JP2001067733A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高Ｓ／Ｎかつ高記録密度の光情報記録媒体を
提供すること、並びに、かかる光情報記録媒体を製造可
能な方法を提供すること。 【解決手段】 光情報記録媒体用の基板１に、プリピッ
ト４と記録再生用光の案内溝５とを形成する。プリピッ
ト４及び案内溝５の断面形状は、共に平坦な底面又は頂
面を有する台形とし、プリピット４の深さ又は高さを案
内溝５の深さ又は高さよりも大きくする。このような基
板１は、原盤のカッティング時に、例えばリアクティブ
・イオン・エッチング装置によって、原盤に前記プリピ
ット４及び案内溝５に相当する溝を直接カッティングす
ることによって形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体及
びその製造方法に係り、特に、基板に形成されるプリピ
ット及び案内溝の断面形状並びにサイズと、所望の断面
形状及びサイズのプリピット並びに案内溝を有する基板
の製造方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、光ディスクで代表される
光情報記録媒体は、所要のプリフォーマットパターンが
形成された基板と、当該基板のプリフォーマットパター
ン形成面に担持された少なくとも記録膜又は反射膜を含
む１層又は複数層の薄膜とを有しており、従来より知ら
れている光情報記録媒体には、プリフォーマットパター
ンとして、レーザビームの案内溝と情報信号を基板表面
に凹凸の形で記録したプリピットとを備えたものが知ら
れている。

【０００３】この種の情報記録媒体には、プリピットが
案内溝上に形成されたイングルーブ方式の情報記録媒
体、プリピットが相隣接する案内溝の間のランド部に形
成されたオンランド方式の情報記録媒体及びプリピット
の形成領域と案内溝の形成領域とが基板の面方向に関し
て分離されたパーシャルＲＯＭ方式の情報記録媒体とが
あるが、いずれの方式の情報記録媒体についても、記録
再生用光の波長をλ、基板の屈折率をｎとしたとき、プ
リピットについては、変調度が大きな再生信号を得るた
め、λ／６ｎ〜λ／３ｎ、より好ましくはλ／４ｎの深
さに形成され、案内溝については、再生信号のＳ／Ｎを
害することなく必要レベルのトラッキング信号を得るた
め、λ／１６ｎ〜λ／８ｎの深さに形成される。

【０００４】プリフォーマットパターンを有する基板の
形成は、所望のプリフォーマットパターンがカッティン
グされた原盤にニッケル等の金属を電鋳してプリフォー
マットパターンの反転パターンが転写されたスタンパを
作製し、当該スタンパを原型として前記反転パターンの
反転パターン、即ち原盤にカッティングされたプリフォ
ーマットパターンが転写された基板を得るという方法が
とられる。なお、スタンパからその反転パターンが転写
されたマザースタンパを作製し、当該マザースタンパを
原型としてその反転パターンが転写された基板を得ると
いう方法をとった場合には、基板に形成されるプリフォ
ーマットパターンは、原盤にカッティングされたプリフ
ォーマットパターンと凹凸の向きが逆になり、プリピッ
ト及び案内溝はミラー面に対して凸の形になる。しかし
ながら、プリピット及び案内溝がミラー面に対して凸の
形に形成されても凹の形に形成されても、その断面形状
と寸法（深さ又は高さ）が同一であれば、そこから光学
的に読み出される信号は互いに等価であるので、本明細
書においては、スタンパを原型として直接形成され、プ
リピット及び案内溝がミラー面に対して凹の形に形成さ
れた基板を有する光情報記録媒体を例にとって説明す
る。

【０００５】所望のプリフォーマットパターンが転写さ
れた基板の作製は、前記スタンパを射出成型用の金型内
に設定して、表面に所望のプリフォーマットパターンが
転写された樹脂基板を射出成形する方法（射出成型法）
か、前記スタンパと表面が平滑に形成された基板との間
で液状樹脂を均一に展伸し、樹脂硬化後、スタンパと樹
脂層との界面を剥離して、所望のプリフォーマットパタ
ーンが転写された樹脂層を有する基板を得る方法（２Ｐ
法）で行われる。

【０００６】原盤に深いプリピットと浅い案内溝とをカ
ッティングする方法としては、従来より、（ａ）原盤ガ
ラスの片面に形成された均一厚さのフォトレジスト層
に、光情報記録媒体に形成しようとするプリフォーマッ
トパターンの記録信号にて強度変調されたレーザビーム
を照射し、プリピットを形成しようとする部分を高強度
のレーザビームにて露光すると共に案内溝を形成しよう
とする部分を低強度のレーザビームにて露光して、現像
後、原盤ガラスの表面にまで達する深いプリピットと、
原盤ガラスの表面にまで達しない浅い案内溝を形成する
方法、（ｂ）原盤ガラスの片面に形成された均一厚さの
フォトレジスト層に、光情報記録媒体に形成しようとす
るプリピットの記録信号にて強度変調された高強度のレ
ーザビームを照射すると共に、このようにして露光され
たプリピット列に隣接するランド部を低強度のレーザビ
ームにて露光して、現像後、原盤ガラスの表面にまで達
する深いプリピットと、原盤ガラスの表面にまで達しな
い浅い案内溝を形成する方法がある。

【０００７】このような方法で作製された原盤は、プリ
ピットについては、溝の底面が原盤ガラスの表面にて構
成されるため、断面形状が平坦な底面を有する略台形に
なるが、案内溝については、溝の底面が原盤ガラスの表
面にて構成されず、しかもレーザビームはビーム断面内
の強度分布がガウシアン分布になっているために、断面
形状が明瞭な底面を有しない略三角形若しくは略円弧形
になり、その溝面も、レーザビーム強度の変動などによ
って平滑ではなく、粗面状態になる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光情報記録
媒体の技術分野においては、近年、記録密度のより一層
の高密度化が強く求められており、比較的浅い案内溝を
有する基板に相変化型記録膜を担持したＤＶＤ−ＲＷ等
の媒体が提案されている。

【０００９】光情報記録媒体の高密度化は、プリピット
及び情報記録ピット（記録用光を照射することによって
記録膜に形成されるピットであって、相変化型光情報記
録媒体における相変化部及び光磁気記録媒体における磁
化反転部を含む。）の微小化と案内溝やプリピット列に
よって画定されるトラックピッチの微小化を図ることに
よって実現されるが、従来構造の光情報記録媒体、即
ち、案内溝の断面形状が略三角形若しくは略円弧形でそ
の溝面が粗面状態になっている光情報記録媒体において
は、プリピットや情報記録ピットの微小化によって検出
される再生信号のレベルが必然的に低下し、案内溝によ
るノイズが相対的に大きくなるため、再生信号のＳ／Ｎ
が低下し、高Ｓ／Ｎかつ高記録密度の光情報記録媒体を
得ることが困難である。かかる不都合は、光情報記録媒
体の記録密度が高くなるほど顕著になる。

【００１０】本発明は、上記した従来技術の不都合を解
決するためになされたものであり、その課題とするとこ
ろは、高Ｓ／Ｎかつ高記録密度の光情報記録媒体を提供
すること、並びに、かかる光情報記録媒体を製造可能な
方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するため、光情報記録媒体に関しては、プリピット
と記録再生用光の案内溝とが転写された基板を備えた情
報記録媒体において、前記プリピット及び案内溝の断面
形状が、共に平坦な底面又は頂面を有する台形に形成さ
れ、かつ前記プリピットの深さ又は高さが、前記案内溝
の深さ又は高さよりも大きく形成されているという構成
にした。

【００１２】かかる構成によると、案内溝の断面形状が
平坦な底面又は頂面を有する台形に形成されるため、案
内溝から検出されるトラッキングエラー信号を安定化す
ることができ、プリピットや情報記録ピットから検出さ
れる再生信号のレベルに対するノイズを相対的に減少す
ることができるので、再生信号のＳ／Ｎを高レベルに維
持しつつ、記録密度の高密度化を図ることができる。

【００１３】なお、本発明は、プリピットが案内溝上に
形成されたイングルーブ方式の光情報記録媒体、プリピ
ットが隣接する２条の案内溝間のランド部に形成された
オンランド方式の光情報記録媒体、及びプリピットと案
内溝とが基板の異なる領域内に分離して形成されたパー
シャルＲＯＭ方式の光情報記録媒体のいずれにも適用す
ることができる。また、パーシャルＲＯＭ方式の光情報
記録媒体については、プリピット列からなる情報トラッ
クと案内溝からなる情報トラックとを連続させることも
できるし、不連続にして、プリピットの形成領域と案内
溝の形成領域との間にプリピット及び案内溝を有しない
ミラー部を設けることもできる。

【００１４】一方、かかる光情報記録媒体の製造方法に
関しては、原盤ガラスの表面に形成されたフォトレジス
ト層にプリピットに相当する溝や案内溝に相当する溝を
形成し、これをスタンパに転写するといった従来の方法
に代えて、原盤自体にプリピットに相当する溝や案内溝
に相当する溝をエッチングにて形成し、これをスタンパ
に転写するといった構成にした。

【００１５】この方法によると、原盤の表面に形成され
たフォトレジスト層を当該原盤にエッチングを施す際の
マスクとして利用することができるので、露光処理と現
像処理とでフォトレジスト層の形成範囲を調整し、原盤
に対するプリピット形成部のエッチング量と案内溝形成
部のエッチング量とを適宜調整することによって、断面
形状が共に略台形で深さが異なるプリピットと案内溝を
有する原盤、ひいては光情報記録媒体用の基板を作製す
ることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】第１実施形態例に係る光情報記録
媒体を、図１乃至図３に基づいて説明する。図１は第１
実施形態例に係る光情報記録媒体の平面図、図２は第１
実施形態例に係る光情報記録媒体の要部平面図、図３は
第１実施形態例に係る光情報記録媒体の要部断面図であ
る。

【００１７】これらの図から明らかなように、本例の光
情報記録媒体は、平面形状がセンター孔１ａを有する円
板状に形成され、片面にイングルーブ方式のプリフォー
マットパターン１ｂが形成された基板１と、当該基板１
のプリフォーマットパターン形成面に担持された記録膜
２と、当該記録膜２を覆う保護膜３とから構成されてい
る。

【００１８】基板１としては、射出成形法、圧縮成形
法、射出圧縮成形法などをもって所要の形状及びサイズ
に成形されたプラスチック基板を用いることもできる
し、２Ｐ法をもって作製されたガラス基板を用いること
もできる。

【００１９】プリフォーマットパターン１ｂは、信号を
光学的に読み出すためのプリピット４と、記録再生用光
を案内するための案内溝５とからなり、プリピット４は
案内溝５上に形成されている。これらプリピット４及び
案内溝５からなるプリフォーマットパターン１ｂは、前
記センター孔１ａと同心の渦巻状又は同心円状に形成さ
れる。

【００２０】前記プリピット４は、図３に示すように、
断面形状が平坦な底面を有する略台形に形成される。ま
た、前記案内溝５も、図３に示すように、断面形状が平
坦な底面を有する略台形に形成される。なお、本明細書
において「略台形」とは、完全な台形のほかに、底面と
側面とが交わる角部及びランド面と側面とが交わる角部
に若干の丸みを有するものをも含むことを意味する。プ
リピット４の深さは案内溝５の深さよりも深く、記録再
生用光の波長をλ、基板の屈折率をｎとしたとき、プリ
ピット４はλ／６ｎ〜λ／３ｎ、より好ましくはλ／４
ｎの深さに形成され、案内溝５はλ／１６ｎ〜λ／８ｎ
の深さに形成される。

【００２１】記録膜２は、光情報記録媒体に要求される
情報の記録再生方式に合わせて、低融点合金、相変化型
記録材料、光磁気記録材料、有機色素材料などをもって
形成される。なお、図３においては、記録膜２が単層で
表示されているが、必要に応じて、同種又は異種の薄膜
の積層体をもって記録膜２を形成することもできる。例
えば、光磁気記録媒体については、第１エンハンス膜と
光磁気記録膜と第２エンハンス膜と反射膜の積層体をも
って記録膜２を形成することができる。なお、再生専用
タイプの光情報記録媒体については、記録膜２に代えて
反射膜が基板１のプリフォーマットパターン形成面に形
成される。

【００２２】保護膜３は、記録膜２を機械的衝撃や化学
変化から保護するためのものであって、無機誘電体や、
光硬化性樹脂などの有機材料をもって形成される。

【００２３】本例の光情報記録媒体は、案内溝５の断面
形状を、平坦な底面を有する略台形に形成したので、案
内溝５から検出されるトラッキングエラー信号を安定化
することができ、プリピット４や情報記録ピット（図示
省略）から検出される再生信号のレベルに対するノイズ
を相対的に減少できることから、再生信号のＳ／Ｎを高
レベルに維持しつつ、ピットの微少化とトラックピッチ
の微少化による記録密度の高密度化を図ることができ
る。

【００２４】第２実施形態例に係る光情報記録媒体を、
図４及び図５に基づいて説明する。図４は第２実施形態
例に係る光情報記録媒体の要部平面図、図５は第２実施
形態例に係る光情報記録媒体の要部断面図である。

【００２５】これらの図から明らかなように、本例の光
情報記録媒体は、基板１の片面に、オンランド方式のプ
リフォーマットパターン１ｂを形成したことを特徴とす
る。その他については、第１実施形態例に係る光情報記
録媒体と同じであるので、重複を避けるために説明を省
略する。本例の光情報記録媒体も、第１実施形態例に係
る光情報記録媒体と同様の効果を有する。

【００２６】第３実施形態例に係る光情報記録媒体を、
図６及び図７に基づいて説明する。図６は第３実施形態
例に係る光情報記録媒体の要部平面図、図７は第３実施
形態例に係る光情報記録媒体の要部断面図である。

【００２７】これらの図から明らかなように、本例の光
情報記録媒体は、基板１の片面に、パーシャルＲＯＭ方
式のプリフォーマットパターン１ｂを形成し、プリピッ
トの形成領域（ＲＯＭ領域）６に形成されたプリピット
列からなるトラックと案内溝の形成領域（ＲＡＭ領域）
７に形成された案内溝５からなるトラックとを一定ピッ
チで形成して、互いに連続させたことを特徴とする。そ
の他については、第１実施形態例に係る光情報記録媒体
と同じであるので、重複を避けるために説明を省略す
る。本例の光情報記録媒体も、第１実施形態例に係る光
情報記録媒体と同様の効果を有する。

【００２８】第４実施形態例に係る光情報記録媒体を、
図８及び図９に基づいて説明する。図８は第４実施形態
例に係る光情報記録媒体の要部平面図、図９は第４実施
形態例に係る光情報記録媒体の要部断面図である。

【００２９】これらの図から明らかなように、本例の光
情報記録媒体は、基板１の片面に、パーシャルＲＯＭ方
式のプリフォーマットパターン１ｂを形成するが、プリ
ピットの形成領域（ＲＯＭ領域）６と案内溝の形成領域
（ＲＡＭ領域）７との間にプリピット４も案内溝５も有
しないミラー領域８を設け、プリピットの形成領域
（（ＲＯＭ領域）６に形成されたプリピット列からなる
トラックと案内溝の形成領域（ＲＡＭ領域）７に形成さ
れた案内溝５からなるトラックとを不連続にしたことを
特徴とする。その他については、第１実施形態例に係る
光情報記録媒体と同じであるので、重複を避けるために
説明を省略する。本例の光情報記録媒体も、第１実施形
態例に係る光情報記録媒体と同様の効果を有する。

【００３０】以下、前記のように構成された光情報記録
媒体の元になる原盤のカッティング方法について説明す
る。

【００３１】〈原盤カッティング方法の第１例〉まず、
図１０（ａ）に示すように、片面に均一厚さのフォトレ
ジスト層１１が形成されたディスク状の原盤１２を用意
する。この場合、フォトレジスト層１１の厚さは、後の
プロセスでの目減りを考慮して、１００ｎｍ以上にして
おくことが好ましい。この原盤１２を露光装置に装着
し、これを一定の回転速度で回転駆動しつつ、当該原盤
１２の半径方向に一定速度で移動する光学ヘッド１３よ
り光情報記録媒体に形成しようとするプリフォーマット
パターンの記録信号にて強度変調されたレーザビーム１
４を前記フォトレジスト層１１に照射する。この際、レ
ーザビームの照射パターンを定法に従って調整すること
により、イングルーブ方式のプリフォーマットパターン
又はオンランド方式のプリフォーマットパターン若しく
はパーシャルＲＯＭ方式のプリフォーマットパターンを
露光することができる。

【００３２】露光済みの原盤を現像処理し、図１０
（ｂ）に示すように、原盤１２の表面にまで達する深い
溝１５と、原盤１２の表面にまで達しない浅い溝１６と
をフォトレジスト層１１に形成する。即ち、前記の方法
でプリフォーマットパターンを露光すると、プリピット
に相当する部分は高レベルのレーザビームが照射され、
また案内溝に相当する部分は低レベルのレーザビームが
照射されるので、現像条件を調整することによって、フ
ォトレジスト層１１に、原盤１２の表面にまで達する深
い溝１５と原盤１２の表面にまで達しない浅い溝１６と
を形成することができる。

【００３３】現像処理された原盤をリアクティブイオン
エッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，Ｃ₂Ｆ
₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジスト
層形成面をエッチングする。これにより、図１０（ｃ）
に示すように、原盤１２の表面の前記深い溝１５に相当
する部分が選択的にカッティングされ、溝１７が形成さ
れる。

【００３４】次に、ＲＩＥ装置内のガスを酸素に入れ替
え、フォトレジスト層１１のアッシング処理を行う。そ
して、図１０（ｄ）に示すように、前記浅い溝１６の底
部に原盤１２の表面を露出させる。

【００３５】次いで、ＲＩＥ装置内のガスを再度Ｃ
Ｆ₄，Ｃ₂Ｆ₆，Ｃ₃Ｆ₈等に入れ替え、先にカッティング
された溝１７と先の工程で浅い溝１６の底部に露出され
た原盤１２の表面とを再度エッティングする。これによ
って、図１０（ｄ）に示すように、断面形状が略台形で
深いプリピット４と、断面形状が略台形で浅い案内溝５
とがカッティングされる。

【００３６】最後に、ＲＩＥ装置内のガスを再度酸素に
入れ替え、原盤１２の表面に残存したフォトレジスト層
１１を除去する。これにより、図１０（ｅ）に示す所定
構造の原盤１２が得られる。

【００３７】以下、得られたカッティング済みの原盤１
２からスタンパを作製し、当該スタンパを原型として光
情報記録媒体用の基板を複製し、さらには、当該基板の
プリフォーマットパターン形成面に所望の記録膜２等を
担持することによって、所望の光情報記録媒体を得るこ
とができる。

【００３８】本例の原盤カッティング方法は、アッシン
グ処理によりフォトレジスト層１１に形成された浅い溝
１６の底部に原盤１２の表面を露出させ、しかる後に案
内溝５のエッティングを行うので、断面形状が略台形の
案内溝５をカッティングすることができる。

【００３９】〈原盤カッティング方法の第２例〉まず、
図１１（ａ）に示すように、片面に均一厚さのフォトレ
ジスト層１１が形成されたディスク状の原盤１２を用意
する。この原盤１２を露光装置に装着し、これを一定の
回転速度で回転駆動しつつ、当該原盤１２の半径方向に
一定速度で移動する光学ヘッド１３より一定強度のレー
ザビームを連続的に照射する。また、当該原盤１２の最
外周部に光学ヘッド１３を固定し、一定強度のレーザビ
ームを輪状に照射する。

【００４０】露光済みの原盤を現像処理し、図１１
（ｂ）に示すように、原盤１２の表面にまで達する溝２
１をフォトレジスト層１１に形成する。

【００４１】現像処理された原盤をリアクティブイオン
エッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，Ｃ₂Ｆ
₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジスト
層形成面をエッチングする。これにより、図１１（ｃ）
に示すように、原盤１２の表面の前記溝２１に相当する
部分が選択的にカッティングされ、案内溝５及び偏心補
正用溝２２が形成される。

【００４２】次に、ＲＩＥ装置内のガスを酸素に入れ替
えてフォトレジスト層１１のアッシング処理を行い、図
１１（ｄ）に示すように、原盤１２に形成されたフォト
レジスト層１１を完全に除去する。

【００４３】次いで、図１１（ｅ）に示すように、フォ
トレジスト層１１が除去された原盤１１の案内溝形成面
に再度フォトレジスト層１１を均一の厚さに形成する。
この原盤１２を再度露光装置に装着し、これを一定の回
転速度で回転駆動しつつ、当該原盤１２の半径方向に一
定速度で移動する光学ヘッド１３より、プリピット信号
にて強度変調されたレーザビームを照射する。この際、
レーザビームの照射位置を調整することによって、案内
溝５上にプリピット４が形成されたイングルーブ方式の
プリフォーマットパターンとすることもできるし、２条
の案内溝５の間のランド部にプリピット４が形成された
オンランド方式のプリフォーマットパターンとすること
もできる。さらには、プリピットの形成領域と案内溝の
形成領域とが分割されたパーシャルＲＯＭ方式のプリフ
ォーマットパターンとすることもできる。案内溝５に対
するプリピット列の偏心調整は、偏心補正用溝２２をＣ
ＣＤカメラ等で検出することによって行うことができ
る。

【００４４】露光済みの原盤を現像処理し、図１１
（ｆ）に示すように、原盤１２の表面にまで達する溝２
３をフォトレジスト層１１に形成する。

【００４５】現像処理された原盤を再度リアクティブイ
オンエッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，
Ｃ₂Ｆ₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジ
スト層形成面をエッチングする。これにより、図１１
（ｇ）に示すように、原盤１２の表面の前記溝２３に相
当する部分が選択的にカッティングされ、深いプリピッ
ト４が形成される。

【００４６】最後に、ＲＩＥ装置内のガスを再度酸素に
入れ替えてフォトレジスト層１１のアッシング処理を行
い、図１１（ｈ）に示すように、原盤１２に形成された
フォトレジスト層１１を完全に除去する。

【００４７】以下、得られたカッティング済みの原盤１
２からスタンパを作製し、当該スタンパを原型として光
情報記録媒体用の基板を複製し、さらには、当該基板の
プリフォーマットパターン形成面に所望の記録膜２等を
担持することによって、所望の光情報記録媒体を得るこ
とができる。

【００４８】本例の原盤カッティング方法は、案内溝５
に相当する露光パターンでフォトレジスト層１１を露光
した後、現像処理によって露光部に原盤１２の表面を露
出させ、この状態で案内溝５のエッティングを行うの
で、断面形状が略台形の案内溝５をカッティングするこ
とができる。

【００４９】〈原盤カッティング方法の第３例〉まず、
図１２（ａ）に示すように、片面に均一厚さの第１のフ
ォトレジスト層１１ａが形成されたディスク状の原盤１
２を用意する。この原盤１２を露光装置に装着し、これ
を所定の回転速度で回転駆動しつつ、当該原盤１２の半
径方向に所定の速度で移動する光学ヘッド１３より第１
のフォトレジスト層１１ａに一定強度のレーザビームを
連続的に照射する。また、当該原盤１２の最外周部に光
学ヘッド１３を固定し、一定強度のレーザビームを輪状
に照射する。

【００５０】露光済みの原盤を現像処理し、図１２
（ｂ）に示すように、原盤１２の表面にまで達する溝２
１を第１のフォトレジスト層１１ａに形成する。

【００５１】現像処理された原盤をリアクティブイオン
エッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，Ｃ₂Ｆ
₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジスト
層形成面をエッチングする。これにより、図１２（ｃ）
に示すように、原盤１２の表面の前記溝２１に相当する
部分が選択的にカッティングされ、断面形状が略台形の
案内溝５及び偏心補正用溝２２が形成される。

【００５２】次に、図１２（ｄ）に示すように、案内溝
５及び偏心補正用溝２２が形成された原盤１２のフォト
レジスト層形成面に、第１のフォトレジスト層１１ａを
保護するためのレジスト保護膜３１を介して第２のフォ
トレジスト層１１ｂを重ね塗りする。レジスト保護膜３
１としては、シランカップリング剤又はポリビニルアル
コールのスピンコート膜、或いはシリコン酸化物のスパ
ッタ膜等を用いることができる。

【００５３】次いで、この原盤１２を再度露光装置に装
着し、図１２（ｅ）に示すように、これを一定の回転速
度で回転駆動しつつ、光学ヘッド１３を当該原盤１２の
半径方向に一定速度で移動して、光学ヘッド１３より第
２のフォトレジスト層１１ｂの案内溝上にプリピット信
号で強度変調されたレーザビームを照射する。この際、
案内溝５に対するプリピット列の偏心調整は、偏心補正
用溝２２をＣＣＤカメラ等で検出することによって行う
ことができる。

【００５４】第２のフォトレジスト層１１ｂにプリピッ
トのパターンが露光された原盤を現像処理し、図１２
（ｆ）に示すように、原盤１２の表面にまで達する溝３
２を第２のフォトレジスト層１１ｂに形成する。

【００５５】現像処理された原盤を再度リアクティブイ
オンエッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，
Ｃ₂Ｆ₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジ
スト層形成面をエッチングする。これにより、図１２
（ｇ）に示すように、原盤１２の表面の前記溝３２に相
当する部分が選択的にカッティングされ、案内溝５より
も深い断面形状が略台形のプリピット４が形成される。

【００５６】最後に、ＲＩＥ装置内のガスを再度酸素に
入れ替えてフォトレジスト層１１のアッシング処理を行
い、図１２（ｈ）に示すように、原盤１２に形成された
第１及び第２のフォトレジスト層１１ａ，１１ｂを完全
に除去する。

【００５７】以下、得られたカッティング済みの原盤１
２からスタンパを作製し、当該スタンパを原型として光
情報記録媒体用の基板を複製し、さらには、当該基板の
プリフォーマットパターン形成面に所望の記録膜２等を
担持することによって、所望の光情報記録媒体を得るこ
とができる。

【００５８】本例の原盤カッティング方法は、案内溝５
に相当する露光パターンで第１のフォトレジスト層１１
ａを露光した後、現像処理によって露光部に原盤１２の
表面を露出させ、この状態で案内溝５のエッティングを
行うので、断面形状が略台形の案内溝５をカッティング
することができる。

【００５９】〈原盤カッティング方法の第４例〉まず、
図１３（ａ）に示すように、片面に均一厚さの第１のフ
ォトレジスト層１１ａが形成されたディスク状の原盤１
２を用意する。この原盤１２を露光装置に装着し、これ
を所定の回転速度で回転駆動しつつ、当該原盤１２の半
径方向に光学ヘッド１３を所定の速度で移送し、前記光
学ヘッド１３より第１のフォトレジスト層１１ａに所定
のプリフォーマット信号にて強度変調されたレーザビー
ムを照射して、第１のフォトレジスト層１１ａに２条の
案内溝５の間のランド部にプリピット４が形成されたオ
ンランド方式のプリフォーマットパターン、又はプリピ
ットの形成領域と案内溝の形成領域とが分割されたパー
シャルＲＯＭ方式のプリフォーマットパターンを露光す
る。また、当該原盤１２の最外周部に光学ヘッド１３を
固定し、一定強度のレーザビームを輪状に照射する。

【００６０】露光済みの原盤を現像処理し、図１３
（ｂ）に示すように、原盤１２の表面にまで達するプリ
ピットに相当する溝４１と案内溝に相当する溝４２と偏
心補正用溝２２に相当する溝４３とを第１のフォトレジ
スト層１１ａに形成する。

【００６１】現像処理された原盤をリアクティブイオン
エッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，Ｃ₂Ｆ
₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジスト
層形成面をエッチングする。これにより、図１３（ｃ）
に示すように、原盤１２の表面の前記溝４１，４２，４
３に相当する部分が選択的にカッティングされ、同一深
さで断面形状が共に略台形になったプリピット４、案内
溝５及び偏心補正用溝２２が形成される。

【００６２】次に、図１３（ｄ）に示すように、プリピ
ット４、案内溝５及び偏心補正用溝２２が形成された原
盤１２のフォトレジスト層形成面に、第１のフォトレジ
スト層１１ａを保護するためのレジスト保護膜３１を介
して第２のフォトレジスト層１１ｂを重ね塗りする。レ
ジスト保護膜３１としては、シランカップリング剤又は
ポリビニルアルコールのスピンコート膜、或いはシリコ
ン酸化物のスパッタ膜等を用いることができる。

【００６３】次いで、この原盤１２を再度露光装置に装
着し、図１３（ｅ）に示すように、原盤１２を所定の回
転速度で回転駆動しつつ、光学ヘッド１３を当該原盤１
２の半径方向に所定の速度で移動して、光学ヘッド１３
より第２のフォトレジスト層１１ｂのプリピット列に沿
って案内溝上に一定強度のレーザビームを照射する。こ
の際、案内溝５に対するプリピット列の偏心調整は、偏
心補正用溝２２をＣＣＤカメラ等で検出することによっ
て行うことができる。

【００６４】第２のフォトレジスト層１１ｂがが露光さ
れた原盤を現像処理し、図１３（ｆ）に示すように、原
盤１２の表面にまで達する溝３２を第２のフォトレジス
ト層１１ｂに形成する。

【００６５】現像処理された原盤を再度リアクティブイ
オンエッチング装置（ＲＩＥ装置）に装着し、ＣＦ₄，
Ｃ₂Ｆ₆，Ｃ₃Ｆ₈等のガスを用いて前記原盤のフォトレジ
スト層形成面をエッチングする。これにより、図１３
（ｇ）に示すように、原盤１２の表面の前記溝３２に相
当する部分が選択的にカッティングされ、案内溝５より
も深い断面形状が略台形のプリピット４が形成される。

【００６６】最後に、ＲＩＥ装置内のガスを再度酸素に
入れ替えてフォトレジスト層１１のアッシング処理を行
い、図１３（ｈ）に示すように、原盤１２に形成された
第１及び第２のフォトレジスト層１１ａ，１１ｂを完全
に除去する。

【００６７】以下、得られたカッティング済みの原盤１
２からスタンパを作製し、当該スタンパを原型として光
情報記録媒体用の基板を複製し、さらには、当該基板の
プリフォーマットパターン形成面に所望の記録膜２等を
担持することによって、所望の光情報記録媒体を得るこ
とができる。

【００６８】本例の原盤カッティング方法は、案内溝５
に相当する露光パターンで第１のフォトレジスト層１１
ａを露光した後、現像処理によって露光部に原盤１２の
表面を露出させ、この状態で案内溝５のエッティングを
行うので、断面形状が略台形の案内溝５をカッティング
することができる。

【００６９】なお、前記実施形態例においては、原盤１
２のエッチング手段として、リアクティブイオンエッチ
ングを用いたが、本発明の要旨はこれに限定されるもの
ではなく、他の物理的又は化学的なエッチング手段を適
用することも可能である。また、エッチング手段に応じ
て、ガラスや金属など適宜の材料からなる原盤を用いる
ことができる。

【００７０】

【発明の効果】本発明の光情報記録媒体は、プリピット
及び案内溝の断面形状を共に平坦な底面又は頂面を有す
る台形とし、かつプリピットの深さ又は高さを案内溝の
深さ又は高さよりも大きくしたので、案内溝から検出さ
れるトラッキングエラー信号を安定化することができ、
プリピットや情報記録ピットから検出される再生信号の
レベルに対するノイズを相対的に減少することができる
ので、再生信号のＳ／Ｎを高レベルに維持しつつ、記録
密度の高密度化を図ることができる。

【００７１】本発明の光情報記録媒体製造方法は、原盤
自体にプリピットに相当する溝や案内溝に相当する溝を
エッチングにて形成し、これをスタンパに転写するとい
った構成にしたので、原盤の表面に形成されたフォトレ
ジスト層を当該原盤にエッチングを施す際のマスクとし
て利用し、露光処理と現像処理とでフォトレジスト層の
形成範囲を調整し、さらには原盤に対するプリピット形
成部のエッチング量と案内溝形成部のエッチング量とを
適宜調整することによって、断面形状が共に略台形で深
さが異なるプリピットと案内溝を有する原盤、ひいては
光情報記録媒体用の基板を作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態例に係る光情報記録媒体の平面図
である。

【図２】第１実施形態例に係る情報記録媒体の要部平面
図である。

【図３】第１実施形態例に係る情報記録媒体の要部断面
図である。

【図４】第２実施形態例に係る情報記録媒体の要部平面
図である。

【図５】第２実施形態例に係る情報記録媒体の要部断面
図である。

【図６】第３実施形態例に係る情報記録媒体の要部平面
図である。

【図７】第３実施形態例に係る情報記録媒体の要部断面
図である。

【図８】第４実施形態例に係る情報記録媒体の要部平面
図である。

【図９】第４実施形態例に係る情報記録媒体の要部断面
図である。

【図１０】光情報記録媒体製造方法の第１例を示す製造
工程図である。

【図１１】光情報記録媒体製造方法の第２例を示す製造
工程図である。

【図１２】光情報記録媒体製造方法の第３例を示す製造
工程図である。

【図１３】光情報記録媒体製造方法の第４例を示す製造
工程図である。

【符号の説明】

１ 基板 １ａ センター孔 １ｂ プリフォーマットパターン ２ 記録膜 ３ 保護膜 ４ プリピット ５ 案内溝 ６ プリピットの形成領域（ＲＯＭ領域） ７ 案内溝の形成領域（ＲＡＭ領域） ８ ミラー領域 １１ フォトレジスト層 １２ 原盤 １３ 光学ヘッド １４ レーザビーム １５ 深い溝 １６ 浅い溝 １７ 溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤谷 茂夫 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 渡辺 均 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 WA26 WA27 WA29 WB17 5D121 BB08 BB22 BB33 CB03 GG04

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プリピットと記録再生用光の案内溝とが
   転写された基板を備えた情報記録媒体において、前記プ
   リピット及び案内溝の断面形状が、共に平坦な底面又は
   頂面を有する台形に形成され、かつ前記プリピットの深
   さ又は高さが、前記案内溝の深さ又は高さよりも大きく
   形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光情報記録媒体におい
   て、前記プリピットが、前記案内溝上に形成されている
   ことを特徴とする光情報記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の光情報記録媒体におい
   て、前記プリピットが、隣接する２条の案内溝間のラン
   ド部に形成されていることを特徴とする光情報記録媒
   体。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の光情報記録媒体におい
   て、前記プリピットと前記案内溝とを前記基板の異なる
   領域内に分離して形成し、前記プリピットの形成領域に
   は前記案内溝を形成せず、前記案内溝の形成領域には前
   記プリピットを形成しないことを特徴とする光情報記録
   媒体。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の光情報記録媒体におい
   て、前記プリピットの形成領域に形成されるプリピット
   列からなる情報トラックと前記案内溝の形成領域に形成
   される案内溝からなる情報トラックとが連続しているこ
   とを特徴とする光情報記録媒体。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の光情報記録媒体におい
   て、前記プリピットの形成領域に形成されるプリピット
   列からなる情報トラックと前記案内溝の形成領域に形成
   される案内溝からなる情報トラックとが不連続であっ
   て、前記プリピットの形成領域と前記案内溝の形成領域
   との間に前記プリピット及び案内溝を有しないミラー部
   が設けられていることを特徴とする光情報記録媒体。
7. 【請求項７】 片面にフォトレジスト層が形成された原
   盤を露光装置に装着し、光情報記録媒体に形成しようと
   するプリフォーマットパターンの記録信号にて強度変調
   されたレーザビームを前記フォトレジスト層に照射する
   工程と、 露光済みの前記フォトレジスト層を現像して、当該フォ
   トレジスト層に前記原盤の表面にまで達する深い溝と、
   前記原盤の表面にまで達しない浅い溝とを形成する工程
   と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面をエッチ
   ングして、当該原盤の表面の前記深い溝に相当する部分
   を選択的にカッティングする工程と、 前記フォトレジスト層をアッシングして、前記浅い溝の
   底部に前記原盤の表面を露出させる工程と、 先にカッティングされた溝と先の工程で浅い溝の底部に
   露出された原盤の表面とを再度エッティングし、深いプ
   リピットと浅い案内溝とをカッティングする工程と、 カッティング後の原盤の表面に残存したフォトレジスト
   を除去する工程と、 得られたカッティング済みの原盤から、当該原盤に形成
   されたプリピット及び案内溝とは凹凸の向きが逆のスタ
   ンパを作製する工程と、 当該スタンパから前記原盤に形成されたプリピット及び
   案内溝と凹凸の向きが同じになった光情報記録媒体用の
   基板を作製するか、あるいは前記スタンパから前記原盤
   に形成されたプリピット及び案内溝と凹凸の向きが同じ
   になったマザースタンパを作製した後、当該マザースタ
   ンパから前記原盤に形成されたプリピット及び案内溝と
   凹凸の向きが逆になった光情報記録媒体用の基板を作製
   する工程とを含むことを特徴とする光情報記録媒体の製
   造方法。
8. 【請求項８】 片面にフォトレジスト層が形成された原
   盤を露光装置に装着し、前記フォトレジスト層に一定強
   度のレーザビームを連続的に照射する工程と、 露光済みの前記フォトレジスト層を現像して、当該フォ
   トレジスト層に前記原盤の表面にまで達する溝を形成す
   る工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面をエッチ
   ングし、当該原盤の表面に前記溝に相当する一定深さの
   案内溝をカッティングする工程と、 案内溝がカッティングされた原盤の表面に残存したフォ
   トレジストを除去する工程と、 案内溝がカッティングされた原盤の案内溝カッティング
   面に再度フォトレジスト層を形成する工程と、 再度フォトレジスト層が形成された原盤を露光装置に装
   着し、光情報記録媒体に形成しようとするプリピットの
   記録信号にて強度変調されたレーザビームを前記フォト
   レジスト層の前記案内溝と対向する部分又は相隣接する
   前記案内溝の間のランド部と対向する部分若しくは前記
   案内溝を有しないミラー部と対向する部分に照射する工
   程と、 露光済みの前記フォトレジスト層を現像して、当該フォ
   トレジスト層に前記原盤の表面にまで達する溝を形成す
   る工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面を再度エ
   ッチングして、当該原盤の表面に前記溝に相当するプリ
   ピットをカッティングする工程と、 プリピットがカッティングされた原盤の表面に残存した
   フォトレジスト層を再度除去する工程と、 得られたカッティング済みの原盤から、当該原盤に形成
   されたプリピット及び案内溝とは凹凸の向きが逆のスタ
   ンパを作製する工程と、 当該スタンパから前記原盤に形成されたプリピット及び
   案内溝と凹凸の向きが同じになった光情報記録媒体用の
   基板を作製するか、あるいは前記スタンパから前記原盤
   に形成されたプリピット及び案内溝と凹凸の向きが同じ
   になったマザースタンパを作製した後、当該マザースタ
   ンパから前記原盤に形成されたプリピット及び案内溝と
   凹凸の向きが逆になった光情報記録媒体用の基板を作製
   する工程とを含むことを特徴とする光情報記録媒体の製
   造方法。
9. 【請求項９】 片面に第１のフォトレジスト層が形成さ
   れた原盤を露光装置に装着し、前記第１のフォトレジス
   ト層に一定強度のレーザビームを連続的に照射する工程
   と、 露光済みの前記第１のフォトレジスト層を現像して、当
   該第１のフォトレジスト層に前記原盤の表面にまで達す
   る溝を形成する工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面をエッチ
   ングし、当該原盤の表面に前記第１のフォトレジスト層
   に形成された溝に相当する一定深さの案内溝をカッティ
   ングする工程と、 前記原盤のフォトレジスト層形成面に前記第１のフォト
   レジスト層を保護するための保護層を形成する工程と、 当該保護層上に第２のフォトレジスト層を形成する工程
   と、 第２のフォトレジスト層が形成された原盤を露光装置に
   装着し、光情報記録媒体に形成しようとするプリピット
   の記録信号にて強度変調されたレーザビームを前記第２
   のフォトレジスト層の前記案内溝と対向する部分に照射
   する工程と、 前記露光済みの第２のフォトレジスト層を現像して、当
   該第２のフォトレジスト層に前記保護層の表面にまで達
   する溝を形成する工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面を再度エ
   ッチングして、当該原盤の表面に前記第２のフォトレジ
   スト層に形成された溝に相当するプリピットをカッティ
   ングする工程と、 プリピットがカッティングされた原盤の表面に残存した
   第１及び第２のフォトレジスト層並びに保護層を除去す
   る工程と、 得られたカッティング済みの原盤から、当該原盤に形成
   されたプリピット及び案内溝とは凹凸の向きが逆のスタ
   ンパを作製する工程と、 当該スタンパから前記原盤に形成されたプリピット及び
   案内溝と凹凸の向きが同じになった光情報記録媒体用の
   基板を作製するか、あるいは前記スタンパから前記原盤
   に形成されたプリピット及び案内溝と凹凸の向きが同じ
   になったマザースタンパを作製した後、当該マザースタ
   ンパから前記原盤に形成されたプリピット及び案内溝と
   凹凸の向きが逆になった光情報記録媒体用の基板を作製
   する工程とを含むことを特徴とする光情報記録媒体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】 片面に第１のフォトレジスト層が形成
    された原盤を露光装置に装着し、光情報記録媒体に形成
    しようとするプリフォーマットパターンの記録信号にて
    強度変調されたレーザビームを前記第１のフォトレジス
    ト層に照射する工程と、 露光済みの前記第１のフォトレジスト層を現像して、当
    該第１のフォトレジスト層に前記原盤の表面にまで達す
    る溝を形成する工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面をエッチ
    ングし、当該原盤の表面に前記第１のフォトレジスト層
    に形成された溝に相当する一定深さの案内溝とプリピッ
    トとをカッティングする工程と、 前記原盤のフォトレジスト層形成面に前記第１のフォト
    レジスト層を保護するための保護層を形成する工程と、 当該保護層上に第２のフォトレジスト層を形成する工程
    と、 第２のフォトレジスト層が形成された原盤を露光装置に
    装着し、前記プリピットの形成領域と対向する部分に一
    定強度のレーザビームを照射する工程と、 前記露光済みの第２のフォトレジスト層を現像して、当
    該第２のフォトレジスト層に前記保護層の表面にまで達
    する溝を形成する工程と、 現像処理された原盤のフォトレジスト層形成面を再度エ
    ッチングして、当該原盤の表面に形成されたプリピット
    を掘り下げる工程と、 所定深さのプリピットがカッティングされた原盤の表面
    に残存した第１及び第２のフォトレジスト層並びに保護
    層を除去する工程と、 得られたカッティング済みの原盤から、当該原盤に形成
    されたプリピット及び案内溝とは凹凸の向きが逆のスタ
    ンパを作製する工程と、 当該スタンパから前記原盤に形成されたプリピット及び
    案内溝と凹凸の向きが同じになった光情報記録媒体用の
    基板を作製するか、あるいは前記スタンパから前記原盤
    に形成されたプリピット及び案内溝と凹凸の向きが同じ
    になったマザースタンパを作製した後、当該マザースタ
    ンパから前記原盤に形成されたプリピット及び案内溝と
    凹凸の向きが逆になった光情報記録媒体用の基板を作製
    する工程とを含むことを特徴とする光情報記録媒体の製
    造方法。