TWI234485B - Gas purifying process - Google Patents

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TWI234485B TW087107937A TW87107937A TWI234485B TW I234485 B TWI234485 B TW I234485B TW 087107937 A TW087107937 A TW 087107937A TW 87107937 A TW87107937 A TW 87107937A TW I234485 B TWI234485 B TW I234485B
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Masato Kawai
Morimitsu Nakamura
Nobuhiro Okamura
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Nippon Oxygen Co Ltd
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經濟部中央標準局員工消費合作社印製 1234485 Λ7 五、發明説明(1 ) 發明之領域 本發明係關於一種氣體精製方法及裝置,詳细地說,係 關於將以氧氣、氮氣為主要成分,將除去對象不純物至少 含有水、二氧化碳、一氧化碳等的氣體之精製方法及裝置 。進而更詳细地說,本發明係供供給清淨乾燥空氣(精製 乾燥空氣)之用的精製原料空氣的方法及裝置。此外,本 發明係關於適合藉由氧化被包含於冷卻分離裝置的原料空 氣之微量的氫或是一氧化碳,而吸附除去水或是二氧化碳 而精製原料空氣的前處理裝置之氣體精製方法及装置。 背景技術 近年來,高純度氣體的需求持續增加,特別是對於氮氣 ,在電子產業,特別是在半導體製造製程上被大量使用, 所K被要求著儘可能K所能供應的最高純度來供給。在電 子領域所被利用的氮氣,必須要將氧氣、水、二氧化碳、 氫、一氧化碳、碳氫化合物類之具有化學活性的不純物除 去至最極限。 從空氣分離氮氣時,就氣體的生產規模K及氣體的純度 的觀點來看冷卻分離法都是適當的方法,但是冷卻分離法 藉由蒸餾並不能夠將前述所有的不純物與氮氣分離。水以 及二氧化碳,在多數場合都在原料空氣的供給系藉由吸附 而除去。氫因為在空氣中的含量極微,所Μ可Μ藉由蒸餾 來分離,但是會伴有少量氮氣的損失,從氣液平衡的闞係 ,有必要再加設一層精餾塔。此外,因為一氧化碳的沸點 接近氮氣的沸點,所以要藉由蒸餾從氮氣分離出一氧化碳 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) ' (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 丨奪· 本
、1T 1234485 Λ7 B*7 五、發明説明(2 ) 是困難的。 由如此的技術問題,從原料空氣除去氫K及一氧化碳的 方法被提出一些解決方案。例如於日本專利特公平5 — 65 7 82號公報,揭示著>乂最高190 t:的加溫條件,使氫、一 氧化碳與共存的氧氣反應產生水與二氧化碳之後,藉由冷 卻分離裝置通常會設置的所謂前處理裝置來除去水、二氧 化碳的方法。在此方法,因為是在適於氫、一氧化碳的氧 化反應的溫度*所以將藉由壓縮熱昇溫至8 0〜1 5 0 °C的原 料空氣通過熱交換器、加熱器進而再加熱之後,通過觸媒 筒將氫、一氧化碳氧化。此方法,在加熱原料空氣時雖然 藉由壓縮熱的利用,藉由熱交換器之熱回收等方法圖謀裝 置的高效率化,但是加熱用電力、熱交換器等機器之變動 費用、固定費用的上升是無法避免的。 另一方面,日本專利特開平4 一 219111號公報,揭示著 將冷卻分離裝置的除去水、二氧化碳之用的前處理装置之 吸附器内,作成乾燥劑-觸媒-二氧化碳吸附劑之3層構 請 閱 讀 背 ιέ 冬 意 事 項 頁 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 化化使, 氫 劑少程 有 氧氧於a化燥多 Η 一 由在 Η 氧乾生生 、 藉點 Μ 供的再再 氫 是優目 設内的 , 、 也的 新器劑 } 碳,法It要附附 A 化時方is需吸吸 S 氧碳此®M不在於 T 二化。D'/w,對丨 、 氧去gs所是,生 水一除 但媒再 的、附 Η 媒。觸熱 中氫吸彡觸筒充加 氣去再 D 填媒填在 空除碳S充觸間 , 料在化^内的之說 原法氧 Μ 器用劑是 去方二 帛附 之附就 除此、g .吸碳吸也 時。水υβ用化碳 。 同法為 ο 理氧化響 Κ方成-5處一氧影 , 的其 5 前、 二有 造碳使用的氣與具 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 1234485 五、發明説明(3 ) 中最需要熱量的乾燥劑之前(從再生氣體流入路徑的角度 來看)因為被充填著觸媒,所以為了加熱無可避免會導致 所需熱量的增加以及再生用氣體量的增加。此外,在壓力 變動吸附法(P S A ),雖然沒有再生用熱量的問題,但 是會由於吸附器容積的增大而導致吹掃氣體(purge gas) 量的增加或產生吸附器切換搡作所導致的原料空氣的損失。 發明之目的 本發明的目的,在於提供可以防止加熱用電力或熱交換 器的機器所花費的變動費用或是固定費用的上升,K及, 吹掃氣體量的增加,原料空氣的損失等,有效率地除去氫 或一氧化碳的氣體精製方法及裝置。 發明之揭示 本發明的氣體精製方法,將至少含有水、二氧化碳、一 氧化碳等除去對象物之K氧氣、氮氣為主要成分的被精製 氣體,K氧化其一氧化碳使成為二氧化碳的氧化工程、水 的吸附除去工程、以及二氧化碳的吸附除去工程等之順序 進行精製。前述被精製氣體K空氣為代表。 此外,前述除去對象不純物中含有氫的場合,藉由觸媒 將氫氧化為水,將所產生的水藉由與擔持該觸媒的擔體、 前述觸媒同時充填的水分吸附劑以及在前述觸媒之後所充 填的水分吸附劑之至少其中之一來吸附除去。此氫的氧化 K及除去,係Μ在前述二氧化碳的吸附除去工程後的工程 進行者較佳。 進而,最少使用2個於入口側依序層積填充觸媒層、水 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) -6 - (請先閱讀背面之注意事項再本頁) Λ 、1Τ 1234485 Λ7 B7 五、發明説明(4 ) 分吸附 導入空 述填充 以前述 分吸附 氧化碳 去產生 行精製 冷卻分 述氫除 的二氧 口導出 入、冷 劑層、二氧化 氣液化分離裝 槽的一方,進 觸媒層 劑層將 除去, 的水、 工程; 離系的 去層所 化碳, 之後, 卻前逑 將一氧 水除去 接著以 將從出 在前述 歸遷氣 吸附的 及前逑 將前述 各層, 碳吸附劑 置的原料 行從入口 化碳氧化 ,進而Μ 前述氫除 口導出的 填充槽的 層以及 空氣加 導入壓 為二氧 前述二 去層將 精製空 另一方 體的一部份加溫 水,及前述二氧 水分吸附劑層所 歸遷氣體的一部 接著導入前逑精 氫除去 Μ精製 縮的前 化碳, 氧化碳 氫氧化 氣導入 ,進行 、從出 化碳吸 吸附的 份不加 製空氣 層之填 的場合 述原料 接著以 吸附劑 為水, 冷卻分 在將來 口導入 附劑層 水脫離 熱地從 的一部 充槽將 ,在前 空氣、 前逑水 層將二 同時除 離系進 自前述 ,使前 所吸附 而從入 出口導 份將槽 請 閱 讀 背 ί; 之 注 意 項 再 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 工 、填前吸化產的製 生 、槽述 Μ 分氧去Γ)精 再罾充前、水二除se述 逑 f 填在氣述將時(U前 前1¾的,空前 層同者 Μ 獨 與—層合料以 劑,用將 « 程 去場原著附水使在 工*?除的述接吸為姶行 製ia氫製前,碳化給進 精^及精的碳化氧供, 述。KPMM縮化氧氫氣方 前製!|«(層加壓氧二將空 一 toy 換精 口劑氣入二述層製另 切的附空導為前去精的 而氣 吸料口化 Μ 除的槽 ♦,空1¾碳原入氧而氫出充 程料21化的從碳進述導填 工 原用氧用行化,前口述 生的使二氣進氧去M出前 再續少、空, 一>除著從在 的連至層燥方將水接將 ·, 壓行,劑乾一層將, 、程 加進外附製的媒層去水工 再、此吸精槽觸劑除的製 内程 分將充述附碳生精 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X 297公釐) 7 1234485 A7 A7 B7 五、發明說明(6 ) 排列:填充了供氧化一氧化碳成為二氧化碳之用的觸媒的 觸媒層1,及填充了供> 吸附除去水分之水分吸附劑的乾燥 劑層2,及填充了供吸附除去二氧化碳之用的二氧化碳吸 附劑之二氧化碳吸附劑層3者。 被填充於前逑觸媒層1的觸媒,只要是可Μ將一氧化碳 氧化為二氧化碳的觸媒即可,其中Κ將鉑、或是鈀,同時 遷包括鐵、鈷、鎳、錳、銅、鉻、錫、鉛以及鈽之中之至 少一種,擔持於實質上不含细孔直徑在110埃(Α)Κ下的 细孔的氧化鋁擔體者較佳。被精製氣體Μ保持其原來含有 的水分的狀態進入觸媒層1*進行將含有的一氧化碳氧化 的工程產生二氧化碳。 作為被填充於前述乾燥劑層2的水分吸附劑,可Κ單用 矽膠、活性氧化鋁、沸石或者是將其混合使用。被精製氣 體藉由通過此乾燥劑層2,進行將含有的水分吸附除去之 工程成為高度乾燥的狀態。 作為被填充於前逑二氧化碳吸附劑曆3的二氧化碳吸附 劑,適合使用各種沸石,具體而言,例如可以單獨使用 Ca — Α型,Na — X型,Ca — X型或者是Α型/ X型 沸石,藉由單一或是複數金鼷離子進行離子交換的吸附劑 ,也可Μ複數組合混用。被精製氣體,藉由通過此二氧化 碳吸附劑層3,進行將含有的二氧化碳吸附除去的工程成 為被高度精製的狀態。 此外,除去對象不純物之中,於前逑不純物含有氫的場 合,設藉由觸媒將氫氧化為水,同時吸附除去氧化結果所 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁)
訂---------線I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 修正頁 1234485 A7 -------2Z_—— 五、發明說明(7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 產生的水的第4處理層,亦即氫除去層。於此氫除去曆所 使用的氫氧化觸媒,Μ鈀或是鉑最佳,較佳者是將活性氧 ib銘或是沸石作為擔體Κ0.25〜1.0重量百分比擔持鈀及 /或鉑者。此外,作為吸附除去產生的水分的吸附劑(乾 %劑),可K使用與前逑乾燥劑層2同樣的矽膠、活性氧 1鋁、沸石。這些乾燥劑可K與觸媒同時混合填充,也可 W在填充了觸媒之層的下游側填充這些乾燥劑亦可。進而 ’藉由將氧化氫氣的前逑觸媒如前所述地擔持於活性氧化 $或是沸石,可以擔持觸媒的擔體吸附除去自身所產生的 水分。 藉由此第4處理層(氫除去層)除去含有的氫的工程, 也可Μ置於第2處理層之乾燥劑層2M後的任何位置。但是 &了要高度除去氧化氫氣所產生的水分,最好是使用沸石 作為氣氣氧化觸媒的擔體*在此場合,為了避免二氧化碳 的影響*氫除去層最好是位於二氧化碳吸附劑層3的後段 ’也就是說,最好是在前逑各工程結束後的最終工程來進 行0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此,藉由從被精製氣體的流入方向依序配設觸媒層1 ,乾燥劑層2Κ及二氧化碳吸附劑層3,進而因應需要配設 前逑氫除去層,可Κ結合根據觸媒之一氧化碳及氫的氧化 *及反應結果所產生的水、二氧化碳Μ及被精製氣體原來 含有的水份、二氧化碳的吸附除去等成為一連串的操作, 有效率的氣體精製成為可能。 圖2係顯示將本發明適用於空氣液化分雛裝置的前處 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) _ 10 - » 修正頁 1234485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(8 ) 理裝置之例之系統圖。此前處理裝置,從原料空氣的流入 側設有2個依序為設有前逑觸媒層1、乾燥劑曆2、二氧化 碳吸附劑層3K及氫除去層4的填充槽,Μ可Μ連鑛精製原 料空氣的方式被形成。 於圖2,填充槽11a進行精製操作,填充槽lib進行 再生操作的場合,以壓縮機壓縮的氣體(原料空氣)經由 後置冷卻器、水份分雛器從管線12經由原料氣體入口閥13 a流入填充槽11a。此時原料空氣的溫度為例如5〜50 1C。 流入填充槽11a的原料空氣,於觸媒曆1,所含有的一 氧化碳藉由觸媒的作用與空氣中的氧氣反應,被氧化成為 二氧化碳。其次*於乾燥劑層2*包含於原料空氣中的水 分被吸附除去*於二氧化碳吸附劑層3,原料空氣中原來 就含有的二氧化碳,與前述觸媒層1所產生的二氧化碳被 吸附除去。進而,於最後的氫除去層4,含有的氫藉由觸 媒的作用與空氣中的氧氣反應,被氧化成為水,同時產生 的水被觸媒的擔體等吸附除去。 在填充槽11a所精製的原料空氣,從填充槽出口端流出 ,通過精製氣體出口閥14a、管線15流入冷卻分離糸16。 於冷卻分雛糸16,未成為製品的氣體,作為再生用氣體通 過管線17、閥18b被導入填充槽lib。填充槽lib之各層 1〜4,於再生操作前所進行的精製操作,氫除去層4,於 觸媒擔體吸附著氫的氧化反應結果所產生的水,二氧化碳 吸附劑層3係吸附二氧化碳而在幾乎快達到漏過(breakthrough) 的狀態 。此外 ,乾 燥劑 層吸附 著水份 ,也 是在幾 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格mo X 297公釐) -11 -修正 —.1-------------訂---------線赢 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 1234485 A7 B7 五、發明說明(9) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 乎漏過的狀態。觸媒層1,僅進行氧化一氧化碳之用的觸 媒功能,並無特別的變化。 在如此的狀態下進入再生操作的話*再生用氣體’在加 熱器19被加熱至必要的溫度(例如150〜250 1C)導人填充 槽lib ,對各層供熱,而且含有加熱結果所脫離的水份、 二氧化碳通過閥20 b、管線21向大氣流出。各層僅被升溫 至所必要的溫度,可Μ充分進行水、二氧化碳的脫離就停 止加熱,接著流通再生用氣體冷卻被加溫的各處理層。此 外,再生操作的後半段,進行使用一部份精製氣體的再加 壓操作,結束進入下一個精製操作的準備。 填充槽11a的精製操作,於在該槽11a被精製的空氣中 的水K及二氧化碳的濃度在被容許的範圍內之間持續進行 ,在引起漏過之前停止填充槽11a之精製操作、該槽11a 切換為再生操作,同時填充槽Ub切換為精製操作。接著 ,藉由每隔一定時間間隔就切換使用填充槽11a 、lib進 行的精製、再生操作,以分別反復交替各槽的精製、再生 ,來進行連續的原料空氣的精製。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖3係顯示適用本發明於精製乾燥空氣供給裝置之例之 系統圖。又*與圖2相同的元件被賦與相同的符號並省略 其詳綑說明。 此裝置,係將導出至管線15的精製乾燥空氣,取代圖2 所示的冷卻分離系16而供給至使用者(user) 30,同時將其 一部份分枝至管線17,作為再生用氣體而使用者。於管線 17設有流量調節用閥31。此實施例藉由精製乾燥空氣的一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 12 修正頁 1234485 A7 B7 五、發明說明(10) 的 用 之 碳 化 氧1 化 氧 供 將ο , 生示 再所 ] 3 的 圖 槽、 充 2 填圖 行之 進述 來上 份如 部 媒 的fpjw 氣# 不 肖f # 原¾操 對 生 於b再 ιιδιι1 層及劑 以附 水吸 , 碳 部化 游氧 上 二 最及 之 K 言ί2層 層 而 媒 劑® S觸 力 _jt» ^ ^ 流U要 施 實Μ 可 就 在 存 的 層 化 媒變 觸態 , 狀 述何 所任 前起 如 會 ο 不 媒 觸 的 所 並 中 施 實 程Η 製 精 在 為 因 的 此 如 能 可 為 成 法 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 也就是說,在將觸媒層1設於乾燥劑層2與二氧化碳吸附 劑層3的中間位置的場合,於乾燥劑層2的再生操作,在進 行觸媒層1的加熱之後要進行乾燥劑層2的加熱因而有另外 的動力需求,但是藉由如上述般的配置,因為乾燥劑層2 與二氧化碳吸附劑層3是連續的緣故,所K中間部不再有 熱損失,可以有效率地加熱乾燥劑層2。 此外,在除去對象不純物之中還加上氫的場合,因為僅 進行氫的氧化,供進行氧化之必需的觸媒也是極為有限的 量,所K幾乎沒有影響。 實驗例 將含有下逑份量的除去對象不純物的原料空氣,導入圖 4所示的精製裝置之填充槽11進行精製。 原料空氣:壓力 600 k P a 溫度 1 0 °C 水分飽和 除去對象不純物一氧化碳 5ppm,氫lOppm, 二氧化碳 400ppm 觸媒層1:氧化鋁擔體每l〇〇m 1擔持鉑3g ,鐵1.4g之 -----ill·---- (請先閱讀背面之注咅S事項再填寫本頁) 訂---------β 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -13 - 修正頁 1234485 Λ7 B7 五、發明説明(11 ) 觸媒 乾燥劑層2 :活性氧化鋁 請 先 閱 讀 背 面 ί 事 項 二氧化碳吸附劑層:合成沸石 N a — X型 氫除去層4:沸石擔體每100m 1擔持鈀0.3g的觸媒 Μ —定流量流動前述原料空氣,於填充槽出口測定露點 、二氧化碳、氫、一氧化碳。測定時,分別使用鏡面式露 點計,紅外線分析計,遷原器體檢測式氣相色層分析儀。 測定结果顯示於圖5。 如圖5所示,一氧化碳,在測定時間內完全未被檢測出 。氫,在水的漏過之後濃度逐漸上升。二氧化碳在本裝置 的場合約180分鐘後漏過。 從這些結果來看,可知藉由適當設定各層的填充量,可 以在圖2、圖3所示的糸統實施連續的精製、再生的製程。 圖式之簡單說明 圖1係顯示本發明之一實施形態之氣體精製裝置之系統 圖〇 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 圖2係顯示將本發明適用於空氣液化分離裝置的前處理 裝置之例的系統圖。 圖3係顯示將本發明適用於精製乾燥空氣供給裝置之例 的系統圖。< 圖4係顯示在實驗例所使用的精製裝置的填充槽之概略 圖。 圖5係顯示實驗例之測定結果之氫、二氧化碳Κ及水的 濃度變化之圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

1234485 1 ..、 ^ A8 B8 C8 D8 M 搞,.F.93, B. m -......聲 _暴 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 f、申請專利範圍 1 · 一種氣體精製方法’該氣體包含被包含水、一氧化碳及 二氧化碳之不純物所污染之氮氣及氧氣,該方法包含依照下 列次序進行之步驟: 在將一氧化碳氧化成二氧化碳之情況下,使該氣體與一觸 媒接觸’該觸媒係由翻或纪與選自由鐵、始、錄、猛、銅、 鉻、錫、錯及錦組成之族群之至少一員所組成,其中該觸媒 係擔持於實質上不含細孔直徑在1 1 0埃(A )或以下之細孔的 氧化鋁上; 在將水自該氣體中吸附及除去之情況下,使該氣體與一吸 附劑接觸,該吸附劑係選自由矽膠、活性氧化鋁、沸石及其 組合組成之族群,及 在將二氧化碳自該氣體中吸附及除去之情況下,使該氣體 與一吸附劑接觸,該吸附劑係選自由鈣離子交換A沸石、鈣 離子交換X沸石、鈉離子交換X沸石及其混合.物組成之族群。 2 ·如申請專利範圍第1項之氣體精製方法,其中,該氣體 為空氣。 3 ·如申請專利範圍第1項之氣體精製方法,其中,該氣體 係進一步被氫氣污染且該方法進一步包含下列步驟: 在將氫氣氧化成水之情況下,使該氣體與一觸媒接觸,該 觸媒包含自約0 · 2 5至1 · 0重量百分比之韵或把擔持於活性氧 化鋁或沸石上,及 藉由使該氣體與至少一下列吸附劑接觸,將水自氣體中吸 附及除去: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) f 訂---------線· 本紙秘編潑賴·Cif)A4規格(210 X 297妓) 1 1234485 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 < (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> (a) 矽膠、活性氧化鋁、沸石及其混合物,將其與氧化氫氣 成為水之觸媒混合,或將其置於氧化氫氣成為水之觸媒的下 游位置,以及 (b) 活性氧化鋁及/或沸石,擔持促進氧化氫氣成為水之鉑 或。 4 ·如申請專利範圍第3項之氣體精製方法,其中,將氫氣 氧化成為水與將水自該氣體中吸附及除去之步驟係在將二氧 化碳自該氣體中吸附及除去之步驟之後進行。 5. —種氣體精製方法,使用至少二填充槽來精製被氫氣、 水、一氧化碳及二氧化碳污染之未處理的空氣,每一填充槽 含有一觸媒層、一水吸附層、一二氧化碳吸附層及一氫氣除 去層,而自填充槽入口以上述之次序設置至出口 ,包含下列 步驟: 將經壓縮、未處理之空氣導入該填充槽之一,及在觸媒層 中連續地將一氧化碳轉化為二氧化碳、在水吸附層中除去 水、在二氧化碳吸附層中除去二氧化碳、以及在氫氣除去層 中除去氫氣; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 自填充槽出口排出經精製之空氣,及將該經精製之空氣導 入一冷卻分離系統; 將來自冷卻分離系統之受熱歸還氣體導入供再生之另一填 充槽出口,其中該受熱歸還氣體完成被氫氣除去層吸附之水 的脫附、被二氧化碳吸附層吸附之二氧化碳的脫附以及在水 吸附層中之水的脫附; 一 2 — 本紙韻«cif)A4規格(21°x 297公髮) 1234485 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 自再生之填充槽入口排出含有氣體之水與二氧化碳; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將來自冷卻分離系統之未受熱歸還氣體導入通過再生之填 充槽出口,及冷卻在再生之填充槽中的吸附劑層與觸媒層; 以及 將一部分經精製之空氣導入冷卻再生槽以再加壓冷卻再生 槽, 其中,空氣精製步驟及填充槽再生步驟係以連續方式交替 地在至少二填充槽中重複。 6 · —種氣體精製方法’使用至少二填充槽來精製被氫氣、 水、一氧化碳及二氧化碳污染之未處理的空氣,每一填充槽 含有一觸媒層、一水吸附層、一二氧化碳吸附層及一氫氣除 去層,而自填充槽入口以上述之次序設置至出口 ,包含下列 步驟: 將經壓縮、未處理之空氣導入該填充槽之一·,及在觸媒層 中連續地將一氧化碳轉化為二氧化碳、在水吸附層中除去 水、在二氧化碳吸附層中除去二氧化碳以及在氫氣除去層中 除去氮氣; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 自填充槽出口排出經精製之空氣; 將一部分經精製之空氣加熱至溫度高到足以完成自一填充 槽脫附二氧化碳及水; 將受熱、經精製之空氣導入供再生之另一填充槽出口 ,其 中該受熱、經精製之空氣完成被氫氣除去層吸附之水的脫 附、被二氧化碳吸附層吸附之二氧化碳的脫附以及在水吸附 本紙献祕顧7¾猜)A4規格(21〇 X 297公楚〉 1234485 A8 B8 C8 D8 準 標 家 國 國 ΦΤ 用 適 度 尺 張 紙 __一本 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 21 /V 格. 規 4 A S) 六、申請專利範圍 層中之水的脫附; 自再生之塡充槽入口排出含有空氣之水與二氧化碳; 將未受熱、經精製之空氣導入通過再生之塡充槽出口,及 冷卻在再生之塡充槽中的吸附劑層與觸媒層;以及 將一部分經精製之空氣導入冷卻再生槽以再加壓冷卻再 生槽, 其中,空氣精製步驟及塡充槽再生步驟係以連續方式交替 地在至少二塡充槽中重複。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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