1230968 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 _ B7五、發明説明（〇 -【發明所屬之技術領域】 本發明係關於，在例如液晶顯不器用基板上’或半導 體晶圓等的基板上，施加預定的液處理之旋乾型液處理裝 置及液處理方法。 【以往之技術】 例如，在液晶顯示器或半導體元件的光蝕刻工程中， 一般係使用一種被稱之爲旋乾型的液處理裝置，使L C D 基板或半導體晶圓等的基板在面內進行旋轉、洗淨、抗蝕 劑塗布、顯像等的處理。 例如，在L C D基板的顯像處理中，將經過曝光處理 的基板載置在旋轉卡盤上，固定之後在基板上塗上顯像液 ，在形成了顯像液的液片層之後進行顯像反應，‘在經過了 預定的時間之後，令基板旋轉同時開始供給洗濯液，再將 顯像液和洗濯液甩開，其後，停止洗濯液的供給，而使基 板以高速旋轉來進行旋乾作業。如此一來，在旋乾型的液 處理裝置中，將基板旋轉乾燥可使處理液從基板向四方飛 散而甩開處理液。 如此一來，從基板被甩開的處理液，會衝撞到圍繞著 基板的蓋筒單元的內壁面而被引導到下方_，再透過吸收作 業加以回收，或者是加以廢棄。又，作爲蓋筒單元，主要 是使用具有：當基板以低速旋轉之際，被配置成圍繞著基 板的內側蓋筒，和當基板以高速旋轉之際，被配置成圍繞 著基板的外側蓋筒，所組成的雙層結構。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .爹. 訂
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X29*7公釐） -4 - 1230968 A7 B7 五、發明説明（2) 不過，在使用以往的雙層構造的盡筒單兀時’從基板 甩開的處理液，會附著在內側蓋筒和外側蓋筒的兩內壁面 上，在被圍繞在內側蓋筒或是外側蓋筒的狀態下，若是爲 了要乾燥基板而使基板高速旋轉的話，由旋轉所產生的氣 流，會使從附著在內側蓋筒或是外側蓋筒的內側面上的處 理液產生霧氣，這種霧氣會飄浮在基板上方’凝成微細粒 子附著在基板上，而使基板產生品質低下的問題。 【本發明應可解決之技術性課題】 本發明係有鑑於相關事態所作之發明，其目的，係提 供一種可以降低霧氣的發生，而抑制附著到基板的微細粒 子的液處理裝置及液處理方法。 若依據本發明的第一觀點，所被提供的液處理裝置， 係具備有：用來保持基板之保持手段；和將預定的處理液 ，供給到被保持在前述保持手段上的基板，之處理液供給 機構；和使前保持手段旋轉的旋轉手段；和爲了圍繞住被 保持在前述保持手段上的基板，所被裝設的蓋筒；和被裝 設在前述蓋筒的外周壁上之排氣機構。 若依據本發明的第二觀點，所被提供的液處理裝置， 係進行將處理液供給到基板上之液處理，其後使前述基板 旋轉’使前述基板旋轉乾燥之液處理裝置；係具備有：用 來保持基板之保持手段；和使前保持手段旋轉的旋轉手段 ;和將預定的處理液，供給到被保持在前述保持手段上的 基板’之處理液供給機構；和爲了圍繞住被保持在前述保 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作杜印製 - 5- 1230968 A7 B7 五、發明説明（3) 持手段上的基板，所被裝設的蓋筒單元；和使前述蓋筒單 元昇降之昇降機構；其中，前述蓋筒單元，係於進行液處 理之際，藉由前述昇降裝置，被移動到被維持在略乾燥狀 態的位置上，且，具有當前述旋轉乾燥之際，藉由前述昇 降裝置，被移動到圍繞住被保持在前述保持手段上的基板 的位置上之蓋筒單元。 若依據本發明的第三觀點，所提供的液處理裝置，係 具備有：用來保持基板之保持手段；和將預定的處理液， 供給到被保持在前述保持手段上的基板，之處理液供給機 構；和使前保持手段旋轉的旋轉手段；和爲了圍繞住被保 持在前述保持手段上的基板所被配置，且，由內側向外側 高度逐漸增高，由內蓋筒、中蓋筒、外蓋筒所構成的三層 構造之蓋筒單元；和使前述蓋筒單元昇降之昇降機構。 若依據本發明的第四觀點，所提供的液處理裝置，係 一面使被保持成略爲水平的基板旋轉，一面將處理液供給 到基板上，來進行預定的液處理之液處理方法；在前述處 理液的供給中，用一種蓋筒來回收從基板飛散的處理液， 當前述處理液的供給停止之後，使前述基板旋轉，使前述 基板旋轉乾燥之際，爲了回收從前述基板處飛散的處理液 ，則使用內壁面略爲乾燥狀態下的其他的蓋_筒。 若依據本發明的第五觀點，所被提供的液處理裝置， 係一面使被保持成略爲水平的基板旋轉，一面將處理液供 給到基板上，來進行預定的液處理之液處理方法；由內側 向外側高度逐漸增高，由內蓋筒、中蓋筒、外蓋筒所構成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慈財產局B工消費合作社印製 -6 - 1230968 A7 B7 五 '發明説明（4) 的三層構造之蓋筒單元，圍繞著基板而加以配置；具有下 述回收工程：從前述基板開始旋轉起，到經過了預定的時 間爲止，將其間自前述基板飛散之處理液用前述內蓋筒加 以回收之第一工程；和自前述第一工程後起，到前述處理 液停止供給爲止，將其間自前述基板飛散之處理液用前述 中蓋筒加以回收之第二工程；和自前述處理液的供給停止 之後，當使基板旋轉，使基板旋轉乾燥之際，將其間自前 述基板飛散之處理液用前述外蓋筒加以回收之第三工程。 若依據本發明的第一至第五觀點，則即使在液處理過 程中產生了處理液的霧氣，由於藉由被裝設在蓋筒的外周 壁上的排氣機構，可以將霧氣排除，所以可以防止霧氣飄 上到基板的上空，進而可防止其成爲微細粒子而附著到基 板上。又，當基板進行旋轉乾燥時，所用者爲內壁面略乾 燥狀態之蓋筒，例如，在三層式結構的情況下，藉由用外 蓋筒圍繞住基板，可防止套來自蓋筒內壁的霧氣的發生， 減少飄上到基板上空的霧氣量。在這種狀況下，若是進一 步從蓋筒的外周壁進行排氣的話，則可以更有效地排除霧 氣。如此一來，就可以得到微細粒子附著量少之高品質基 板，藉此減少製品的不良率，提高製品的可靠性。 【本發明之結構及作用】 以下，參照附加圖面，針對本發明的實施形態加以詳 細地說明。 第1圖係顯示本發明的液處理裝置之實施形態，也就 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 1230968 A7 _ B7 五、發明説明（5) 是具備顯像處理單元（D E V ) ( 2 4 a )〜（2 4 e ) 之L C D基板的抗蝕劑塗布·顯像系統（]_ 〇 〇 )之平面 圖。 抗触劑塗布.顯像系統（1 0 0 )，係具備有：載置 著用來收容複數個的LCD基板（基板（g))的卡匣（ C )之卡匣式作業站（1 );和用來在基板（〇 )上進行 包含抗蝕劑塗布及顯像之一連串處理，所具備複數個的處 理單元之處理部（2);和位於曝光裝置（圖中未示）之 間，用來進行基板（G )的交接之界面部（3 );其中， 處理部（2 )的兩端上’係分別被配置有卡匣式作業站（ 1 )以及界面部（3 )。 卡匣式作業站（1 )，係於卡匣（C )和處理部（2 )之間，具備有用來搬運基板（G)之搬送機構（1 〇) 。然後，針對卡匣式作業站（1 )，進行卡匣（c )的運 進與運出。又，搬送機構（1 0 )係具備有：可以沿著卡 ------·---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
路 1 送C 搬臂 的送 設搬 裝該 來由 向藉 方。 歹 } 排 1 的 1 匣 C 經濟部智慈財產局員工消費合作社印^ β. 咅 彐二 理 處 G /IV 板 基 行 進 間 之 \)y β, 咅 2段 C後 部和 彐二 理、 處 } b 2 臂和 送> 搬 C 的 C 動匣 移卡 上在 } 以 ο 可送 ， 搬 之 a 部 段 前 成 分 被 係
C 在 別 分 β· 咅 段 C 中路 、 送 }搬 a 有， 2 具 C央 中 被裝 上被 側 ’ 兩間 的之 路路 送送 搬搬 此二 些 1111 、、λ、、λ 在在 }後 4 然 1—- ο ( 元 、 單 彐二 } 理 3 處 ^1 的 ( 自 、 各 }有 2 設 1 裝 部部 pniB^ 中 Itro 有 設 路 送 搬 著 沿 在 有 備 係 上 適 尺 張 ,紙 本 準 標 家 國 I國 I釐 公 7 9 2 ~ 8 - 1230968 A7 B7 五、發明説明（6) 可移動的主搬送裝置（17)，而在搬送路（12)的其 中一方側上，被配置有兩個洗淨單元（S C R ) (21a (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) )、(21b)，在搬送路（1 2 )的另一方側上，被配 置有：由紫外線照射單元（U V )和冷卻單元（C 0 L ) 兩段式重疊而成的處理區塊（2 5);和由加熱處理單元 (HP)兩段式重疊而成的處理區塊（26);以及由冷 卻單元（COL)兩段式重疊而成的處理區塊（27)。 又，中段部（2 b )，在沿著搬送路（1 3 )上’係 備有可移動的主搬送裝置（18)，而在搬送路（13) 的其中一方側上，被一體配置有抗蝕劑塗布處理單元（ c T ) (22)，以及用來除去基板（G )周緣部的抗蝕 劑之周緣部抗蝕劑除去單元（E R ) (23)，而在搬送 路（1 3 )的另一方側上，被配置有：由加熱處理單元（ HP)兩段式重疊而成的處理區塊（2 8);和由加熱處 理單元（HP)和冷卻單元（C〇L)上下兩段式重疊而 成的處理區塊（2 9 );以及由附著處理單元（A D )和 冷卻單元（C 0 L )上下兩段式重疊而成的處理區塊（ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3〇）° 再者，後段部（2 c )，在沿著搬送路（1 4 )上， 係備有可移動的主搬送裝置（19) ’而^搬送路（14 )的其中一方側上，被配置有三個顯像處理單元（D E V )(24a) 、(24b) 、(24c)(以下標記成·· 顯像處理單元（DEV) (24a)〜（24c)) ’而 在搬送路（1 4 )的另一方側上’被配置有：由加熱處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'〆297公釐） -9- 1230968 A7 B7 五、發明説明（7) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 單元（HP)兩段式重疊而成的處理區塊（31):和由 加熱處理單元（HP)和冷卻單元（C〇L)上下兩段式 重疊而成的處理區塊（32) 、（33)。 另外，處理部（2 )的構造，係在挾裝有搬送路其中 一方側上，僅配置著像洗淨單元（S C R ) (21a)、 抗蝕劑塗布處理單元（C T ) ( 2 2 )、顯像處理單元（ °EV) ( 2 4 a )之類的旋轉系單元，而在另一方側上 ，僅配置著像加熱處理單元（Η P )或冷卻單元（C〇L )之類的熱系處理單元。 又，在中繼部（1 5 ) 、（ 1 6 )的旋轉系單元配置 側的部分上，被配置有藥液供給單元（3 4 )，進而，被 裝設有用來進行主搬送裝置（17) 、（18) 、（19 )的維護之空間（3 5 )。 主搬送裝置（1 7 ) 、（ 1 8 ) 、（ 1 9 )，係分別 經濟部智慧財產局8工消费合作社印製 具備在水平面內的兩個方向之X軸驅動機構、Υ軸驅動機 構，以及垂直方向上的Ζ軸驅動機構，再者，備有以Ζ軸 爲中心旋轉的旋轉驅動機構，還有分別支持基板（G )之 支持臂。 主搬送裝置（17)，具有搬送臂（17a)，在搬 送機構（1 0 )的搬送臂（1 0 )之間進行基板（G )的 交接，並且進行對於前段部（2 a )的各處理單元之基板 (G )的搬入、搬出，進而在與中繼部（1 5 )之間，具 有進行基板（G )的交接的功能。又，主搬送裝置（1 8 )具有搬送臂（1 8 a )，在與中繼部（1 5 )之間，進 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 1230968 A7 B7 五、發明説明（8) 行基板（G )的交接，並且進行對於中段部（2 b )的各 處理單元之基板（G)的搬入、搬出，進而在與中繼部（ 1 6 )之間，具有進行基板（G )的交接的功能。再者， 主搬送裝置（1 9 )具有搬送臂（1 9 a )，在與中繼部 (1 6 )之間’進行基板（G )的交接，並且進行對於後 段部（2 c )的各處理單元之基板（G )的搬入、搬出， 進而具有在與界面部（3 )之間進行基板（G )的交接的 功能。另外，中繼部（1 5 ) 、（ 1 6 )，係發揮冷卻平 板的機能。 界面部（3 )，係具備有：在和處理部（2 )之間， 進行基板（G )的交接之際，用來暫時保持住基板（G ) 之擴充部（3 6 );和配置有緩衝卡匣之兩個緩衝平台（ 3 7);和將置於上述構件與曝光裝置（圖中未示）之間 的基板（G)進行搬入或搬出之搬送機構（38)。搬送 機構（3 8 )，係具備有：沿著擴充部（3 6 )和緩衝平 台（3 7 )的排列方向，可以在被裝設的搬送路（3 8 a )上移動的搬送臂（39) ，·藉由該搬送臂（39) ’可 以在處理部（2 )和曝光裝置之間，進行基板（G )的搬 送。 藉由像這樣將各處理單元聚集起來予^一體化’可以 達到節省空間及處理效率化的效果。 針對像這樣所構成的抗蝕劑塗布·顯像系統（1 0 0 )，卡匣（C )內的基板（G )會被搬送到處理部（2 ) ，在處理部（2 )，首先係於前段部（2 a )的處理區塊 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------41^衣— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 1230968 A7 B7 五、發明説明（9) (2 5 )的紫外線照射單元（U V )上進行表面改質、洗 淨處理，在冷卻處理單元（C 0 L )冷卻之後，在洗淨單 元（S C R ) (21a) 、（ 2 1 b )處被施以濕式洗淨 ，在處理區塊（2 6 )的任何一'個加熱處理早兀（HP ) 處加熱乾燥後，在處理區塊（2 7 )的任何一個冷卻單元 (C〇L )處冷卻。
其後，基板（G )被搬送到中段部（2 b )，爲了要 提高抗蝕劑的定著性，於處理區塊（3 0 )的上段的附著 處理單元（A D )處，進行疏水化處理（Η M D S處理） ，在下段的冷卻處理單元（C〇L )處冷卻後，在抗蝕劑 塗布處理單元（CT) (22)處進行抗蝕劑的塗布，在 周緣部抗鈾劑除去單元（E R ) ( 2 3 )處除去基板（G )的周緣的多餘的抗蝕劑。其後，基板（G )會在中段部 (2 b )的加熱處理單元（Η Ρ )中的其中一處進行預烤 處理，然後在處理區塊（2 9 )或（3 0 )的下段冷卻單 元（C〇L )中冷卻。 其次，基板（G )係自中繼部（1 6 )起，於主搬送 裝置（19)，透過界面部（3)，被搬送到曝光裝置上 ，在該處被曝光成預定的圖案。然後，基板（G )會再度 透過界面部（3 )來搬入’ Mif應於必要的程序，在後段部 (2 c )的處理區塊（3 1 ) 、（32) 、（ 3 3 )之任 •一處的加熱處理單元（Η P )處，當施加後段曝光烘烤之 後，於顯像處理單元（DEV) (24a)〜（24c) 之任一處被顯像處理，形成了預定的電路圖案。經顯像處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 1230968 A7 ___B7_ 五、發明説明（1() 理的基板（G )，於後段部（2 c )的任一處加熱處理單 元（Η P )處被施加後段烘烤處理之後，於任一處的冷卻 單元（COL)處冷卻，再藉由主搬送裝置（19)、( 18) 、（ 1 7 )以及搬送機構（1 0 )，收容在卡匣式 作業站（1 )上的預定的卡匣內。 接著，針對關於本發明之顯像處理單元（D Ε V )( 2 4 a )〜（2 4 c )詳細地加以說明。第2圖係顯示顯 像處理單元（D Ε V )之剖面圖，第3圖係顯示顯像處理 單元（DEV) (24a)〜（24c)的平面圖。如第 3圖所示，構成顯像處理單元（DEV) (24a)〜（ 2 4 c )的各種構件，係被裝設在收容槽（5 9 )內。 顯像處理單元（DEV) (24a)〜（24c)， 係具有：將基板（G )保持成略呈水平之旋轉卡盤（4 1 );和用來控制被保持在旋轉卡盤（4 1 )上的基板（G )的姿勢之姿勢控制栓（5 7 );和被裝設成圍繞住被保 持在旋轉卡盤（4 1 )上的基板（G )的蓋筒單元（4 9 );和用來進行蓋筒單元內部的排氣之排氣機構（9 0 ) ;和兩個下部蓋筒（4 4 ) 、(45);和將顯像液噴出 到被保持在旋轉卡盤（4 1 )上的基板（G )之顯像液噴 出式噴嘴（8 0 );和將用來洗淨顯像液後流出之洗濯液 朝向基板（G )噴出之洗濯液噴出式噴嘴（6 0 )。其中 ，蓋筒單元（49)，係具有內蓋筒（內部位的蓋筒）（ 4 6 )、中蓋筒（中間部位的蓋筒）（47)、和外蓋筒 (外面部位的蓋筒）（4 8 )。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297公釐） ------’__夢II (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -13- 1230968 A7 B7 五、發明説明（ 旋轉卡盤（4 1 )，係製作成可以藉由真空吸力等將 基板（G )吸住保持，再藉由馬達等的旋轉裝置（4 2 ) 可使其旋轉。在這種旋轉卡盤（4 1 )的下側上，被配置 有包圍住旋轉裝置（42)之外套蓋（43)。旋轉卡盤 (4 1)，可以藉由圖中所未示的昇降機構來昇降，到了 上昇位置處，在搬送臂（1 9 a )之間進行基板（g )的 交接。 姿勢控制栓（5 7 )，係以多數地被裝設成貫通外套 蓋（4 3 )的一部份所成，姿勢控制栓（5 7 )係可藉由 圖中未示的昇降機構來加以昇降。基板（G )的外周部由 於自身重量導致容易彎曲，其結果，由於當表面變成曲面 時’顯像液的液片層就變得很難形成，所以爲了防止這種 狀況發生，可調節姿勢控制栓（5 7 )的高度，’使基板（ G )從基板（G )的下側起略成水平，來支持住基板（g )。由於姿勢控制栓（5 7 )會在支持住基板（G )的狀 態下使基板（G )旋轉，所以當使基板（G )連同旋轉卡 盤（4 1 )旋轉時，最遲到開始旋轉爲止，要使姿勢控制 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ) ，曲制液當 G } 撓控的， ( 7 的勢液開 板 5 } 姿像甩 基 { G 節顯液 開 栓彳調上像 離 制，板地}顯 ) 控基幅 G 的 7 勢除大丨上 5 姿消易板 } ( 住來容基 G 栓 定，不在{ 制 固度並，板 控 由高，又基 勢 藉的下。將 姿 到} 況度要 使 慮 1 狀高了 ， 考 4 該定爲 降 然 ^ 在固， 下 雖盤是的後 ) ，卡但 } 之 7 外轉，7 成 5 另旋法 5 形 (. 節方 C 層 栓。 調的栓片 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -14- 1230968 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 基板（G )要從姿 (4 1 )上昇時， 而使顯像液的液片 被顯像的圖案產生 制检（5 7 )構成 了。 下部蓋筒（4 設在外套蓋（4 3 作成：可將自基板 被混合成的濃度略 筒（4 4 )的內周 在內側的下部蓋筒 排水管（8 8 將自基板（G )所 點來切換三向閥， 顯像液，與被洗濯 離而加以回收。 中蓋筒（中間 成可將飛散自基板 筒（4 4 ) 、（ 4 而被裝設在兩個下 。排水管（8 8 b 排氣。 外蓋筒（4 8 勢控制栓（5 7 )處離開而使旋轉卡盤 基板（G )的周緣部的撓曲就會變大， 層的形產生部份的差異，會有進而使 部份的差異之虞。不過，若是將姿勢控 爲自由昇降的話，就不易產生這種問題 4 ) 、（45)，係以互相 )的外周。又，內套蓋（4 (G )處飛散出來的顯像液 爲低下的顯像液，導向被形 側底部之排水管（8 8 a ) (4 4 )的內周側上方。 a )係連通於圖中未示的三 甩開的顯像液以合於供給洗 可以製作成：將幾乎未和洗 液混合而濃度變低的顯像液 離開地被裝 6 )，係製 及洗濯液所 成於下部蓋 ，而被裝設 向閥，藉由 濯液的時間 濯液混合的 ，使兩者分 部位的蓋筒）（4 7 )，主要係被製作 (G )的洗濯液，導向被裝設在下部蓋 5 )之間的底部的排水;t ( 8 8 b )， 部蓋筒（4 4 ) 、（ 4 5 )之間的上方 )，也被使用在蓋筒單元（4 9 )內的 )，主要是爲了可以將洗濯液的霧氣導 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） ------!^f! (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 15- 1230968 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（θ 向排水管（8 8 b )或後述的排氣口（ 8 9 )，而被裝設 在外側的下部蓋筒（4 5 )的外周側上方。內蓋筒（4 6 )、中蓋筒（4 7 )、外蓋筒（4 8 )，係分別具有以略 垂直於傾斜的圓錐部而被立設的外周壁（側面壁），具有 被相互連結的三重構造。爲了明示具有這種三重構造的蓋 筒單元（4 9 )的結構，在第2圖的右側上，雖然係由用 來使回收的處理液流下來的的孔部所形成的形態，但是內 蓋筒（4 6)、中蓋筒（47)、外蓋筒（48)，都是 分別地被表示出來。又，在第2圖的左側上，爲了顯示出 內蓋筒（46)、中蓋筒（47)、外蓋筒（48)是被 一體構成的，所以顯示出其接合部所表示的形態。 如第3圖所示，外蓋筒（4 8 )的外周上，於十字方 向的四個地方，係被設置有昇降機構，在接收到來自後述 控制裝置（7 0 )的信號之後，進行蓋筒單元（4 9 )的 昇降動作，使蓋筒單元（4 9 )停止在預定高度的位置上 ，而可以加以保持。以合於顯像處理的時間點，持續調整 蓋筒單元（4 9 )的高度位置，藉由分別使用排水管（ 8 8a) 、(88b)，如前所述，高濃度的顯像液、混 合著洗濯液的顯像液、洗濯液以及混合少量顯像液的洗濯 液，就可以被分別加以回收。 排氣機構（9 0 )，如第2圖和第3圖所示，係被裝 設在外蓋筒（4 8 )的外周壁，例如，被裝設在十字方向 上的4個地方。這種排氣機構（9 0 )，當使用外蓋筒（ 4 8 )來回收了自基板（G)飛散出來的處理液之際，雖 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210乂297公釐） -16- 1230968 A7 B7 五、發明説明（14 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 然可以自蓋筒單元（4 9 )內進行吸氣而使之動作，但是 即使是在使用了內蓋筒（4 6 )或中蓋筒（4 7)來進行 處理液的回收，仍可藉由吸氣動作，來進行包含有霧氣的 吸氣或排氣。 在此，針對排氣機構（9 0 )的結構’詳細地加以說 明。在外蓋筒（4 8 )的外周壁上係形成有吸氣口（ 9 1 )，第一導入管（9 2 )係連通於吸氣口（ 9 1 )而被加 以配設，爲了將被導入到第一導入管（9 2 )的氣流朝下 方引導，第二導入管（9 3 )係被裝設成連通於第一導入 管（92)，進而，使排氣口（89)形成於第二導入管 (9 3 )的下方。排氣機構（9 0 )，係藉由這樣的結構 ，通過外蓋筒（4 8 )的外周壁，而可以進行蓋筒單元（ 4 9 )內的側面排氣。 爲了圍繞住排氣口（ 8 9 )的上部開口端，壁部（ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 6 )係被裝設成自底板（9 7 )起立設於上方，在壁部 (9 6 )的前端部上，可自由伸縮的蛇腹構件（9 4 )的 其中一端則是被固定住。進而，蛇腹構件（9 4 )的另〜 端，係被接合在被裝設於第二導入管（9 3 )的預定位置 之固定構件（9 5 )上。如此一來，當使用昇降構件（ 5 0 )來使蓋筒單元（4 9 )上升、下降斤，蛇腹構件（ 9 4 )會利用伸縮，來確保自吸氣口（ 9 1 )到排氣口（ 8 9 )爲止的排氣經路。排氣口（ 8 9 )係被構成爲··與 排水管（8 8 b )於圖中未示的之前的位置上被予以連結 ，進而連接在霧氣集取器上，而可以將液體和氣體加以分 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1230968 A7 B7 五、發明説明（ 離。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如第3圖所示，當基板（G )的旋轉方向爲以箭號（ S 1 )來表示的方向時，在蓋筒單元（4 9 )內，在和箭 號（S 1 )相同的方向上就會產生氣流。這種氣流會順著 在箭號（S 2 )所示的方向上，從吸氣口（ 9 1 )處吸氣 進去，而第一導入管（9 2 )就是被裝設在外蓋筒（4 8 )的外周壁上。藉由形成這樣的排氣經路，可以提高吸氣 效率，進而可以更有效地集取所產生的霧氣。 再者，如第3圖所示，在外蓋筒（4 8 )之一方側上 ，係被設置有顯像液用的噴嘴臂（5 1 )，在噴嘴臂（ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 1 )上係被安裝有顯像液噴出式噴嘴（8 0 )。噴嘴臂 (51)，係沿著導向軌道（5 3 )，藉由牽引帶驅動等 的驅動機構（5 2 )，而可橫越過基板（G )而移動。藉 由將顯像液持續從顯像液噴出式噴嘴（8 0 )處噴出，使 噴嘴臂（5 1 )沿著導向軌道（5 3 )移動，而使顯像液 被塗布在基板（G )上。顯像液噴出式噴嘴（8 0 )，係 被製作成於噴嘴待機部（1 1 5 )處待機，在該噴嘴待機 部（1 1 5 )上，被裝設有用來洗淨顯像液噴出式噴嘴（ 8 0 )之噴嘴洗淨機構（1 2 0 )。 作爲顯像液噴出式噴嘴（8 0 )，如_ 4圖所示，具 有細縫狀的顯像液噴出口（ 8 5 )，適於被使用在從顯像 液噴出口（ 8 5 )使顯像液如帶狀般噴出的裝置。當將保 持顯像液噴出式噴嘴（8 0 )的噴嘴臂（5 1 )，沿著導 向軌道（5 1 )加以掃描時，無論從任一個方向掃描，爲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18- 1230968 A7 B7 五、發明説明（1自 了可以在朝向基板（G )於同等的條件下噴出顯像液，從 顯像液噴出口（ 8 5 )處起，顯像液係以垂直相對於基板 (G )地被噴出。 噴嘴臂（5 1 )，如第4 ( b )圖所示，係以可保持 多數個的，例如兩個顯像液噴出式噴嘴（8 0 a )、（ 8 0 b )而被構成的。藉此，例如，即使是在某批基板（ G )中使用了和另一批基板（G )不同種類的抗蝕劑，仍 可以使之噴出對應於顯像液噴出式噴嘴（8 0 a )、（ 8 0 b )各自所被使用的抗蝕劑，之不同的顯像液。當用 一根顯影液噴出式噴嘴（8 0 )就可以分別使用兩種顯像 液時，在切換所使用的顯像液之際，必得進行顯像液噴出 式噴嘴（8 0 )的洗淨處理。可是，當用兩根顯像液噴出 式噴嘴（8 0 a )、（ 8 0 b )時，由於即使沒有進行這 樣的洗淨處理，也可以連續地使用不同種類的顯像液來進 行顯像處理，故可以提升生產力。 顯像液噴出式噴嘴（8 0 a ) 、 （ 8 0 b )，係分別 藉由昇降機構（5 8 a ) 、(58b)，而可以改變高度 的位置，使用的一方的顯像液噴出式噴嘴，例如，顯像液 噴出式噴嘴（8 0 a )會被配置在顯像液噴出式噴嘴（ 8 0 b )的下方位置，來使昇降機構（5 8.a )、（ 5 8 b )動作。在這樣的狀態下，使噴嘴臂（5 1 )在基 板（G )上移動，若是從顯像液噴出式噴嘴（8 0 a )的 顯像液噴出口（ 8 5 a )將預定的顯像液噴出到基板（G )上的話，由於未被使用的顯像液噴出式噴嘴（8 0 b ) 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210乂29<7公釐） -------if, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 -19- 1230968 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（1为 的顯像液噴出口（ 8 5 b )不會接觸到被塗布在基板（G )上的顯像液，所以顯像液噴出式噴嘴（8 0 b )就不會 被從顯像液噴出式噴嘴（8 0 a )噴出的顯像液所污染’ 又，也可以防止從顯像液噴出式噴嘴（8 0 b.)所噴出的 顯像液，混合到被塗布在基板（G )的顯像液上。 在第4 ( b )圖的例子中，雖然係舉出將兩根相同構 造的顯像液噴出式噴嘴（8 0 )安裝到噴嘴臂（5 1 )上 的例子，，但是也可以將形狀不同的諸顯像液噴出式噴嘴 安裝到噴嘴臂（5 1 )上，再者，若安裝使顯像液以外的 其他的處理液噴出的處理液噴出式噴嘴亦無妨。 在外蓋筒（4 8 )的另外一方側上，被裝設有純水等 的洗濯用的噴嘴臂（5 4 )，在噴嘴臂（5 4 )的前端部 份上，被裝設有洗濯液噴出式噴嘴（6 0 )。噴嘴臂（ 5 4)，係以樞軸（5 5 )爲中心，藉由驅動機構而被裝 設成可自由地旋轉。從洗濯液噴出式噴嘴（6 0 )持續噴 出洗濯液，使噴嘴臂（5 4 )轉動，藉由使洗濯液噴嘴（ 6 0 )在基板（G )上掃描，可以進行基板（G )的洗灌 處理。 另外，在外蓋筒（4 8 )的上方，係被形成某一空間 ，例如，被供給到抗蝕劑塗布.顯像系統/ 1 0 0 )所被 配置的地方之乾淨的向下水流，會直接地被供給到顯像處 理單元（DEV) (24a)〜（24c)。又，如第5 圖所示，使旋轉卡盤（4 1 )旋轉的旋轉裝置（4 2 )、 用來將顯像液用的噴嘴臂（5 1 )加以驅動的驅動機構（ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ------:-lf - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -20- 1230968 Α7 Β7 五、發明説明（1$ 5 2)、以及使洗濯液用的噴嘴臂（5 4 )轉動的驅動機 構（56)、用來進行蓋筒單元（49)的昇降之昇降機 構（5 0 )，都是藉由控制裝置（7 0 )來加以控制的。 接著，針對在顯像處理單元（D E V ) ( 2 4 a )〜 (2 4 c )的顯像處理工程加以說明。第6圖係顯示出顯 像處理工程的說明圖（流程圖），第7圖係顯示針對顯像 處理工程，隨著顯像處理的進行，改變蓋筒單元（4 9 ) 的高度位置狀態的說明圖。 最初，蓋筒單元（4 9 )係被保持在最下面的位置（ 下段位置）（步驟1 )。該蓋筒單元（4 9 )的下段位置 ，係在第7圖中如第7 ( a )圖所示的外蓋筒（4 8 )使 用狀態的位置相同，該位置係顯像處理終了的時點的蓋筒 .單元（4 9 )的位置。蓋筒單元（4 9 )作爲處於下段位 置的狀態下，將保持基板（G )的搬送臂（1 9 a )插進 顯像處理單元（D E V ) ( 2 4 a )〜（2 4 c )內，對 準該時點，使旋轉卡盤（4 1 )上昇，將基板（G )交接 到旋轉卡盤（4 1 )上（步驟2 )。 使搬送臂（19a)在顯像處理單元（DEV)( 2 4 a )〜（2 4 c )的外部待機’使載置有基板（G ) 的旋轉卡盤（4 1 )降下而保持在預定的ί立置，再使姿勢 控制栓（5 7 )上昇，就可以使基板（G )上所產生的撓 曲變小，且，基板（G )會被保持成略成水平，而支持住 基板（G )(步驟3 )。接下來’使噴嘴臂（5 1 )在基 板（G)上移動，一面在基板（G)上掃描，一面將預定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇><297公釐） I---------衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -21 - 1230968 A7 B7 五、發明説明（ 的顯像液從顯像液噴出式噴嘴（8 0 )塗布到基板（G ) 上，形成顯像液的液片層（步驟4 )。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 當顯像液的液片層被形成後，在經過預定的顯像處理 時間（顯像反應時間）的這段期間，使噴嘴臂（5 1 )自 基板（G)上（蓋筒單元（4 9)上）待機，並且使蓋筒 單元（49)上昇，保持在上段位置上（步驟5)。蓋筒 單兀（4 9 )的上段位置如第7 ( a )圖中所示，基板（ G )的表面的水平位置係位於相當於蓋筒（4 6 )的圓錐 部的位置的高度。當使蓋筒單元（4 9 )上昇、下降之際 ，藉由蛇腹構件（9 4 )的伸縮，可以確保排氣機構（ 9 0 )的排氣經路。當蓋筒單元（4 9 )位於上段位置時 ，蛇腹構件（9 4 )係呈伸張的狀態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在經過顯像反應時間之後，使姿勢控制栓（_ 5 7 )下 降，將姿勢控制栓（5 7 )自基板（G )處隔離開來（步 驟6 )。藉此，基板（G )就可以旋轉。然後，使基板（ G )以低速旋轉，在大約進入將基板（G )上的顯像液甩 開動作的同時，將洗濯液從洗濯液噴出式噴嘴（6 0 )處 噴出，進而，大約在這些動作的同時，使排氣機構（9〇 )動作，開始側面排氣（步驟7 )。總之，在顯像反應時 間經過之前，將排氣機構（9 0 )設定爲#動作的狀態是 最理想的，藉著這樣的設定，形成於基板上的顯像液的液 片層上，就不會受到由排氣機構（9 0 )的動作所導致發 生氣流等的不良的影響。 當基板（G )開始旋轉，從基板（G )朝向其外周飛 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -22- 1230968 - A7 _B7______ 五、發明説明（20 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 散的顯像液以及少量的洗濯液，會在碰到內蓋筒（4 6 ) 的圓錐部或外周壁後被導引到下方，再從排水管（8 8 a )處排出去。此時，從基板（G )開始旋轉到經過了預定 的時間之後，主要由顯像液所構成的高濃度顯像液的處理 液，由於會被從排水管（8 8 a )處排出’故這樣的排出 液經由操作被裝設在排水管（8 8 a )上的三向閥’就可 回收、再生，供作再利用。另一方面，在經過了預定的時 間之後，由於顯像液的濃度會變低，所以像這種低濃度的 顯像液的排出液，經由操作被裝設在排水管（8 8 a )上 的三向閥，就可將顯像液濃度高的處理液分離開來再加以 回收。 基板（G )從開始旋轉起到經過預定的時間之後’在 基板（G )保旋轉的狀態下，使蓋筒單元（4 9 )降下’ 保持在中段位置（步驟8 )。蓋筒單元（4 9 )的中段位 置如第7 ( b )圖所示，基板（G )的表面的水平位置， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 係製作成對準中蓋筒（4 7 )的圓錐部的位置的高度。基 板（G )從開始旋轉起到經過預定的時間之後’從基板（ G )飛散出去的處理液主要是由洗濯液所構成’顯像液的 濃度降低了。像這樣的排出液就從排水管（8 8 b )處排 出。再者，爲了使顯像液的殘渣變少，要g用來甩開顯像 液之基板（G )的旋轉數，調到比旋轉動作開始時的旋轉 數還要大。藉由提高基板（G )的旋轉數，雖然容易產生 霧氣，但是所產生的霧氣會藉由排氣機構’通過吸氣口（ 9 1 )來加以回收。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -23- 1230968 A7 _____B7 五、發明説明（21) 接著，停止洗濯液的噴出（步驟9 )，使洗濯液噴出 式噴嘴（6 0 )退到預定的位置，其後，使基板（G )保 持旋轉，使蓋筒單元（4 9 )降下，保持在下段位置（步 驟1 0 )。蓋筒單元（4 9 )的下段位置係如第7 ( c ) 圖所示，基板（G )的表面的水平位置係位於大約在外蓋 筒（4 8 )的圓錐部的高度或是比圓錐部稍下側的地方， 例如，製作成對準吸氣口（ 9 1 )的形成位置的高度。蓋 筒單元（4 9 )於保持在下段位置之後，會使基板（G ) 高速旋轉，再進行旋乾（步驟1 1 )。 如以往習知一般，在圍繞住基板（G )而被加以配置 的蓋筒的外周壁的內壁面上，在顯像液或洗濯液等的處理 液附著的狀態下、若進行旋乾作業的話，藉由基板（G ) 的高速旋轉所產生的氣流，會使附著在蓋筒的內壁面上的 處理液產生霧氣，像這樣所產生的霧氣會飄上到基板（G )的上空，變成微細粒子附著在基板，使得製品的品質低 下。又，藉由高速旋轉，所被甩開的處理液的速度也會很 快，當衝撞到蓋筒的內壁面之際，就會容易產生霧氣，所 以當基板和內壁面之間的距離很短時，就會有容易產生霧 氣的問題。 可是，若是在旋乾而使內壁面呈略乾燥的狀態下（稱 之完全乾燥，或表面還有薄薄的濕潤程度的狀態），用外 蓋筒（4 8 )圍繞住基板（G )來進行的話，藉由使基板 (G )高速旋轉，則所產生的氣流幾乎不會使霧氣從外蓋 筒（4 8 )的內壁面發生。又，蓋筒單元（4 9 )在構造 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24- 1230968 A7 B7 五、發明説明（2$ 上，基板（G)和內蓋筒（4 6)或中蓋筒（47)的內 壁面之間的距離相較之下，由於基板（G )和外蓋筒（ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 8 )的內壁面之間的距離比較長，所以即使將基板（G )以高速旋轉，當所產生的氣流到達外蓋筒（4 8 )的內 壁面，其強度也會被減弱。如此一來，由氣流所導致自夕f 蓋筒（4 8 )的內壁面所產生的霧氣也會被抑制。再者， 當旋乾時，由於基板（G )和外蓋筒（4 8 )的內壁面之 間的距離很長，故從基板所飛散出來的處理液，速度會慢 下來而衝撞到內壁面，或直接朝吸氣口（ 9 1 )內被導入 ，而抑制霧氣的產生。 再者，又，顯像液或洗濯液所附著的內蓋筒（4 6 ) 或中蓋筒（4 7 )上，於基板（G )四周所產生的強烈氣 流不會直接地衝擊到內壁面，所以也可以防止霧氣的發生 。如此一來，當旋乾時所產生的霧氣量就會明顯地降低， 進而抑制霧氣變成微細粒子附著到基板（G )上。再加上 ，由於即使藉由排氣機構（9 0 )所致之側面排氣，都可 以使霧氣被回收，故可抑制微細粒子附著到基板上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當旋轉乾燥處理時，使用具有乾燥的內壁面之外蓋筒 (48)，和使用排氣機構（9 0 )來進行側面排氣，分 別獨立使用固然有減少霧氣或抑制微細粒；？附著到基板（ G )的效果，但是藉由將兩者合倂使用，可使其效果進一 步地提高。 在旋轉乾燥終了之後，停止基板（G )的旋轉（步驟 12)，使旋轉卡盤（4 1 )上昇（步驟1 3 )，合於該 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -25- 1230968 A7 B7 五、發明説明（2$ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 時間點將搬送臂（1 9 a )插進顯像處理單元（D E V ) (24a)〜（24c)內，進行基板（G)的交接（步 驟1 4 )。從基板（G )旋轉完畢後起，到朝基板（G ) 的搬送臂（1 9 a )的交接爲止的期間，將排氣機構（ 9〇）的動作停止，準備下一個處理。 當在步驟（1 4 )完畢後旋轉卡盤（4 1 )上沒有基 板（G )的狀態下，由於蓋筒單元（4 9 )係處於下段位 置，所以在步驟（1 )的狀態下就可以被滿足了。又，下 一個待處理基板（G)若是藉由搬送臂（1 9 a )而被搬 送到顯像處理單元（DEV) (24a)〜（24c)內 的話，依循步驟（2 )以後的前述工程，可以繼續進行基 板（G )的顯像處理。當步驟（1 4 )之後顯像處理終了 時，將基板（G )搬出到顯像處理單元（D E V )‘（ 2 4 a )〜（2 4 c )外之後，使旋轉卡盤（4 1 )降下 ，再將旋轉卡盤（4 1 )收納在蓋筒單元（4 9 )內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另外，本發明並不限定於上述的實施形態，在不超脫 其主旨的範圍內，可以進行種種改變形態的實施形態。例 如，作爲保持基板的手段，並不限定於如旋轉卡盤（4 1 )這般藉由吸著力來保持基板的裝置，例如，在比基板還 要大的旋轉平板上，在被凸出形成的複數倜的固定栓上將 基板加以載置，當使基板旋轉之際，使基板（G )的位置 不致於偏離，而基板（G )的端面的預定位置，例如，亦 可以使用在四個角落上將基板（G )以其他的栓等加以保 持的機械性方法。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -26- 1230968 A7 B7 五、發明説明（24 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，顯像處理工程中，雖然係使蓋筒單元（4 9 )上 昇下降，來進行顯像液的甩脫、洗濯處理、旋乾時的位置 調整，但是作爲將蓋筒單元（4 9 )加以固定的方式，也 可以使旋轉卡盤昇降，一面保持在預定的位置，一面進行 顯像液的甩開等的處理。 再者，在上述的實施形態中，雖然係舉出在抗鈾劑塗 布.顯像處理系統之顯像處理單元中適用於本發明之液處 理裝置的例子，但是本發明並非僅限於顯像處理單元，亦 可適用於其他的液處理裝置。例如，可以將本發明的液處 理裝置，適用於抗蝕劑塗布·顯像處理系統之洗淨處理單 元（SCR)(21a) 、 (21b)，或塗布處理單元 (C T ) ( 2 2 ).。又，作爲基板，雖然是針對L C Ό基 板來加以說明，但是也可以使用在半導體晶圓、’ C D基板 等的其他的基板上。 【發明之效果】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如上述的說明，根據本發明，即使在液處理中產生了 處理液的霧氣，由於可以藉由被安裝在蓋筒的外周壁上的 排氣機構來加以排氣，所以可以防止霧氣飄向基板的上空 ，而可以防止其變成微細粒子而附著到基板上。由於排氣 機構係藉由基板的旋轉，將所產生的氣流以順方向加以吸 引，所以可以有效地進行排氣。 又，當旋轉乾燥時，藉由內壁面爲大致呈乾燥狀態的 蓋筒，由於係被圍繞在基板的外周，所以當使基板以高速 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -27- 1230968 A7 B7 五、發明説明（2$ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 旋轉時所產生的氣流，就不會由附著於內壁面的處理液產 生霧氣，藉此，就可以防止霧氣的產生。再者，隨著基板 (G )的旋轉數提高，由於基板與用來擋住從基板飛散過 來的處理液之蓋筒的內壁面之間的距離變長，所以所產生 的氣流也會被減弱，即使到達內壁面，也可以防止霧氣的 產生。再者，又，在顯像液或洗濯液所附著的內蓋筒或中 蓋筒上，當基板旋轉時，基板四周所產生的強烈氣流，不 會直接衝擊到內壁面上，同時也可以防止霧氣的產生。 根據這樣的本發明，在液處理時防止產生霧氣，又， 即使有產生霧氣的狀況發生，由於可以以有效率地使霧氣 被排氣排掉，所以就可以減少飄到基板上空的霧氣的量， 進而減少附著到基板上的微細粒子的附著量。如此一來， 就可以製得微細粒子附著量少的高品質基板，藉由減少不 良製品，而提昇了良品率，確保高度的可靠性，而獲取顯 著的效果。 【圖式之簡單說明】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1圖係顯不本發明的液處理裝置之實施形態，也就 是具備顯像處理單元的抗蝕劑塗布·顯像系統。 第2圖係顯示關於本發明的實施形態$顯像處理單元 的剖面圖。 第3圖係顯示第2圖中顯像處理單元的平面圖。 第4圖係顯示顯像液噴出式噴嘴的槪略構造之立體圖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28 - 1230968 A7 B7 五、發明説明（20 第5圖係顯示第2圖中的顯像處理單元的控制系的槪 略構成的說明圖。 第6圖係本發明的液處理方法的一種實施形態，也就 是顯示出顯像處理工程的流程圖。 第7圖係顯示在第2圖的顯像處理單元中蓋筒單元的 位置移動形態的說明圖。 【符號說明】 1 :卡匣式作業站 2 :處理部 3 :界面部 24a〜24c :顯像處理單元（DEV) 4 1 :旋轉卡盤 4 6 :內蓋筒 4 7 :中蓋筒 4 8 :外蓋筒 4 9 :蓋筒單元 5 0 :昇降機構 5 7 :姿勢控制栓 8 9 :排氣口 9 0 :排氣機構 9 1 :吸氣口 9 2 :第一導入管 9 3 :第二導入管 9 4 :蛇腹構件 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、^1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -29- 1230968 A7 B7 五、發明説明（2》 9 5 :固定構件 9 6 :壁部 9 7 :底板 1〇0 :抗蝕劑塗布·顯像處理系統 G :基板 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •1®^. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -30-