TWD187805S - Part of the substrate processing component - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計的物品是基板處理組件，為一種應用於半導體晶圓的製造，具有兩個處理空間，且具備：形成有分別連接在該兩個處理空間的氣體供給路及排氣路的真空處理室；和用以將基板分別保持在該真空處理室內的驅動式基板台的基板處理組件。於本物品中，如「使用狀態之參考圖」所示，在各真空處理室下部分別對稱地連接著同一尺寸的排氣配管，在該排氣配管的前端，係有用來將各真空處理室一起進行排氣的排氣線路中間室、以及在該排氣線路中間室用來將各真空處理室進行高真空及調壓的排氣裝置(調壓閥和渦輪分子幫浦)連接在一直線上。藉此，可儘量地減低各真空處理室內的壓力差，使其保持均勻。;【設計說明】;另外，使用狀態之參考圖，是在過濾器的前方配置蓋板之狀態的圖。;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
Description
本設計的物品是基板處理組件，為一種應用於半導體晶圓的製造，具有兩個處理空間，且具備：形成有分別連接在該兩個處理空間的氣體供給路及排氣路的真空處理室；和用以將基板分別保持在該真空處理室內的驅動式基板台的基板處理組件。於本物品中，如「使用狀態之參考圖」所示，在各真空處理室下部分別對稱地連接著同一尺寸的排氣配管，在該排氣配管的前端，係有用來將各真空處理室一起進行排氣的排氣線路中間室、以及在該排氣線路中間室用來將各真空處理室進行高真空及調壓的排氣裝置(調壓閥和渦輪分子幫浦)連接在一直線上。藉此，可儘量地減低各真空處理室內的壓力差，使其保持均勻。
另外，使用狀態之參考圖，是在過濾器的前方配置蓋板之狀態的圖。
圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
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