方向的剖面形狀及平面形 狀。第1 3 A圖係顯示不設定空白期間（空白期間〇 )時之 光資訊記錄媒體的磁軌方向的剖面形狀（參考記號A ’ _ 1 )及平面形狀（參考記號A’-2 )，第13B圖係顯示空白 期間〇 · 2 T時之光資訊記錄媒體的磁軌方向之剖面形狀 (參考記號B’-l)及平面形狀（參考記號B’-2)，第 1 3 C圖係顯示空白期間0.3 T時之光資訊記錄媒體的磁軌 方向之剖面形狀（參考記號C ’ -1 )及平面形狀（參考記 號C’-_2 )。另外，第14圖係顯示空白期間0.2T時之光資 訊記錄媒體的與磁軌方向正交之方向的剖面形狀（參考記 號A”_l )及平面形狀（參考記號A”-2 )。另外，這些剖 面形狀及平面形狀之測量係與上述相同’利用原子間力顯 微鏡進行。如第1 3 A圖〜第1 3 C圖所示，在記錄膜之表 面形成對應形成在基板之溝槽中訊洞的形狀之凹處。在不 設置空白期間或者空白期間過小時，例如如第1 3 A圖所 示，預設訊洞尺寸變大，因應預設訊洞之增大的長度’空 間尺寸變小。相對於此，如第13 C圖所示，空白期間過大 時，預設訊洞尺寸變小，因應預設訊洞之縮小的長度’空 間尺寸變大。在本實施例中’如第1 3 B圖所示’在設空白 期間爲0.2T時，3T預設訊洞之尺寸和3T空間之尺寸幾 乎相等。另外，在此情形下，如第14圖所示，在記錄膜 之表面形成對應形成在基板之溝槽中訊洞及溝槽之個別深 度的凹處。由於此凹處深度的不同，可以光學地便是溝槽 中訊洞和溝槽。 -33- (29) 1238406 第1 5 A圖〜第1 5 C圖係分別顯示種種改變空白期間 時的3 T訊號記錄部的調變度的變化、抖動的變化及徑向 推挽訊號的變化。另外，第1 6 A圖係彙整顯示形成中等 尺寸（光資訊記錄媒體之半徑方向的寬度爲 3 3 0nm〜3 60nm之程度）的溝槽中訊洞時對空白期間之調 變度的變化、抖動的變化及徑向推挽訊號的變化。另外， 第16B圖係顯示第16A圖之調變度的變化、抖動的變化 及徑向推挽訊號的變化和工作比之關係。此處，所謂工作 比係指被調整爲成爲相同長度之溝槽中訊洞和空間（溝 槽）的實際的長度比。工作比係以佔有溝槽中訊洞和空間 之長度的合計之實際的空間長之比例來表示。另外，在這 些圖中，訊洞大係顯示藉由曝光時照射高強度之雷射光， 會形成大尺寸（光資訊記錄媒體之半徑方向的寬度在 3 60nm以上）之溝槽中訊洞的光資訊記錄媒體之資料，訊 洞中係顯示藉由曝光時照射中強度之雷射光，會形成中等 尺寸之溝槽中訊洞的光資訊記錄媒體之資料，訊洞小係顯 示藉由曝光時照射低強度之雷射光，會形成小尺寸（光資 訊記錄媒體之半徑方向的寬度在3 3 0nm以下）之溝槽中 訊洞的光資訊記錄媒體之資料。另外，使用之試料係使用 如上述在3種之基板上分別以旋轉塗佈法形成2 0 〇 nm之 膜厚之色素層，接著，與實施例1相同，在該色素層上以 濺鍍形成1〇〇 nm之膜厚的Ag反射層，另外在Ag反射層 上介由紫外線硬化樹脂而貼合僞基板之光資訊記錄媒體。 如第1 5 A圖所示，依據訊洞尺寸之不同，由光資訊 -34- (30) 1238406 記錄媒體所讀出之訊號的調變度在該調變度成爲最大時的 空白期間不同。另外，如第1 5B圖所示，依據訊洞尺寸之 不同’由光資訊記錄媒體所讀出之訊號的抖動在其抖動成 爲最小時之空白期間不同。另外，如第1 5 C圖所示，由光 資訊記錄媒體所檢測之徑向推挽訊號係隨著空白期間變大 而降低。例如，如第1 6 A圖所示，在訊洞尺寸爲中等尺 寸之情形，於空白期間爲0.2T時，調變度最大且抖動最 小，可以獲得足夠高之徑向推挽訊號。另一方面，訊洞尺 寸爲大尺寸之情形，在空白期間爲0.4T時，雖可以獲得 最大的調變度，但是抖動變大，並非最適當。相對於此， 訊洞尺寸爲小尺寸之情形，在空白期間爲0時，雖可以抖 動變小，但是伴隨此，調變度也降低，所以也並非最適 當。因此，在形成3 T之溝槽中訊洞時，設溝槽中訊洞之 訊洞尺寸爲中等尺寸，空白期間爲0.2T時最爲適當。另 外，如第16B圖所示，此時之工作比大約爲〇. 5，了解到 被調整爲在磁軌方向成爲相同長度之溝槽中訊洞和空間實 際上被形成爲相同長度。另外，最適當之空白期間係依據 形成之溝槽中訊洞的訊洞長度而改變，所以關於各訊涧 長，可以與上述相同之方法求得最適當之空白期間。 實施例2 利用第1 7圖〜第1 9圖來說明本發明之光資訊記錄 媒體的第2實施例。在本實施例之光資訊記錄媒體中，如 第1 7圖所示，在預設格式圖案形成區域由記錄媒體資訊 -35- (31) 1238406 之媒體資訊記錄區域1 70b，和記錄使用者資訊之使用者 記錄區域1 7 0 b構成以外，係與實施例1相同地構成。媒 體資訊記錄區域1 70b係以具有溝槽中訊洞之溝槽形成， 以中心AX’爲基準而形成在半徑23.9mm〜24mm之範圍。 另一方面，使用者記錄區域1 70c只以溝槽形成，以中心 AX’爲基準而形成在半徑 21mm〜23.9mm之範圍及半徑 24mm〜5 8 mm之範圍。另外，使用者記錄區域170c之溝槽 深度和媒體資訊記錄區域1 70b之未形成溝槽中訊洞之部 份的溝槽深度係相同。 第1 8圖係顯示本實施例之光資訊記錄媒體的媒體資 訊記錄區域170b的槪略上視圖。另外，第19A及第19B 圖係顯示第18圖之C-C線剖面圖及D-D線剖面圖。如第 1 9 A圖所示，本實施例之光資訊記錄媒體係在基板1 ’之預 設格式圖案形成面上依序形成記錄層2 ’、反射層3 ’、保 護層4 ’及覆蓋層5 ’。關於此光資訊記錄媒體，利用數位 儀器公司製造之掃描型探測顯微鏡來測量溝槽1 82之記錄 層最大凹處深度（由基板之平台表面上的記錄層與反射層 之界面至上述溝槽的記錄層與反射層之界面的記錄層之凹 處深度）Tg，和溝槽中訊洞1 83之記錄層最大凹處深度 (由基板之平台表面上的記錄層與反射層之界面至上述溝 槽中訊洞之記錄層與反射層之界面的記錄層之凹處深度） Tp。溝槽182之記錄層最大凹處深度Tg約爲lOOum，溝 槽中訊洞183之記錄層最大凹處深度Tp約爲170nm。依 據此，溝槽1 82之記錄層最大凹處深度Tg和溝槽中訊洞 -36- (32) 1238406 183之記錄層最大凹處深度Tp之比 Tp/Tg=1.70。溝槽 182 之深度 dg=170nm，溝槽中訊洞 183 之深度 dp = 250nm，比値 dp/dg=1.47，得知滿足 dp/dg<Tp/Tg 之關 係。另外，得知 1 · 1 5 < ( Tp/Tg ) / ( dp/dg )。 另外，將此光資訊記錄媒體裝置於具備產生波長 6 5 0 n m之雷射光的光拾取頭的驅動裝置，再生以溝槽中訊 洞方式記錄在媒體資訊記錄區域之媒體資訊。此時之再生 訊號的訊號調變度爲6 1 %，抖動爲7.2 %，知道實用上具 有足夠之記錄再生特性。 變形例1 利用第2 0圖說明實施例2之變形例。如第2 0圖所 示，本變形例之光資訊記錄媒體係一種在基板1，，之預設 格式形成面上依序形成反射層3 ”、記錄層2 ”、保護層4，， 及覆蓋層5”之光資訊記錄媒體，由覆蓋層5”側而非由基 板1 ”側照射記錄再生用之雷射光，以進行光資訊記錄媒 體之資訊記錄再生。關於此光資訊記錄媒體，也是平坦形 成溝槽201的底面201a及溝槽中訊洞202之底面202a的 同時，基板1”之溝槽深度dg’和溝槽中訊洞深度dp，之比 對於溝槽2 0 1部份的記錄層最大凹處深度（由基板之平台 表面上的記錄層與保護層之界面至上述溝槽之記錄層與保 護層之界面的記錄層之凹處深度）Tg’和溝槽中訊洞202 部份之記錄層最大凹處深度（由基板之平台表面上的記錄 層與保護層之界面至上述溝槽中訊洞之記錄層與保護層之 -37- (33) 1238406 界面的記錄層之凹處涂度）T P ’之比，藉由使之滿足 (1?，/(1§，<了？’/丁§’之條件，可以獲得與實施例2相同之效 果。另外，保護層4”係設置爲防止記錄層2”之劣化用， 可將銀或者銀合金等之金屬材料或SiN等之無機介電質材 料濺鍍成lnm〜l〇nm之厚度’或者以旋轉塗佈4 -嗎啉-2,5 -二丁氧基重氮鏺三氟甲院磺酸鹽和聚乙燒吼略院酮之 水溶液等而得。此時，保護層4”之膜厚以1〇〇 nm〜1 μπι之 程度爲最適當。另外，覆蓋層5”係保護記錄層2”免於機 械衝擊或化學變化者，可介由紫外線硬化樹脂而貼合表面 與平坦之基板1”同樣的塑膠基板。 在上述實施例中，雖藉由照射利用訊洞位準及溝槽 位準之2階段的曝光強度而連續調變的雷射光以曝光形成 在母盤上之光阻，但是也可以一開始即對光阻照射溝槽位 準之曝光強度的雷射光，曝光對應溝槽之圖案，接著，照 射訊洞位準之曝光強度的雷射光，曝光對應溝槽及溝槽中 訊洞之圖案。另外，雖設空白期間之曝光強度（第3曝光 強度）爲〇，當然也可以設爲曝光溝槽時的強度（第1曝 光強度）的1/2、1/3、1/4等之強度。 在上述實施例中，作爲玻璃母盤之蝕刻手段雖使用 RIE，當然也可以利用其他之物理或者化學的蝕刻手段。 可因應坡璃或金屬等所使用之母盤材料而選擇種種之蝕刻 手段。 在上述實施例中，雖設色素溶液之塗佈條件爲：塗 佈量lg、塗佈開始時的基板旋轉數lOOrpm、塗佈開始之 -38- (34) 1238406 lOOrpm的旋轉數保持時間30秒、甩掉多餘溶液之旋轉數 8 00〜lOOOrpm及其保持時間30秒，當然只要是可在基板 之表面均勻形成l〇nm〜5 Onm膜厚之記錄層的塗佈條件， 也可設爲其他之塗佈條件。 另外，在上述實施例中，雖設爲在單面具有僞基板 之單板構造的光資訊記錄媒體，也可以設爲準備2片在預 設格式圖案形成面上形成記錄層和反射層之基板，介由由 UV樹脂形成之接著層而相互貼合個別之反射面以做成之 兩面貼合型光資訊記錄媒體。 產業上之利用可能性 如依據本發明，在母盤曝光之際，藉由設置空白期 間，可以防止溝槽中訊洞之雷射光的光點直徑份的冗長。 另外，空白期間係依據由光資訊記錄媒體所檢測出之溝槽 中訊洞再生訊號的調變度、抖動以及徑向推挽訊號値而設 定，所以可以製造具有良好之記錄再生特性或追跡特性之 光資訊記錄媒體。 另外，在本發明之光資訊記錄媒體中’在光資訊記 錄媒體之基板的預設格式形成面預先設置利用溝槽中訊洞 以記錄媒體資訊之媒體資訊記錄區域，和使用者進行資訊 記錄用之使用者記錄區域，所以不需要之後利用專用的記 錄裝置而將媒體資訊一片一片寫入光資訊記錄媒體之記錄 層，可以謀求光資訊記錄媒體之製造工程的簡化、及光資 訊記錄媒體之製造成本的降低。 -39 - (35) 1238406 另外，在本發明中，藉由在具有平坦底面之溝槽及 溝槽中訊洞上形成含有有機色素之記錄層，與以溝槽寬度 之寬窄以記錄媒體資訊之情形不同，可以使溝槽部份之記 錄層的高度位置和溝槽中訊洞部份之記錄層的高度位置之 差變大。另外，不管溝槽中訊洞之磁軌方向長度的不同， 可以使記錄層之凹處深度成爲相同。藉由此，可以高調變 度且低抖動讀出利用溝槽中訊洞所記錄之媒體資訊等之資 訊。另外，利用溝槽中訊洞而非溝槽的寬幅部以記錄資 訊，所以軌距之窄化成爲可能，可以謀求記錄容量之增 加。 另外，即使假如溝槽中訊洞深度dp和溝槽深度dg 之比dp/dg未能形成爲可以獲得所期望之訊號調變度及徑 向推挽訊號之値時，使溝槽中訊洞部份之記錄層凹處深度 Tp和溝槽部份之記錄層凹處深度Tg滿足dp/dg<Tp/Tg之 關係而在基板上形成含有有機色素之記錄層之故，所以可 以獲得記錄訊號再生時足夠之光路長差。因此，可以淺一 些形成溝槽中訊洞深度dp對基板之溝槽深度dg，母盤之 灌製或基板形成變得容易。藉由此，可以降低光資訊記錄 媒體之製造成本。 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明之實施形態的光資訊記錄媒體之平面 圖。 第2圖係本發明之實施形態的光資訊記錄媒體之剖面 -40- (36) 1238406 圖。 第3 A圖係本發明之實施形態的基板的平面圖，第3 B 圖係第3A之A-A線剖面圖’弟3C圖係弟3A圖之B-B線剖面 圖。 第4圖係本發明之別的實施形態的光資訊記錄媒體之 剖面圖。 第5A〜第5C圖係說明使用在本發明之實施例1的光資 訊記錄媒體之製造的母盤製作方法圖。 第6 A圖係顯示使用於實施例1之母盤曝光的雷射光之 曝光強度的時間變化圖，第6B圖係顯示對應之溝槽中訊洞 形成部份及溝槽形成部份的尺寸關係圖。 第7 A〜第7C圖係說明實施例1之母盤的製作方法圖。 第8 A圖及第8B圖係說明實施例1之母盤的製作方法圖 〇 第9圖係在實施例1所製作的壓模之槪略剖面圖。 第1 〇圖係在實施例1所獲得之基板的壓模形成面的槪 略斜視圖。 第1 1圖係在實施例1所獲得之光資訊記錄媒體的溝槽 中訊洞區域的槪略剖面圖。 第12A〜第12 C圖顯示利用改變空白期間以進行灌製之 3種母盤而製作之各基板的3 T訊號記錄部的磁軌方向的剖 面形狀及平面形狀，第12A圖係顯示空白期間0T時，第 12B圖係顯示空白期間〇.2T時，第12C圖係顯示空白期間 0.3T 時。 (37) 1238406 第1 3 A〜第1 3 C圖係顯示以2 0 0 n m之膜厚分別在利用改 變空白期間以進行灌製之3種母盤所製作的各基板之預設 格式圖案形成面上塗佈色素記錄膜之光資訊記錄媒體的磁 軌方向的剖面形狀及平面形狀，第1 3 A圖係顯示沒有空白 期間時，第1 3 B圖係顯示空白期間0.2 T時，第1 3 C圖係顯 示空白期間0.3T時。 第14圖係顯示空白期間0.2T時之與磁軌方向正交的方 向之光資訊記錄媒體的剖面形狀及平面形狀。 ® 第15A〜第15C圖係分別顯示種種改變空白期間時之3T 訊號記錄部的調變度、抖動的變化及徑向推挽訊號的變化 圖。 第16A圖係顯示形成中型尺寸之溝槽中訊洞時的空白 期間之調變度的變化、抖動的變化及徑向推挽訊號的變化 圖，第1 6B圖係顯示第1 6 A圖之調變度的變化、抖動的變 化及推挽訊號的變化，和工作比之關係圖。 第17圖係本發明之實施例2的光資訊記錄媒體之平面 鲁 圖。 第1 8圖係顯示實施例2之光資訊記錄媒體的溝槽中訊 洞區域的槪略上視圖。 第19A圖係第18圖之C-C線剖面圖，第19B圖係第18圖 之D-D線剖面圖。 第20圖係本發明之變形例1之光資訊記錄媒體的溝槽 中訊洞區域的槪略剖面圖。 第2 1 A圖係具有習知的溝槽中訊洞之光資訊記錄媒體 -42- (38) 1238406 用基板的溝槽中訊洞區域的改略上視圖，第2 1 B圖係第 21A之A’-A’線剖面圖，第21C圖係第21人圖之：8’-；6’線剖面 圖。 第22 A圖係顯示使用於習知的母盤曝光之雷射光的曝 光強度之時間變化圖，第22B圖係顯示對應之溝槽中訊洞 形成部份及溝槽形成部份的尺寸關係圖。 第23圖係顯示在習知的DVD-R等所採用之溝槽及預設 訊洞的圖案圖。 _ 第24圖係顯示習知的溝槽中訊洞的剖面形狀圖。 【符號說明】 1:基板，2:記錄層，3:反射層，4:保護層，5: 覆蓋層，8 :溝槽，9 :溝槽中訊洞，1 〇、i i 〇 :光資訊記 錄媒體’ 5 0 :母盤灌製裝置，5丨：玻璃母盤，5 2 :光阻， 9 1 :壓模，B E :空白期間 -43 -