TWD187804S - Part of the substrate processing component - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計的物品是基板處理組件，為一種應用於半導體晶圓的製造，具有兩個處理空間，且具備：形成有分別連接在該兩個處理空間的氣體供給路及排氣路的真空處理室；和用以將基板分別保持在該真空處理室內的驅動式基板台的基板處理組件。於本物品中，如「使用狀態之參考圖」所示，在兩個真空處理室中央部配置複數個(參考圖中為四個)氣體導入閥，在該氣體導入閥的上游與各真空處理室連接的氣體配管，以及在該氣體導入閥的下游與氣體供給裝置連接的氣體配管是經由過濾器而連接。藉此就能均勻地將處理氣體供給到各真空處理室內。;【設計說明】;另外，使用狀態之參考圖，是在複數個氣體導入閥下方(前述過濾器的前方)配置蓋板之狀態的圖。;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
Description
本設計的物品是基板處理組件，為一種應用於半導體晶圓的製造，具有兩個處理空間，且具備：形成有分別連接在該兩個處理空間的氣體供給路及排氣路的真空處理室；和用以將基板分別保持在該真空處理室內的驅動式基板台的基板處理組件。於本物品中，如「使用狀態之參考圖」所示，在兩個真空處理室中央部配置複數個(參考圖中為四個)氣體導入閥，在該氣體導入閥的上游與各真空處理室連接的氣體配管，以及在該氣體導入閥的下游與氣體供給裝置連接的氣體配管是經由過濾器而連接。藉此就能均勻地將處理氣體供給到各真空處理室內。
另外，使用狀態之參考圖，是在複數個氣體導入閥下方(前述過濾器的前方)配置蓋板之狀態的圖。
圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
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