TW591116B - Improvements in coatings on substrates - Google Patents

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TW591116B
TW591116B TW089111509A TW89111509A TW591116B TW 591116 B TW591116 B TW 591116B TW 089111509 A TW089111509 A TW 089111509A TW 89111509 A TW89111509 A TW 89111509A TW 591116 B TW591116 B TW 591116B
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glass
photocatalytically active
coating
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TW089111509A
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Simon James Hurst
Johannes Andreas Mar Ammerlaan
Richard Joseph Mccurdy
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Pilkington Plc
Libbey Owens Ford Co
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Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591116 A7 --- B7 五、發明說明(1 ) 本發明係有關一種生產光催化活性塗覆基材之方法 ’特別地(但非獨有地),其係有關生產光催化活性塗覆玻 璃之方法及此等塗覆玻璃。 已知使具有一或多層之具有各種不同性質之薄塗覆 物沈積於基材(包含玻璃基材)。一感興趣之性質係光催化 活性’其係於半導體被特殊頻率之光線照射時半導體内 之孔洞-電子對之光產生而發生。孔洞-電子對可於陽光產 生且可於潮濕空氣中反應而於半導體表面上形成羥基及 過氧基。此等基氧化表面上之有機污物。此性質具有於 自行α為基材之應用’特別是於自行清潔窗戶之玻璃。 二氧化鈦可為有效率之光催化劑,且可被沈積於基 材上而形成具有光催化之自行清潔性質之透明塗層。I太 氧化物之光催化塗層被揭示於Ερ 〇 901 991 Α2、W0 97/07069、WO 97/10186、WO 98/41480、187屆電化學協 會會議之摘要735(Ren〇, NV,95-1,第1102頁)及新科學雜誌 (1995年8月26日,第19頁)。於WO 98/06675中,化學蒸氣 沈積方法被描述使用作為用以形成氧化鈦塗層之氧來源 之氣化鈦及有機化合物之先質氣體混合物以高沈積速率 使氧化鈦塗層沈積於熱的平玻璃上。 已被認為相對較厚之氧化鈦塗層需被沈積以提供良 好之光催化活性。例如,於WO 98/41480中,其陳述光催 化劑組成物之自行清潔塗層需足夠厚以提供可接受之活 性程度’且其較佳係此一塗層係至少約2〇〇埃,且更佳係 至少約500埃厚(於範例中產生之氧化鈦塗層之被測量厚度 ;^ ^^裝-----r---訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
乃丄116
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 皆係於400埃至21〇〇埃之範圍)。 但是’相對較厚之氧化鈦塗層之問題係高的可見光 反射,因此,相對較低之可見光透射。此問題於新科學 雜誌之有關塗覆窗屏之文獻中被認知,其間建議為降低 馬反射作用,遮蔽板需以暗絲絨或某些其它不會使光反 射於塗覆窗屏内之物料塗覆之。 上述之EP 〇 901 991A2係有關具特殊結晶結構之氧化 鈦塗層之光催化玻璃片,其特徵在於其1射線繞射圖案 中之特殊波峰之存在。此說明書考量塗層厚度範圍(於特 殊範例中,所有者皆具有2〇nm至I35nm之範圍,較薄之 塗層係比較厚之塗層具較小之光催化活性)。此說明書亦 考量沈積溫度之範圍,其係自低至30(rc至高至75(rc, 但較佳溫度範圍係4〇〇。〇至6〇〇。〇,且於該發明之所有特 殊範圍中,二氧化鈦層係於此較佳範圍内或低於此範圍 沈積。 申請人現發現藉由於更高溫度(特別是高於60(rc )沈 積二氧化鈦塗層,其能達成對指定厚度具促進之光催化 活性之塗層,能以較薄塗層達成相同之光催化性能。此 一較薄之塗層易於有利地具有較低之可見光反射,且明 顯地因其較南沈積溫度之結果,改良耐久性,特別是磨 耗性及於潮濕氛圍中之溫度循環。 因此,本發明提供一種製備光催化活性塗覆基材之 方法,其包含藉由使基材表面與包含鈦來源及氧來源之 流體混合物接觸使鈦氧化物塗層沈積於基材表面上,該 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) _裝-----r---訂---------線赢 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591116 A7 _______ B7 五、發明說明(3 ) 基材係至少600°C之溫度,藉此,基材之塗覆表面具有大 於5 X 1〇·3公分_ι分-1之光催化活性及於塗覆側上測得之 35%或更低之可見光反射。 較佳者,基材係625°C至720°C範圍之溫度,更佳者 ’基材係645°C至720°C範圍之溫度。 有利地’流體混合物包含作為鈦來源之氯化鈦及非 甲基酯之酯。因此,於較佳實施例中,本發明提供一種 製備光催化活性塗覆基材之方法,其包含藉由使基材表 面與包含氣化鈦及非甲基酯之酯之流體混合物接觸使具 有少於40nm厚度之鈦氧化物塗層沈積於基材上。 本發明可於其間基材表面與流體混合物係於基材係 於600°C至750°C範圍時接觸而實施。 較佳者’酯係具有具/3氫之烷基之烷基酯(烷基酯之 烧基係於酯之合成中之醇衍生之基團,且石氫係結合至 結合S旨内之醚鍵結之氧之碳原子々之氫)。較佳者,酯係 羧酸酯。 適合之醚可為具有<:2至(:1()烷基之烷基酯,但較佳者 ,酯係具有c2至c4烷基之烷基酯。 較佳者’ S旨係具下述化學式之化合物: R-C(0)-0-C(X)(X’)-C(Y)(Y’)-R’,其中 R及 R’表示氫 或炫基,X、X’、Y及Y,表示單價取代基,較佳係烷基或 氫原子,且其中Y及Y’之至少一者表示氫。 可被用於本發明方法中之適當酯包含:曱酸乙酯、 乙酸乙酯、丙酸乙酯、丁酸乙酯、甲酸正丙酯、乙酸正 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------^-----^----訂---------線 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 591116 A7 -----SI______ 五、發明說明(4 ) 丙酯、丙酸正丙酯、丁酸正丙酯、甲酸異丙酯、乙酸異 丙酯、丙酸異丙酯、丁酸異丙酯、甲酸正丁酯、乙酸正 丁酯及乙酸第三丁酯。 ^交佳者,酉旨係包含乙基醋,更佳者,醋係包含甲酸 甲酯、乙酸乙酯或丙酸乙酯。最佳者,酯係包含乙酸乙 酉I 05 /爪體此合物可為液體形式,特別是以細微喷霧分散( 一般稱為噴m沈積之方法),但較佳者,㈣混合物係一 種氣體混合物。使用作為先質之氣體混合物施行之沈積 方法般係稱為化學蒸氣沈積(CVD)。CVD之較佳形式係 層合流CVD,即使紊流CVD亦可被使用。 此方法可於各種不同尺寸之基材上施行,包含於片 狀基材上,特別是於玻璃切片上,或較佳者係於連續玻 璃帶上之浮式玻璃生產方法期間於線上施行。因此,較 佳者,此方法係於浮式玻璃生產方法期間之線上施行, 且基材係玻璃帶。若此方法係於線上施行,其較佳係於 玻璃帶上施行,而其係於浮浴内。 於線上施行此方法之優點係線上沈積之塗層易呈耐 用性,特別是具有良好之抗磨耗及抗化學性。 線上沈積方法係較佳,且其它沈積方法可於實質上 為大氣壓時施行。 於特別佳之實施例中,其提供一種製備耐久性之光 催化活性之塗覆玻璃之方法,其包含藉由使基材表面與 含有鈦來源之流體混合物接觸而於玻璃基材上沈積光 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼ -----^---—訂------I I 1 ,^^^1 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中_家標準(CNS)A4規彳i (21G x 297公爱) .— 591116
五、發明說明(5 ) 化活性之氧化鈦層,該基材係於645 °C至720 °C之溫度範 圍’較佳係於670°C至720°C之溫度範。 如上所示,申請人已發現藉由於高溫時沈積氧化鈦 ’對於其厚度之相對較高之光催化活性之塗層可被製得 ’且因降低厚度之塗層易於具有較低之反射,本發明亦 提供具有高光催化活性及溫和或低光反射之優良結合之 新穎產物。 因此,本發明於另一方面係提供一種光催化活性之 塗覆基材,其係包含於其一表面上之光催化活性之氧化 鈦塗層’其特徵在於該基材之被塗覆表面具有大於5 X 1〇_ 公分1分1之光催化活性,且被塗覆之基材具有於塗覆側 上測得之35%或更低之可見光反射。 高光催化活性係有利的,因為光催化活性塗覆基材 之塗覆表面上之污染物(包含污穢物)之量會比具有相對較 低光催化活性之基材上更快速被降低。再者,相對較快 移除表面污染物易於低含量紫外線線強度時產生。 本案說明書之目的之光催化活性係藉由測量於塗覆 基材表面及351nm波峰波長時藉由具約32 W/m2強度之來 自紫外線燈之紫外線照射下之相對應於於塗覆基材上產 生之硬脂酸薄膜之C-H拉伸之紅外線吸收波峰之積分吸收 量之減少速率而決定。硬脂酸可藉由如下所述之於甲醇 内旋轉鑄製硬脂酸溶液而於塗覆基材上形成。 較佳者,基材之塗覆表面具有大於1 X 1〇·2公分-1分-1 之光催化活性,更佳者係大於3 X 10·2公分」分-1。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -----..----訂-------- 線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591116
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 低可見光反射係有利的,因為其比高反射更不易分 散、’,特別是對玻璃基材,低可見光反射係相對應於高可 見光透射,其一般係於建築及特別是汽車之玻璃應用中 所必需的。 較佳者,塗覆基材具有於塗覆側上測得之20%或更低 之可見光反射,更佳係17%或更低,且最佳係15%或更低 於本發明之最佳貫施例中,基材係實質上透明,且 於本發明之較佳實施例中,基材係包含玻璃基材。一般 ’玻璃基材係鹼石灰玻璃基材。 右基材係驗石灰玻璃基材或含其它驗金屬離子之基 材,塗覆基材較佳係於基材表面及光催化活性氧化鈦塗 層間具有鹼金屬離子阻斷底層。此降低鹼金屬離子自基 材移入光催化活性氧化鈦塗層内之趨勢,其係有利的, 因為鹼金屬離子毐化半導體氧化物塗層、降低其活性之 趨勢。 驗金屬離子阻斷底層可包含金屬氧化物,但較佳者 ,鹼金屬離子阻斷底層係一層氧化矽。氧化矽可為矽石 ,但無需為化學計量且可包含雜質,諸如碳(一般稱為矽 氧碳化物,且以GB 2,199,848B所述者沈積)或氮(一般稱 為石夕氧氮化物)。 有利者係鹼金屬離子阻斷底層係薄到使其對塗層之 光學性質不具顯著作用’特別是藉由降低透明塗覆基材 之透明性或造成反射或透射之干擾色。適當厚度範圍係 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 9 .^·裝-----r---訂---------線®-· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以丄16 A7 B7 _ 五、發明說明(7 ) 依用以形成驗金屬離子阻斷底層之物料之性質而定(特別 疋其反射扣數),但一般,鹼金屬離子阻斷底層具有少於 60nm之厚度,且較佳係具有少於4〇nm之厚度。當存在時 ,鹼金屬離子阻斷底層需足夠厚以降低或阻斷鹼金屬離 子自玻璃移入氧化鈦塗層内。 本發明之一優點係光催化活性之氧化鈦塗層係薄(有 助於塗覆基材之低可見光反射),但、塗覆基材仍具有優異 之光催化活性。較佳者,氧化鈦塗層具有3〇nm*更底之 厚度,更佳者,氧化鈦塗層具有2〇nm或更底之厚度,且 最佳者氧化鈦塗層具有2nm至約20nm範圍内之厚度。 本發明亦因沈積薄氧化鈦塗層需較少之先質且層狀 物可以相對較短時間沈積而變得有利。薄的氧化鈦塗層 亦較不可能造成反射或透射之干擾顏色。但是,特別之 優點係薄氧化鈦塗層之可見光反射係低的,其於塗覆基 材係被塗覆之玻璃時特別重要。一般,塗覆玻璃之所需 可見光透射係決定氧化鈦塗層之厚度。 較佳者,基材之被塗覆表面具有20。或更低之靜電水 接觸角。新製得或清理過之玻璃具有親水性表面(靜電水 接觸角低於約40。表示親水性表面),但有機污染物快速 附著至表面,增加接觸角。本發明之塗覆基材(特別是塗 覆玻璃)之特別益處係即使塗覆表面被污染,藉由正確波 長之紫外線照射塗覆表面會藉由降低或破壞此等污染物 而降低接觸角度。進一步之優點係水會擴散於低接觸角 表面’降低表面上之水滴(例如,雨)之分散作用,且易於 本紙張尺度適用A4規格⑵0 χ 297疋 10 , ^ r---^---------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591116
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;掉任何尚未藉由表面之光催化活性破壞之污物或其它 污染物。靜電水接觸角係玻璃表面上之水滴凸面對向之 角,且可以已知方式藉由測量玻璃表面上已知體積之水 滴直徑而決定,且使用重複程序計算。 較佳者,塗覆表面具有1 %或更低之混濁度,其係有 利的’因為此能清浙地經透明之塗覆基材觀看。 於較佳實施例中,基材之塗覆表面係耐磨耗,如此 ,塗覆表面於接受300次歐洲標準磨耗測試後保持光催化 活性。較佳者,塗覆表面接受接受5〇〇次歐洲標準磨耗測 試後保持光催化活性,更佳者,塗覆表面接受接受ι〇〇〇 次歐洲標準磨耗測試後保持光催化活性。 此係有利的,因為本發明之自行清潔塗覆基材一般 係與曝露於戶外之塗覆表面使用之(例如,具玻璃之塗覆 表面之塗覆玻璃,其可作為窗戶外表面),其間塗層係易 受磨耗供擊者。 歐洲標準磨耗測試係指歐洲標準BS EN 1096第2部份 (1999)所述之磨耗測試,且包含毛熟墊以固定速率及壓力 於樣品表面上往復作用。 於本案說明書中,若於接受歐洲磨耗測試後藉由紫 外線之照射(例如,波峰波長35lnm)使靜電水接觸角降至 低於15。時塗覆基材被認為係保持光催化活性。於塗覆基 材磨耗後達成此接觸角一般係於塗覆基材表面以約32 W/m2之強度照射少於48小時。 較佳者,於接受歐洲標準磨耗測試後之塗覆基材之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱)
,.·裝-----Γ---訂---------線®-· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591116 A7 --------- B7 五 、發明說明(9 ) 濁度係2 %或更低。 依據本發明之耐用塗覆基材可係對濕度循環(其係對 風化具相同作用)係具耐用性。因此,於本發明較佳實施 例中’基材之塗覆表面對濕氣循環係具耐用性,如此, 於塗覆基材接受200次循環之濕氣循環測試後塗覆表面保 持光催化活性。於本發明說明書中,濕氣循環測試係指 其間塗層於淨100%相對濕度接受35t:至75t:至35它之溫 度循環之測試。若測試後藉由紫外線之照射使靜電水接 觸角降至低於15 °C時,塗覆基材被認為保持光催化活性 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於更佳之實施例中,本發明提供一種耐用性之光催 化活性之塗覆玻璃,其包含於其一表面上具有塗層之玻 璃基材,該塗層包含鹼金屬離子阻斷底層及光催化活性 氧化鈦層,其中該基材之該塗覆表面係對磨耗具耐用性 ,如此塗覆表面於接受300次歐洲標準磨耗測試後保持光 催化活性。於此實施例中,塗覆玻璃較佳係具有於塗覆 侧上測量之可見光反射係35%或更低,且光催化活性氧化 鈦層較佳係具有3〇nm或更低之厚度。薄塗層對於磨耗係 具耐用性’其係驚人的,因為先前係認為僅有相對較厚 之塗層能具有良好之耐用性。 於進-步之實施例中’本發明提供一種塗覆玻璃, 包含具有於其-表面上之絲化活性氧化鈦塗層之玻璃 基材,其特徵在於該玻璃之塗覆表面具有大於4 χ ι〇_2公 分-1分“之光催化活性,較佳係大於6 χ 1〇·2公分.1 且 州116 A7 ’ 一^ -----B7 _ 五、發明說明(10 ) 更佳係大於8χ10·2公分-1分-1,及該塗覆玻璃具有於塗覆側 上測1之可光光反射係少於2 〇 %。 依據本發明之塗覆基材具有許多領域之使用性,例 如’作為窗戶之鑲嵌玻璃,其包含數個鑲嵌玻璃玻璃單 元’其包含與第二鑲嵌玻璃片呈間隔相對關係之塗覆基 材之第一鑲嵌玻璃片,或當塗覆基材係塗覆玻璃時,如 包含第一玻璃疊層之塗覆玻璃、聚合物中間層(例如,聚 乙烯基縮丁醛)及第二玻璃疊層。 除用於自行清潔之基材(特別是用於窗戶之自行清潔 之玻璃)外’本發明之塗覆基材亦可用於降低大氣中之污 染物之濃度。例如,於紫外線波長(包含存在於太陽光之 紫外線波長)之光照射下之塗覆玻璃會破壞大氣中之污染 物’例如’氧化氮、臭氧及有機污染物,其係被吸附於 玻璃之塗覆表面上。此使用於房屋櫛比相連之區域(例如 ’市街)之空曠處係特別有利,其間有機污染物之濃度可 能相對較高(特別是於強烈日光時),但其間玻璃之可獲得 之表面積亦係相對較高。另外,塗覆玻璃(於内側上具有 塗覆表面)可被用以降低建築物内之大氣污染物之濃度, 特別是具有相對較高濃度之大氣污染物之辦公室建築内 〇 本發明藉由下列圖示例示說明,但非以此限制。 第1圖係依據本發明方法製得之塗覆玻璃之光催化活 性(其係氧化鈦層厚度之函數)之作圖。 第2圖例示依據本發明之塗層之線上化學蒸氣沈積之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) ▼裝-----^----訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 13 ^1116 ^1116 五、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明(11 裝置。 於弟1圖中’塗覆玻璃使用如下述範例所述之線上 CVD方法製備。圓圈1係有關使用作為鈦先質之四氣化鈦 沈積之氧化鈦層,且叉叉2係有關使用作為鈦先質之四乙 氧化鈦沈積之氧化鈦層。 塗層可於玻璃製備方法期間藉由化學蒸氣沈積於線 上施用於玻璃基材上。第2圖例示用於線上製備本發明塗 覆玻璃物件之裝置,其一般係以1 0表示,其係包含漂浮 區段π、玻璃煆燒爐12及冷卻區段13。漂浮區段11具有底 部14,其含有熔融錫浴15、頂部16、側壁(未示出)及端壁 17 ’其一起形成密封,如此提供密閉區18,其間未氧化 之氛圍被保持以避免錫浴15之氧化。於操作裝置10期間 ,熔融玻璃19被鑄製於爐床20上,且自其於計量壁21下 流動,然後向下流至錫浴15之表面上,形成漂浮玻璃帶37 ’其藉由提升滾輪22移除,且經玻璃煆燒爐12運送,且 其後行經冷卻區段13。 未氧化氛圍於漂浮區段11内藉由經導管23(其係可操 作連接至歧管24)而使適當氣體(例如,包含氮及2體積% 之氫者)引至區域1 8内而保持。非氧化氣體係以足以補償 氣體損失(某些非氧化之大氣藉由於終壁17下流動而離開 區域18)及保持高於周圍壓力之些微正壓力之速率自導管 23引入區域18内。錫浴15及密閉區域18係藉由自加熱器15 向下導引之輻射熱加熱。加熱區域18 —般被保持於約13 3 0 °FS 1400T(72rc至760。〇之溫度。玻璃煆燒爐12内之大 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝-----^----訂---------線邊 14
591116 五、發明說明(12 氣典型上係空氣,且冷卻區段丨3未被密封。周圍空氣藉 由風扇26吹至玻璃上。 裝置10亦包含塗覆器27、28、29及30,其係呈序列 位於漂浮玻璃帶37上之漂浮區域丨丨内。個別塗層之先質 氣體混合物被供應至個別之塗覆器,其依序使先質氣體 展e物導引至/示浮玻璃帶37之熱表面。漂浮玻璃帶之 溫度係於最接近爐床2〇之塗覆器27位置處最高,且於最 接近玻璃煆燒爐12之塗覆器30位置處係最低。 本發明進一步以下列範例例示說明之,其中塗層係 於玻璃製備方法期間於漂浮浴内藉由層合流動之化學蒸 氣沈積施用至移動之漂浮玻璃帶上。於範例中,二塗層 被施用至玻璃帶。 所有氣體體積係以標準溫度及壓力(除非其它指示外) 測量。對層狀物所標示之厚度值係使用高解析度之電子 掃瞄顯微鏡及塗覆玻璃之反射及透射光譜之光學模式決 定。塗層厚度係以約5%之不確定率測量。塗覆玻璃之透 射及反射性質係使用Hitachi U-4000光譜計決定。此間有 關玻璃之透射及/或反射顏色所述之a、b及L*值係指CIE Lab顏色。塗覆玻璃之可見光反射及可見光透射係使用〇65 發光體及標準CIE 2°觀察器且依據ISO 9050標準(Parry Moon氣團2)決定。塗覆玻璃之混濁度係使用WYK-Gardner Hazeguard+濁度計測量。 塗覆玻璃之光催化活性係藉由相對應於以UVA光線 照射下之玻璃塗覆表面上之硬脂酸膜之C-H拉伸之紅外線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) :_ ^裝-----Γ---訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15 ^1116
五、發明說明(13 ) 波峰面積減少速率決定之。硬脂酸膜係於玻璃樣品(7_8公 分之矩形)上藉由使20// 1之於甲醇内之硬脂酸溶液(8 8 χ 1〇 3莫耳dnr3)以2000 rpm進行1分鐘而旋轉鑄製於玻璃塗 覆表面上而形成。紅外線光譜於透射中被測量,且相對 應於硬脂酸膜之C-H拉伸(約270至3000公分“)之波峰之 峰南被測量,且相對應之波峰面積係相對於波峰高度之 波峰面積之校準曲線決定之。玻璃之塗覆側以UVA-35i燈 (自美國,俄亥俄州,克里夫蘭之Q_panel C〇.獲得)照射,其 具有35lnm之波峰波長及於塗覆玻璃表面之強度係約32 W/m2。光催化活性於此說明書中係以汛波峰之面積之減 低速率(單位係公分-1分’或t9G%(單位係分,其係使波長區 域内之波峰之峰高(吸收)降低至其起始值之1〇%所花費之 紫外線曝光時間)表示。 塗覆玻璃之靜電水接觸角係藉由使用UVA 35 1燈對塗 覆玻璃照射約2小時後(或以其它特定者)之塗覆玻璃表面 上置放之水滴(體積範圍係1至5 // 1)之直徑而決定之。 範例1 1 5 以300公尺/小時之玻璃煆燒爐速率前進之lmm厚之鹼 石灰漂浮玻璃帶,當該玻璃帶於其間玻璃溫度係約65〇°c 至約6 7 0 C之範圍内之位置處於漂浮浴上前進時以二層塗 覆物塗覆。漂浮浴之大氣包含氮及9G/g氫之流動氣體混合 物,且浴壓力係約0.15巴。 層1(被沈積於玻璃上之第一層)係氧化矽層。層1係藉 由使用GB專利說明書1 570 966(特別是第2圖及第3頁第73 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
▼裝-----r---訂---------線J 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 16 591116 五、發明說明(M ) 行至第4頁第75行之相對應描述)所述之塗覆裝置使單矽烷 (S1H4, 60¾升/分)、氧(12〇毫/分)、乙烯(36〇毫升/分)及氮 a升/刀)之氣體混合物接觸且以玻璃移動方向平行於玻璃 表面流動而沈積,其於玻璃表面上具有約〇15m之混合氣 體運行路徑。出料係約〇.9至12毫巴。玻璃帶係於其間其 溫度係約670°C之點以約1〇公分寬度塗覆。矽石層之厚度 係約20至25公尺。 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 層2(被沈積之第二層)係二氧化鈦層。層2係藉由使包 含於流動氮載體氣體内之四氣化鈦、於流動氮載體氣體 内之乙酸乙酯及8公升/分(於2〇 pSi測量之流速)之主要氮 氣流之個別氣體流混合成氣體混合物及使氣體混合物(經 保持於250°C之管線)遞送至塗覆裝置(其包含油冷卻雙流 動塗覆器)而沈積。氮氣載體及主體氮氣之壓力係每平方 英吋係約20磅。氣體混合物接觸及沿著玻璃帶平行於玻 璃表面而以上流及下流流動。氣體混合物下流之行進路 徑係約0 · 15公尺,且上流係約〇 · 15公尺,且出料係約〇 15 宅巴。四氯化鈦及乙酸乙|旨係於個別之流動氮載體氣體 流内藉由使氮氣通過含有四氣化鈦或乙酸乙酯之發泡器 而運送。氮氣載體氣體之流速係如第1表所述(流速係於2〇 psi測量)。四氣化鈦發泡器係保持於69〇c之溫度,且乙酸 乙酯發泡器保持於42 °C之溫度。運送之四氣化鈦及運送 之乙酸乙S曰之评估流速亦於第1表内對範例1至15之每· 者描述之。 層塗覆物之性質被測量。層2(氧化鈦層)之厚度值 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 17 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591116 A7 ---B7 五、發明說明(15 ) 及於塗覆側上測量之可見光反射值L*及塗覆玻璃之濁度 係於第2表中對範例M5描述之。每一塗覆玻璃之濁度係 低於0.2%。 塗覆玻璃之光催化活性及靜電水接觸角被決定。範 例1-15之相對於靜電酸C-Η拉伸之IR波峰之起始波峰高度 及起始波峰面積、光催化活性、靜電水接觸角及於第 3表中描述。 範例16-19 範例16· 19係以相同於範例卜15之條件下進行,但浴 壓力係約0.11毫巴,矽石底塗層(層丨)之沈積出料係約〇7 毫巴,四氣化鈦發泡器被保持於約1〇〇。(:之溫度,乙酸乙 酯發泡器保持於約45°C之溫度,且遞送管線保持於約22〇 °C之溫度。 氮載體氣體之流速及被運送之四氯化鈦及被運送之 乙酸乙酯之被評估之流速係於第丨表中對範例16_19之每一 者描述之。 層2(氧化鈦層)之被評估之厚度值及於塗覆侧上測量 之可見光反射值L*及塗覆玻璃之濁度係於第2表中對範例 16-19描述之。 範例16-19之每一者之相對於靜電酸C_H拉伸之汛波 峰之起始波峰高度及起始波峰面積、光催化活性、t_及 靜電水接觸角於第3表中描述。 ° 範例16-19之光催化活性非實質上大於範例者, 即使較厚之氧化鈦(因而更具反射性)之塗層。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝-----^----訂---------線·
18 591116 A7 _B7 五、發明說明(16 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1表 範 例 至發泡器之氮載體氣體之流 速(公升/分,於20 psi測量) TiC14之流速 (公升/分) 乙酸乙酯 之流速 (公升/分) TiCl4發泡器 乙酸乙酯發泡器 1 0.16 1 0.032 0.46 2 0.12 0.3 0.024 0.14 3 0.12 0.45 0.024 0.21 4 0.08 0.2 0.016 0.09 5 0.12 0.15 0.024 0.07 6 0.12 0.75 0.024 0.35 7 0.08 0.3 0.016 0.14 8 0.08 0.5 0.016 0.23 9 0.04 0.1 0.008 0.05 10 0.04 0.15 0.008 0.07 11 0.04 0.25 0.008 0.12 12 0.16 0.1 0.032 0.05 13 0.08 0.1 0.016 0.05 14 0.16 0.4 0.032 0.19 15 0.16 0.2 0.032 0.09 16 0.1 0.5 0.088 0.27 17 0.08 0.4 0.070 0.22 18 0.06 0.3 0.053 0.16 19 0.04 0.2 0.035 0.11 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 19 591116 A7 _B7 五、發明說明(17 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第2表 範 例 氧化鈦層之厚 度(nm) 塗覆玻璃之可 見光反射(%) 塗覆玻璃之 L*值(%) 濁度(%) 1 15 14.1 44 0.12 2 14.3 13.9 44 0.07 3 14.2 13.2 43 0.12 4 11.3 11.4 40 0.08 5 12.1 12.1 41 0.08 6 11.0 a a 0.07 7 8 a a 0.11 8 7.2 9.7 37 0.04 9 6.1 9.1 36 0.05 10 5.6 9 36 0.07 11 4.6 8.7 35 0.06 12 15.6 15.4 46 0.1 13 16.0 a a 0.13 14 17.5 16.2 47 0.14 15 20.3 19.5 51 0.1 16 a 28.4 47.8 0.3 17 約68 29.1 58.4 0.37 18 約32 25.9 55.6 0.24 19 約27 20.5 50.2 0.2 a未被測得 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝-----^----訂---------線· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 20
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) -----^----訂---------· ^1116 A7 '^^ -------— B7____ 五、發明說明(l9 ) 氣之流速係8.5公升/分(於20psi時測量)。 二層之塗層之性質被測量。層2(氧化鈦層)之厚度值 ’及塗覆側上測量之可見光反射及塗覆玻璃之濁度係於第 5表中對範例20-27描述。每一塗覆玻璃之濁度係低於〇.7〇/〇 〇 塗覆玻璃之光催化活性及靜電水接觸角被決定。對於 範例20-27之每一者之相對應於靜電酸C_H拉伸之IR波峰 之起始波峰高度及起始波峰面積、光催化活性及及靜 電水接觸角被描述於第6表中。 範例28及29 範例28及29以相同於範例20-27之條件下進行,但四 氧化鈦發泡器被保持於168。〇之溫度,且浴壓力係〇· 11毫 巴。相等於範例20-27之數據之與範例28-29有關之數據係 描述於第4,5及6表。 範例 至四乙氧化鈦發泡器之氮載體氣 體之流速(公升/分,於20 psi測量) 乙氧化鈦流速 (公升/分) 20 0.25 0.014 21 0.15 0.008 22 0.2 0.011 _ 23 0.25 0.014 24 0.3 0.017 25 0.35 Γ 0.019 26 0.2 0.011 27 0.1 0.006 28 0.6 0.030 29 0.4 0.020 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -装-----^----訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 22 591116 A7 _ B7 五、發明說明(20 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第5表 範例 氧化鈦層之 厚度(nm) 塗覆玻璃之可見 光反射(%) 濁度(%) 20 13 a 0.4 21 13 a 0.29 22 16 15.7 0.29 23 18 a 0.28 24 24 a a 25 26 a 0.61 26 9.9 10.9 0.19 27 4.7 8.8 0.29 28 38.3 35.2 0.29 29 31.9 28.4 0.22 a未被測得 第6表 範例 相對應於硬脂酸膜C-H拉伸 之IR波峰(2700-3000公分。 光催化活 性(X 10_2公 分“分“) 靜電水接 觸角(° ) T90% (分) 起始波峰高度 (任意單位) 起始波 (公分乃 20 0.027 0.953 5.7 19±5 15 21 0.031 1.095 5.7 a 17 22 0.024 0.838 3.6 15±2 21 23 0.030 1.029 7.1 11±3 13 24 0.029 1.015 7 17±3 13 25 0.031 1.071 7.4 13±4 13 26 0.031 1.085 4.4 21±3 22 27 0.029 0.998 3.2 16±5 28 28 0.021 0.733 3.6 13 18 29 0.024 0.848 3.3 14 23 a未被測得 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝-----^----訂---------線· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 23 591116 五、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明(21 ) 葱例30-42 於範例30至42中,二層之塗覆物藉由漂浮玻璃製備方 法期間於漂浮浴内藉由線上CVD於其約132英忖(3.35公尺) 之完全寬度施用至漂浮玻璃帶而施用之。用以沈積此塗層 之裝置係例示於第2圖。漂浮浴之氛圍包含氮及2體積%之 氫。浴壓力係0.15毫巴。 二層塗覆物係由先沈積於漂浮玻璃上之氧化矽層及沈 積於氧化矽層上之氧化鈦層所組成。用於沈積此塗層之氣 體混合物之先質化學性係相同於用於範例1-15中者。塗層 之沈積溫度係藉由使用不同塗覆器27,28,29或30(參考第 2圖)而改變。位於最接近爐床之塗覆器27係最熱,位於最 接近玻璃煆燒爐之塗覆器30係最冷。於範例3〇_33及42中 ’ 一塗覆器(範例3 - 3 3中係2 8及2 9,範例4 2中係塗覆2 7 及28)被用以沈積氧化石夕塗層。使用二塗覆器沈積氧化石夕 層之益處係較長之製備操作時間係可能的。 範例30-41之用於沈積氧化矽層之氣體混合物係包含 具如下流速之如下氣體:氦(250公升/分)、氮(285公升/分) 、單矽烷(2.51公升/分)、乙烯(15公升/分)及氧(1〇公升/分) 。對於範例42,除單矽烷(2.3公升/分)、乙烯(13·8公升/分) 及氧(9.2公升/分)外,相同氣體及流速被使用。範例扣至“ 中,若二塗覆器被用以沈積氧化矽層,上速流速被用於每 一塗覆器。 於範例30-42中,沈積溫度(即,相對應於每一塗覆器 27-30之塗覆器下之漂浮玻璃帶之溫度)係如第7表;示者 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝-----^----訂---------線· 24 A7 —-----~___ 五、發明說明(22 ) -- 第7表中之溫度具有約±50T(±28°C)之不確定度。每 塗覆器之出料係約2亳巴。 第7表 塗覆器 _玻璃帶之大約溫度^ 27 1330〇F(721〇C) 28 ---- 1275〇F(690〇C) 29 1250〇F(677〇C) ~ 30 1150〇F(621〇C) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 四虱化鈦(TiCU)及乙酸乙酯於個別之氮/氦載體氣體 机内運送。對於TiCl4之蒸發,薄膜蒸發器被使用。液體Ticl4 被保持於加壓容器内(頭部壓力約5 psi)。此被用以使液體 遞送至。十1泵及Coriolis強制流動測量系統。先質之計量 流被供應至於ll〇°F(43°C)之薄膜蒸發器。丁丨(:14於載體氣 體(氦)内被運送且遞送至保持於250T(12rc)之混合點下 管線。乙酸乙酯以相似方式遞送。液態之乙酸乙酯被保持 於加壓容器(頭壓力約5 pSi)。此被用以使液體遞送至計量 栗及Coriolis強制流動測量系統。先質之計量流被供應至 於268 F (13 1 C )之薄膜蒸發器。被蒸發之乙酸乙酯於載體 氣體(氦/氮之混合物)内運送且遞送至保持於約250T (121 °C )之混合點下管線。
TiCU及乙酸乙酯之氣體流被混合而形成用以沈積氧 化鈦層之氣體混合物。此混合點係於塗覆器前。 漂浮玻璃帶之線速率、氧化矽之沈積溫度及氧化鈦層 之沈積溫度及He/N2本體載體氣體之流速及TiCl4及乙酸乙 25 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591116 A7 __ _ B7 五、發明說明(23 ) 酯之流速於第8表内對範例30-42描述之。 被塗覆之漂浮玻璃帶被冷卻並切割,且樣品之光學性 質及光催化活性被決定。第9表描述樣品之濁度、透射及 反射之光學性質(可見光透射/反射之百分率及使用lab系 統之顏色配位)。被塗覆之玻璃接受依據68 EN 1096之磨 耗測試’其中300mm X 300mm尺寸之樣品之四角度被穩 定固疋至測試,以確保樣品不可能移動。切割成於標準(BS EN 1096第2部份(1999))所示尺寸之未被用過之毛魅墊被 置於測试指狀物’且指狀物降低至玻璃表面。4N之對測 試指狀物之負載壓力被設定且開始測試。指狀物以6〇沖程 /分鐘± 6沖程/分鐘之速率對樣品往復5〇〇沖程。於完成此 磨耗時,樣品被移除且以光學且以光催化活性檢測。若於 550nm測量時磨耗造成不多於5%之透射變化時樣品被視 為通過此測試,且塗覆基材保持光催化活性,其係指於測 試後’紫外線照射2小時降低靜電水接觸角至低於15。。 玻璃亦接受濕氣循環測試,其中塗層於接近100%相 對濕度時接受35°C至75°C至35°C之溫度循環4小時。 製得時及紫外線(UVA 351 mm燈,約32 W/m2)照射130 分鐘後及歐洲標準磨耗測試之3〇〇、5〇〇及/或1〇〇〇次沖擊 後之塗覆玻璃之靜電水接觸角係如第10表所述。被磨耗之 樣品之接觸角於照射2小時後決定。 以1330-1250 °F (721°C至677 °C )之更高溫度沈積之樣 品係具光催化活性,即使於1000次歐洲標塗磨耗沖擊後或 2〇〇次濕氣循環後。製得時及歐洲標準磨耗測試之3〇〇、500 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 26 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,裝-----=----訂---------線· 591116 A7 _ B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(24 ) 及/或1000次沖擊後及200次濕氣測試循環後之以t9()%而言 之光催化活性係如第11表所述。於第11表中,活化(Active) 一辭係指塗覆玻璃係具光催化活性但丁9()%未被決定。 第8表 範例 線速率 (公尺/分) 矽石層沈 積溫度/°c 氧化鈦層 沈積溫 度/°c 載體氣體之流速 先質之流速 He L/分 N2 L/分 TiCl4 cc/分 乙酸乙酯 cc/分 30 10.9 690&677 621 300 300 6.3 16.3 31 10.9 690&677 621 300 300 6.3 16.3 32 10.9 690&677 621 300 300 6.3 16.3 33 10.9 690&677 621 300 300 6.3 16.3 34 10.9 690 621 300 300 6 16 35 10.9 690 621 300 300 6 16 36 10.9 690 621 300 300 6 16 37 10.9 690 677 300 300 5.5 14.7 38 10.9 690 677 300 '300 5.5 14.7 39 10.9 690 677 300 300 5.5 14.7 40 10.9 690 677 300 「300 5.5 14.7 41 6.5 721 690 300 300 4 10.7 42 12.1 721&690 677 300 300 9.5 25.4 — I:——1-----•裝—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 27 591116 A7 B7 五、發明說明(25 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第9表 範例 月 莫側之反射 透射 濁度 (%) R(%) L* a 6 T(%) L* a b 30 14.2 44.5 0.3 -10.3 84.3 93.6 -1.2 3.6 0.11 31 14.6 45.1 0.3 -10.4 84.5 93.7 -1.1 3.4 0.30 32 14.6 45.1 0.3 -10.5 84.3 93.6 -1.1 3.6 0.12 33 13.8 44.0 0.3 -9.8 85.5 94.1 -1.1 2.9 0.15 34 13.6 43.7 0.1 -8.7 84.8 93.8 -1.1 2.7 0.12 35 13.8 43.9 0.1 -8.8 85.4 94.1 -1.1 2.6 0.11 36 12.9 42.6 0.1 -8.2 85.8 94.2 -1.1 2.5 0.14 37 12.6 42.2 0.1 -7.9 86.1 94.4 -1.1 2.3 0.08 38 11.9 41.0 0.1 -6.9 87.1 94.6 -1.1 1.7 0.07 39 11.5 40.4 0.0 -6.5 87.2 94.8 -1.1 1.8 0.10 40 11.6 40.6 0.0 -6.6 86.9 94.7 -1.1 1.8 0.08 41 a a a a a a a a A 42 14 44.3 0.1 -9.9 84.8 93.8 -1.1 3.1 0.14 a未被測得 第10表 範 例 於如下次數之磨耗沖程後之靜電水接觸 ί 角(。) 0 〇(紫外線照射 130分鐘後) 300 500 1000 30 2.3 3.3 失敗 31 2.0 3.2 失敗 32 a A 失敗 33 2.0 3.2 失敗 34 A a 失敗 35 2.0 3.2 失敗 36 2.1 3.4 失敗 37 2.2 3.3 <15 38 2.0 3.1 <15 39 1.9 3.1 <15 40 2.2 3.2 <15 41 7.8 7.8 10.1 42 4.7-5.3 4.7-5.3 5.6-9.8 a未被測得 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝-----^----訂---------線. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 28 591116 A7 B7 五、發明說明(26 ) 第11表 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 範 於如下次數之磨耗沖程後之t9G%(分) 於200次濕氣循 例 0 300 500 1000 壤後之丨9〇%(分) 30 7.5 失敗 失敗 31 18.5 失敗 失敗 32 8.5 失敗 失敗 33 8 失敗 失敗 34 21 失敗 失敗 35 44 失敗 失敗 36 8.5 失敗 失敗 37 15.5 約 2160 具活性 38 18.5 約 2160 具活性 39 17 約 2160 具活性 40 18.5 約 2160 具活性 41 a 約 2160 具活性 42 45 2800 具活性 a未被測得 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝-----^----訂---------線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 29

Claims (1)

  1. 591116 AS Βδ C8 D8 、申請專利範圍
    b
    第89111509號專利申請案申請專利範圍修正本 93.03.08 1. 一種製備光催化活性塗覆基材之方法,包含藉由使該 基材與包含鈦來源及氧來源之流體混合物接觸而使具 有少於30nm厚度之氧化鈦塗層沈積於基材上,該基材 係至少60(TC之溫度,其中,該基材之塗覆表面具有大 於5 X 1 (Γ3公分-1分· 1之光催化活性及於塗覆側上測量之 可見光反射係低於35%或更低。 2·如申請專利範圍第!項之方法,其中該基材係6251至 720°C範圍内之溫度。 3·如申請專利範圍第2項之方法,其中該基材係645它至 720°C範圍内之溫度。 4·如申請專利範圍第i、2或3項之方法,其中該流體混合 _包含作為鈦來源之氯化鈦及非甲基酯之酯。 5· —種製備光催化活性塗覆基材之方法,包含藉由使該 基材之表面肖包含氣化鈦及非甲基酷之醋之流體混合 物接觸使具有少於40nm厚度之氧化鈦塗層沈積於該基 材上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6. 如申請專利範圍第5項之方法,其中該基材表面係於該 基材係6GG°C至75Gt範圍内之溫度時與該流體混合物 接觸。 7. 如申請專利範圍第5項之方法,其中該醋包含具有具沒 氫之烷基之烷基酯。 8. 如申請專利範圍第7項之方法,其中該醋包含㈣醋。 9·如申請專利範圍第8項之方法,其中該醋係
    31
    申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 C4烷基之烷基酯。 ::·如申請專利範圍第9項之方法,其中該輯包含乙基醋。 .如申請專利範圍第1G項之方法,其中動旨包含乙酸乙 西旨。 12 ·如申凊專利範圍第5至11項 一 ^ 、 喟二仕項之方法,其中該酯 係該流體混合物内之僅一氧來源。 13·如申請專利範圍第項之任—項之方法·,其中該流 體混合物係氣體混合物。 · 、 mm Η·如申請專利範圍第5項之方法,其中該方法係於漂浮玻 璃製備方法期間之線上施行,且該基材係玻璃帶。 如申請專利範圍第14項之方法,其中該方法係於漂浮 浴内施行。 16·如申請專利範圍第15項之方法,其中該方法係於實質 上大氣壓時施行。 ^ 一種製備耐久性光催化活性塗覆玻璃之方法,包含藉 由使該基材(其係於645°C至720°C範圍内之溫度)之表 面與包含鈦來源之流體混合物接觸而於玻璃基材之表 面上沈積光催化活性之氧化鈦層。 18· —種光催化活性之塗覆基材,包含於其一表面上具有 光催化活性氧化鈦塗層之基材,其特徵在於該基材之 塗覆表面具有大於5χ1〇-3公分“分」之光催化活性,且該 塗覆基材具有於塗覆側上測量係35%或更低之可見光 反射以及該光催化活性之氧化鈦塗層具有30nm或更低 之厚度。 本紙張尺度適用中國國家標半(CNS)A4規格(2】〇χ 297公;g ) --------訂--------------# (請先Mtt背面之注意事項再填寫本頁) 32 591116 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 19·如申請專利範圍第18項之光催化活性塗覆基材,其中 該基材之該塗覆表面具有大於lxl0-2公分-1分-1之光催 化活性。 20·如申請專利範圍第19項之光催化活性塗覆基材,其中 該基材之塗覆表面具有大於3xl0-2公分-1分-1之光催化 活性。 • 21·如申請專利範圍第18項之光催化活性塗覆基材,其中 該被塗覆基材具有於塗覆侧上測量之可見光反射係 20%或更低。 22·如申請專利範圍第21項之光催化活性塗覆基材,其中 該塗覆基材具有於塗覆側上測量之可見光反射係15 % 或更低。 23.如申請專利範圍第18項之光催化活性塗覆基材,其中 該基材包含玻璃基材。 24·如申請專利範圍第23項之光催化活性塗覆基材,其中 該塗覆基材具有鹼金屬離子阻斷底層,其係位於該基 材表面及該光催化活性氧化鈦塗層之間。 25·如申請專利範圍第24項之光催化活性塗覆基材,其中 該鹼金屬離子阻斷底層係氧化矽層。 26·如申請專利範圍第18項之光催化活性塗覆基材,其中 該光催化活性之氧化鈦塗層具有20nm或更低之厚度。 27·如申請專利範圍第26項之光催化活性塗覆基材,其中 該光催化活性之氧化鈦塗層具有2nm至20nm範圍之厚 度0 本紙張尺度適用中Θ g家標準(CNS)A4現格(21〇x 297公g ) 33 -------------------訂·-------- (請先閱磧背面之注音y事項再填寫本頁) 591116 A8 B8 C8 ns
    、申請專利範圍 28·如申請專利範圍第18至27項之任一項之光催化活性塗 覆基材,其中該基材之塗覆表面具有2〇。或更低之靜電 水接觸角。 29·如申請專利範圍第18至27項之任一項之光催化活性塗 覆基材,其中該塗覆基材具有少於1%之濁度。 30.如申請專利範圍第18至27項之任一項之光催化活性塗 覆基材,其係藉由申請專利範圍第1至17項之任一項之 方法製得。 31 ·如申清專利範圍第18至27項之任一項之光催化活性塗 覆基材’其中該基材之塗覆表面係對磨耗具耐用性, 如此’該塗覆表面於其已接受3〇〇次沖程之歐洲標準磨 耗測試後保持光催化活性。 32·如申請專利範圍第3 1項之光催化活性塗覆基材,其中 該塗覆表面於其已接受500次沖程之歐洲標準磨耗測 試後保持光催化活性。 33. 如申請專利範圍第32項之光催化活性塗覆基材,其中 該塗覆表面於其已接受1000次沖程之歐洲標準磨耗測 試後保持光催化活性。 34. 如申請專利範圍3 1項之光催化活性塗覆基材,其中該 塗覆基材之濁度於接受該歐洲標準磨耗測試後係2%或 更低。 35. 如申請專利範圍第34項之光催化活性塗覆基材,其中 該基材之該塗覆表面係對濕氣循環具耐用性,如此, 該塗覆表面於該塗覆表面接受200次循環之濕氣循環 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公:g ) --------------------訂·--------^^^1 · (請先Mts背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 34 591116 A8 B8 C8 D8 六 經濟部智慧財產局員工消費合作社印說 申請專利範圍 測試後保持光催化活性。 36· —種耐用性之光催化活性之塗覆玻璃,包含於其一表 面上具有塗層之玻璃基材,該塗層包含驗金屬離子阻 斷底層及一具有30nm或更低厚度之外光催化活性之氧 化鈦層,其中該基材之塗覆表面係對磨耗具耐用性, 如此,該塗覆表面於其已接受300次沖程之歐洲標準磨 耗測試後保持光催化活:丨生。 3 7.如申清專利範圍第3 6項之耐用性光催化活性之塗覆玻 璃,其中該塗覆玻璃具有於該塗覆側上測量之可見光 反射係35%或更低。 38. —種塗覆玻璃,包含於其一表面上具有光催化活性氧 化鈦塗層之玻璃基材,其特徵在於該玻璃之該塗覆表 面係具有大於8χ10·2公分]分-1之光催化活性,且該塗覆 玻璃具有於塗覆側上測量之可見光反射係'少於2〇%。 39· —種多玻璃片單元,其包含如申請專利範圍第18至38 項之塗覆基材之第一玻璃片,其係與第二玻璃片呈相 對關係。 40. —種層合玻璃,其包含如包含如申請專利範圍第18至 38項之塗覆玻璃之第一玻璃疊層、聚合物中間層及第 二玻璃疊層。 --------^ ---------^^^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中gg g家標準(CNS)A4規络(210 X 29了公;g ) 35
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