JP2566349B2 - 合成石英ガラス部材の製造方法 - Google Patents
合成石英ガラス部材の製造方法Info
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- JP2566349B2 JP2566349B2 JP3282256A JP28225691A JP2566349B2 JP 2566349 B2 JP2566349 B2 JP 2566349B2 JP 3282256 A JP3282256 A JP 3282256A JP 28225691 A JP28225691 A JP 28225691A JP 2566349 B2 JP2566349 B2 JP 2566349B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/21—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with molecular hydrogen
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は合成石英ガラス部材の製
造方法、特には３方向の脈理がフリ−で△n≦２×1016
であり、水素分子含有量が５×1016molecules/cm3 以上
であることから250nm 以下の紫外線領域に光源をもつレ
ンズ素材としても有用とされる合成石英ガラス部材を歩
留りよく製造する方法に関するものである。
造方法、特には３方向の脈理がフリ−で△n≦２×1016
であり、水素分子含有量が５×1016molecules/cm3 以上
であることから250nm 以下の紫外線領域に光源をもつレ
ンズ素材としても有用とされる合成石英ガラス部材を歩
留りよく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】合成石英ガラスの製造方法としては、揮
発性けい素化合物、例えば四塩化けい素、シラン、テト
ラメトキシシランを燃焼させるか、または火炎中で気相
加水分解させて微細な二酸化けい素粉末を生成させて基
体上に堆積し、この微粉末を原料自体の燃焼熱もしくは
同時に供給する水素、メタン、一酸化炭素などの可燃性
ガスの燃焼熱によって半融状態のSiO2焼結体とし、さら
に電気炉で透明ガラス化する方法、あるいは生成したSi
O2を石英ガラス基体上に吹きつけ、同時に高温の燃焼熱
によって溶融ガラス化する方法が公知とされている。
発性けい素化合物、例えば四塩化けい素、シラン、テト
ラメトキシシランを燃焼させるか、または火炎中で気相
加水分解させて微細な二酸化けい素粉末を生成させて基
体上に堆積し、この微粉末を原料自体の燃焼熱もしくは
同時に供給する水素、メタン、一酸化炭素などの可燃性
ガスの燃焼熱によって半融状態のSiO2焼結体とし、さら
に電気炉で透明ガラス化する方法、あるいは生成したSi
O2を石英ガラス基体上に吹きつけ、同時に高温の燃焼熱
によって溶融ガラス化する方法が公知とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来法で
作られた合成石英ガラスには、光学物性の内脈理が３方
向ないし１方向に存在しており、例えばこれをレンズと
して使用すると使用面に脈理が存在するために光が収束
せず、したがってこのものはレンズなどの光学用途には
使用することができず、これにはまた光学的均質性を示
す屈折率最大偏差量△n の値が△n ≧20×10-6となり、
光学用として必要とされる△n ≦５×10-6には達してい
ないという不利がある。
作られた合成石英ガラスには、光学物性の内脈理が３方
向ないし１方向に存在しており、例えばこれをレンズと
して使用すると使用面に脈理が存在するために光が収束
せず、したがってこのものはレンズなどの光学用途には
使用することができず、これにはまた光学的均質性を示
す屈折率最大偏差量△n の値が△n ≧20×10-6となり、
光学用として必要とされる△n ≦５×10-6には達してい
ないという不利がある。
【０００４】なお、この合成石英ガラスの光学物性を改
良する方法については、合成シリカ微粉末を吹きつけ、
同時にガラス化する耐熱性担体上に堆積するSiO2の成長
厚みを制御する方法（特開平１−138145号公報参照）、
火炎を形成するバ−ナ−からの酸素−水素ガスのガスバ
ランスを調整する方法（特願昭３−83102 号明細書参
照）などがあるがこれらは近年の急速に進みつつある技
術革新で要求される品質精度に対応できるものではな
い。
良する方法については、合成シリカ微粉末を吹きつけ、
同時にガラス化する耐熱性担体上に堆積するSiO2の成長
厚みを制御する方法（特開平１−138145号公報参照）、
火炎を形成するバ−ナ−からの酸素−水素ガスのガスバ
ランスを調整する方法（特願昭３−83102 号明細書参
照）などがあるがこれらは近年の急速に進みつつある技
術革新で要求される品質精度に対応できるものではな
い。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決した合成石英ガラス部材の製造方法に関するもの
で、これは原料けい素化合物を火炎加水分解させて得た
合成シリカ微粒子を回転している耐熱性担体上に堆積す
ると同時に溶融ガラス化して合成石英ガラスを製造する
方法において、合成シリカ微粒子を耐熱性担体上に堆積
すると同時に溶融ガラス化し、その成長溶融面の時間的
温度変化を±20℃以下とすることを特徴とするものであ
る。
を解決した合成石英ガラス部材の製造方法に関するもの
で、これは原料けい素化合物を火炎加水分解させて得た
合成シリカ微粒子を回転している耐熱性担体上に堆積す
ると同時に溶融ガラス化して合成石英ガラスを製造する
方法において、合成シリカ微粒子を耐熱性担体上に堆積
すると同時に溶融ガラス化し、その成長溶融面の時間的
温度変化を±20℃以下とすることを特徴とするものであ
る。
【０００６】すなわち、本発明者らは光リソグラフィ−
装置などのレンズ素材として好適とされる三方向脈理フ
リ−で屈折率偏差量△n が≦５×10-6、 複屈折率が５
（nm/cm)以下、水素分子含有量が５×1016(molecules/c
m3) 以上である合成石英ガラス部材の製造方法について
種々検討した結果、けい素化合物の熱分解または火炎加
水分解で合成シリカ微粒子を作り、これを回転している
耐熱性担体上に堆積すると同時に溶融ガラス化して合成
石英ガラスを製造する際、SiO2成長溶融面の温度分布と
成長方向への単位時間当りの温度変化がガラス構造に変
えることを見出すと共に、このガラス構造の変化を抑え
るためにはSiO2堆積溶融面の成長方向での単位時間当り
の温度変化を±20℃以内とすれば実質的に三方向で脈理
フリ−で屈折率偏差量△n が≦５×10-6、 複屈折率が５
（nm/cm)以下であり、水素分子含有量が５×1016(molec
ules/cm3) 以上であるものとなるので、耐紫外線レ−ザ
−（KrF またはArF)性にすぐれた光透過率低下を抑制す
る働きがあり、そのために新たに水素分子をド−プさせ
る装置（特開平3-109233号公報参照）も不要である、紫
外線レ−ザ−を用いる光リソグラフィ−装置などのレン
ズ素材として有用な合成石英ガラス部材を得ることがで
きることを確認して本発明を完成させた。以下にこれを
さらに詳述する。
装置などのレンズ素材として好適とされる三方向脈理フ
リ−で屈折率偏差量△n が≦５×10-6、 複屈折率が５
（nm/cm)以下、水素分子含有量が５×1016(molecules/c
m3) 以上である合成石英ガラス部材の製造方法について
種々検討した結果、けい素化合物の熱分解または火炎加
水分解で合成シリカ微粒子を作り、これを回転している
耐熱性担体上に堆積すると同時に溶融ガラス化して合成
石英ガラスを製造する際、SiO2成長溶融面の温度分布と
成長方向への単位時間当りの温度変化がガラス構造に変
えることを見出すと共に、このガラス構造の変化を抑え
るためにはSiO2堆積溶融面の成長方向での単位時間当り
の温度変化を±20℃以内とすれば実質的に三方向で脈理
フリ−で屈折率偏差量△n が≦５×10-6、 複屈折率が５
（nm/cm)以下であり、水素分子含有量が５×1016(molec
ules/cm3) 以上であるものとなるので、耐紫外線レ−ザ
−（KrF またはArF)性にすぐれた光透過率低下を抑制す
る働きがあり、そのために新たに水素分子をド−プさせ
る装置（特開平3-109233号公報参照）も不要である、紫
外線レ−ザ−を用いる光リソグラフィ−装置などのレン
ズ素材として有用な合成石英ガラス部材を得ることがで
きることを確認して本発明を完成させた。以下にこれを
さらに詳述する。
【０００７】
【作用】本発明は合成石英ガラス部材の製造方法、特に
は脈理フリ−で△n 、複屈折率がいずれも小さく、また
水素分子を多く含有する合成石英ガラス部材の製造方法
に関するものであり、これは原料けい素化合物の火炎加
水分解で得た合成シリカ微粒子を回転している担体上に
堆積し、溶融ガラス化するときに、その成長溶融面の時
間的温度変化を±20℃以内とすることを特徴とするもの
である。
は脈理フリ−で△n 、複屈折率がいずれも小さく、また
水素分子を多く含有する合成石英ガラス部材の製造方法
に関するものであり、これは原料けい素化合物の火炎加
水分解で得た合成シリカ微粒子を回転している担体上に
堆積し、溶融ガラス化するときに、その成長溶融面の時
間的温度変化を±20℃以内とすることを特徴とするもの
である。
【０００８】本発明による合成石英ガラス部材の製造自
体は公知の方法で行なわれる。したがって、これは原料
けい素化合物の火炎加水分解で合成シリカ微粒子を作
り、これを回転している耐熱性担体上に堆積すると同時
に溶融ガラス化して合成石英ガラス部材とするのである
が、ここに使用される原料けい素化合物としては一般式
RnSiX4-nで示され、R は水素原子またはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロ
ヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、アリル
基などのアルケニル基などから選択される脂肪族一価炭
化水素基、X はハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基
などのアルコキシ基、n は０〜３であるシラン化合物、
例えばテトラクロロシラン、トリメチルクロロシラン、
トリメチルメトキシシラン、ジメチルハイドロジエンク
ロロシランが例示される。
体は公知の方法で行なわれる。したがって、これは原料
けい素化合物の火炎加水分解で合成シリカ微粒子を作
り、これを回転している耐熱性担体上に堆積すると同時
に溶融ガラス化して合成石英ガラス部材とするのである
が、ここに使用される原料けい素化合物としては一般式
RnSiX4-nで示され、R は水素原子またはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロ
ヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、アリル
基などのアルケニル基などから選択される脂肪族一価炭
化水素基、X はハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基
などのアルコキシ基、n は０〜３であるシラン化合物、
例えばテトラクロロシラン、トリメチルクロロシラン、
トリメチルメトキシシラン、ジメチルハイドロジエンク
ロロシランが例示される。
【０００９】また、このシラン化合物としては一般式R1
nSiO(OR2)4-nで示され、R1、R2 は同種または異種のアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基などから選択
される脂肪族一価炭化水素基、n は０〜３であるシラ
ン、例えばメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシランなどのアルコキシシラン
さらには式SixRyOz で示され、R は前記に同じ、X は２
以上の整数、Y は２x ＋２、Z は２xをそれぞれ越えな
い０でない正の整数であるシロキサン、例えばヘキサメ
チルジシロキサンなどのシロキサンが例示される。
nSiO(OR2)4-nで示され、R1、R2 は同種または異種のアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基などから選択
される脂肪族一価炭化水素基、n は０〜３であるシラ
ン、例えばメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシランなどのアルコキシシラン
さらには式SixRyOz で示され、R は前記に同じ、X は２
以上の整数、Y は２x ＋２、Z は２xをそれぞれ越えな
い０でない正の整数であるシロキサン、例えばヘキサメ
チルジシロキサンなどのシロキサンが例示される。
【００１０】このけい素化合物を用いた合成石英ガラス
部材の製造は例えば図１に示した方法で行なわれる。こ
の図１は本発明による合成石英ガラス部材製造装置の縦
断面図を示したものであるが、これはカ−ボン質、石英
質などの耐熱性担体１をムライト、ジルコニア、石英ガ
ラスなどの断熱材２で囲った反応室３に設置し、これに
酸水素火炎バ−ナ−４からの酸水素火炎５を吹きつける
のであるが、この酸水素火炎バ−ナ−４には、けい素化
合物入口６からけい素化合物が、ガス入口７，８からは
酸素ガス、水素ガスが導入される。このけい素化合物は
この酸水素火炎バ−ナ−からの火炎５によって火炎加水
分解され、ここに発生したシリカ微粒子が耐熱性担体１
に堆積され、これが火炎の顕熱によって溶融ガラス化さ
れ、また断熱材によって放熱が抑制されて反応室内の温
度分布が均一となり、溶融面が均熱状態となるので、均
質な石英ガラス棒９とされるのであるが、これはのぞき
窓10から観察できるようにされており、この温度は放射
温度計11で測定され、排ガスは排ガスブロワ−12で排気
されるようにされている。
部材の製造は例えば図１に示した方法で行なわれる。こ
の図１は本発明による合成石英ガラス部材製造装置の縦
断面図を示したものであるが、これはカ−ボン質、石英
質などの耐熱性担体１をムライト、ジルコニア、石英ガ
ラスなどの断熱材２で囲った反応室３に設置し、これに
酸水素火炎バ−ナ−４からの酸水素火炎５を吹きつける
のであるが、この酸水素火炎バ−ナ−４には、けい素化
合物入口６からけい素化合物が、ガス入口７，８からは
酸素ガス、水素ガスが導入される。このけい素化合物は
この酸水素火炎バ−ナ−からの火炎５によって火炎加水
分解され、ここに発生したシリカ微粒子が耐熱性担体１
に堆積され、これが火炎の顕熱によって溶融ガラス化さ
れ、また断熱材によって放熱が抑制されて反応室内の温
度分布が均一となり、溶融面が均熱状態となるので、均
質な石英ガラス棒９とされるのであるが、これはのぞき
窓10から観察できるようにされており、この温度は放射
温度計11で測定され、排ガスは排ガスブロワ−12で排気
されるようにされている。
【００１１】この場合、耐熱性担体はこれにけい素化合
物の火炎加水分解で発生したシリカ微粒子を均一に堆積
させるために回転させられるのであるが、担体の１回転
中における合成シリカ微粒子の堆積量は１〜300 μm、好
ましくは１〜200 μm の厚さとされることから、この回
転数は３〜100 rpm、好ましくは３〜20rpm とすることが
よい。また、このシリカ微粒子の成長溶融面における温
度は上記した放射温度計を用いてのぞき窓10から測定す
ればよいが、この成長溶融面の表面温度は通常1,700〜
2,100 ℃の範囲とされる。
物の火炎加水分解で発生したシリカ微粒子を均一に堆積
させるために回転させられるのであるが、担体の１回転
中における合成シリカ微粒子の堆積量は１〜300 μm、好
ましくは１〜200 μm の厚さとされることから、この回
転数は３〜100 rpm、好ましくは３〜20rpm とすることが
よい。また、このシリカ微粒子の成長溶融面における温
度は上記した放射温度計を用いてのぞき窓10から測定す
ればよいが、この成長溶融面の表面温度は通常1,700〜
2,100 ℃の範囲とされる。
【００１２】しかし、従来法ではバ−ナ−４と断熱材２
との隙間から空気が吸い込まれるために酸水素火炎５の
外炎が乱れるし、冷却作用も生ずるのでシリカ微粒子の
溶融成長面に温度分布が発生し、この時間的変化が図３
のａ）に示したように1,790〜1,805 ℃となるために、
ここに得られる合成石英ガラス成長方向面には図３の
ｂ）に示したように脈理が発生する。
との隙間から空気が吸い込まれるために酸水素火炎５の
外炎が乱れるし、冷却作用も生ずるのでシリカ微粒子の
溶融成長面に温度分布が発生し、この時間的変化が図３
のａ）に示したように1,790〜1,805 ℃となるために、
ここに得られる合成石英ガラス成長方向面には図３の
ｂ）に示したように脈理が発生する。
【００１３】本発明はこの脈理の発生を防止して脈理フ
リ−の合成石英ガラス部材を製造するものであり、その
ために合成シリカ微粒子の成長溶融面における時間的温
度変化を±10℃以下とするものであるが、これは耐熱性
担体を断熱材で囲まれたものとし、この耐熱性担体と断
熱材との隙間13から酸素ガスを供給して空気による冷却
効果を抑えるようにすればよいが、これについては断熱
材と目的とする合成石英ガラス外周面との間隔を30〜10
0mm とすることがよい。
リ−の合成石英ガラス部材を製造するものであり、その
ために合成シリカ微粒子の成長溶融面における時間的温
度変化を±10℃以下とするものであるが、これは耐熱性
担体を断熱材で囲まれたものとし、この耐熱性担体と断
熱材との隙間13から酸素ガスを供給して空気による冷却
効果を抑えるようにすればよいが、これについては断熱
材と目的とする合成石英ガラス外周面との間隔を30〜10
0mm とすることがよい。
【００１４】これは断熱材と合成石英ガラス外周面との
間隔が30mm未満ではシリカ粉が断熱材内面に付着し易く
なるし、反応室３の中に浮遊しているシリカ粉が成長面
に付着して泡となり易く、成長が困難になるし、100mm
を越えると断熱効果が低くなって温度分布が均一になら
なくなるからであるが、これを30〜100mm の範囲とすれ
ば断熱効果もよくなり、成長部の温度分布が均一とな
り、これによれば成長溶融面における時間的温度変化が
図２のａ）に示したように±20℃以下となるので図２の
ｂ）に示したように脈理フリ−の合成石英ガラス部材を
得ることができるという有利性が与えられる。
間隔が30mm未満ではシリカ粉が断熱材内面に付着し易く
なるし、反応室３の中に浮遊しているシリカ粉が成長面
に付着して泡となり易く、成長が困難になるし、100mm
を越えると断熱効果が低くなって温度分布が均一になら
なくなるからであるが、これを30〜100mm の範囲とすれ
ば断熱効果もよくなり、成長部の温度分布が均一とな
り、これによれば成長溶融面における時間的温度変化が
図２のａ）に示したように±20℃以下となるので図２の
ｂ）に示したように脈理フリ−の合成石英ガラス部材を
得ることができるという有利性が与えられる。
【００１５】なお、合成石英ガラスの均質性をよくする
ために断熱材内面と石英ガラス外周面との間隔を狭くす
ることがよいことは上記したとおりであるが、これには
石英ガラス層におけるSiO2の成長厚みを薄くすることが
よいので、これについては耐熱性担体を径の大きいもの
とすることもよい。
ために断熱材内面と石英ガラス外周面との間隔を狭くす
ることがよいことは上記したとおりであるが、これには
石英ガラス層におけるSiO2の成長厚みを薄くすることが
よいので、これについては耐熱性担体を径の大きいもの
とすることもよい。
【００１６】このようにして得られた脈理フリ−の合成
石英ガラス部材は、△n が≦５×10-6、特には２×10-6
を示し、複屈折率も５nm/cm 以下で水素分子含有量が５
×1016molecules/cm3 以上となるので、紫外線用のレン
ズ素材として有用とされる。
石英ガラス部材は、△n が≦５×10-6、特には２×10-6
を示し、複屈折率も５nm/cm 以下で水素分子含有量が５
×1016molecules/cm3 以上となるので、紫外線用のレン
ズ素材として有用とされる。
【００１７】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげるが、
例中における表面温度測定は赤外線放射温度計で、また
脈理検出は歪計およびレ−ザ−干渉部(Zygo 社製) を用
いて測定したものである。
例中における表面温度測定は赤外線放射温度計で、また
脈理検出は歪計およびレ−ザ−干渉部(Zygo 社製) を用
いて測定したものである。
【００１８】実施例１〜２、比較例１〜２ 図１で示した装置を使用し、このバ−ナ−に四塩化けい
素５kg／時、酸素ガス12Nm3 ／時、水素ガスを30Nm3 ／
時を供給して着火し、これをムライト製の断熱材で囲ま
れた直径 150mmφの石英ガラス製の担体に吹きつけ、10
0rpmで回転しているこの担体上に四塩化けい素の火炎加
水分解で発生した合成シリカ微粒子を堆積すると同時に
溶融ガラス化して200mm φ×500mmLの合成石英ガラス棒
を作った。
素５kg／時、酸素ガス12Nm3 ／時、水素ガスを30Nm3 ／
時を供給して着火し、これをムライト製の断熱材で囲ま
れた直径 150mmφの石英ガラス製の担体に吹きつけ、10
0rpmで回転しているこの担体上に四塩化けい素の火炎加
水分解で発生した合成シリカ微粒子を堆積すると同時に
溶融ガラス化して200mm φ×500mmLの合成石英ガラス棒
を作った。
【００１９】なお、この場合、実施例１，２では断熱材
とバ−ナ−との隙間から酸素ガスを５Nm3/時で供給した
が、比較例では酸素供給を行なわず、これはその隙間か
ら空気が吸引されるようにしたし、実施例においては断
熱材内面と合成石英ガラス外周面との間隔を40mm（実施
例１）、80mm（実施例２）としたが、比較例ではこの間
隔を20mm（比較例１）、150mm （比較例２）としたとこ
ろ、成長溶融面の表面温度変化、成長方向面での脈理の
有無、△n 、複屈折率、水素分子含有量について表１に
示したとおりの結果が得られた。
とバ−ナ−との隙間から酸素ガスを５Nm3/時で供給した
が、比較例では酸素供給を行なわず、これはその隙間か
ら空気が吸引されるようにしたし、実施例においては断
熱材内面と合成石英ガラス外周面との間隔を40mm（実施
例１）、80mm（実施例２）としたが、比較例ではこの間
隔を20mm（比較例１）、150mm （比較例２）としたとこ
ろ、成長溶融面の表面温度変化、成長方向面での脈理の
有無、△n 、複屈折率、水素分子含有量について表１に
示したとおりの結果が得られた。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】本発明は合成石英ガラス部材の製造方法
に関するものであり、これは前記したように原料けい素
化合物を火炎加水分解させて得た合成シリカ微粒子を回
転している耐熱性担体上に堆積すると同時に溶融ガラス
化して合成石英ガラスを製造する方法において、合成シ
リカ微粒子を耐熱性担体に堆積すると同時に溶融ガラス
化し、その成長溶融面の時間的温度変化を±10℃以下と
することを特徴とするものであるが、これによればガラ
ス構造の変化が抑えられるので三方向で脈理フリ−で、
△n が≦５×10-6であり、水素分子含有量が５×1016(m
olecules/cm3) 以上であることから紫外線用レンズ素材
として有用とされる合成石英ガラス部材を得ることがで
きるという有利性が与えられる。
に関するものであり、これは前記したように原料けい素
化合物を火炎加水分解させて得た合成シリカ微粒子を回
転している耐熱性担体上に堆積すると同時に溶融ガラス
化して合成石英ガラスを製造する方法において、合成シ
リカ微粒子を耐熱性担体に堆積すると同時に溶融ガラス
化し、その成長溶融面の時間的温度変化を±10℃以下と
することを特徴とするものであるが、これによればガラ
ス構造の変化が抑えられるので三方向で脈理フリ−で、
△n が≦５×10-6であり、水素分子含有量が５×1016(m
olecules/cm3) 以上であることから紫外線用レンズ素材
として有用とされる合成石英ガラス部材を得ることがで
きるという有利性が与えられる。
【図１】本発明による合成石英ガラス部材製造装置の縦
断面図を示したものである。
断面図を示したものである。
【図２】ａ）は本発明によリ得られた合成石英ガラス部
材の成長溶融面の温度変化図、ｂ）はこの合成石英ガラ
ス部材の脈理図を示したものである。
材の成長溶融面の温度変化図、ｂ）はこの合成石英ガラ
ス部材の脈理図を示したものである。
【図３】ａ）は比較例で得られた合成石英ガラス部材の
成長溶融面の温度変化図、ｂ）はこの合成石英ガラス部
材の脈理図を示したものである。
成長溶融面の温度変化図、ｂ）はこの合成石英ガラス部
材の脈理図を示したものである。
１・・・耐熱性担体 ２・・・断熱材 ３・・・反応室 ４・・・酸水素火炎
バ−ナ− ５・・ 酸水素火炎 ６・・・けい素化合
物供給口 ７・・・酸素ガス供給口 ８・・・水素ガス供
給口 ９・・・合成石英ガラス棒 １０・・・のぞき窓 １１・・・放射温度計 １２・・・排ガスブ
ロワ− １３・・・酸素ガス供給口
バ−ナ− ５・・ 酸水素火炎 ６・・・けい素化合
物供給口 ７・・・酸素ガス供給口 ８・・・水素ガス供
給口 ９・・・合成石英ガラス棒 １０・・・のぞき窓 １１・・・放射温度計 １２・・・排ガスブ
ロワ− １３・・・酸素ガス供給口
Claims (4)
- 【請求項１】原料けい素化合物を火炎加水分解させて得
た合成シリカ微粒子を回転している耐熱性担体上に堆積
すると同時に溶融ガラス化して合成石英ガラスを製造す
る方法において、合成シリカ微粒子を耐熱性担体上に堆
積すると同時に溶融ガラス化し、その成長溶融面の時間
的温度変化を±20℃以下とすることを特徴とする合成石
英ガラス部材の製造方法。 - 【請求項２】合成石英ガラス部材が三方向脈理フリ−で
△n が≦５×10-6であり、水素分子含有量が５×1016(m
olecules/cm3) 以上のレンズ素材である請求項１に記載
した合成石英ガラス部材の製造方法。 - 【請求項３】耐熱性担体を周囲を断熱材で囲まれたもの
とし、この断熱材と火炎を形成する火炎形成器との隙間
から酸素を導入するようにしてなる請求項１に記載した
合成石英ガラス部材の製造方法。 - 【請求項４】断熱材の材質が石英ガラス、ムライトまた
はジルコニアとされる請求項２に記載した合成石英ガラ
ス部材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3282256A JP2566349B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 合成石英ガラス部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3282256A JP2566349B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 合成石英ガラス部材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597452A JPH0597452A (ja) | 1993-04-20 |
| JP2566349B2 true JP2566349B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=17650086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3282256A Expired - Lifetime JP2566349B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 合成石英ガラス部材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2566349B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0850201B1 (en) * | 1995-09-12 | 2003-07-16 | Corning Incorporated | Containment vessel for producing fused silica glass |
| EP0850202B1 (en) * | 1995-09-12 | 2005-04-27 | Corning Incorporated | Boule oscillation patterns for producing fused silica glass |
| WO1997010182A1 (en) * | 1995-09-12 | 1997-03-20 | Corning Incorporated | Furnace, method of use, and optical product made by furnace in producing fused silica glass |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63282133A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-18 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラスの製造方法 |
| JPH0388742A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-04-15 | Shinetsu Sekiei Kk | 合成シリカガラス光学体及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3282256A patent/JP2566349B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS63282133A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-18 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラスの製造方法 |
| JPH0388742A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-04-15 | Shinetsu Sekiei Kk | 合成シリカガラス光学体及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0597452A (ja) | 1993-04-20 |
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