JP2004171646A

JP2004171646A - 光情報記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JP2004171646A
Application number: JP2002335034A
Authority: JP
Inventors: Masashi Suenaga; 正志末永; Yusuke Takahashi; 裕介高橋; Katsunori Miyata; 勝則宮田; Toyoyuki Nunomura; 豊幸布村
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 2002-11-19
Filing date: 2002-11-19
Publication date: 2004-06-17

Abstract

【課題】イングルーブピットが形成された基板を有する光情報記録媒体において、ピットから確実に信号を検出して再生エラーレートを低減することができる光情報記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決方法】本発明の光情報記録媒体の基板には、複数のランド及びグルーブが形成されており、一部のグルーブの底部にイングルーブピットが形成されている。このイングルーブピットは、グルーブ方向の長さに関係なく基板半径方向の幅の広がりが抑えられており、イングルーブピットに隣接するランド形状も側壁が大きく削られることなく、一定のランド及びグルーブ形状が維持されている。特に、イングルーブピットに隣接したランドプリピットが形成されている基板を用いて作製した光情報記録媒体においても、ランドプリピットの記録信号を確実に検出することができる。
【選択図】図８

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、メーカ名や著作権保護対策用情報等のメディア情報がプリピットの形で書き込まれた光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＣＤ（コンパクトディスク）の数倍の記録容量を有するＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）が、画像や音声等の情報記録媒体として広く使用されている。また、ＤＶＤに対して、ユーザ側で情報の記録を１回に限り行うことができるＤＶＤ−Ｒ（追記型のデジタルバーサタイルディスク）や、情報の書換えを可能とするＤＶＤ−ＲＷ（書換え可能型のデジタルバーサタイルディスク）が既に製品化され、今後の大容量の情報記録媒体として広く普及すると考えられる。
【０００３】
通常、ＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ−ＲＷでは、ディスクのメーカ情報や、著作権保護対策用情報等の情報（以下、メディア情報という）がディスク最内周部や最外周部に予め記録されている。これらのメディア情報は、ディスク製造工程の最終段階で、記録装置を用いて光照射等により記録層を変性させることで記録している。これに対し、メディア情報を上記のような記録層に記録するのではなく、ディスクの基板製造段階において、予め基板のグルーブにエンボスピット（以下、イングルーブピットという）の形で記録する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。この方法を用いて作製した光情報記録媒体の一部を、図１に示す。図１（ａ）は、光情報記録媒体の部分拡大平面図であり、イングルーブピットが形成された領域（以下、イングルーブピット領域という）を概略的に表わしている。また、図１（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面及びＢ−Ｂ線断面を示した図である。この光情報記録媒体では、図１（ｂ）に示すように、ランド及びグルーブが形成された基板１０１のランド表面１０１ａを基準としたときのイングルーブピット１０７の底面（最下面）１０７ａまでの深さｄｐ”が、同じくランド表面１０１ａを基準としてグルーブ１０５の底面（最下面）１０５ａまでの深さｄｇ”より深く形成されている。これにより、この基板１０１のパターン形成面上に記録層１０２及び反射層１０３を形成した場合、イングルーブピット１０７が形成されている部分とイングルーブピット１０７が形成されていないグルーブの部分とでは、形成される各層の表面高さに違いが生じる。したがって、このイングルーブピット部分とグルーブ部分との深さの違いを利用することにより、メディア情報等のデータをグルーブに記録することができる。
【０００４】
ＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ−ＲＷの基板では、グルーブ間に形成されるランド上にピット（以下、ランドプリピットという）が設けられており、ディスクのアドレス情報等の記録を行っている（例えば、特許文献２及び３参照）。また、ピットを有する基板を製造するための原盤露光工程において、一つのピットに対応するパターンを露光している間に露光強度を切り替える方法が知られている（例えば、特許文献４参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−６７７３３号公報（第５―６頁、第１−３図）
【特許文献２】
特開平０９−３２６１３８号公報（第１−８頁、第３図、第１５図）
【特許文献３】
特開２００１−１１８２８８号公報（第１−８頁、第１図）
【特許文献４】
特開昭６３−１５３７４３号公報（第２７８頁、第２８０−２８２頁、第３図）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
イングルーブピットを有する光情報記録媒体では、図１に示すように、イングルーブピットが、トラック方向（即ち、グルーブ方向）の端部に比べトラック方向の中間部付近（以下、中間部と略す）の幅（ディスクの半径方向長さ）が広く形成されている。これは、イングルーブピットに対応するパターンを原盤に形成するための露光を行った際に、照射するレーザ光の積算露光量がパターンの中間部で大きくなることにより生じるものと考えられる。これにより、イングルーブピットの中間部の幅がグルーブの幅よりも広がり、隣接するランドの側壁を侵食する。即ち、イングルーブピットに隣接するランドの幅は狭くなる。特に、イングルーブピットに隣接するランド上にランドプリピットが形成されている場合、イングルーブピットとランドプリピットとの間のランド面の幅を十分確保することができなかった。この結果、図９（ｂ）に示すように、ランドプリピットの検出信号のジッターが大きくなり、アパーチャ−レシオ（ＡＲ）が所定の要求値を満たさず、エラーレートが増大する問題が生じていた。
【０００７】
本発明者が知る限りにおいては、グルーブよりもさらに深く形成されるイングルーブピットの形状を制御するために、原盤露光においてイングルーブピット形成パターンの露光強度を制御した例はない。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、イングルーブピットが形成された基板を有する光情報記録媒体において、ピットから確実に信号を検出して再生エラーレートを低減することができる光情報記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の態様によれば、複数のランド及びグルーブが形成された円形基板と、該円形基板上に記録層と反射層とを有する光情報記録媒体において、
上記グルーブの底部に、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットが形成されており、
第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ_１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ_２で表わしたとき、１＜Ｗ_２／Ｗ_１＜１．２であることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
【００１０】
本発明の光情報記録媒体の基板には、複数のランド及びグルーブが形成されており、一部のグルーブの底部にピット（イングルーブピット）が形成されている。このイングルーブピットは、グルーブ方向の長さに関係なく基板半径方向の幅の広がりが抑えられており、イングルーブピットに隣接するランド形状も側壁が大きく削られることなく、一定のランド及びグルーブ形状が維持されている。特に、イングルーブピットに隣接したランド上にピット（ランドプリピット）が形成されている基板を用いて作製した光情報記録媒体においても、ランドプリピットの記録信号を確実に検出することができる。なお、ランドプリピットの深さがグルーブの深さと同じであっても構わない。
【００１１】
本発明では、上記記録層が、色素材料で形成されていることが望ましい。また、上記色素材料がアゾ系色素材料であることが望ましい。
【００１２】
本発明では、上記円形基板上にさらに第１及び第２ピットが形成されていないグルーブが形成されていてもよい。
【００１３】
本発明の第２の態様によれば、第１の態様における光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を第１の露光強度と、第１の露光強度よりも低い第２の露光強度に変更しながら露光することにより、該感光性材料に少なくとも第２ピットに対応するパターンを露光し、第２の露光強度よりも低い第３の露光強度で上記感光性材料を露光することにより、上記感光性材料を上記グルーブに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像して第１ピット、第２ピット及び上記グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することを含む光情報記録媒体の製造方法が提供される。
【００１４】
本発明の方法を用いることにより、本発明の光情報記録媒体を製造することができる。
【００１５】
本光情報記録媒体の製造方法では、上記感光材料を第１の露光強度で露光することにより、上記感光材料に第１ピットに対応するパターンを露光することを含むことが好ましい。また、上記感光材料に第２ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第２の露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することが好ましい。さらに、第１ピット及び第２ピットに対応するパターンを露光する前後で、露光強度を０にすることを含むことが望ましい。上記現像において、ＲＩＥによるエッチングを行うことを含むことが望ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、図を用いて説明するが、本発明はこれに限定されない。
【００１７】
【実施例１】
［基板作製の為の原盤及びスタンパの作製方法］
本発明における光情報記録媒体の基板１は、図７に示すように、基板１の内周側から順に、グルーブ領域７１、イングルーブピット領域７３及びグルーブ領域７５に区画されている。この基板１を作製するための原盤及びスタンパの作製方法について、図２〜７を用いて説明する。図２（ａ）に示すように、直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍのガラス原盤５０を用意した。次いで、図２（ｂ）に示すように、ガラス原盤５０の一方の表面５０ａ上に、フォトレジスト５２を、スピンコート法を用いて厚さ２００ｎｍで均一に塗布した。次いで、フォトレジスト５２が形成されたガラス原盤５０を、不図示のカッティング装置に装着した。カッティング装置（原盤露光装置）は、主に、波長３５１ｎｍのレーザ光を発振するＫｒガスレーザ光源、音響光変調素子からなる光変調器、集光レンズ及びガラス原盤を回転させるための駆動装置等で構成されている。図２（ｃ）に示すように、上記カッティング装置のレーザ光源から出射されたレーザ光ＬＳは、光変調器及び集光レンズを介して、ガラス原盤５０上のフォトレジスト５２に照射される。このとき、ガラス原盤５０を、ガラス原盤５０の中心軸ＡＸの回りに所定の回転数で回転させた。また、ガラス原盤５０上のレーザ光ＬＳの照射位置が、ガラス原盤５０の半径方向に沿ってガラス原盤５０の内側から外側に向かって移動するように、レーザ光ＬＳを移動させた（矢印ＡＲ２）。
【００１８】
上記のように、レーザ光ＬＳを移動させながら、ガラス原盤５０に照射するレーザ光ＬＳの露光強度を、上記光変調器を用いて変化させる。ガラス原盤５０の中心軸ＡＸから半径２２ｍｍ〜２３．９ｍｍの領域は、図７に示す基板１のグルーブ領域７１に相当する（以下、第１グルーブ形成領域という）。また、半径２３．９ｍｍ〜２４ｍｍの領域は、基板１のイングルーブピット領域７３に相当する（以下、イングルーブピット形成領域という）。さらに、半径２４ｍｍ〜５８ｍｍの領域は、ユーザデータ領域であり、基板１のグルーブ領域７５に相当する（以下、第２グルーブ形成領域という）。本実施例では、第１及び第２グルーブ形成領域における露光強度は、低レベル（以下、グルーブレベルという）に設定した。また、イングルーブピット形成領域では、図３に示すように、レーザ光の露光強度を低レベル、中レベル及び高レベルの３段階に変化させた。イングルーブピット形成領域のイングルーブピットに対応する部分（以下、イングルーブピット形成部分という）を形成するときの露光強度は高レベル（以下、第１ピットレベルという）及び中レベル（以下、第２ピットレベルという）の２段階のレベルに設定し、それ以外のグルーブ部分の露光強度は、グルーブレベルに設定した。本実施例において、第１ピットレベルの信号振幅を１００％とした場合、第２ピットレベルは７０％、グルーブレベルの信号振幅は５０％となるように設定した。また、イングルーブピット領域に形成されるランドプリピットに対応する部分（以下、ランドプリプット形成部分という）を露光する際、基板におけるランドプリピットの深さがグルーブとほぼ同じ深さとなるようにレーザ光の露光強度を調整した。
【００１９】
図３に示すように、イングルーブピット形成部分の露光では、開始から１Ｔ〜１．５Ｔ（Ｔ：クロック周期）の間は第１ピットレベル（高レベル）で露光し、次いで、露光強度を第２ピットレベル（中レベル）に低下して露光した。さらに、イングルーブピット形成部分の終了までの１Ｔ〜１．５Ｔの間は、再び第１ピットレベルに露光強度を戻して露光した。これにより、イングルーブ形成部分の原盤半径方向の幅は、イングルーブピット形成部分の中間部付近で広がることはない。これは、第２ピットレベルで露光した間の積算露光量が低減し、その間の原盤半径方向への露光範囲の広がりが抑制されたためと考えられる。なお、基板のイングルーブピット領域におけるイングルーブピットは、トラック（グルーブ）の方向に３Ｔ〜１１Ｔ又は１４Ｔのいずれかのチャネルビット長で、所望のパターンに形成される。最短チャネルビット長である３Ｔで形成されたイングルーブピット形成部分では積算露光量の影響による幅の広がりが殆どないので上記のような２段階の露光強度切り替えは行わず、第１ピットレベルに固定して露光した。本実施例では、上述の露光強度の切り替えを行うことにより、最短チャネルビット長よりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピット形成部分の幅を、最短チャネルビット長を有するイングルーブピット形成部分の幅と同等の大きさにすることができた。なお、クロック周期Ｔは、用いる再生装置に応じて適宜調整可能である。
【００２０】
さらに、本実施例では、図３に示したように、露光強度を第１ピットレベルからグルーブレベルに、または、グルーブレベルから第１ピットレベルに切り替える毎に、一時的にレーザ光の露光強度を０レベルにする期間を設けた。０レベルの期間は形成するピットのチャネルビット長に応じて変更した。最短チャネルビット長３Ｔのイングルーブピット形成部分の露光時には、０レベルの期間を０．２Ｔとした。これにより、原盤のイングルーブピット形成部分の加工精度が向上する。
【００２１】
次に、フォトレジストが感光されたガラス原盤をカッティング装置から取出し、現像処理を行った。これにより、図４（ａ）及び（ｂ）に示すような、グルーブ形成部４０、イングルーブピット形成部４４及びランドプリピット形成部４２が、ガラス原盤５０上に形成された。グルーブ形成部４０及びランドプリピット形成部４２は、断面がＶ字状の溝形状となるように形成される。このとき、グルーブ形成部４０の溝幅ｄｒｇに比べてランドプリピット形成部４２の溝幅ｄｒｌは狭い。また、イングルーブピット形成部４４では、現像処理によってガラス原盤５０上のフォトレジスト５２は除去され、図４（ｂ）に示すように、ガラス原盤５０の表面５０ａが露出部４４ａとして現れる。
【００２２】
次に、図５（ａ）に示すように、ガラス原盤５０上に形成されているフォトレジスト５２の表面を、不図示のＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）装置を用いて、Ｃ_２Ｆ_６のガス雰囲気中でエッチングした。これにより、イングルーブピット形成部４４は、それぞれガラス原盤５０の表面５０ａから９０ｎｍの深さまでエッチングされる。次いで、図５（ｂ）に示すように、グルーブ形成部４０及びランドピット形成部４２におけるガラス原盤５０の表面５０ａを露出させるために、不図示のＯ_２によるレジストアッシング装置を用いて、フォトレジスト５２を所定厚さだけ削った。これにより、グルーブ形成部４０及びランドプリピット形成部４２のガラス原盤表面５０ａを露出させた。さらに、図５（ｃ）に示すように、ガラス原盤５０のフォトレジスト５２形成面に対して、再度Ｃ_２Ｆ_６のガス雰囲気中でＲＩＥを行った。これにより、グルーブ形成部４０は、ガラス原盤表面５０ａから１７５ｎｍの深さまでエッチングされた。また、ランドプリピット形成部４２は、ガラス原盤表面５０ａから１７５ｎｍの深さまでエッチングされた。同時に、イングルーブピット形成部４４は、ガラス原盤表面５０ａから２６５ｎｍの深さまでエッチングされた。次いで、図５（ｄ）に示すように、再度レジストアッシング装置（不図示）を用いて、ガラス原盤５０上のフォトレジスト５２を除去した。これにより、表面に所望のパターンが形成されたガラス原盤５０を得た。
【００２３】
このガラス原盤５０のパターン形成面に、メッキの前処理として無電解メッキを施した。さらに、このメッキ層を導電膜として用いることにより、厚さ０．３ｍｍのＮｉ層を、電鋳法によって形成した。次いで、ガラス原盤５０上に形成したＮｉ層の表面を研磨し、さらに、ガラス原盤から上記Ｎｉ層を剥離することにより、スタンパを得た。なお、上記メッキの前処理における導電膜形成を、スパッタ法や蒸着法を用いて行ってもよい。
【００２４】
［情報記録媒体の作製方法］
上記のスタンパを、既存の射出成形装置に装着し、射出成形により基板１を得た。基板１は、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板であり、図６に示すように、ガラス原盤に形成された凹凸パターン形状と同じ形状のパターンが基板１の一方の面上に転写されている。前述の通り、基板１には、グルーブ領域７１、イングルーブピット領域７３及びグルーブ領域（ユーザデータ領域）７５が形成されている。また、イングルーブピット領域７３には、図８（ａ）に示すように、グルーブ８０、ランドプリピット８２及びイングルーブピット８４が形成されている。このうち、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの基板半径方向の幅及びそれよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの基板半径方向の幅を、デジタルインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡を用いて測定した。最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は０．３４μｍであった。また、チャネルビット長１１Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．３８μｍであった。さらに、チャネルビット長１４Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．４μｍであった。本発明者らによる実験から、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅に対する最短チャネルビット長３Ｔよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの最大幅の割合は１１２〜１１８％の範囲内であり、最短チャネルビット長よりも長いイングルーブピットにおいて、基板半径方向の幅の広がりが抑制されていることが分かる。
【００２５】
この基板１のパタ−ン形成面上に、下記化学式（１）で表わされるアゾ系色素１重量％の濃度を有する溶液を、グルーブ間、即ち、ランド部で厚さ３０ｎｍとなるようにスピンコート法を用いて塗布した。このとき、上記溶液の塗布量を１ｇとし、塗布開始から３０秒間は回転数１００ｒｐｍで、その後３０秒間は回転数８００〜１０００ｒｐｍで基板を回転させた。なお、上記色素溶液を塗布する際に、テトラフルオロプロパノールを溶媒として用いることによりアゾ系色素溶媒とし、フィルタで濾過して不純物を取り除いた。次いで、上記色素材料を塗布した基板１を７０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。こうして、記録層２が基板１上に形成された（図８（ｂ）参照）。
【００２６】
【化１】

【００２７】
さらに、図８（ｂ）に示すように、記録層２上に、反射層３としてＡｇ合金を厚さ１００ｎｍとなるように、スパッタ法を用いて形成した。次いで、反射層３上に、ＵＶ樹脂材料を、厚さ１０μｍとなるようにスピンコート法により塗布し、さらに、その上に、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板（ダミー基板）を載置した。この状態で、各層が形成された基板にＵＶ照射を施すことにより、各層が形成された基板とダミー基板とを貼り合わせて光情報記録媒体を得た。
【００２８】
こうして得られた光情報記録媒体について、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット、グルーブ及びランドプリピットの最大深さを、デジタルインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡を用いて測定した。それらの深さは、図８（ｂ）に示すように、基板のランド８１の表面からの深さとした。グルーブの最大深さｄｇは１７０ｎｍ、イングルーブピットの最大深さｄｐは、２６５ｎｍであった。また、ランドプリピットの最大深さｄｌｐは、グルーブの最大深さｄｇと同じ１７５ｎｍであった。また、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット、グルーブ及びランドプリピットの記録層窪み深さを、デジタルインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡を用いて測定した。ここで、記録層窪み深さとは、ランド８１上に形成された記録層２の表面２ａを基準としたときの記録層２の最大窪み量をいう。グルーブの記録層窪み深さＴｇは１００ｎｍであり、イングルーブピットの記録層窪み深さＴｐは１７０ｎｍであった。また、ランドプリピットにおける記録層窪み深さＴｌｐは、９０ｎｍであった。
【００２９】
上記実施例で得た光情報記録媒体を、波長６５０ｎｍのレーザ光及び開口数０．６のレンズを有する光ピックアップを用いて、イングルーブピット領域の記録信号の再生を行った。信号の検出及び再生は安定して行うことができ、また、このときの再生信号の信号変調度は６１％、ジッターは７．２％であり、いずれも良好な結果を得ることができた。また、図９（ａ）に示すように、ランドプリピットの記録信号も安定して検出が可能となった。これにより、アパーチャーレシオも要求値を満たし、エラーレートも規格にある５％を十分に満足することができた。
【００３０】
上記実施例の光情報記録媒体では、基板としてポリカーボネートを用いたが、ポリメチルメタクリレートやアモルファスポリオレフィン等を用いてもよい。
【００３１】
【発明の効果】
本発明の光情報記録媒体では、イングルーブピット形状のピットの長さに起因する形状変化を抑制し、隣接するランド形状への悪影響を防止することが可能となる。特に、ランドプリピットが隣接する場合でも、ランドプリピットの記録信号を確実に検出することができ、エラーレートが低減される。また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、本発明の光情報記録媒体を製造するのに有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体の一部分を示した概略上面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】実施例１におけるガラス原盤の作製方法を説明した図である。
【図３】実施例１におけるガラス原盤に照射するレーザ光の露光強度の時間変化を示した図である。
【図４】（ａ）は、実施例１において、フォトレジスト露光・現像直後のガラス原盤の一部分を示した概略上面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ’−Ａ’線断面図である。
【図５】実施例１におけるガラス原盤の作製方法を説明した図である。
【図６】実施例１において得られた基板のパターン形成面の概略斜視図である。
【図７】実施例１において得られた基板の概略図である。
【図８】（ａ）は、実施例１における基板のイングルーブピット付近の概略上面図を示し、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面に加えて基板上に記録層及び反射層を形成した状態の概略断面図である。
【図９】ランドプリピットの再生信号を示した図であり、（ａ）は、実施例１で作成した情報記録媒体の信号を示した図であり、（ｂ）は、従来のイングルーブピットを有する情報記録媒体の信号を示した図である。
【符号の説明】
１基板
２記録層
３反射層
４０グルーブ形成部
４２ランドプリピット形成部
４４イングルーブピット形成部
５０ガラス原盤
５２フォトレジスト
７１，７５グルーブ領域
７３イングルーブ領域
１０１基板
１０１ａランド面
１０２記録層
１０３反射層
１０５グルーブ
１０７イングルーブピット
ＡＸ中心軸

Claims

複数のランド及びグルーブが形成された円形基板と、該円形基板上に記録層と反射層とを有する光情報記録媒体において、
上記グルーブの底部に、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットが形成されており、
第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ_１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ_２で表わしたとき、１＜Ｗ_２／Ｗ_１＜１．２であることを特徴とする光情報記録媒体。
上記ランドに、第３ピットが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
第３ピットの深さが、上記グルーブの深さと同じであることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体。
上記記録層が、色素材料で形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
上記色素材料がアゾ系色素材料であることを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体。
上記円形基板上にさらに第１及び第２ピットが形成されていないグルーブが形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を第１の露光強度と、第１の露光強度よりも低い第２の露光強度に変更しながら露光することにより、該感光性材料に少なくとも第２ピットに対応するパターンを露光し、第２の露光強度よりも低い第３の露光強度で上記感光性材料を露光することにより、上記感光性材料を上記グルーブに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像して第１ピット、第２ピット及び上記グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することを含む光情報記録媒体の製造方法。
上記感光材料を第１の露光強度で露光することにより、上記感光材料に第１ピットに対応するパターンを露光することを含むことを特徴とする請求項７に記載の光情報記録媒体の製造方法。
上記感光材料に第２ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第２の露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することを特徴とする請求項８に記載の光情報記録媒体の製造方法。
第１ピット及び第２ピットに対応するパターンを露光する前後で、露光強度を０にすることを含むことを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
上記現像において、ＲＩＥによるエッチングを行うことを含むことを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。