TW591121B - Anodic oxidizer and anodic oxidation method - Google Patents

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591121 0) 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明） 技術領域 本發明係關於一種以被處理基板作為陽極而進行電化學 處理之陽極氧化裝置及陽極氧化方法，特別是關於一種處 理之際適於進行光照射之陽極氧化的陽極氧化裝置及陽極 氧化方法。 背景技術 使被處理基板進行電化學陽極氧化之處理，係被利用於 各種情形。·如此之陽極氧化之一，係有使多結晶石夕層進行 多孔（多孔質）化之處理。若詳細其概要，多結晶矽層形成 於表面之被處理基板，係介由導電體而通電於電源之正電 位極，且，浸潰於已溶解在溶劑（例如乙醇）之氟酸溶液中 。氟酸溶液中亦即藥液中，係例如浸潰有自白金所構成之 電極，並通電於上述電源之負電位極。又，朝浸潰於藥液 之被處理基板的多結晶矽層藉燈具照射光。 藉此，多結晶矽層之一部分會溶於氟酸溶液中。其溶出 後，成為細孔，故矽層會多孔質化。又，以燈照射光係使 上述溶出而多孔質化之反應必需的電洞生成於多結晶矽層 。在如此之陽極氧化的多結晶碎層的反應，例如如以下般 說明僅供參考。

Si + 2HF + (2-n)e+—SiF2 + 2H+ + ne_

SiF2 + 2HF— SiF4 + H2 SiF4 + 2HF-> H2SiF6 此處，e+為電洞，匕為電子。亦即，此反應係前提上必須為 591121 (2) 發明說明續頁 電洞，且僅與電解研磨相異。 若於如此所生成之多孔矽的微小表面進一步形成矽氧化 層，適宜作為高效率之電場放射型電子源，例如已揭示於 特開2000-164115號公報、特開2000-100316號公報等。作為如此 之電場放射型電子源的多孔矽之利用，係廣泛實現於新的 平面型顯示裝置已備受矚目。 在上述光照射必須的陽極氧化處理中，若在用以照射光 之燈與被處理基板的被處理部之間，必定成為陽極電極的 位置。陽極電極之條件首先係為對被處理部均一地產生作 用，相對於被處理部之全面必須位置上到處對向。又，在 另一方面必須使以燈所發出之光通過被處理部。 因此，例如可使用一具備與被處理部的平面寬度同樣之 柵狀電極。藉此，陽極電極係相對於被處理部之全面而位 置上普遍存在，且，柵極之間使光通過而可使光到達被處 理部。 然而，儘管如何地呈栅狀構成電極，栅狀之電極的影子 亦會產生於被處理部上。因此，若更仔細地觀察，在被處 理部之光照射量於其面上並非均一，作為陽極氧化之均一 處理性會產生一定的限制。 發明之揭示 本發明係考量如此之事情而構成者，其目的在於提供一 種以被處理基板作為陽極而進行電化學處理之陽極氧化裝 置及陽極氧化方法，其係可對被處理基板之被處理部均一 地照射光，藉此可在被處理基板面内更均一地進行陽極氧 591121 (3) 發明說明續頁 化處之陽極氧化裝置及陽極氧化方法。 為解決上述課題，本發明之陽極氧化裝置，係包括：燈 具，其係可放射光；被處理基板保持部，其係設於前述所 放射之光可到達的位置上，並可保持被處理基板；陽極電 極，其係設於前述所放射之光可到達被處理基板之中途上 ，並具備可使光通過之開口部，具有不使光通過之導體部 :振動機構，其係使前述陽極電極、前述燈具或前述被處 理基板保持部之空間位置周期性振動（根據申請專利範圍第 1項）。 亦即，燈具、陽極電極、保持被處理基板之被處理基板 保持部的3者之大概位置關係仍然維持著，對於其等之中 的至少一者使其空間位置周期性振動。藉此，陽極電極之 影子係可在被處理基板上時間性分散。因此，陽極氧化步 驟所需之時間中對被處理基板上之各部分的光射照量係被 時間積分平均化，均一化。因而，可使陽極氧化處理在被 處理基板面内更均一化。 又，使燈具、陽極電極、保持被處理基板之被處理基板 保持部的任一者振動，係於設計裝置之上，可考慮成本或 各部之空間配置效率而決定。又，3者之配置關係係形成 上下方向以外，亦包含配置於從橫方向照射光之橫方向的 情形。進一步，光照射於被處理基板上係亦可經由反射、 折射等而導引者。又，「周期性振動」係意指在變位空間上 之軌跡不會從一定的範圍超出外面的周期性運動，亦包含 1次元、2次元、3次元之任一者運動。 591121 (4) 發明說明續頁 本發明之陽極氧化裝置，其特徵在於包括··被處理基板 保持部，其係可保持被處理基板；壁體，其係設於連接前 述所保持的被處理基板上，並形成上部開放之處理槽；處 理液供給部，其係可對前述處理槽供給處理液；燈具單元 ，其係設在對向於前述所保持的被處理基板，並可對前述 所保持的被處理基板放射光；陽極電極，其係設於前述所 保持的被處理基板與前述燈具單元之間，並具有可使光通 過之開口部；振動機構，其係可使前述陽極電極相對於前 述所保持之被處理基板振動（根據申請專利範圍第2項）。即 使藉由此構成亦可發揮與上述略相同之作用。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第丨或2 項之陽極氧化裝置，其中前述振動機構係使前述陽極電極 、前述燈具、前述燈具單元或前述被處理基板保持部相對 於前述所放射之光的放射方向在略垂直的平面上振動（根據 申請專利範圍第3項）。可使所產生之影子的位置在被處理 基板上隨時間變化。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第1或2 項之陽極氧化裝置，其中前述振動機構係使前述陽極電極 、前述燈具、前述燈具單元或前述被處理基板保持部相對 於前述所放射之光的放射方向在略平面的平面上振動（根據 申請專利範圍第4項）。可使所產生之影子的強弱圖案在被 處理基板上隨時間變化。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第3項之 陽極氧化裝置，其中前述振動係往返運動、圓周運動或橢 -10- 591121 (5) 發明說明續頁 圓運動（根據申請專利範圍第5項）。可藉更單純之機構產生 運動。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第4項之 陽極氧化裝置，其中前述振動係往返運動、圓周運動或橢 圓運動（根據申請專利範圍第6項〕。此亦_可藉更單純之機_構 產生運動。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第5項之 陽極氧化裝置，其中前述陽極電極係前述導體部具有封閉 點之正方栅體構造；前述圓周運動係以前述封閉點間之正 方距離約略一半的奇數倍作為半徑之前述陽極電極的圓周 運動（根據申請專利範圍第7項）。考慮封閉點之影子在被處 理基板上最濃，儘可能以免製作其影子依運動進行集中之 區域。亦即，若使圓運動之半徑作為封閉點間之正方距離 的約一半的偶數倍，封閉點係於相鄰的封閉點依其運動移 動，結果產生封閉點之影子的集中。 又，周期性振動之上述圓運動係相對於陽極氧化步驟所 需的時間而至少1周期結束之方式，若選擇周波數，其步 驟所產生之光照射量的大致平均化。因此，若1周期之整 數倍為完成陽極氧化步驟所需的時間，可得到平均化之效 果，但，若其整數變大，正好為整數之意義係相對地變小 ，與實數倍的情形幾乎不變。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第5項之 陽極氧化裝置，其中前述陽極電極係前述導體部具有封閉 點之正方柵體構造；前述往返運動係以前述封閉點間之對 591121 (6) 發明說明續頁 角距離的約略一半的奇數倍作為振幅，且成為前述對角距 離方向之前述陽極電極的往返運動（根據申請專利範圍第8 項）。此亦封閉點之影子在被處理基板上會最濃，儘可能不 製作其影子隨運動集中之點。 又，周期性振動之上述往返運動係相對於陽極氧化步驟 所需之時間而至少從振幅方向之最大至最小的半周期結束 之方式，若選擇周波數，其步騾所產生之光照射量最大致 平均化。因此，若上述半周期之整數倍為結束陽極氧化步 驟所需的時間，可得到平均化之效果，但，若其整數變大 ，正好為整數之意義係相對地變小，與實數倍的情形幾乎 不變。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第5項之 陽極氧化裝置，其中前述陽極電極係前述導體部具有封閉 點之長方柵體構造；前述橢圓運動係以前述封閉點間之長 邊距離的約略一半的奇數倍作為長徑、且以前述封閉點間 之短邊距離的約略一半的奇數倍作為短徑之前述陽極電極 的橢圓運動（根據申請專利範圍第9項）。此亦封閉點之影子 在被處理基板上會最濃，儘可能不製作其影子隨運動集中 之點。 又，此情形下，周期性振動之上述橢圓運動係相對於陽 極氧化步騾所需之時間而至少1周期結束之方式，若選擇 周波數，其步驟所產生之光照射量大致平均化。因此，若 1周期之整數倍為結束陽極氧化步驟所需的時間，可得到 平均化之效果，但若其整數變大，正好為整數的意義係相 12 591121 ⑺ 發明說明續頁 對地變小，與實數倍的情形幾乎不變。 又，本發明之較佳實施態樣，根據申請專利範圍第6項之 陽極氧化裝置，其中前述陽極電極係具有約略平行於前述 所放射之光的放射方向主面之板狀體的集合（根據申請專利 範圍第10項）。約略平行於光之放射方向之板狀體主面，減 少角度，使光入射，反射，以增加很難製作影子之效果。 本發明之陽極氧化方法，其特徵在於包括如下步驟：使 被處理基板保持於被處理基板保持部；使前述所保持的被 處理基板的被處理部與陽極電極接觸於藥液；在已接觸於 前述藥液之前述被處理部與前述陽極電極之間驅動電流； 以燈具對已接觸於前述藥液之前述被處理部照射光；使已 接觸於前述藥液之前述陽極電極、或在其狀態中之前述被 處理基板保持部或前述燈具的空間位置周期性振動。 又，本發明之陽極氧化方法，其特徵在於：對已接觸於 處理液之被處理基板照射光，配置於與前述被處理基板對 向設置之燈具單元與前述被處理基板之間，並能使具有通 過光之開口部的陽極電極與前述被處理基板相對地振動。 亦即’燈具、陽極電極、保持被處理基板之被處理基板 保持部的3者之大概位置關係仍然維持著，對於其等之中 的至少一者使其空間位置周期性振動。藉此，陽極電極之 影子係可在被處理基板上隨時間性分散。因此，陽極氧化 步驟所需之時間中對被處理基板上之各部分的光射照量係 被時間積分平均化，均一化。因而，可使陽極氧化處理在 被處理基板面内更均一化。 -13 - 591121 ⑻ 發明說明續頁 又，「在已接觸於前述藥液之前述被處理部與前述陽極 電極之間驅動電流的步騾」、「以燈具對已接觸於前述藥液 之前述被處理部照射光的步驟」、與「使已接觸於前述藥液 之前述陽極電極、或在其狀態中之前述被處理基板保持部 或前述燈具的空間位置周期性振動的步驟」，係不須依如 此之順序，而為進行之時間帶可重疊之步騾。

又，若使前述陽極電極在與前述被處理基板之面平行的 面内振動，已如前述般，所產生之影子的位置在被處理基 板上隨時間改變，對被處理基板上之各部分的光照射量係 被時間積分平均化。 圖式之簡單說明 圖1係模式性表示本發明之一實施形態的陽極氧化裝置的 正面圖 。 圖2係圖1中所示之陽極電極13的平面圖。

圖3係表示圖1中所示之陽極電極振動機構19的主要部分 平面圖。 圖4係表示圖1中所示之陽極電極13的另一例的平面圖。 圖5係可將圖4所示之陽極電極131使用於適用在圖1所示 之陽極氧化裝置的情形，表示其陽極電極振動機構19的主 要部分平面圖。 圖6A、圖6B係圖1中所示之陽極電極13的再另一例，其平 面圖（圖6A)及正面圖（圖6B)。 圖7係圖1所示之陽極氧化裝置的動作流程圖。 用以實施發明之最佳形態 -14- 591121 (9) 發明說明續頁 若依本發明，直接維持燈具、陽極電極、保持被處理基 板之被處理基板保持部的3者之大概位置關係，對於此等 之中的至少一個，使其空間位置周期性振動。藉此，陽極 電極之影子係於被處理基板上時間性分散，故，陽極氧化 步騾所需之時間中的被處理基板上於各部分之光照射量係 被時間積分地平均化，並均一化。因而，可使陽極氧化處 理於被處理基板面内更均一。

以下，一面參照圖面一面說明本發明之實施形態。 圖1係模式性表示本發明之一實施形態的陽極氧化裝置之 正面圖。如同圖所示般，此陽極氧化裝置係具備：架台11 、陽極電極13、壁部15、具有複數燈具17之燈具單元16、燈 具單元支撐構件18、陽極電極振動機構19、陽極電極振動 機構支撐構件20。

在作為被處理基板保持部之架台11上，係載置保持被處 理基板12 (上面為被處理部），包圍水平方向四方之壁部15 被設置於架台if及被處理基板12的周緣上。壁部15之此設 置係於架台11上載置保持被處理基板12後，例如從其上方 使壁部15下降。又，於陽極氧化處理時以被處理基板12作 為底部而於壁部15内充填藥液（處理液）14，故，在壁部15與 被處理基板12之接觸部位呈周狀般設有彌封構件（未圖示） 。進一步，在被處理基板12之被處理部當陽極氧化處理時 用以供給電氣之導體（未圖示）被設於上述彌封構件的周外 側0 藉由以被處理基板.12作為底部而於壁部15内充填藥液14俾 -15 - 591121 (ίο) 發明說明續頁 形成處理槽。對處理層供給藥液係可藉由例如於處理層内 設置供給管（未圖示）或貫通壁部15之供給路（未圖示）等來進 行。在處理槽内係以陽極電極13浸潰於藥液14之方式且對 向設置於被處理基板12。陽極電極13係吊設於陽極電極振 動機構19，且，藉陽極電極振動機構19使之在水平面内圓 周運動。有關陽極電極13之水平構成敘述於後。 陽極電極振動機構19係藉陽極電極振動機構支撐構件20 固定於壁部15。有關陽極電極振動機構19内的主要構成敘 述於後。 隔著被處理基板12之陽極電極13設有燈具單元16，其照射 光線係通過陽極電極13的開口部而約略垂直方向地入射於 被處理基板12。燈具單元16係藉燈具單元支撐構件18固定 於壁部15。 又，此實施形態如上述般係已載置保持被處理基板12之 架台11、陽極電極13、燈具單元17的3者中，使陽極電極13 振動。藉此，以_燈具單元16所造成的陽極電極13之影子係 於被處理基板12上隨時間分散。因此，陽極氧化步騾所需 求之時間中的被處理基板12上對各部分之光照射量係被時 間積分地平均化、均一化。因而，可使陽極氧化處理在被 處理基板面内更均一化。 圖2係圖1中所示之陽極電極13的平面圖。如圖2所示般， 此陽極電極係縱橫均呈節距a 1之柵狀構成，在縱橫之各交 差點存在封閉點13a，構成柵體之各線材間係使光通過的開 口部。此處，例如陽極電極13之材質係粗鉑，節距al為10 發 ⑴） 左右，構成柵體之線材 圖3係表_ π 才的粗細為〇·5 mm左右。 f、表不圖1中所示之 石 平面圖。如圖3所示般，在μ '極振動機構19的主要部分 陽極電核連結部32、…王要部分中存在：振動板3丨、 38、齒輪39、馬達4〇。 ” 36、振動銷％、37、定時皮帶 Μ ^ 39藉馬達40進行旋轉 齒輪36。她則定旋：轴二轉力藉定時皮帶38傳達至 的關枝 》 口如36 <偏心位罾固定担 關係，振動銷37係在平而 U置U疋振動銷37 板31的貫通孔。相對於此4形成圓丨，嵌合於設在振動 動。 貝通孔之孔面，…為自由滑 另外，齒輪34與振動蚀 關係相同，齒輪34係固…'關係係與齒輪％與振動銷37之 著，振動銷35係嵌合於：：：：位置且可自由旋轉地支撐 首、s 、叹在振動板31之另一嘗诵了丨 只通孔相對於孔面，振另，、通孔。於此 s, 、㊂35為自由滑動。又，止土人 、I其齒而亦未-設任何的力傳達要素。 •軏34係 動板㈣，處的陽極電極連接㈣ 由t成’若馬達⑽進行旋轉，齒輪“ir人 义時皮帶38而使嵩於1 A 專；丨 。蕤 去 "疋軺，振動銷37會進行圓周運 精此’振動板3i雖感應某種作用， 71運動 的限制，故伴隨齒！^34的,Μ 銷35產生 34同牛…：的狄轉。因此’成為齒輪％與齒相 V 〜果，振動平31會進行圓周運動。因而， 設於振動板31之陽極電極13亦在水平面内進行圓周運動 此處，若使來自齒輪34(36)之旋轉中心的振動銷％⑼之你 -17- 591121 (12) 發明說明續頁 心如圖tjt般為（al) / 2 ’ 1%極電極13之封閉點13a的位置不會與 相鄰之封閉點的位置重疊之方式進行圓周運動。因此，封 閉點13a之影子在被處理基板12上會變成最濃，而可儘可能 地避免製作其影子藉運動進行集中之區域。同樣地考量而 亦可使上述偏心量成為（al)/2之奇數倍。

又，在圖2中，係說明陽極電極13之柵體構造為正方柵體 構造，對應其，表示如圖3所示之陽極電極振動機構19的主 要部分構造，但，當陽極電極13之構造為長方柵體構造時 ，就影子之分散效率的意義，陽極電極振動機構19所產生 的運動宜為橢圓運動。

因此，即使使’圖3中之振動板31進行橢圓運動取代圓周運 動亦可。如此之其一方法認為例如如下者。首先，傾斜齒 輪36、34，在平面圖上看起來如橢圓般配置。此看似橢圓 係長轴為圖3之左右方向（或上下方向）。齒輪36 (34)與振動銷 37 (35)之關係，並非固定，在振動銷37(35)之底部振動銷 37 (35)呈自由旋琢地，且相對於齒輪側面（非齒輪的面）而倒 角為自由地支撐著。又，以振動銷37 (35)嵌合於振動板31之 角度維持垂直的方式於振動板31的貫通孔設置限制功能。 藉此，振動銷37 (35)係形成橢圓運動，故，可得到振動板 31之橢圓運動。因而，陽極電極13亦進行橢圓運動。又，當然 ，亦可利用一使用偏心凸輪等之周知橢圓運動機構。 陽極電極13之構造為長方柵體構造，當振動板31進行橢 圓運動時，考量封閉點13a之影子在被處理基板12上會最濃 ，而儘可能地避免製作其影子藉運動進行集中之區域，使 -18- 591121

發明說明續頁 封閉點間之長邊距離的略一半的奇數倍作為長徑，且使封 閉點間之短邊距離的略一半的奇數倍作為短徑的方式形成 橢圓運動即可。其理由係若考慮與相鄰之封閉點的距離， 與進行圓周運動的情形同樣地考量。

其次，取代圖2所示之陽極電極13，而參照圖4說明在圖1 所示之陽極氧化裝置可使用的陽極電極之另一例。圖4係 表示圖1中所示之陽極電極13的另一例平面圖。圖4所示之 陽極電極131係與圖2所示者同樣地具有正方柵體構造（節距 a2)，但，線材之設定角度傾斜45度。 即使在此情形下，使用如圖3所示之陽極電極振動機構， 可得到與圖2所示之陽極電極13同樣的效果。但，圖3所示 之偏心量（al)/2若為（a2)/2或其奇數倍，更佳。

又，如圖4所示之陽極電極131的情形，即使使陽極電極 131並非為圓周運動而為直線往返運動（圖上之上下方向， 或左右方向）亦可得到影子隨時間的分散效果。若朝此等方 向往返運動，而避免各線材之縱方向進行運動，故線材之 影子會隨時間移動。 圖5係將如圖4所示之陽極電極131適用於圖1所示之陽極 氧化裝置時可使用之陽極電極振動機構19的主要部分平面 圖。如圖5所示般，在此主要部分中存在：限制構件51、52 、振動板53、連結節54、連結銷55、56、馬達57、旋轉輪58 、陽極電極連結部32。 若馬達57進行旋轉，連接於此之旋轉輪58會旋轉，固定 於旋轉輪58之連結銷56會進行旋轉。連結銷56之旋轉藉連 -19- 591121 (14) 發明說明續頁 結節54，經由連結銷55而傳達至振動板53，使振動板53往返 運動。亦即，振動板53係藉限制構件51、52朝上下方向限 制著。從以上說明可知，此機構為一種活塞曲柄機構。 於振動板53係藉陽極電極連結部32吊設陽極電極131，故 藉振動板53之往返運動形成陽極電極131之往返運動。 此處，連結銷56之旋轉輪58上的偏心係如圖示般，若形 ： 成（/~2)(a2)/2，考量封閉點131a的影子在被處理基板12上成為 ' 最濃，而可儘可能地不製作其影子藉運動進行集中之區域 φ 。亦即，陽極電極131之封閉點131a的位置與相鄰之封閉點 位置不重疊的方式進行往返運動。同樣地考量，亦可使連 結銷56之旋轉輪58上的偏心形成（，2)(a2)/2的奇數倍。

在以上實施形態中，係說明相對於光之照射方向而在垂 直面内使陽極電極13運動，隨時間改變在被處理基板12上 所產生之影子的位置，但，亦可採用使陽極電極13相對於 光之照射方向在略平行的面内運動之方法。此情況下，在 被處理基板12上 >斤產生影子之強弱圖案會隨時間改變。因 而，比不使陽極電極13運動的情形，光之照射量更隨時間 平均化。 為對應於此，應使陽極電極13、131朝垂直方向運動，只 要使如圖3、圖5之陽極電極振動朝水平軸周圍旋轉90度而 設置即可。進一步亦可使陽極電極13、131相對於光之照射 方向在略垂直面内運動，且，相對於光之照射方向在略平 行的面内運動。此時，不使陽極電極振動19固定於壁部15 ，而若搭載於使陽極電極振動機構19本身之另一振動機構 -20- 591121 (15) 發明說明續頁 ，可實現此。 其次，取代圖2、圖4所示之陽極電極13、131而參照圖6A 、圖6B說明在圖1所示之陽極氧化裝置中可使用的陽極電 極的另一例。圖6A、圖6B係圖1中所示之陽極電極13的另一 例之平面圖（圖6 A)及正面圖。

圖6A、圖6B所示之陽極電極132係板狀體之集合，以在其 兩主面光朝略平行的方向通過之方式構成，為各板狀體之 間使光通過的開口部。此處，陽極電極132之材質為粗鉑， 板狀體之間的節距為10 mm左右，板狀體之鬲度為2 mm左右 ，其厚度為0.05乃至0.1 mm左右。

若依如此之陽極電極132，因原本具有光線之開口部的通 過為圖6B中所示般（亦即在板狀體之兩主面會產生光的反射） 之傾向，故很難產生陽極電極132之影子。（若再更正碓言 之，影子會產生分散）。使用如此之陽極電極132，進一步 ，若使陽極電極132朝上下方向往返運動或圓周運動，可增 大所產生之影子的隨時間性分散效果。 因而，陽極氧化步驟所需之時間中的被處理基板12上朝 各部分的光照射量會隨時間積分平均化、且均一化。藉此 ，可使陽極氧化處理在被處理基板面内更均一化。 又，為進行如此之陽極電極132的運動，只要於陽極電極 振動機構19設有圖3或圖5所示之運動機構即可，此時，陽 極電極132之運動成為垂直方向，故朝水平軸周圍傾斜90度 而設置。 其次，參照圖7而說明有關圖1所示之陽極氧化裝置的一 -21 - 591121 (16) 發明說明續頁 連_動作。圖7係表示圖1所示之陽極氧化裝置的動作流程 圖。 首先，在架台11與壁部15上下離開的狀態，於架台11上載 置被處理基板12，保持其載置狀態（步驟71)。被處理基板12 係被處理部朝向上方。於架台11上之載置亦可使用機械手 臂等之基板搬送機構。

其次，使壁部15下降而設置於架台11上及被處理基板12之 周緣部上。此時，如已敘述般，在被處理基板12之周緣與 壁部15之間要確定液體密封，且在其液體密封之部位的外 側係藉由被處理基板12之電極與導體形成電氣接觸。又， 藉由陽極電極振動機構19及燈具單元16被固定於壁體15， 此等位置相對於被處理基板12而被特定地設定。藉由此等 可形成處理槽（以上步驟72)。

其次，於所形成之處理槽充填藥液（步驟73 )。藉此，被 處理基板12之被處理部與陽極電極13成為接觸藥液之狀態 。藥液係例如以乙醇作為溶劑之氟酸溶液。為將藥液導入 處理槽，例如可於壁部15設有供給路，亦可將供結管插入 處理槽的上方。 然後，以陽極電極振動機構19使陽極電極13周期性振動 ，同時並使陽極氧化反應產生於被處理基板12 (步驟74)。 因此，在接觸於被處理基板12之電極的導體與陽極電極13 之間以電流源進行驅動，且，藉燈具單元16之燈具17照射 被處理基板12。此反應時間雖依存於溫度等之條件，但為 數秒。 -22- 591121 (17) 發明說明績頁

再者，使陽極電極13之周期性振動、接觸於被處理基板 12之電極的導體與陽極電極13之間的電流源驅動、以燈具 單元16之燈具17照射被處理基板12全部停止，排出藥液。 藥液之排出係即使藉由例如於壁部15設有排出路，亦可從 處理槽之上方插入排出管而吸出。藥液係因具有很強的腐 蝕性，故其後洗淨被處理基板12以及處理槽。為此之洗淨 係例如可藉由反覆對洗淨液之處理槽供給與排出來實施（以 上步驟75)。藉以上，可完成被處理基板12之一連串的陽極 氧化步驟。 在以上之實施形態中，係說明使陽極電極13、131、132周 期性振動的形態，但取而代之，或尚且，即使使燈具單元 16或架台11周期性振動，亦可藉影子之分散效果，而謀求 在陽極氧化處理之被處理基板12面上的均一性提昇。

為使燈具單元16周期性振動，例如只要使燈具單元16吊 設於如陽極電極振動機構19的機構即可。為使架台11周期 性振動，除使在"壁部15之燈具單元支撐構件18及陽極電極 振動機構支撐構件20的支撐開放外，尚使架台11、被處理 基板12、壁部15形成一體，而使之周期性運動即可。因此 ，亦即使如陽極電極振動機構19之機構設於架台11下即可。 產業上之利用可能性 本發明之陽極氧化裝置，係在製造用以生產顯示裝置之 裝置的產業中可進行製造，又，在顯示裝置之製造產業中 可使用。又，本發明之陽極氧化方法係在顯示裝置的製造 產業中可使用。因此，任一者均可利用於產業上。 -23 - 591121 圖 式代 表符 號說 明 11 架 台 13 陽 極 電 極 14 藥 液 15 壁 部 17 燈 具 16 燈 具 單 元 18 燈 具 單 元 支 撐 構 件 19 陽 極 電 極 振 動 機 構 20 陽 極 電 極 振 動 機 構支撐構件 12 被 處 理 基 板 31 振 動 板 32 陽 極 電 極 連 結 部 34 、36、 39 齒 輪 35 、37 振 動 銷 38 定 時 皮 帶 40 馬 達 13a 封 閉 點 51 、52 限 制 構 件 53 振 動 板 54 連 結 /r/r 即 55 、56 連 結 銷 57 馬 達 58 旋 轉 輪 發明說明續頁 -24- 591121 (19) 發明說明續頁 131a 封閉點 132 陽極電極 -25 -

Claims (1)

1. 591121 古灰. 〜·》rn*i... 一·…· . · . — --------------“，〜.外..，内,，仑 拾、申請專利範圍 1. 一種陽極氧化裝置，其特徵在於包括： 燈具，其係可放射光； 被處理基板保持部，其係設於前述所放射之光可到 達的位置上，並可保持被處理基板； 陽極電極，其係設於前述所放射之光可到達前述所 保持的被處理基板之中途上，並具備可使前述光通過 之開口部，具有不使前述光通過之導體部； 振動機構，其係使前述陽極電極、前述燈具或前述 被處理基板保持邵之2間位置周期性振動。 2. 一種陽極氧化裝置，其特徵在於包括： 被處理基板保持部，其係可保持被處理基板； 壁體，其係設於連接前述所保持的被處理基板上， 並形成上部開放之處理槽； 處理液供給部，其係可對前述處理槽供給處理液； 燈具單元，其係設在對向於前述所保持的被處理基 板，並可對前述所保持的被處理基板放射光； 陽極電極，其係設於前述所保持的被處理基板與前 述燈具單元之間，並具有可使光通過之開口部； 振動機構，其係可使前述陽極電極相對於前述所保 持之被處理基板振動。 3. 根據申請專利範圍第1或2項之陽極氧化裝置，其中前 述振動機構係使前述陽極電極、前述燈具、前述燈具 單元或前述被處理基板保持邵相對於前述所放射之光的 591121 申請專利範圍績頁 放射方向在略垂直的平面上振動。 4. 根據申請專利範圍第1或2項之陽極氧化裝置，其中前 述振動機構係使前述陽極電極、前述燈具、前述燈具 單元或前述被處理基板保持部相對於前述所放射之光 的放射方向在略平行的平面上振動。 5. 根據申請專利範圍第3項之陽極氧化裝置，其中前述振 動係往返運動、圓周運動或橢圓運動。 6. 根據申請專利範圍第4項之陽極氧化裝置，其中前述振 動係往返運動、圓周運動或橢圓運動。 7. 根據申請專利範圍第5項之陽極氧化裝置，其中前述陽 極電極係前述導體部具有封閉點之正方柵體構造； 前述圓周運動係以前述封閉點間之正方距離約略一 半的奇數倍作為半徑之前述陽極電極的圓周運動。 8. 根據申請專利範圍第5項之陽極氧化裝置，其中前述陽 極電極係前述導體部具有封閉點之正方栅體構造； 前述往返運動係以前述封閉點間之對角距離的約略 一半的奇數倍作為振幅，且成為前述對角距離方向之 前述陽極電極的往返運動。 9. 根據申請專利範圍第5項之陽極氧化裝置，其中前述陽 極電極係前述導體部具有封閉點之長方栅體構造； 前述橢圓運動係以前述封閉點間之長邊距離的約略 一半的奇數倍作為長徑、且以前述封閉點間之短邊距 離的約略一半的奇數倍作為短徑之前述陽極電極的橢 圓運動。 591121 申請專利範圍績頁 10根據申請專利範圍第6項之陽極氧化裝置，其中前述陽 極電極係具有約略平行於前述所放射之光的放射方向 主面之板狀體的集合。 11. 一種陽極氧化方法，其特徵在於包括如下步騾： 使被處理基板保持於被處理基板保持部； 使前述所保持的被處理基板的被處理部與陽極電極 接觸於藥液； 在已接觸於前述藥液之前述被處理邵與前述陽極電 極之間驅動電流； 以燈具對已接觸於前述藥液之前述被處理部照射光； 使已接觸於前述藥液之前述陽極電極、或在其狀態 中之前述被處理基板保持部或前述燈具的空間位置周 期性振動。 12. —種陽極氧化方法，其特徵在於：對已接觸於處理液 之被處理基板照射光，配置於與前述被處理基板對向 設置之燈具單元與前述被處理基板之間，並能使具有 通過光之開口部的陽極電極與前述被處理基板相對地 振動。 13. 根據申請專利範圍第12項之陽極氧化方法，其中使前述 陽極電極在與前述被處理基板之面平行的面内振動。