TWI227218B - Method and apparatus for producing a quartz glass body - Google Patents

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TWI227218B
TWI227218B TW090129073A TW90129073A TWI227218B TW I227218 B TWI227218 B TW I227218B TW 090129073 A TW090129073 A TW 090129073A TW 90129073 A TW90129073 A TW 90129073A TW I227218 B TWI227218 B TW I227218B
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quartz glass
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furnace
combustion flame
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TW090129073A
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Martin Trommer
Jurgen Schafer
Heinz Bauscher
Wolfgang Englisch
Original Assignee
Shinetsu Quartz Prod
Heraeus Quarzglas
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Description

1227218 A7 B7 五、發明説明(1 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明是關於由測量含矽起始化合物被供應至沈澱爐 之石英玻璃體之製造方法以及裝置,Si〇2粒子係在分配 給沈澱爐之燃燒火焰那裡形成,該粒子係沈澱於在中心軸 的周圍旋轉且係在中心軸的方向以經控制的撤回速度撤回 之載體的罩狀沈澱物表面上,且粒子係以沈澱爐與被控制 之沈澱物表面間之距離在石英玻璃體的成型下玻璃化。 更進一步,本發明是關於製造石英玻璃體之裝置,該 裝置包含在中心軸的周圍旋轉且在中心軸的方向以可控制 的撤回速度藉由置換設備是可置放的之載體,以指定給沈 澱爐之燃燒火焰產生S i〇2粒子之沈澱爐且藉由沈澱爐 s i 〇2係沈澱於載體的罩狀沈澱物表面上且係在石英玻璃 體的成型下玻璃化,導向沈澱物表面之光學偵測機構,以 及控制沈澱爐與沈澱物表面間之距離之控制設備。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由在中心軸周圍旋轉之載體的正面上之S 1 〇2粒子的 軸向沈澱產生自石英玻璃之體之方法在名稱” VAD法” (蒸發軸向沈澱)下是普遍地已知的。由此方法產生之石 英玻璃體係使用作,如,光學或半導體技術的領域之應用 之光纖之預先形成或人造石英玻璃的高純度成分的製造之 半成品。 上述類型的方法與裝置自DE-A 4203 287 是已知的。對石英玻璃體的產品,提供了以水平地旋轉的 導向軸之載體,馬達,藉其載體在旋轉的軸的方向以可控 制的撤回速度是可置換的,用S i C 1 4,氧與可燃氣體饋 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -4- 1227218 A7 B7 五、發明説明(2 ) 送之火焰水解爐,以及測量與控制設備,藉其載體與火焰 水解爐間之距離被連續地測量且保持不變。 火焰水解爐的燃燒火焰被導向旋轉載體的正面,以致 於燃燒火焰的主要波及方向與旋轉的軸平行地延伸(爐角 度=〇度)。s i c 1 4係以燃燒火焰轉換成以s i〇2粒 子的形式沈澱於載體上且在石英玻璃體的成型下立即玻璃 化之S i 〇2。由於S i〇2粒子的層向沈澱與玻璃化於載 體的正面上,石英玻璃體係在旋轉的軸的方向以具凸面曲 率之罩狀沈澱物表面形成。 測量與控制設備包含具以垂直於旋轉的軸之方向延伸 且正切於沈澱物表面之光束之光柵欄。只要罩狀沈澱物表 面一永久地中斷光柵欄,撤回速度被增加直到載體的沈澱 物表面與火焰水解爐間之想要的距離再次被調整。 然而,因爲光柵欄在此例不被中斷,想要的距離非計 劃的增加不能由此控制設備偵測。此缺點係根據U S - A 6,0 18,9 6 4由使用連續地監視火焰水解爐與具垂 直地旋轉的導向軸之載體間之距離之I R攝影機以類似於 產生石英玻璃體之VAD法避免。 然而,即使沈澱爐與沈澱物表面間之距離被嚴格地觀 測,輻射且尤其類層軸不同質在VAD石英玻璃體中出現 。此不同質係在沈澱處理期間由光學性質與石英玻璃的化 學成分之改變造成。氫與氫氧根群濃度之增減率在石英玻 璃體的長度上經常被觀測。此軸向物質增減率經常在由軸 V in im§9 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -5- 1227218 Α7 Β7 五、發明説明(3 ) 向與輻射密度分佈額外地影響之光學特徵上及實質上係由 石英玻璃體的冷卻行爲決定之所謂的虛構溫度上有效力。 所以本發明的目的是提供允許根據儘可能用同質之材 料的特徵之VA D處理之石英玻璃體的產品之方法。更進 一步,本發明的目的是提供此石英玻璃體可以可複製的方 式產生之裝置。 就所提之方法,開始自上述方法之此目的係根據沈澱 物表面的幾何形狀在沈澱期間被維持之發明而達成。 已發現沈澱物表面的幾何形狀(以下也稱爲”罩幾何 ”)是決定作爲VAD處理的穩定性與產生的石英玻璃體 的材料的同質。沈澱處理期間之罩幾何之改變係隨著石英 玻璃體的材料的特徵之改變發生。 於V A D處理的穩定性上與材料的軸向同質上之沈澱 物表面的幾何形狀的效力之解釋是在沈灑物表面上之輻射 溫度分佈視罩幾何而定。溫度分佈,依次,在石英玻璃體 的材料的特徵上有直接與間接的效力。對沈澱物表面上之 各點,如,氫氧根群的合倂,氫,或S i Η群的成型,視 沈澱期間到達之最大溫度與冷卻處理的時間過程而定。因 此沈澱物表面上之溫度分佈影響輻射化學成分且因此石英 玻璃體的光學特徵也是。並且,溫度也規定石英玻璃的輻 射密度分佈與虛構溫度。因此,沈澱處理期間之輻射溫度 分佈之改變導致輻射且,特別是,該材料特徵之軸向改變 — -1 ——Κ----豐 II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) l·訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6- 1227218 A7 B7 五、發明説明(4 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據發明,罩幾何在沈澱處理期間因此被維持。此意 味罩幾何儘可能被保持不變。根據罩幾何之改變,採取抵 消該改變之測量。罩幾何之改變也許發生在沈澱處理的過 程-例如因爲環境的溫度上升與因爲成長的石英玻璃體的 體積與重量的增加。特別在具水平旋轉的軸之V A D處理 中,石英玻璃體也許用增加的長度轉向,導致沈源物表面 上之燃燒火焰的撞擊的點的置換且因此有規律地罩幾何之 相當的改變。 沈澱處理期間之固定罩幾何被決定作爲根據發明之指 導的成功,即,作爲材料特徵的同質軸與輻射分佈;其它 參數,如罩的特定形狀,僅是次重要的。 罩幾何”在沈澱處理期間”被維持。此論及沈澱處理 的時期,在此期間石英玻璃體可使用的長度(其特徵在於 材料特徵儘可能不變)被沈澱。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 根據發明之方法的較佳成長中,燃燒火焰的形狀,化 學計量與主要波及方向,以及沈澱物表面上之燃燒火焰的 撞擊的點的位置,被調整以致於沈澱物表面的幾何形狀在 沈澱期間被維持。已發現罩幾何實質上係由上述參數影響 。這些參數因此特別地適合作操作變數,藉其罩幾何之改 變可在沈澱處理的過程中被抵消。當其中之一參數被使用 作操作變數且當剩餘的參數被保持不變時就夠了。並且, 罩幾何視沈澱爐與沈澱物表面間之距離而定。此距離以根 據發明之方法被保持不變。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1227218 A7 B7 五、發明説明(5 ) 詞句”燃燒火焰的化學計量”表示其化學成分。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在特別地較佳處理中,沈澱物表面上之燃燒火焰的撞 擊的點的位置被控制。已發現沈澱物表面上之燃燒火焰的 撞擊的點是決定作爲石英玻璃體的材料的同質與VA D處 理的穩定性。原因是燃燒火焰的撞擊的點決然地影響沈澱 物表面上之輻射溫度分佈與其幾何形狀。撞擊的點係由沈 澱物表面與燃燒火焰的主要波及方向的交叉的點定義。 沈澱物表面上之撞擊的點實質上係由該表面相關之沈 澱爐的位置與由燃燒火焰的形狀與方向定義。燃燒火焰的 形狀與方向可由採取許多不同的測量改變,如,由流過沈 澱爐或爐外之氣體,由機械指導體或也由應用電場不需移 動沈澱爐本身。此測量原則上是適於調整撞擊的點且係由 下列說明構成。爲簡化起見,然而,自被開動之燃燒火焰 在沈澱處理期間由於它的形狀與方向係保持不變以致於燃 燒火焰的局部置換將永遠隨著沈澱爐的對應置換發生。 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 燃燒火焰可在沈澱物表面上以預設的運行順序被引導 ,附帶地沈澱物表面的幾何形狀被維持。在最簡單的例子 中,沈澱物表面上之撞擊的點僅在罩幾何之不想要的改變 的例子中被改變以便重建預設的罩幾何。它也許是足夠的 ,因爲罩幾何上之撞擊的點不同的影響沈澱物表面上之燃 燒火焰的撞擊的點的位置被保持不變以藉此同時確保沈灑 物表面的固定罩幾何。 一程序是最佳的,其中罩外形係由至少部分的沈澱物 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1227218 A7 B7 五、發明説明(6 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 表面光學地成像獲得,且沈澱物表面的真正幾何形狀之大 小在那裡被決定。在此處理中,沈澱物表面被連續地光學 地感應且其槪況被成像且測量當作”罩外形”。在自想要 的形狀之經感應的罩外形的誤差的例子中,其中之一上述 參數被改變以致於想要的形狀再次被獲得。罩外形係由數 位影像處理權宜地測量且估計。此感應之罩外形的規則感 應可在連續地且根據預設的時間間隔實行。較短的時間間 隔儘可能被選,沈澱物表面的形狀更可被精確地維持。 最好是,沈澱物表面的真正幾何形狀的大小係在罩外 形上包含至少兩隔開的測量點的決定之測量規則的基礎上 決定,其第一測量點係在中心線的位準決定且第二測量點 係在自中心線之預設輻射距離。第一與第二測量點間之軸 距離產生沈澱物表面的曲率之簡單的規模圖表。越多的測 量槪況之測量點,罩外形可被更精確地測量。沈澱物表面 的形狀之改變可在早期以罩的幫助而被偵測。首先,罩頂 經常改變,以致於在中心線的位準中罩外形之第一測量點 允許特別地感應控制。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 沈澱物表面的形狀之改變經常是燃燒火焰的撞擊的點 的位置之非計劃改變的徵象。所以,維持沈澱物表面的幾 何形狀之特別地較佳處理中,位置控制被提供,其中沈澱 爐的位置或撤回速度被使用作操作變數。這些參數在燃燒 火焰的撞擊的點的位置有直接的效力,藉此感應與正確的 控制變可能。然而,當燃燒火焰不被正面地導至載體的正 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1227218 A7 B7 五、發明説明() 面時,撤回速度之改變僅在沈澱物表面上之燃燒火焰的輻 射位置上有效力,而是以傾斜的角度撞在沈澱物表面上。 此例中,沈澱物表面上之燃燒火焰的撞擊的點也隨沈澱爐 與載體間之距離改變。 根據發明之方法的特別地較佳成長中,燃燒火焰被導 向沈澱物表面以致於燃燒火焰主要的波及方向與載體的中 心軸自5至8 5度之範圍圍住爐角度,且該爐角度被保持 在預設想要的値。在此處理中,沈澱物表面上之燃燒火焰 的”撞擊的角度”(爐角度)被預設且控制,已發現它不 僅撞擊的點也許在沈澱物表面的幾何形狀上有相當的效力 ,而且爐角度也是。在隨載體的中心軸有關傾斜地延伸之 主要波及方向之燃燒火焰的例子中,爐角度不僅隨沈澱爐 與沈澱物表面間之距離改變,而且也根據沈澱物表面的傾 斜。此傾斜也許,如,發生在具旋動的水平軸之沈澱處理 的過程中因爲成長的石英玻璃體的偏角。在此例中,石英 玻璃體的中心軸與水平旋轉的軸有關無中心地延伸,以致 於爐角度被事後校正至5至8 5度的範圍之預設的設置點 値。界定且固定的溫度槪況藉此在沈澱物表面上被維持。 燃燒火焰的”主要波及方向”正常地與沈澱爐的中心 軸一致。在載體的中心軸與”主要波及方向”歪曲的建構 中,爐角度係自投射至透過載體的中心軸延伸之垂直平面 決定。適當地,爐角度被保持在1 5與7 5度間之設定點 値,最好是3 0與6 0度之間。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂—r 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -1〇 - 1227218 A7 B7 五、發明説明(8 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 當吸力設備被提供在燃燒火焰的主要波及方向與在成 長相對於燃燒火焰之石英玻璃體的一側時,進一步的改進 被達成。處理氣體由於燃燒火焰的主要波及方向幾乎沿著 直線,而且在傾斜於載體的中心軸之方向被吸收。此類吸 力已證明是對減少處理室的設置與內壁上之S 1〇2粒子的 沈澱物特別地有效。因此對成長由下降的或無定向的 s i 〇2沈澱物造成之石英玻璃體之損壞被避免。 有利地,當沿中心軸以縱長剖面觀察時,沈澱物表面 係以繞著較長的橢圓軸之橢圓的形式成型而被形成。此沈 澱物表面的形狀導致簡化沈澱物表面的預設形狀的維持之 特別穩定的V A D處理。此沈澱物表面特徵在於-例如以 圓剖面的形狀比較沈澱物表面-由沈澱物表面的前面部分 與石英玻璃體的外側面間之特別慢的轉變;突然的轉變藉 此被避免。必需假設此形狀對沈澱物表面上之同質溫度分 佈且因此同時對輻射地更多同質材料特徵有貢獻。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 已發現當成長的石英玻璃體被提供在至少部分具有至 少5 mm的層厚度之表層與石英玻璃的特定密度不超過 8 0 %的密度。由於它不透明與多孔性,此表層顯示較透 明石英玻璃體佳之熱絕緣。結果,成長的石英玻璃體的外 側面上之熱消散被減少。這使旋轉地對稱與,特別是,同 質溫度分佈的維持容易,藉此沈澱處理被穩定,控制被簡 化且旋轉與軸向地同質材料特徵的調整被促進。此表層在 沈澱物表面後之石英玻璃體的外圓柱表面的面積是特別有 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)-11 · 1227218 Α7 Β7 五、發明説明() (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 效的。它係由保持石英玻璃體的外圓柱表面的面積相當低 之溫度而獲得。這是有助於已在上面詳細說明之發明的方 法的設計,其中當沿著中心軸以縱長剖面觀察時,沈澱物 表面被形成,其繞著較長的橢圓軸以橢圓剖面的形式被設 計。 該方法被有利地用於具水平地導向的載體之V A D沈 澱處理。沈澱物表面上之燃燒火焰的位置的控制可在此以 特別有利的方式被通知。 發明的方法允許具輻射且,特別是,軸向同質材料特 徵之無層石英玻璃體的再製,特別是氫氧根的同質分佈及 S1-Η群與氫的同質分佈以及虛構溫度的軸向一致曲線 ,同質折射索引與壓力分佈也是一樣。 自上述裝置開始之上述目的係根據機構在沈澱期間被 提供作爲維持沈澱物表面的幾何形狀而達成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 根據發明之裝置包含在沈澱期間允許沈澱物表面的幾 何形狀的維持。沈澱物表面的形狀(罩幾何)顯著地係由 燃燒火焰的形式,化學計量與主要波及方向及由沈澱物表 面上之燃燒火焰的撞擊的點的位置決定。所以,爲維持罩 幾何的目的之適當的機構特別是允許至少其中之一該參數 的選擇的調整與改變之此機構。個別的其中之一該參數在 此可保持不變。以任何比率,一控制設備被提供作爲在沈 澱期間保持沈澱物表面的罩幾何不變。此控制可以控制電 路的幫助”由手動”或”自動地”實行。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)· 12 - 1227218 A7 B7 10 五、發明説明() 根據發明之裝置的有利成長自子申請專利範圍遵循。 對應的解釋視根據發明之方法在此做參考。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 已發現當機構包含位置控制,藉其燃燒火焰的位置可 相對於沈澱物表面而被調整是特別有利的。 “位置控制”代表測量,藉其不僅以中心軸的方向自 沈澱爐之沈澱物表面的距離可以預設方式設定,而且相應 於燃燒火焰之沈澱物表面的位置也是以利維持沈澱物表面 的幾何形狀。結果,沈澱物表面上之燃燒火焰的撞擊的點 可以再製的方式而預設。例如,燃燒火焰也許以預設的運 行順序在沈澱物表面上被引導。在最簡單的例子中,沈澱 物表面的撞擊點的位置係由僅在自預設想要的形狀之罩幾 何的偏向的例子中之位置控制而改變。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 根據發明之位置控制當在沈澱處理的過程中結果是有 益的,如,因爲環境的加溫及因爲成長的石英玻璃體的容 積與重量的增加,由於以上解釋的結果,有了在燃燒火焰 與彼此有關之沈澱物表面間之位置之改變且因此輻射溫度 分佈之改變。特別在具水平旋轉的軸之V A D處理中,石 英玻璃體也許由於增加長度而偏向,其特別透過燃燒火焰 有關的沈澱物表面的轉位被通知。 由於位置控制,沈澱物表面的固定罩幾何可在沈澱期 間以特別簡單的方式被維持,藉此材料的特徵之不想要的 軸增減率可被避免。由於上述攄火與沈澱物表面間之有關 位置調整以上這全是可能的。對上述解釋做爲參考以視此 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)-13 - 1227218 A7 B7 五、發明説明(11 ) 控制的效力爲發明的方法。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 由於V A D法的可複製性進一步的改變係依靠根據發 明之裝置的實施例的使用而達成,其中燃燒火焰被引導至 沈澱物表面上以致於燃燒火焰的主要波及方向與載體的中 心軸圍住範圍自5至85度之爐角度,由於沈澱爐被連接 至可由位置控制設備控制之調整設備。由於調整裝置的幫 助,沈澱爐可撤換且在旋轉軸周圍傾斜。 以此著眼點,它已證明是非常有用的當爐角度是可控 制的以有1 5與7 5角度間之設定點値,較好是3 0與 6 0度間。 由無定向的S i 0 2之非計劃的效果可以由計劃發明的 裝置避免以致於吸力設備被提供在燃燒火焰的主要波及方 向且在相對於燃燒火焰之成長的石英玻璃體的旁邊。 本發明將更詳細地在下列以參考一圖表式地詳細地顯 示之實施例與圖形而解釋: 圖1是側面中根據發明之裝置的實施例; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2是顯示圖1所示之石英玻璃體的沈澱物表面之詳 圖;以及 圖3是根據圖2之沈澱物表面的影像鏡頭與決定罩外 形之規模圖解之方法。 主要元件對照表 1 沈澱室 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -14 - 1227218 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 —五、發明説明() 2 載體 3 水平中心軸 4 方向箭 5 方向箭 6 燃燒火焰 7 火焰水解爐 8 石英玻璃體 9 橢圓沈澱物表面 10 撞擊的點 11 方向箭 12 方向箭 13 縱軸 14 撤回設備 15 C C D攝影機 16 影像 17 數位影像處理機構 18 有孔煤煙層 19 控制設備 2 0 前線 2 1 後線 3 0 測量點 3 1 方塊箭 3 2 點 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i裝. 訂 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -15 - 1227218 A7 B7 五、發明説明(13 ) 3 3 測量點 3 4 測量點 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 5 距離箭 3 6 距離箭 3 7 方向箭 3 8 方向箭 根據圖1之裝置,沈澱室1已建構於其中,載體2係 可在水平中心軸3周圍旋轉且在軸方向以經控制的撤回速 度是可取代的,如回方向箭4與5所槪述。 火焰水解爐7的燃燒火焰6中,S i 0 2粒子係自含矽 啓始物質與氧形成且在石英玻璃體8的成型下被沈澱於載 體2上。石英玻璃體8的外圓柱表面係覆與由未玻璃化或 部分玻璃化的S 1 0 2粒子構成且作用如熱絕緣之有孔煤煙 層18,藉此避免急速的冷卻。 燃燒火焰6自下對著石英玻璃體8的前面被傾斜地引 導,導致卵形橫截面的橢圓沈澱物表面9的成型。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 燃燒火焰6的主要波及方向與火焰水解爐7的縱軸 1 3 —致。它包圍中心軸3大約60度的角度α。沈澱物 表面9上之燃燒火焰6的撞擊的點在圖1中被記爲參考號 10° 火焰水解爐7可以垂直方向被上下移動且係可相對於 垂直傾斜,如由方向箭1 1與1 2所示,且它在軸方向( 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) _ 16 - 1227218 A7 B7 五、發明説明(14 ) 相對於石英玻璃體)與輻射方向(相對於石英玻璃體)是 水平地可取代,如分別由方向箭3 7與3 8所槪述。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 縱軸1 3的延長中(主要波及方向),撤回設備1 4 被提供在石英玻璃體8的對面。 沈澱物表面9的側面係以C C D攝影機1 5光學地感 應且沈澱物表面9的影像1 6係由數位影像處理機構1 7 估算。攝影機1 5係以中心線3的位準建構且以9 0度的 角度導向該線。 由數位處理機構1 7估算之資訊被供應至控制設備 1 9。控制設備1 9係連接至沈澱爐7之定位機構(1 1 ;1 2 )且至石英玻璃體8之撤回設備。資料線可由斷線 的方式在圖1看到。 根據圖2之沈澱物表面9的詳細觀點中,如圖1之相 同的參考號碼被使用作爲表示石英玻璃體8的個別元件與 裝置的零件。兩點線被額外地畫在沈澱物表面9上,前線 2 0表示撞擊的點1 0的區之沈澱物表面的直徑且後線 21是石英玻璃體8的直徑。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由攝影機1 5之沈澱物表面9的影像1 6鏡頭被顯示 於圖3中。此影像係由影像處理機構1 7估算。該估算包 含決定中心軸3 (方塊箭3 0 )當作方塊箭3 1間之距離 的一半。同時石英玻璃體8的直徑(線2 1 )係自方塊箭 3 1間之距離不斷地決定。 並且,由影像處理機構17之估算包括點32的決定 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐)-17 - 1227218 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明() (與線2 0的長度)。點3 2係由燃燒火焰6的撞擊的點 (方塊箭3 2 )所定義。點3 2的位置(與線2 0的長度 )係由測量保持在預設的設定點値,自設定點値之偏向的 例子中,撤回速度係因此由控制設備1 9改變。 由測量點30, 33與34 (也由方塊箭30, 33 ,3 4表示)決定之測量量變曲線作用爲決定沈澱物表面 9的曲率。在測量點3 0, 3 3與3 4間之預設固定輻射 距離(例如,距離箭3 5 ),個別的軸距離(例如,距離 箭3 6 )在此區是沈澱物表面9的曲率的測量。 根據發明之方法現在將參考實施例與圖1至3詳細地 解釋。 石英玻璃體8之撤回速度被設成3 Omm/h的期初 値,且旋轉速度被保持在10 r pm的常數値。含矽啓始 物質(S i C 1 4,silanes, siloxanes),氧與氫被供應至 火焰水解爐7且S i〇2粒子係在燃燒火焰6中從那裡形成 ,該粒子在石英玻璃體8的成型下被沈澱於載體2上且以 大約1 9 0 0 °C的溫度被直接地玻璃化。石英玻璃體8有 1 2 0mm的外部直徑。它的外圓柱表面被覆與部分玻璃 化的S i〇2粒子構成且有大約6 m m厚度且作用如熱絕緣 體之有孔煤煙層,藉此避免急速冷卻。 接下來數分鐘的開始階段,卵形橫截面的橢圓沈澱物 表面9被形成於旋轉載體2上。其幾何形狀在進一步的沈 澱處理期間被保持不變。爲此所採取之測量將於之後說明 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i裝· 訂 ίΜ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)-18 - 1227218 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __ B7五、發明説明(16 ) 沈澱物表面9的側面係由C C D攝影機1 5連續地感 應,且沈澱物表面9的罩外形1 6 (影像)係由影像處理 機構17估算。爲這目的,中心軸3 (方塊箭3 0)係由 方塊箭31間之距離的一半所定義,且石英玻璃體8的直 徑(線21)同時在方塊箭31間之距離的基礎上被連續 地決定。 線2 0的長度,其位置係由燃燒火焰6 (方塊箭3 2 )的撞擊1 0的點所定義,也被決定。測量點3 2 (線 2 0的真正長度)的經測量的位置被供應至控制設備1 9 且與預設的設定點値比較。在自設定點値之偏向的例子中 ,撤回速度被改變。此因爲具有沈澱物表面9的固定形狀 而完成,測量點3 2的位置是燃燒火焰6與沈澱物表面9 間之距離的測量。相對撤回方向5 (設定點値上之線2 1 的長度)之設定點/真正的値偏向的例子中,燃燒火焰6 與沈澱物表面9間之設定點距離無法到達,以致於撤回速 度被增加。依此類推,以撤回方向5 (設定點値下之線 2 1的長度)在設定點/真正的値偏向的例子中,燃燒火 焰6與沈澱物表面9間之設定點距離係超過的,以致於撤 回速度被降低。沈澱物表面9與沈澱物表面9間之距離可 因此被控制精確至5 0 //m。並且,連續且一致的撤回被 保證,以致於石英玻璃體8之層被避免。 並且,沈澱物表面9的真正曲率係由數位影像處理機 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一裝- 訂 d 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)· 19 - 1227218 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 17五、發明説明() 構在由測量點3 0,3 3與3 4表示之測量槪況的基礎上 估算。在由罩外形1 6的成像規模所決定之具體例子中, 罩外形1 6上之測量點3 3首先係以自中心線(測量點 3 0 ) 6 m m的預設距離而決定,且測量點3 0與3 3間 之軸距離(距離箭3 6 )在那裡被決定。此軸距係以預設 的設定點値而保留,作爲它是在該區沈澱物表面9的曲率 的測量。以此方式作爲軸距所決定之真正的値因此被供應 至控制設備1 9且與設定點値比較。在採取下列計數測量 之差的例子中:在極度強曲率的例子中,沈澱爐7被垂直 地往下移動;在極度弱曲率的例子中,它被垂直地往上移 動(方向箭1 1 )。 由方塊箭30, 33與34所示決定之測量槪況作爲 決定沈澱物表面9的曲率。在測量點間之預設固定的輻射 距離(例如,距離箭3 5 ),如方塊箭3 0, 3 3與3 4 表示,個別的軸距(例如,距離箭3 6 )在該區是沈澱物 表面9的曲率的測量。測量點3 0,3 3與3 4被定位在 曲率之改變可被即早偵測之沈澱物表面9的前面部分。在 自預設的設定點値之經測量的曲率的偏向的例子中,或在 曲率之時間改變的例子中,計數測量係由垂直地往下移動 火焰水解爐7取得,在極強曲率的例子中或計數測量係由 垂直地往上移動(方向箭1 1 )火焰水解爐7取得,在極 弱曲率的例子中。 由於罩外形的連續偵測與火焰水解爐7的點的上述調 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· ί訂 d 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -20 - !227218 Α7 ____Β7 五、發明説明(18 ) 整,沈澱物表面9的幾何形狀可在整個沈澱處理被維持。 在實施例中,火焰水解爐7的位置係由調整爐角度(方向 箭1 2 )與爐高度(方向箭1 1 )所控制。另外,或此外 ,沈澱物表面的罩幾何也可以軸方向(方向箭3 8 )與輻 射方向(方向箭3 7 )由取代火焰水解爐7而調整且校正 〇 既然測量點3 0,3 3與3 4被定位在沈澱物表面9 的前面部分,曲率之改變可即早被偵測。因此根據發明之 方法提供具軸向地同質材料的特徵之石英玻璃體8的產品 。在實施例中,”距離控制”之調整機制是優先於”維持 罩形狀”之調整機制。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -21 -

Claims (1)

1227218 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 量係在包含至少兩在該罩狀外形(1 6 )上之隔開的測量 點(3 0, 3 3 )之測量規則的基礎上決定,其第一測量 點(3 0 )係以中心線(3 )的位準決定且第二測量點係 以自該中心線(3 )之預設輻射距離(3 5 )。 5 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於該 沈澱爐(7 )的位置或撤回速度被使用作操作變數之位置 控制設備被提供作爲維持該沈澱物表面(9 )的幾何形狀 〇 6 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於該 燃燒火焰(6 )被導至該沈澱物表面(9 )上以致於該燃 燒火焰(6 )的主要波及方向與該載體(2 )的中心軸圍 住範圍自5至8 5度之爐角度(α),且該爐角度(α) 被保持在預設期望値。 7 ·根據申請專利範圍第5項之方法,其特徵在於該 爐角度(α )被保持在1 5與7 5度間之期望値。 8 ·根據申請專利範圍第5項之方法,其特徵在於該 爐角度(α )被保持在3 0至6 0度間。 9 ·根據申請專利範圍第5項之方法,其特徵在於吸 力設備(1 4)被提供在該燃燒火焰(6)的主要波及方 向且在相對於該燃燒火焰(6 )之成長的石英玻璃體(8 )的旁邊。 1 0 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於 沈澱物表面(9 )被產生,當沿著中心軸(3 )以縱剖面 ί----.----—丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .4ϋ 、言 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -23 - 1227218 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 觀之時,其係以繞著較長橢圓軸之橢圓剖面的形式成形。 1 1 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於 成長的石英玻璃體(8 )設有至少5 mm的層厚與不超過 石英玻璃的特定密度的8 0%的密度之有孔的3 i〇2的表 層(1 8 )。 1 2 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於 該載體(2 )係以水平方向導向。 13·—種產生石英玻璃體之裝置,包含一可繞著中 心軸(3 )旋轉且可在中心軸(3 )的方向以可調整的撤 回速度由置換設備置換之載體(2),一沈澱爐(7)作 爲在分配給該沈澱爐(7 )之燃燒火焰(6 )中產生 S i 0 2粒子且用燃燒火焰使S 1〇2粒子被沈澱於該載體 (2 )的罩狀沈澱物表面(9 )上且係在該石英玻璃體( 8)的成型下玻璃化,一導向該沈澱物表面(9)之光學 偵測機構(1 5 ),以及控制該沈澱爐(7 )與該沈澱物 表面(9 )間之距離之控制設備(1 9 ),其特徵在於機 構(1 1 ; 1 2 ; 1 7 ; 1 9 ; 3 7 ; 3 8 )在沈澱期間 被提供作爲維持該沈澱物表面(9 )的幾何形狀。 14·根據申請專利範圍第13項之裝置,其特徵在 於該機構包含使該燃燒火焰(6 )的位置係可相對於該沈 澱物表面(9 )調整之位置控制設備(1 9 )。 15·根據申請專利範圍第13項之裝置,其特徵在 於該燃燒火焰(6 )係以該燃燒火焰(6 )的主要波及方 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) · 24 - 1227218 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 向導向該沈澱物表面(9)且該載體(2)的中心軸(3 )圍住範圍自5至8 5度之爐角度(α),且該沈澱爐( 7 )係連接至可由該控制設備控制之調整機構(1 1 ; 1 2 ; 3 7 ; 3 8 )。 1 6 .根據申請專利範圍第1 5項之裝置,其特徵在 於該爐角度(α )係可被調整至1 5與7 5度間之期望値 ,最好是3 0與6 0度間。 1 7 ·根據申請專利範圍第1 5項之裝置,其特徵在 於該爐角度(α )係被調整至3 0至6 0度間。 1 8 ·根據申請專利範圍第1 3至1 5項中任一項之 裝置,其特徵在於吸力設備(1 4 )被提供在該燃燒火焰 (6 )的主要波及方向且在相對於該燃燒火焰(6 )之成 長的石英玻璃體(8)的旁邊。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) · 25 -
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