KR100776629B1

KR100776629B1 - 액처리장치 및 액처리방법

Info

Publication number: KR100776629B1
Application number: KR1020010047190A
Authority: KR
Inventors: 미야자키카즈히토; 야히로순이치
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 2000-08-14
Filing date: 2001-08-06
Publication date: 2007-11-15
Also published as: JP3752136B2; JP2002059067A; TWI230968B; KR20020013408A

Abstract

액처리장치는, 기판(G)을 보유유지하는 스핀척(spic chuck)(41)과, 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급기구와, 스핀척(41)을 회전시키는 회전장치(42)와, 스핀척(41)을 회전시켜 기판(G)을 스핀건조시킬 때에 기판을 위요(圍繞)하도록 배치되어, 기판(G)의 스핀건조 개시시에 내벽면(內壁面)이 건조된 상태로 되어 있는 외 컵(48)을 갖추는 컵 유니트(49)와, 컵 유니트(49)의 승강기구(50)를 구비한다.

Description

액처리장치 및 액처리방법{LIQUID PROCESSING APPARATUS AND METHOD}

도 1 은 본 발명의 액처리장치의 실시형태인 현상처리유니트를 구비하는 레지스트 도포·현상시스템을 나타내는 평면도이다.

도 2 는 본 발명의 실시형태에 관련된 현상처리유니트를 나타내는 단면도이다.

도 3 은 도 2에 나타낸 현상처리유니트의 평면도이다.

도 4 는 현상액 토출노즐의 개략적 구조를 나타내는 사시도이다.

도 5 는 도 2에 나타낸 현상처리유니트의 제어계에 있어서의 개략적 구성을 나타내는 설명도이다.

도 6 은 본 발명의 액처리방법의 하나의 실시형태인 현상처리공정을 나타내는 플로우 차트(flow chart)이다.

도 7 은 도 2의 현상처리유니트에 있어서의 컵 유니트 위치의 이동형태를 나타내는 설명도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 카세트 스테이션 2 : 처리부

3 : 인터페이스부 24a ∼ 24c : 현상처리유니트(DEV)

41 : 스핀척 46 : 내 컵

47 : 중 컵 48 : 외 컵

49 : 컵 유니트 50 : 승강기구

57 : 자세제어 핀 89 : 배기구

90 : 배기기구 91 : 흡기구

92 : 제 1 도입관 93 : 제 2 도입관

94 : 사복부재(蛇腹部材) 95 : 고정부재

96 : 벽부(壁部) 97 : 저부(底部)

100 : 레지스트 도포·현상처리시스템

G : 기판

본 발명은, 예를들어 액정디스플레이(LCD)용 유리기판 및 반도체 웨이퍼등의 기판에 소정의 액처리를 행하는 스피너형(spinner型) 액처리장치와 액처리방법에 관한 것이다.

예를들어, 액정표시디스플레이(LCD) 및 반도체 디바이스의 포토리스그래피(Photolithography) 공정에 있어서는, 일반적으로 스피너형으로 불리는 액처리장치를 사용하여, LCD기판이나 반도체 웨이퍼등의 기판을 면내(面內)에서 스핀 회전시켜, 세정, 레지스트 도포, 현상등의 처리가 행하여지고 있었다.

예를들어, LCD기판의 현상처리에 있어서는, 노광처리된 기판을 스핀척등에 재치 및 고정시킨 후 현상액을 기판 상에 도포함에 의해, 현상액의 퍼들(puddle)을 형성하여 현상반응을 진행시켜, 소정 시간 경과 후에 기판을 회전시킴과 동시에 린스액의 공급을 개시하여 현상액과 린스액을 제거시키고, 그 후에 린스액의 공급을 정지하여 기판을 고속으로 회전시키는 스핀 건조가 행하여진다. 이와 같이, 스피너형 액처리장치에 있어서는, 기판을 회전시켜 기판으로부터 처리액을 사방으로 확산시킴으로써 처리액이 제거되게 된다.

이와 같이 하여 기판으로부터 떨어뜨려진 처리액은, 기판을 위요하도록 설치된 컵유니트의 내벽면에 충돌하여 하방으로 향하여져, 드레인을 통하여 회수 또는 폐기된다. 또, 컵 유니트로서는, 기판을 저속으로 회전시킬 때에 기판을 위요하듯이 배치된 내측 컵과, 기판을 고속으로 회전시키는 스핀 건조를 행할 때에 기판을 위요하듯이 배치되는 외측 컵에 의한 2중구조를 갖추는 것이 주로 사용되고 있었다.

그러나, 종래의 2중 구조의 컵을 사용하는 경우에는, 기판으로부터 떨어진 처리액이 내측 컵과 외측 컵에 부착되고, 내측 컵 또는 외측 컵에 위요된 상태에서 기판을 건조시키기 위해 고속으로 회전시키면, 회전에 의해 발생된 기류가 내측 컵 또는, 외측 컵에 부착된 처리액으로부터 미스트(mist)가 발생되어, 이 미스트가 기판 상으로 흘러들어와서 기판에 파티클(particle)이 되어 부착됨에 의해, 기판의 품질을 저하시키는 문제가 있었다.

본 발명은 관련된 사정을 감안한 것으로서, 그 목적을 미스트의 발생을 저감 시켜 기판으로의 파티클을 억제할 수 있는 액처리장치 및 액처리방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 제 1의 관점에 의하면, 기판을 보유유지하는 보유유지수단과, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액 공급기구와, 상기 보유유지수단을 회전시키는 회전수단과, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하도록 설치된 컵과, 상기 컵 외주벽(外周壁)에 설치된 배기기구를 구비하는 액처리장치가 제공된다.

본 발명의 제 2의 관점에 의하면, 기판에 처리액을 공급하여 액처리를 행하고, 그 후에 상기 기판을 회전시켜 상기 기판을 스핀 건조시키는 액처리장치이고, 기판을 보유유지하는 보유유지수단과, 상기 보유유지수단을 회전시키는 회전수단과, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액 공급기구와, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하도록 설치된 컵 유니트와, 상기 컵 유니트를 승강시키는 승강기구를 구비하고, 상기 컵 유니트는, 액처리시에 상기 승강기구에 의해 대략 건조상태로 유지되는 위치로 이동되고, 또 상기 스핀 건조시에는 상기 승강기구에 의해 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하는 위치로 이동되는 컵을 갖추는 액처리장치가 제공된다.

본 발명의 제 3의 관점에 의하면, 기판을 보유유지하는 보유유지수단과, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액 공급기구와, 상기 보유유지수단을 회전시키는 회전수단과, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하도록 배치되고 또 내측으로부터 외측을 향하여 차례로 높이가 높아져 가는 내 컵, 중 컵, 외 컵에 의해 구성되는 3중 구조의 컵 유니트와, 상기 컵 유니트의 승강기구를 구비하는 액처리장치가 제공된다.

본 발명의 제 4의 관점에 의하면, 대략 수평으로 보유유지된 기판을 회전시키면서 기판에 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 행하는 액처리방법이고, 상기 처리액의 공급 중에 기판으로부터 비산하는 처리액을 회수하기 위하여 1의 컵을 사용하고, 상기 처리액의 공급정지 후에 기판을 회전시켜 스핀 건조를 행할 때에 기판으로부터 비산하는 처리액을 회수하기 위하여 내벽면이 건조된 상태에 있는 다른 컵을 사용하는 액처리방법이 제공된다.

본 발명의 제 5의 관점에 의하면, 대략 수평으로 보유유지된 기판을 회전시키면서 상기 기판에 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 행하는 액처리방법이고, 내측으로부터 외측을 향하여 차례로 높이가 높아져 가는 내 컵, 중 컵, 외 컵에 의해 구성되는 3중 구조의 컵 유니트를 기판을 위요하도록 배치하고, 상기 기판의 회전개시로부터 소정 시간이 경과할 때까지의 사이에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 내 컵에서 회수하는 제 1 공정과, 상기 제 1 공정 후 상기 처리액의 공급정지까지의 사이에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 중 컵에서 회수하는 제 2 공정과, 상기 처리액의 공급을 정지시킨 후에 기판을 회전시켜 스핀 건조를 행하는 때에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 외 컵에서 회수하는 제 3 공정을 갖추는 처리방법이 제공된다.

상기 본 발명의 제 1로부터 제 5의 관점에 의하면, 액처리중에 처리액의 미스트가 발생하여도 컵의 외주벽에 설치된 배기기구에 의해 미스트가 배기되기 때문 에, 미스트가 기판 상공으로 떠오르는 것이 방지되어, 기판으로의 파티클의 부착을 방지할 수 있게 된다. 또, 기판의 스핀 건조시에 내벽면이 대략 건조상태인 컵, 예를들어 3중구조로 되어 있는 경우의 외 컵으로 기판을 위요함으로써, 컵 내벽으로부터의 미스트 발생이 방지되고, 기판 상공으로 떠오르는 미스트의 양을 저감시키는 것도 가능하게 된다. 이 경우에, 추가로 컵 외주벽으로부터의 배기를 행하게 되면, 보다 효과적으로 미스트를 배기할 수 있다. 이와 같이 하여 파티클의 부착이 적은 고품질의 기판을 얻을 수 있게 되어 제품불량이 저감되어 신뢰도가 높아진다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 관하여 상세히 설명한다.

도 1은, 본 발명의 액처리장치의 하나의 실시형태인 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)를 갖추는 LCD기판의 레지스트 도포·현상처리시스템(100)을 나타내는 평면도이다.

레지스트 도포·현상처리시스템(100)은 복수의 LCD기판(G)을 수용하는 카세트(C)를 재치하는 카세트 스테이션(1)과, 기판(G)에 레지스트 도포 및 현상을 포함하는 일련의 처리를 실시하기 위한 복수의 처리유니트를 갖추는 처리부(2)와, 노광장치(露光裝置)(도시 않됨)와의 사이에서 기판(G)을 주고받기 위한 인터페이스(Interface)부(3)를 갖추고, 처리부(2)의 양단(兩端)에 각각 카세트 스테이션(1)과 인터페이스부(3)가 배치되어 있다.

카세트 스테이션(1)은 카세트(C)와 처리부(2)와의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 반송아암(10)를 갖추고 있다. 그리고, 카세트 스테이션(1)에서는 카세트(C)의 반입과 반출이 행하여진다. 또, 반송아암(10)은 카세트의 배열방향을 따라 설치된 반송로(10a)상의 이동이 가능한 반송아암(11)를 갖추고, 이 반송아암(11)에 의해 카세트(C)와 처리부(2)와의 사이에서 기판(G)의 반송이 행하여진다.

처리부(2)는, 전단부(前段部)(2a)와 중단부(中段部)(2b)와 후단부(後段部)(2c)로 나뉘어져있고, 각각의 중앙에 반송로(12, 13, 14)를 갖추고, 이들 반송로의 양측에는 각 처리유니트가 설치되어 있다. 그리고 이들 사이에는 중계부(15, 16)가 설치되어 있다.

전단부(2a)는, 반송로(12)를 따라서 이동이 가능한 주(主) 반송장치(17)를 갖추고, 반송로(12)의 한측에는 2개의 세정유니트（SCR)(21a, 21b)가 배치되어 있고, 반송로(12)의 다른측에는 자외선조사(紫外線照射)장치(UV) 및 냉각장치(COL)가 2단으로 중첩되어 형성되는 처리블럭(25), 2개의 가열처리장치(HP)가 상하로 중첩되어 형성되는 처리블럭(26), 및 냉각장치(COL)가 2단으로 중첩된 처리블럭(27)이 배치되어 있다.

또, 중단부(2b)는, 반송로(13)를 따라 이동이 가능한 주 반송장치(18)를 갖추고, 반송로(13)의 한측에는 레지스트 도포처리유니트(CT)(22) 및 기판(G) 주연부(周緣部)의 레지스트를 제거하는 주연레지스트제거유니트(ER)(23)가 일체적(一體的)으로 배치되고, 반송로(13)의 다른 측에는 가열처리유니트(HP)가 2단으로 중첩되어 형성되는 처리블럭(28), 가열처리유니트(HP)와 냉각처리유니트(COL)가 상하로 중첩되어 형성되는 처리블럭(29), 및 어드히젼(adhesion)처리유니트(AD)와 냉 각유니트(COL)가 상하로 중첩되어 형성되는 처리블럭(30)이 배치되어 있다.

또, 후단부(2c)는 반송로(14)를 따라 이동이 가능한 주 반송장치(19)를 갖추고, 반송로(14)의 한측에는 3개의 현상처리유니트(24a, 24b, 24c){이하,「현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)」로 함}가 배치되어 있고, 반송로(14)의 다른측에는 가열처리장치(HP)가 2단으로 중첩되어 형성되는 처리블럭(31), 및 가열처리유니트(HP)와 냉각장치(COL)가 상하로 적층되어 형성된 처리블럭(32, 33)이 배치되어 있다.

특히, 처리부(2)는, 반송로를 사이에 두고, 한측에는 세정처리유니트(SCR)(21a), 레지스트 도포처리유니트(CT)(22), 현상처리유니트(DEV)(24a)와 같은 스피너(spinner)계의 유니트만을 배치시키고, 다른측에는 가열처리유니트(HP) 및 냉각처리유니트(COL)등의 열처리유니트만을 배치시키는 구조로 되어있다.

또, 중계부(15, 16)의 스피너계 유니트 배치측 부분에는, 약액공급유니트(34)가 배치되어 있고, 그 외에도 주 반송장치(17, 18, 19)의 메인터넌스(maintenance)가 가능한 공간(35)이 설치되어 있다.

주 반송장치(17, 18, 19)는, 각각 수평면내(水平面內) 2 방향의 X축구동기구, Y축구동기구, 및 수직방향의 Z축구동기구를 갖추고 있고, 또 Z축을 중심으로 회전하는 회전구동기구를 갖추고 있으며, 각각 기판(G)을 지지하는 아암을 갖추고 있다.

주 반송장치(17)는, 반송아암(17a)을 갖추고, 반송기구(10)의 반송아암(11)과의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행함과 동시에, 전단부(2a)의 각 처리유니트 에 대한 기판(G)의 반입, 반출, 더 나아가서는 중계부(15)와의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행하는 기능을 갖추고 있다. 또, 주 반송장치(18)는 반송아암(18a)을 갖추고, 중계부(15)와의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행함과 동시에, 중단부(2b)의 각 처리유니트에 대한 기판(G)의 반입, 반출, 더 나아가서는 중계부(16)와의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행하는 기능을 갖추고 있다. 또, 주 반송장치(19)는 반송아암(19a)을 갖추고, 중계부(16)와의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행함과 동시에, 후단부(2c)의 각 처리유니트에 대한 기판(G)의 반입, 반출, 더 나아가서는 인터페이스부(3)와의 사이에서 기판(G)의 주고받기를 행하는 기능을 갖추고 있다. 덧붙여 설명하면, 중계부(15, 16)는 냉각플레이트로서도 기능한다.

인터페이스부(3)는, 처리부(2)와의 사이에서 기판을 주고받을 때 일시적으로 기판을 보유 및 유지하는 엑스텐션(36)과, 또 그 양편에 설치되어 버퍼(buffer) 카세트를 배치시키는 2개의 버퍼스테이지(37)와, 이들과 노광장치(도시않됨)와의 사이에서 기판(G)의 반입·반출을 행하는 반송기구(38)를 갖추고 있다. 반송기구(38)는 엑스텐션(36) 및 버퍼스테이지(37)의 배열방향을 따라 설치된 반송로(38a)위를 이동할 수 있는 반송아암(39)를 갖추고, 이 반송아암(39)에 의해 처리부(2)와 노광장치와의 사이에서 기판(G)의 반송이 행하여진다.

이와 같이, 각 처리유니트를 집약시켜 일체화(一體化)함으로써, 공간의 효율적이용 및 처리의 효율화를 꾀할 수 있다.

이와 같이, 구성된 도포·현상처리시스템(100)에 있어서, 카세트(C)내의 기 판(G)이 처리부(2)로 반송되어, 처리부(2)에서는 먼저 전단부(2a) 처리블럭(25)의 자외선조사유니트(UV)에서 표면개질(表面改質)·세정처리가 행하여지고, 냉각처리유니트(COL)에서 냉각처리된 후, 세정유니트(SCR)(21a, 21b)에 의해 스크러버(scrubber) 세정이 실시되고, 처리블럭(26)의 어느 하나의 가열처리유니트(HP)에 의해 가열건조처리 된 후, 처리블럭(27)의 어느 하나의 냉각유니트(COL)에서 냉각된다.

그 후, 기판(G)은 중단부(2b)로 반송되어, 레지스트의 정착성을 높이기 위해 처리블럭(30) 상단의 어드히젼처리유니트(AD)에서 소수화처리(疎水化處理, HMDS처리)되고, 하단의 냉각장치(COL)에서 냉각된 후, 레지스트 도포처리유니트(CT)(22)에서 레지스트가 도포되고, 주연레지스트 제거유니트(ER)(23)에서 기판(G) 주연의 불필요한 레지스트가 제거된다. 그 후, 기판(G)은, 중단부(2b) 내의 가열처리유니트(HP)의 하나에서 프리베이크(pre-bake)처리되고, 처리블럭(29 또는 30) 하단의 냉각유니트(COL)에서 냉각된다.

그 후, 기판(G)은 중계부(16)로부터 주 반송장치(19)에 의해 인터페이스부(3)를 매개로하여 노광장치에 반송되어, 그곳에서 소정의 패턴이 노광된다. 그리고, 기판(G)은 다시 인터페이스부(3)를 매개로 하여 반입되어, 필요에 따라 후단부(2c) 처리블럭(31, 32, 33)의 어느 하나의 가열처리유니트(HP)에서 포스트엑스포져베이크(post exposre bake)처리를 행한 후, 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)의 어느 한곳에서 현상처리되어, 소정의 회로패턴이 형성된다. 현상처리된 기판(G)은, 후단부(2c)의 어느 하나의 가열처리유니트(HP)에서 포스트베이크(post bake)처리된 후, 어느 하나의 냉각유니트(COL)에서 냉각되어, 주반송장치(19, 18, 17) 및 반송기구(10)에 의해 카세트 스테이션(1) 상의 소정 카세트에 수용된다.

다음, 본 발명에 관련된 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)에 관하여 상세히 설명한다. 도 2는 현상처리유니트(DEV)의 단면도이고, 도 3은 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)의 평면도이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)를 구성하는 각종 부재는 싱크(59) 내에 설치되어 있다.

현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)는, 기판(G)을 수평으로 보유유지하는 스핀척(41)과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)의 자세를 제어하는 자세제어핀(57)과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)을 위요하도록 설치된 컵 유니트(49)와, 컵 유니트(49) 내부의 배기를 행하는 배기기구(90)와, 2개의 언더 컵(44, 45)과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)에 현상액을 토출하는 현상액 토출노즐(80)과, 현상액을 씻어 흘려보내는 린스액을 기판(G)에 토출하는 린스액 토출노즐(60)을 갖춘다. 컵 유니트(49)는, 내 컵(인너 컵)(46)고, 중 컵(미들 컵)(47)과, 외 컵(언더 컵)(48)을 갖춘다.

스핀척(41)은 진공흡인력등에 의해 기판(G)을 흡착하여 보유유지하도록 되어 있고, 모터등의 회전장치(42)에 의해 회전이 가능하다. 이 스핀척(41)의 하측에는, 회전장치(42)를 감싸는 커버(43)가 배치되어 있다. 스핀척(41)은 승강기구(도시 않됨)에 의해 승강이 가능하도록 되어 있고, 상승위치에 있어서 반송아암(19a)과의 사이에서 기판(G)이 주고받기를 행한다.

자세제어핀(57)은, 커버(43)의 일부를 관통하도록 하여 복수가 설치되어 있 고, 자세제어핀(57)은 승강기구(도시 않됨)에 의해 승강이 가능하도록 되어 있다. 기판(G)의 외주부(外周部)는 그 자체의 무게에 의해 휘어지기 쉽고, 이로 인해 표면이 곡면으로 된 경우에는 현상액의 퍼들(puddle)형성이 곤란하기 때문에, 이것을 방지하기 위하여, 자세제어핀(57)의 높이를 조절하여 기판(G) 하측으로부터, 기판(G)이 대략 수평으로 되도록 기판(G)을 지지한다. 자세제어핀(57)이 기판(G)을 지지한 상태에서는 기판(G)을 회전시킬 수 없기 때문에, 기판(G)을 스핀척(41)과 같이 회전시키는 경우에는, 아무리 늦어도 회전이 시작될 때까지는 자세제어핀(57)을 하강시켜 기판(G)으로부터 자세제어핀(57)을 격리시킨다.

덧붙여 설명하면, 자세제어핀(57)의 위치를 고정하여 스핀척(41)의 높이를 조절함에 의해 기판(G)의 휘어짐을 해소하는 방법도 생각되어질 수 있지만, 자세제어핀(57)의 높이가 흐트러졌을 경우의 조절이 쉽지않다. 또, 기판(G) 상에 현상액의 퍼들을 형성시킨 후에 기판(G) 상의 현상액을 회전에 의해 떨어뜨리기 위해서, 기판(G)이 자세제어핀(57)으로부터 떨어지도록 스핀척(41)을 상승시킨 경우에는, 기판(G) 주연부의 휘어짐이 커져 현상액의 퍼들형태에 부분적인 차이가 발생함에 의해 현상된 패턴에 부분적인 차이가 발생하는 것이 염려된다. 그러나, 자세제어핀(57)을 승강이 자유롭도록 구성시키면, 이와 같은 문제가 발생하기 어렵다.

언더 컵(44, 45)은, 커버(43)의 외주에 서로 떨어져 설치되어 있다. 또, 내 컵(46)은, 기판(G)으로부터 비산하는 현상액 및 린스액과 혼합되어 농도가 약간 저하된 현상액을 언더 컵(44) 내주측의 저부(底部)에 형성된 드레인(88a)으로 인도할 수 있도록, 내측 언더 컵(44) 내주측 상방에 설치되어 있다.

드레인(88a)은 삼방변(三方辯)(도시 않됨)에 연통되어 있어, 기판(G)으로부터 현상액의 떨쳐 떨어뜨릴 때와 린스액 공급의 타이밍에 맞추어 삼방변을 절환(切換)시킴으로써, 린스액이 거의 섞이지 않은 현상액과 린스액이 혼합되어 농도가 짙어진 현상액을 분리시켜 회수할 수 있도록 되어 있다.

중 컵(미들 컵)(47)은, 주로 기판(G)으로부터 비산하는 린스액을 언더 컵(44, 45) 사이의 저부에 설치된 드레인(88b)으로 인도할 수 있도록, 2개의 언더 컵(44, 45) 사이의 상방에 설치되어 있다. 드레인(88b)은, 컵 유니트(49) 내의 배기에도 사용될 수 있다.

외 컵(48)은, 주로 린스액의 미스트를 드레인(88b) 또는 후술하는 배기구(89)에 인도할 수 있도록, 외측의 언더 컵(45) 외주측 상방에 설치되어 있다. 내 컵(46), 중 컵(47), 외 컵(48)은, 각각 경사진 테이퍼(taper)부와 수직으로 입설(立設)된 외주벽(측면벽)을 갖추고, 서로 연결된 3중 구조를 갖추고 있다. 이와 같은 3중 구조를 갖추는 컵 유니트(49)의 구성을 명확히 하기 위하여, 도 2 우측에서는, 회수하는 처리액이 흘러떨어지기 위한 구멍이 형성된 형태가, 내 컵(46), 중 컵(47), 외 컵(48)을 별체(別體)로 나타냄에 의해 나타내어진다. 또, 도 2 좌측에서는, 내 컵(46), 중 컵(47), 외 컵(48)이 일체적(一體的)으로 구성되어 있는 것을 나타내기 위하여 그 접합부분을 나타낸 형태가 나타내어져 있다.

도 3에 나타낸 바와 같이, 외 컵(48)의 외주에는 십자방향의 4개소에 승강기구(50)가 설치되어 있고, 후술하는 제어장치(70)로부터의 신호를 받아 컵 유니트(49)의 승강동작을 행하고, 컵 유니트(49)를 소정 높이의 위치에서 정지, 보유유지하는 것이 가능하도록 되어 있다. 현상처리의 타이미에 맞추어 컵 유니트(49)의 높이를 조절하면서 드레인(88a, 88b)을 분별하여 사용함으로써, 앞에서 설명한 바와 같이 진한 현상액, 린스액이 섞인 엷은 현상액, 린스액 및 소량의 현상액이 섞인 린스액을 따로따로 회수할 수 있다.

배기기구(90)는 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 외 컵(48)의 외주벽에 설치되어 있고, 구체적으로 예를들어 십자방향으로 4개소에 설치되어 있다. 이 배기기구(90)는, 주로 외 컵(48)을 사용하여 기판(G)으로부터 비산하는 처리액을 회수할 때에 컵 유니트(49) 내로부터 흡기(吸氣)를 행하도록 동작시키지만, 내 컵(46)이나 중 컵(47)을 사용하여 처리액의 회수를 행하는 경우에 있어서도, 흡기동작을 행함에 의해 미스트를 포함한 흡배기(吸排氣)를 행하는 것이 가능하다.

여기서, 배기기구(90)의 구성에 관하여 보다 상세히 설명한다. 외 컵(48)의 위주벽에는 흡기구(91)가 형성되어 있고, 흡기구(91)에 연통되어 제 1 도입관(92)이 배설되고, 제 1 도입관(92)에 도입된 기류를 하방으로 인도하기 위하여 제 2 도입관(93)이 제 1 도입관(92)으로 연통되어 설치되고, 또, 제 2 도입관(93)의 하방으로 배기구(89)가 형성되어 있다. 배기기구(90)는, 이와 같은 구성에 의해 외 컵(48)의 외주벽을 통하여 컵 유니트(49) 내의 측면배기를 행할 수 있도록 되어 있다.

배기구(89)의 상부개구단(上部開口端)을 위요하도록, 벽부(96)가 저판(底板)(97)으로부터 상방으로 입설하여 설치되어 있고, 벽부(96)의 선단부에는 신축이 자유로운 사복부재(蛇腹部材)(94)의 일단(一端)이 고정되어 있다. 또 사복부재(94)의 타단(他端)은 제 2 도입관(93)의 소정 위치에 설치된 고정부재(95)에 접합되어 있다. 이렇게 하여 승강기구(50)를 사용하여 컵 유니트(49)를 상승, 강하시키는 경우에는, 사복부재(94)가 신축함에 의해 배기구(91)로부터 배기구(89)로의 배기경로가 확보되도록 되어 있다. 배기구(89)는 드레인(88b)과 먼저의 위치(도시 않됨)에서 연결되고, 또 미스트 트랩(mist trap)에 연결되어, 액체와 기체를 분리시킬 수 있도록 구성되어 있다.

도 3에 나타낸 바와 같이, 기판(G)의 회전방향이 화살표(S1)로 표시되는 방향인 경우에는, 컵 유니트(49) 내에서 화살표(S1)와 같은 방향으로 기류가 발생한다. 이 기류가 화살표(S2)에 의해 나타낸 순방향(順方向)으로 흡기구(91)로부터 흡기되도록, 제 1 도입관(92)은 외 컵(48)의 외주벽에 설치되어 있다. 이와 같은 배기경로를 형성함에 의해 흡기효율이 높아지고, 또 발생된 미스트를 효과적으로 포획하는 것이 가능하도록 되어 있다.

한편, 도 3에 나타낸 바와 같이 외 컵(48)의 일방측(一方側)에는, 현상액용의 노즐 아암(51)이 설치되고, 노즐 아암(51)에는 현상액 토출노즐(80)이 설치되어 있다. 노즐 아암(51)은, 가이드 레일(53)을 따라 벨트구동등의 구동기구(52)에 의해 기판(G)을 횡단하여 이동할 수 있도록 되어 있다. 현상액 토출노즐(80)로부터 현상액을 토출하면서 노즐 아암(51)을 가이드 레일(53)을 따라 이동시킴으로써, 기판(G)에 현상액이 도포된다. 현상액 토출노즐(80)은 노즐 대기부(115)에 대기될 수 있도록 되어 있고, 이 노즐대기부(115)에는 현상액 토출노즐(80)을 세정하는 노즐 세정기구(120)가 설치되어 있다.

현상액 토출노즐(80)로서는, 도 4(a)에 나타낸 바와 같이 슬릿상(slit狀)의 현상액 토출구(85)를 갖추고, 현상액 토출구(85)로부터 현상액이 대상(帶狀)으로 토출되는 것이 적합하다. 현상액 토출노즐(80)을 보유유지한 노즐 아암(51)을 가이드 레일(53)을 따라 스캔시키는 경우에는, 어느 방향으로부터 스캔시키는 경우에 있어서도 기판(G)을 향하여 동등한 조건으로 현상액을 토출할 수 있도록, 현상액 토출구(85)로부터는 기판(G)에 대하여 수직으로 현상액이 토출된다.

노즐 아암(51)은 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 복수, 예를들어 2개의 현상액 토출노즐(80a, 80b)을 보유유지할 수 있도록 구성되어 있다. 이에 의해, 예를들어 어느 롯(lot)의 기판(G)과 다른 롯의 기판(G)이 서로 다른 종류의 레지스트를 사용하고 있는 경우에도, 각 현상액 토출노즐(80a, 80b)로부터, 사용되는 레지스트에 대응하여 다른 현상액을 토출시킬 수 있다. 하나의 현상액 토출노즐(80)로 2종류의 현상액을 구별하여 사용하는 경우에는, 사용하는 현상액을 절환할 때에 반드시 현상액 토출노즐(80)의 세정처리를 해야 한다. 그러나, 2개의 현상액 토출노즐(80a, 80b)을 사용하는 경우에는, 이와 같은 세정처리를 하지않더라도 연속적으로 상이한 종류의 현상액을 사용하여 처리를 행할 수 있기 때문에, 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다.

현상액 토출노즐(80a, 80b)은, 각각 승각기구(58a, 58b)에 의해 높이를 바꿀 수 있고, 사용하는 하나의 현상액 토출노즐, 예를들어 현상액 토출노즐(80a)이 현상액 토출노즐(58b)보다 하방에 위치하도록 승강기구(58a, 58b)를 동작시킨다. 이 와 같은 상태에서 노즐 아암(51)을 기판(G) 상으로 이동시켜, 현상액 토출노즐(80a)의 현상액 토출구(85a)로부터 소정의 현상액을 기판 상에 토출하면, 사용하지 않는 현상액 토출노즐(80b)의 현상액 토출구(85a)는 기판(G)에 도포된 현상액에 접촉하는 일이 없기 때문에, 현상액 토출노즐(80b)이 현상액 토출노즐(80a)로부터 토출된 현상액에 의해 오염되는 일이 없고, 또 기판(G)에 도포된 현상액에 현상액 토출노즐(80b)로부터 토출되는 현상액이 혼합되는 것이 방지된다.

도 4(b)의 예에서는 2개의 동일 구조의 현상액 토출노즐(80)을 노즐 아암(51)에 설치한 예를 나타내었지만, 형상이 다른 현상액 토출노즐들을 노즐 아암(51)에 설치하는 것도 가능하고, 더 나아가서는 현상액 외의 다른 처리액을 토출시키는 처리액 토출노즐을 설치하여도 좋다.

외 컵(48)의 타방측(他方側)에는, 순수(純水)등의 린스액용 노즐 아암(54)이 설치되고, 노즐 아암(54)의 선단부분에는 린스액 토출노즐(60)이 설치되어 있다. 노즐 아암(54)은 구동축(55)을 중심으로 하여 구동기구(56)에 의해 회동이 자유롭도록 설치되어 있다. 린스액 토출노즐(60)로부터 린스액을 토출하면서 린스액 토출노즐(60)을 기판(G) 상에서 스캔시킴으로써 기판(G)의 린스 처리를 행하는 것이 가능하다.

덧붙여 설명하면, 외 컵(48)의 상방에는 공간이 형성되어 있어, 예를들어 레지스트 도포·현상처리장치(100)가 배치되는 장소에 공급되는 청정한 다운 플로우(down flow)가 직접적으로 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)로 공급되도록 되어 있다. 또, 도 5에 나타낸 바와 같이, 스핀척(41)을 회전시키는 회전장치(42), 현상액용의 노즐 아암(51)을 구동시키는 구동기구(52), 및 린스액용의 노즐 아암(54)을 회동시키는 구동기구(56), 컵 유니트(49)의 승강을 행하는 승강기구(50)는, 어느 쪽도 제어장치(70)에 의해 제어되도록 되어 있다.

다음, 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c)에 있어서의 현상처리공정에 관하여 설명한다. 도 6은 현상처리공정을 나타내는 설명도(플로우 차트)이고, 도 7은 현상처리공정에 있어서 현상처리의 진행에 따라 컵 유니트(49)의 높이를 바꾼 상태를 나타낸 설명도이다.

최초로, 컵 유니트(49)를 제일 밑의 위치(하단 위치)에 보유유지한다(스텝 1). 이 컵 유니트(49)의 하단위치는, 도 7에 있어서의 도 7(c)에 나타내어진 외 컵(48) 사용상태의 위치와 동일하고, 이 위치는 현상처리가 종료된 시점의 컵 유니트(49)의 위치이기도 하다. 컵 유니트(49)가 하단위치에 있는 상태에서, 기판(G)을 보유유지한 반송아암(19a)을 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c) 내로 삽입하고, 이 타이밍에 맞추어 스핀척(41)을 상승시켜 기판(G)을 스핀척(41)으로 건네준다(스텝 2).

반송 아암(19a)을 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c) 외로 대피시키고, 기판(G)이 재치된 스핀척(41)을 하강시켜 소정 위치에 보유유지하고, 자세제어핀(57)을 상승시키고, 기판(G)에 발생하는 휘어짐이 작고 또 기판(G)이 수평으로 보유유지되도록, 기판(G)을 지지한다(스텝 3). 다음, 노즐 아암(51)을 기판(G) 상으로 이동시켜, 기판(G) 상을 스캔시키면서 현상액 토출노즐(80)로부터 소정의 현상액을 기판(G) 상에 도포하여, 현상액의 퍼들을 형성한다(스텝 4).

현상액의 퍼들이 형성된 후, 소정의 현상처리시간(현상반응시간)이 경과될 때까지, 노즐 아암(51)을 기판(G) 상{컵 유니트(49) 상}으로부터 대피시킴과 동시에, 컵 유니트(49)를 상승시켜 상단 위치에 보유유지한다(스텝 5). 컵 유니트(49)의 상단 위치는 도 7(a)에 나타내어져 있고, 기판(G) 표면의 수평장치가 거의 내 컵(46)의 테이퍼부의 위치에 맞추어지는 높이로 한다. 컵 유니트(49)를 상승, 강하시킬 때에는, 사복부재(94)가 신축함으로써, 배기기구(90)의 배기경로가 확보된다. 컵 유니트(49)가 상단위치에 있는 경우에는, 사복부재(94)가 늘어난 상태로 된다.

현상반응시간 후에 자세제어핀(57)을 강하시켜, 기판(G)으로부터 자세제어핀(57)을 이격시킨다(스텝 6). 이에 의해 기판(G)의 회전이 가능해진다. 그리고, 기판(G)을 저속으로 회전시켜 기판(G) 상의 현상액을 회전에 의해 떨어뜨리는 동작에 들어감과 거의 동시에, 린스액을 린스액 토출노즐(60)로부터 토출하고, 또 이들의 동작과 거의 동시에 배기기구(90)를 동작시켜 측면배기를 개시한다(스텝 7). 즉, 현상반응시간의 경과 전에 배기기구(90)는 미동작의 상태로 하는 것이 바람직하고, 이와 같이 함에 의해 기판(G) 상에 형성된 현상액의 퍼들은 배기기구(90)의 동작에 의한 기류발생등의 악영향이 발생하지 않는다.

기판(G)의 회전이 개시되고, 기판(G)으로부터 그 외주를 향하여 비산하는 현상액 및 소량의 린스액은 내 컵(46)의 테이퍼부 및 외주벽에 부딪혀 하방으로 유도되어, 드레인(88a)으로부터 배출된다. 이 때, 기판(G)의 회전개시로부터 소정의 시간이 경과될 때까지, 주로 현상액에 의해 구성되는 현상액 농도의 높은 처리액이 드레인(88a)으로부터 배출되기 때문에, 이와 같은 배출액은 드레인(88a)에 설치된 삼방변(三方辯)을 조작하여 회수하여 재생, 재이용한다. 한편, 소정시간을 경과 한 후에 현상액 농도가 저하되기 때문에, 이와 같은 현상액 농도의 낮은 배출액은 드레인(88a)에 설치된 삼방변을 조작하여 현상액 농도의 높은 처리액으로부터 분리하여 회수한다.

기판(G)의 회전개시로부터 소정 시간 경과 후에는, 기판(G)을 회전시킨 상태에서 컵 유니트(49)를 하강시켜 중단위치에 보유유지한다(스텝 8). 컵 유니트(49)의 중단위치는 도 7(b)에 나타내어져 있고, 기판(G) 표면의 수평위치가 중 컵(47)의 테이퍼부의 위치와 거의 동일한 위치이다. 기판(G)의 회전개시로부터 소정 시간 경과 후에는, 기판(G)으로부터 비산하는 처리액은 주로 린스액에 의해 구성되어 현상액의 농도는 저하되어 있다. 이와 같은 배출액은 드레인(88b)으로부터 배출된다. 또, 현상액의 잔사(殘渣)가 적어지도록, 기판(G)의 회전수를 현상액을 회전에 의해 떨어뜨리기 위한 회전동작시보다 크게 한다. 기판(G)의 회전수를 올림에 의해 미스트가 발생하기 쉬워지지만, 발생된 미스트는 배기기구(90)에 의해 배기구(91)를 통하여 회수된다.

다음, 린스액의 토출을 정지하여(스텝 9) 린스액 토출노즐(60)을 소정 위치로 퇴피시키키고, 그 후에 기판(G)을 회전시킨 상태에서 컵 유니트(49)를 하강시켜 하단위치에 보유유지한다(스텝 10). 컵 유니트(49)의 하단위치는 도 7(c)에 나타내어져 있고, 기판(G) 표면의 수평위치를 외 컵(48) 테이퍼부의 높이 및 테이퍼부보다 약간 하측, 예를들어 흡기구(91)의 형성위치에 거의 맞춘 위치로 한다. 컵 유니트(49)가 하단위치에 보유유지된 후에는, 기판(G)을 고속회전시켜 스핀건조를 행한 다(스텝 11).

종래와 같이, 기판(G)을 위요하도록 배치된 컵 외주벽의 내벽면에 현상액이나 린스액등의 처리액이 부착된 상태에서 스핀건조를 행한 경우에는, 기판(G)의 고속회전에 의해 발생된 기류가 컵 내벽면에 부착된 처리액으로부터 미스트를 발생시켜, 이와 같이 발생한 미스트가 기판(G) 상의 상공으로 흘러들어와, 기판(G)에 파티클로서 부착되어 제품의 품질을 저하시키고 있었다. 또, 고속회전에 의해 떨어뜨려진 처리액은 속도가 빠르고, 컵 내벽면에 충돌한 때에 미스트를 발생시키기 쉽고, 기판과 내벽면 사이의 거리가 짧은 경우에는 미스트가 발생하기 쉽다고 하는 문제가 있었다.

그러나, 스핀 건조를 내벽면이 거의 건조된 상태(완전히 건조되어 있거나 표면이 약간 젖어있는 정도의 상태)에 있는 외 컵(48)으로 기판(G)을 위요하여 행하면, 기판(G)을 고속회전시킴에 의해 발생한 기류가 외 컵(48)의 내벽면으로부터 미스트를 발생시키는 일이 거의 없다. 또, 컵 유니트(49)의 구조 상, 기판(G)과 내 컵(46) 또는 중 컵(47) 내벽면과의 거리와 비교하여, 기판(G)과 외 컵(48) 내벽면과의 거리가 길기 때문에, 기판(G)의 회전수를 고속으로 하여도 발생한 기류는 외 컵(48) 내벽면에 도달할 때에 그 힘이 약해진다. 이렇게 하여, 기류에 의한 외 컵(48) 내벽면으로부터의 미스트의 발생이 억제된다. 또, 스핀 건조시에는, 기판(G)과 외 컵(48) 내벽면과의 거리가 길기 때문에, 기판으로부터 비산하는 처리액은 속도가 저감되어 내벽면에 충돌하거나 직접적으로 흡기구(91) 내로 도입되기 때문에 미스트의 발생이 억제된다.

또, 내벽면에 현상액이나 린스액이 부착된 내 컵(46) 및 중 컵(47)에는 기판(G) 주위에 발생하는 강한 기류가 직접적으로 부딪히지 않기 때문에, 미스트의 발생이 방지된다. 이렇게 하여 스핀건조시에 발생하는 미스트의 양이 현저히 저하되고, 기판(G)에 미스트가 파티클로서 부착하는 것이 억제된다. 이에 덧붙여, 배기기구(90)에 의한 측면배기에 의해도 미스트가 회수되기 때문에, 기판(G)으로의 파티클의 부착이 억제된다.

스핀 건조처리시에 건조된 내벽면을 갖추는 외 컵(48)을 사용하는 것과 배기기구(90)를 사용하여 측면배기를 행하는 것은, 각각 독자적으로 미스트의 저감이나 파티클의 기판(G) 부착 억제에 있어 효과가 있지만, 양자를 병용함으로써 보다 그 효과를 더 높일 수 있다.

스핀 건조가 종료된 후에는, 기판(G)의 회전을 정지하고(스텝 12), 스핀척(41)을 상승시키고(스텝 13), 그 타이밍에 맞추어 반송아암(19a)을 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c) 내로 삽입하여, 기판의 주고받기를 행한다(스텝 14). 기판(G)의 회전 종료 후로부터 기판(G)의 반송 아암(19a)으로 건네주기까지의 동안에, 배기기구(90)의 동작을 정지시켜 다음 처리에 대비한다.

스텝 14가 종료하여 스핀척(41)에 기판(G)이 없는 상태는, 컵 유니트(49)가 하단 위치에 있기 때문에 스텝 1의 상태가 만족되어 있다. 또, 다음에 처리해야 하는 기판(G)이 반송 아암(19a)에 의해 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c) 내로 반송되면, 스텝 2 이후의 전술한 공정을 따라 기판(G)의 현상처리를 계속하여 행할 수 있게된다. 스텝 14 후의 현상처리를 종료하는 경우에는, 기판(G)을 현상처리유니트(DEV)(24a ∼ 24c) 외로 반출한 후에, 스핀척(41)을 하강시켜 컵 유니트(49) 내로 스핀척(41)을 수납한다.

덧붙여 설명하면, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 그 취치를 일탈하지 않는 범위 내에서 여러가지로 변형이 가능하다. 예를들어 기판(G)을 보유유지하는 수단으로서는 스핀척(41)과 같이 기판(G)을 흡착력에 의해 보유유지하는 것에 한정되지 않고, 예를들어 기판보다 큰 스핀플레이트 상에 돌출되어 형성된 복수의 고정핀 상에 기판을 재치하여 기판을 회전시킬 때에 기판(G)의 위치가 어긋나지 않도록 기판(G) 단면의 소정 위치, 예를들어 4 구석에서 기판(G)을 별도의 핀등에 의해 보유유지하는 메카니칼(mechanical)법등을 사용할 수도 있다.

또, 현상처리공정에 있어서는, 컵 유니트(49)를 승강시켜 현상액을 회전에 의해 떨어뜨리고, 린스 처리, 스핀 건조시의 위치조정을 행하였지만, 컵 유니트(49)를 고정시키고 스핀척(41)을 승강시켜 소정 위치를 보유유지하면서 현상액을 회전에 의해 떨어뜨리는 처리를 행하는 것도 가능하다.

덧붙여 설명하면, 상술한 실시형태에서는 LCD기판의 레지스트 도포·현상처리시스템에 있어서의 현상처리유니트에 본 발명을 적용시킨 경우를 예로들어 설명하였지만, 본 발명은 현상처리유니트에 한정되지 않고 다른 액처리장치에도 적용시킬 수 있다. 예를들어 본 발명의 액처리장치를 레지스트 도포·현상처리시스템에 있어서의 세정처리유니트(SCR)(21a, 21b)라든가 레지스트 도포처리유니트(CT)(22)에 적용시킬 수 있다. 또, 기판으로서 LCD기판에 관하여 설명하였지만, 반도체 웨이퍼, CD기판등의 타 기판에도 적용시킬 수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 액처리 중에 처리액의 미스트가 발생하여도, 컵 외주벽에 설치된 배기기구에 의해 배기되기 때문에, 미스트가 기판 상공에서 떠 오르는 것이 방지되어, 기판으로의 파티클의 부착을 방지할 수 있다. 배기기구는 기판의 회전에 의해 발생하는 기류를 순방향(順方向)으로 흡인하기 때문에, 효율적으로 배기를 행할 수 있다.

또, 스핀 건조시는, 내벽면이 거의 건조된 상태인 컵에 의해 기판 외주가 위요되어 있기 때문에, 기판을 고속회전시키는 경우에 발생하는 기류가 내벽면에 부착되어 있는 처리액으로부터 미스트를 발생시키는 일이 없고, 이에 의해 미스트의 발생이 방지된다. 또, 기판(G)의 회전수가 고속으로 됨에 따라 기판과 기판으로부터 발생하는 처리액을 받는 컵 내벽면과의 거리가 길어지기 때문에, 발생된 기류가 약해져 내벽면에 도달함에 의해서도 미스트의 발생이 방지된다. 또, 내벽면에 현상액이나 린스액이 부착된 내 컵 및 중 컵에는 기판의 스핀회전시에 기판 주위에 발생하는 강한 기류가 직접적으로 부딪히지 않기 때문에, 미스트의 발생이 방지된다.

이와 같이 본 발명에 의하면, 액처리시에 있어서 미스트의 발생이 방지되고, 또 미스트가 발생한 경우에 있어서도 효율적으로 미스트가 배기되기 때문에, 기판 상공으로 떠오르는 미스트의 양이 적감되어, 기판으로의 파티클의 부착량이 저감된다. 이렇게 하여 파티클의 부착량이 적은, 높은 품질의 기판을 얻을 수 있게 되고, 제품불량의 저감에 의해 수율이 향상되고, 높은 신뢰성이 확보되는 등의 현저한 효과를 얻을 수 있다.

Claims

기판을 보유유지하는 보유유지기구와,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액공급기구와,

상기 보유유지수단을 회전시키는 회전기구와,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요(圍繞)하도록 설치된 컵과,

상기 컵 외주벽에 설치된 배기기구를 구비하는 액처리장치.
기판에 처리액을 공급하여 액처리를 행하고, 그 후에 상기 기판을 회전시켜 상기 기판을 스핀 건조시키는 액처리장치이고,

상기 보유유지수단을 회전시키는 회전수단과,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액공급기구와,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하도록 설치된 컵 유니트와,

상기 컵 유니트를 승강시키는 승강기구를 구비하고,

상기 컵 유니트는,

액처리시에는 상기 승강기구에 의해 대강 건조상태로 유지되는 위치로 이동되고, 또 상기 스핀 건조시에는 상기 승강기구에 의해 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하는 위치로 이동되는 컵을 갖추는 액처리장치.
청구항 2의 액처리장치에 있어서, 상기 컵 외주벽에 배기기구가 설치되어 있는 액처리장치.
청구항 1 또는 청구항 3의 액처리장치에 있어서, 상기 배기기구는 상기 기판의 회전에 의해 발생되는 기류가 순방향(順方向)으로 흡기되고 배기되는 배기경로를 갖추는 액처리장치.
기판을 보유유지하는 보유유지기구와,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하는 처리액공급기구와,

상기 보유유지수단을 회전시키는 회전기구와,

상기 보유유지수단에 보유유지된 기판을 위요하도록 설치되고, 또 내측으로부터 외측을 향하여 차례로 높이가 높게된 내 컵, 중 컵, 외 컵에 의해 구성되는 3중 구조의 컵 유니트와,

상기 컵 유니트의 승강기구를 구비하는 액처리장치.
청구항 5의 액처리장치에 있어서, 상기 외 컵의 외주벽에 배기기구가 설치되어 있는 액처리장치.
청구항 6의 액처리장치에 있어서, 상기 배기기구는 상기 기판의 회전에 의해 발생하는 기류가 순방향으로 흡기되어 배기되는 배기경로를 갖추는 액처리장치.
청구항 5 또는 청구항 6 또는 청구항 7의 액처리장치에 있어서, 상기 컵 유니트는 상기 내 컵, 상기 중 컵, 상기 외 컵이 일체적으로 형성되어 있는 액처리장치.
청구항 5 또는 청구항 6 또는 청구항 7의 액처리장치에 있어서, 상기 외 컵은, 상기 보유유지수단에 보유유지된 기판에 소정의 처리액을 공급하여 액처리를 행한 후에 상기 기판을 회전시켜 상기 기판을 스핀 건조시킬 때에, 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 회수하기 위한 상기 기판을 위요하는 위치로 이동되는 액처리장치.
대략 수평으로 보유유지된 기판을 회전시키면서 기판에 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 행하는 액처리방법이고,

상기 처리액의 공급 중에 기판으로부터 비산하는 처리액을 회수하기 위하여 1의 컵을 사용하고, 상기 처리액의 공급정지 후에 기판을 회전시켜 스핀 건조를 행하는 때에 기판으로부터 비산하는 처리액을 회수하기 위하여 내벽면이 대략 건조된 상태인 다른 컵을 사용하는 처리방법.
청구항 10의 액처리방법에 있어서, 상기 스핀 건조시에 사용되는 컵의 외주벽에 배기기구를 설치하고, 상기 배기기구를 동작시켜 상기 컵 유니트 내로부터의 배기를 행하면서 스핀 건조를 행하는 액처리방법.
대략 수평으로 보유유지된 기판을 회전시키면서 상기 기판에 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 행하는 액처리방법이고,

내측으로부터 외측으로 향하여 차례로 높이가 높아지고 있는 내 컵, 중 컵, 외 컵에 의해 구성되는 3중 구조의 컵 유니트를, 기판을 위요하도록 배치하고,

상기 기판의 회전개시로부터 소정 시간을 경과할 때까지의 동안에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 내 컵에서 회수하는 제 1 공정과,

상기 제 1 공정 후로부터 상기 처리액의 공급정지까지의 동안에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 중 컵에서 회수하는 제 2 공정과,

상기 처리액의 공급을 정지시킨 후에 기판을 회전시켜 스핀 건조를 행하는 때에 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 상기 외 컵에서 회수하는 제 3 공정을 갖추는 액처리방법.
청구항 12의 액처리방법에 있어서, 상기 외 컵의 외주벽에 배기기구를 설치하고, 상기 배기기구를 동작시켜 상기 컵 유니트 내로부터의 배기를 행하면서 상기 제 3 공정을 행하는 액처리방법.