JP2006294150A - 光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 - Google Patents
光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006294150A JP2006294150A JP2005114956A JP2005114956A JP2006294150A JP 2006294150 A JP2006294150 A JP 2006294150A JP 2005114956 A JP2005114956 A JP 2005114956A JP 2005114956 A JP2005114956 A JP 2005114956A JP 2006294150 A JP2006294150 A JP 2006294150A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- information storage
- optical information
- storage medium
- substrate
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】 原盤用基板11の表面にフォトレジスト層12を形成し、原盤露光を行う。露光後、レジストパターン15が形成されると、フォトレジスト原盤の全面に対して、レジストパターンにより露出した部分にリアクティブイオンエッチングを行い、パターン17を形成する。ここで、深さの浅い領域(第1水準)に、深さを浅くする部分に対してエッチングが行われないように、フォトレジスト表面に平板マスク18を設置する。この状態で、深さを、深くする領域(第2水準)の深さまでエッチングを行う。最後に、原盤用基板11表面に残ったフォトレジストを除去する。このようにして、1枚のディスク上に、深さの異なる領域を有する光情報記憶媒体を容易に形成することができる。
【選択図】 図1
Description
本実施例では、深さが2水準(段階)であり、深い領域にピット、浅い領域にグルーブ、を形成した実施例を、図面を参照しながら説明する。図1は、実施例1におけるのスタンパの製造方法を示すブロック図である。
次に、実施例2では、深さが3水準の場合を、図面を参照しながら説明する。図2は、実施例2における光情報記憶媒体用原盤の製造方法を示すブロック図である。
本実施例では、図6に示す射出成形装置を用いて光情報記録媒体の成形基板を作製した。
12,22,32 フォトレジスト層
13 レーザビーム
14 対物レンズ
15,23,33 レジストパターン
16 リアクティブイオンエッチング(反応ガス)
17,24,34 パターン
18,25A,25B,35A,35B,45 平板マスク
19,62 Ni(ニッケル)スタンパ
42 ピット形成領域
43 グルーブ形成領域
44 未露光部
52 露光領域
53 位置合わせ用マーク
61 固定金型
63 可動金型
64 ノズル
65 キャビティ
Claims (18)
- 原盤となる基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、
前記フォトレジスト層上にビームを集光して所定のパターンを露光する露光工程と、
露光された前記フォトレジスト層に現像する現像工程と、現像された前記フォトレジスト層を洗浄する洗浄工程とを行い、前記所定のパターンを形成するフォトレジスト層パターン形成工程と、
前記フォトレジスト層上に形成された前記所定のパターンをマスクとして前記基板にエッチングを行い、前記基板上に前記所定のパターンを形成する基板パターン形成工程と、
前記基板上に前記所定のパターンを形成した後、前記基板上から前記フォトレジスト層を除去するフォトレジスト層除去工程とを有し、
前記基板に深さの異なる領域を形成することを特徴とする光情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - 前記フォトレジスト層上に設置される前記マスクの位置を変更することによって、前記基板に深さの異なる領域を形成することを特徴とする請求項1に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 前記基板に深さの異なる前記領域を複数形成する場合には、該複数形成される前記領域に対応する複数の前記マスクを設置することを特徴とする請求項1又は2に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 前記マスクは、前記基板に形成する前記領域の数だけ設置されることを特徴とする請求項3に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 前記マスクは、深さの異なる前記領域を1つ形成する毎に、対応する前記マスクを設置することを特徴とする請求項3に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 前記マスクは、
前記基板に前記領域の深さが浅い領域を形成した後に、
該浅い領域の前記フォトレジスト層上に対応する前記マスクを被覆して、該浅い領域よりも前記深さを深く形成する領域にのみエッチングを行うことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - 前記マスクは、
前記基板に前記領域の深さが深い領域を形成する前に、
該深い領域の前記フォトレジスト層上には前記マスクを被覆せずに、該深い領域よりも前記深さを浅く形成する領域に対応する前記マスクを被覆してエッチングを行うことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - 前記基板に形成する前記領域の深さを2水準化して、
該深さの深い前記領域にピット部を形成し、
該深さの浅い前記領域にグルーブ部を形成することを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - 前記深さの深い領域は、光情報記憶媒体の形態を判別する情報を含む前記領域であることを特徴とする請求項8に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 光情報記憶媒体の形態を判別する前記情報は、プリピット部として露光されることを特徴とする請求項9に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 前記基板パターン形成工程は、
前記基板の記録領域外の領域に同心円状の連続グルーブ部を形成する連続グルーブ形成工程をさらに有することを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - 前記マスクは、前記基板に所望の深さを有する前記領域が形成された後にエッチングによって除去されることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法。
- 請求項1から12のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用原盤の製造方法を用いて形成された前記光情報記憶媒体用原盤の表面に導電性皮膜を形成する工程と、
前記導電性皮膜を電極として第1の電鋳を行う工程とを有し、
前記電鋳を行った前記光情報記憶媒体用原盤を剥離させて凹凸形状を有するスタンパを形成することを特徴とする光情報記憶媒体用スタンパの製造方法。 - 前記スタンパの表面に、酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜が形成された前記スタンパに第2の電鋳を行う工程と、
前記第2の電鋳を行った前記スタンパから前記酸化膜を剥離する工程とをさらに有し、
前記凹凸形状が反転した前記スタンパを形成することを特徴とする請求項13記載の光情報記憶媒体用スタンパの製造方法。 - 前記凹凸形状が反転した前記スタンパの裏面を研磨する工程と、前記凹凸形状が反転した前記スタンパの内径及び外径を加工する工程とをさらに有することを特徴とする請求項13又は14に記載の光情報記憶媒体用スタンパの製造方法。
- 請求項13から15のいずれか1項に記載の光情報記憶媒体用スタンパの製造方法によって製造されたスタンパ。
- 互いに接合可能な一対の金型が接合した際に形成される空間に、請求項16に記載のスタンパを設置する工程と、
前記スタンパが設置された前記空間に樹脂を射出する工程と、
射出された前記樹脂を冷却する工程とを有し、
前記金型から前記樹脂を離反して基板を形成することを特徴とする光情報記憶媒体用成形基板の製造方法。 - 請求項17に記載の光情報記憶媒体用成形基板の製造方法を用いて製造された光情報記憶媒体用成形基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005114956A JP4668666B2 (ja) | 2005-04-12 | 2005-04-12 | 光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005114956A JP4668666B2 (ja) | 2005-04-12 | 2005-04-12 | 光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006294150A true JP2006294150A (ja) | 2006-10-26 |
JP4668666B2 JP4668666B2 (ja) | 2011-04-13 |
Family
ID=37414549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005114956A Expired - Fee Related JP4668666B2 (ja) | 2005-04-12 | 2005-04-12 | 光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4668666B2 (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07241690A (ja) * | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Hitachi Ltd | レーザ加工用誘電体マスクとその製造方法 |
JPH08241884A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Ebara Corp | 超微細加工法 |
JP2001067733A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2001296416A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Canon Inc | 素子の製造方法または回折光学素子の製造方法、および該回折光学素子の製造方法による回折光学素子製造用金型、回折光学素子、光学機器等の光学系 |
JP2001344832A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤とその製造方法及びマスタスタンパの製造方法 |
JP2002208189A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-26 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
JP2002260297A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-09-13 | Victor Co Of Japan Ltd | ディスク基板用ガラス原盤の製造方法、ディスク基板、ディスク |
JP2003317325A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-11-07 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体及びその原盤の作成方法 |
JP2004086980A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法、並びに情報記録媒体 |
JP2004136692A (ja) * | 1998-03-27 | 2004-05-13 | Nikon Corp | 金属製第3成形型を大量に製造する方法、樹脂基板を製造する方法及び樹脂基板 |
JP2005063599A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-03-10 | Sony Corp | ディスク製造方法 |
-
2005
- 2005-04-12 JP JP2005114956A patent/JP4668666B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07241690A (ja) * | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Hitachi Ltd | レーザ加工用誘電体マスクとその製造方法 |
JPH08241884A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Ebara Corp | 超微細加工法 |
JP2004136692A (ja) * | 1998-03-27 | 2004-05-13 | Nikon Corp | 金属製第3成形型を大量に製造する方法、樹脂基板を製造する方法及び樹脂基板 |
JP2001067733A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2001296416A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Canon Inc | 素子の製造方法または回折光学素子の製造方法、および該回折光学素子の製造方法による回折光学素子製造用金型、回折光学素子、光学機器等の光学系 |
JP2001344832A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤とその製造方法及びマスタスタンパの製造方法 |
JP2002260297A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-09-13 | Victor Co Of Japan Ltd | ディスク基板用ガラス原盤の製造方法、ディスク基板、ディスク |
JP2002208189A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-26 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
JP2003317325A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-11-07 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体及びその原盤の作成方法 |
JP2004086980A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法、並びに情報記録媒体 |
JP2005063599A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-03-10 | Sony Corp | ディスク製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4668666B2 (ja) | 2011-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002510836A (ja) | データ記憶ディスク用リバース光マスタリング | |
EP0503961B1 (en) | Method of fabricating glass substrate for disk | |
KR20070057918A (ko) | 고밀도 릴리프 구조의 복사 | |
KR100263878B1 (ko) | 광디스크제작용마스터디스크제조방법 | |
TWI251233B (en) | Optical information recording medium and method of manufacturing the same | |
JP2000280255A (ja) | 原盤の製造方法 | |
JP4668666B2 (ja) | 光情報記憶媒体用原盤の製造方法、光情報記憶媒体用スタンパの製造方法、スタンパ、光情報記憶媒体用成形基板の製造方法及び光情報記憶媒体用成形基板 | |
JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
JPH11110828A (ja) | 光ディスク及びその光ディスクの製造方法 | |
JP2002015474A (ja) | 光ディスク原盤及び光ディスク基板の作製方法 | |
US20050128930A1 (en) | Optical information-recording medium and method for producing the same | |
JP2003296975A (ja) | 情報記録原盤製造方法 | |
JP2004046997A (ja) | 光ディスク及びスタンパー | |
JP3129419B2 (ja) | 光ディスク用ガラスマスタの製造方法及び光ディスク用ガラスマスタ | |
JP2001338444A (ja) | 原盤、スタンパ及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP2006164393A (ja) | スタンパ原盤の製造方法、及び光記録媒体基板用スタンパの製造方法 | |
KR100188922B1 (ko) | 광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법 | |
KR100601699B1 (ko) | 마스터링 방법 및 그에 의해 제조된 기록 마스터 및 정보저장매체 제조 방법 및 정보 저장매체 | |
JPH07153122A (ja) | マーカー付案内溝作製方法 | |
JP2003006943A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤 | |
JP2000021017A (ja) | 光学記録媒体と光学記録媒体の製造方法、および光学記録媒体用基板と光学記録媒体用基板の製造方法 | |
JP2004253013A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JP2009026393A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
JP2004171646A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
WO2003073421A1 (en) | Optical disc mastering |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091002 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101005 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |