UA74550C2 - A process for the production of a photocatalytically active self-cleaning coated substrate, a process for the production of substrate with a photocatalytically active coating, an article, a glass with photocatalytically active coating (variants, a multipanel module of glazing and laminated glass - Google Patents
A process for the production of a photocatalytically active self-cleaning coated substrate, a process for the production of substrate with a photocatalytically active coating, an article, a glass with photocatalytically active coating (variants, a multipanel module of glazing and laminated glass Download PDFInfo
- Publication number
- UA74550C2 UA74550C2 UA2002010188A UA2002010188A UA74550C2 UA 74550 C2 UA74550 C2 UA 74550C2 UA 2002010188 A UA2002010188 A UA 2002010188A UA 2002010188 A UA2002010188 A UA 2002010188A UA 74550 C2 UA74550 C2 UA 74550C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- substrate
- glass
- coated
- coating
- active
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 95
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 title claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 title abstract description 9
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 71
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 33
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000005215 alkyl ethers Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 carboxylate ester Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 60
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 17
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 17
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 10
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- 101100165177 Caenorhabditis elegans bath-15 gene Proteins 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N dicalcium;disodium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Ca+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 244000078127 Eleusine coracana Species 0.000 description 2
- 235000013499 Eleusine coracana subsp coracana Nutrition 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 2
- 235000002079 ragi Nutrition 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMOUBSOVHSONPZ-UHFFFAOYSA-N Isopropyl formate Chemical compound CC(C)OC=O RMOUBSOVHSONPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N Isopropyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC(C)C IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219492 Quercus Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- JLQUFIHWVLZVTJ-UHFFFAOYSA-N carbosulfan Chemical compound CCCCN(CCCC)SN(C)C(=O)OC1=CC=CC2=C1OC(C)(C)C2 JLQUFIHWVLZVTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- JSRLCNHTWASAJT-UHFFFAOYSA-N helium;molecular nitrogen Chemical compound [He].N#N JSRLCNHTWASAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003905 indoor air pollution Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 108010089741 opacity factor Proteins 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BAQNULZQXCKSQW-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ti+4] BAQNULZQXCKSQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940097156 peroxyl Drugs 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009718 spray deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Description
Опис винаходу
Даний винахід відноситься до способу отримання активних фотокаталітичних покриттів на підкладках; 2 зокрема, але не виключно, він відноситься до способу виготовлення скла з активними фотокаталітичними та іншими подібними покриттями.
Відомий спосіб осадження на підкладки, в тому числі на скляні підкладки, тонких одно- або багатошарових покриттів, які мають різноманітні властивості. Однією з властивостей, що представляють особливий інтерес, є фотокаталітична активність, яка виникає внаслідок фотогенерації напівпровідникової пари "дірка-електрон" при 70 впливі на напівпровідник світла відповідної довжини хвилі. Пара "дірка-електрон' може утворюватися на сонячному світі і у вологій атмосфері може вступати в реакції зі створенням гідроксильних і пероксильних радикалів на поверхні напівпровідника. Радикали окислюють органічні забруднення на поверхні. Цю властивість використовують для отримання самоочисних поверхонь, зокрема, самоочисних шибок.
Ефективним фотокаталізатором може бути двоокис титану, який може бути осаджений на підкладку з 19 отриманням прозорого покриття, що має властивості фотокаталітичного самоочищення. Фотокаталітичні покриття на основі окису титану описані (в ЕР 0 901 991 А2, МО 97/07069, МО 97/07069, УМО 97/10186, МО 98/41480, в Абрвігасі 735 ої 1871 ЕІесігоспетіса! Босіеєгу Мееїййпд (Кепо, ММ, 95-1, р.1102) і в журналі Мем
Зсіепіїв! (26 А!Єдизі 1995, р.19)). ЇХ УУО 98/06675) описаний спосіб хімічного осадження з парової фази, згідно якому титаноокисні покриття з високою швидкістю осаджують на гаряче плоске скло з використанням газової суміші хлориду титану і органічної сполуки, яка є джерелом кисню для утворення титаноокисного покриття.
Раніше вважалося, що для отримання хорошої фотокаталітичної активності необхідно осаджувати відносно товсті титаноокисні покриття. Наприклад, |в УУО 98/41480| затверджується, що самоочисні активні фотокаталітичні покриття повинні бути досить товстими для того, щоб забезпечити прийнятний рівень активності, і переважна товщина покриття складає щонайменше близько 200А, більш переважно - щонайменше с 29 близько БО0А (виміряна товщина титаноокисних покриттів, отриманих в Прикладах, знаходилася в діапазоні від Ге) 4О0А до 2100А).
Однак недолік відносно товстих титаноокисних покриттів полягає в тому, що вони мають високу міру відбиття видимого світла і, отже, відносно низьке пропускання світла. Цей недолік описаний у вищезазначеній статті в журналі Мем/ Зсіепіїві відносно вітрового скла з покриттям, де запропоновано для зниження ефекту сильного о відбиття покривати приладову панель чорним оксамитом або іншим матеріалом, який не відбиває світло на ою вітрове скло з покриттям.
Вищезазначена заявка ЕР 0 901 991 А2 стосується фотокаталітичних скляних панелей із покриттям із о двоокису титану особливої кристалічної структури, який відрізняється наявністю особливих піків в її «І рентгенівській дифракційній картині. В описі розглянуті покриття різної товщини (товщина покриттів в 3о Прикладах лежала в діапазоні від 20нм до 135нм, при цьому більш тонкі покриття мали меншу фотокаталітичну в активність ніж більш товсті покриття). В описі також розглянуті різні температури осадження в діапазоні від мінімальної 3002 до максимальної 75023, при цьому переважними виявилися температури від 4002 до 6009С, і у всіх Прикладах по винаходу шар двоокису титана осаджували при температурі в межах цього переважного « діапазону або нижче. З 70 Автори даної заявки виявили, що шляхом осадження титаноокисних покриттів при більш високих с температурах, зокрема, температурах вище ніж 6002С, можна отримувати покриття заданої товщини з :з» підвищеною фотокаталітичною активністю, при цьому ті ж фотокаталітичні характеристики можна отримуваати при меншій товщині покриття. Істотною є та обставина, що такі більш тонкі покриття дозволяють зменшити відбиття видимого світла і, очевидно внаслідок більш високої температури їх осадження, мають підвищену - 15 зносостійкість, зокрема, підвищену стійкість до стирання і циклічних температурних навантажень у вологій атмосфері. т. Таким чином, даний винахід відноситься до способу виготовлення підкладок з активним фотокаталітичним сл покриттям, який включає осадження титаноокисного покриття на поверхні підкладки шляхом приведення поверхні підкладки в зіткнення з текучою сумішшю, яка містить джерело титану і джерело кисню, при цьому 1 50 згадана підкладка має температуру щонайменше 6002С, за рахунок чого покрита поверхня підкладки має о фотокаталітичну активність більше ніж БХ10Зсм'хв'!, а відбиття видимого світла, виміряне на покритій стороні, 3595 або менше.
Переважно, підкладка має температуру від 6252С до 7202С, більш переважно - від 64592С до 72096.
Доцільно, якщо текуча суміш включає хлорид титану як джерело титану, а також складний ефір, відмінний від метилового ефіру. Так, згідно з переважним варіантом здійснення, спосіб виготовлення підкладок із активним
Ф) фотокаталітичним покриттям включає осадження на підкладку титаноокисного покриття товщиною менше ніж ка 4Онм шляхом приведення поверхні підкладки в зіткнення з текучою сумішшю, яка містить хлорид титану і складний ефір, відмінний від метилового ефіру. во Спосіб може бути здійснений в умовах, коли поверхня підкладки стикається з текучою сумішшю при температурі підкладки від 6002 до 75020.
Переважно, складний ефір являє собою алкільний ефір, який містить алкільну групу з Др-воднем (алкільна група алкільного ефіру являє собою групу, отриману від спирту при синтезі ефіру, а ДрД-водень являє собою водень, зв'язаний з атомом вуглецю відносно кисню ефірного зв'язку в складному ефірі). Переважно, ефір являє 65 собою карбоксилатний ефір.
Відповідними ефірами можуть бути алкільні ефіри, що мають алкільну групу Со-Сіо, однак переважно ефір являє собою алкільний ефір, що має алкільну групу Со-Су.
Переважно, ефір являє собою сполуку формули К-С(0)-0-С(ХХХ3-С(СУХУ)-К, де К і К представляють водень або алкільну групу, Х, Х, М ії 7 представляють одновалентні заступники, переважно алкільні групи або атоми водню, і де щонайменше одна з груп У і У" представляє водень.
Відповідні ефіри, які можуть бути використані в способі по даному винаходу, включають: етилформат, етилацетат, етилпропіонат, етилбутират, п-пропілформат, п-пропілацетат, п-пропілпропіонат, п-пропілбутират, ізопропілформат, ізопропілацетат, ізопропілпропіонат, ізопропілбутират, п-бутилформат, п-бутилацетат і
Ї-бутилацетат. 70 Переважно, складний ефір являє собою етиловий ефір, більш переважно ефір являє собою етилформат, етилацетат або етилпропіонат. Найбільш переважно ефір являє собою етилацетат.
Текуча суміш може бути рідкою, зокрема, диспергованою у вигляді тонкодисперсного пилу (такий спосіб часто називають "осадження розпиленням"), але переважно текуча суміш є газоподібною. Спосіб осадження, здійснюваний із використанням початкової газоподібної суміші, часто називають хімічним осадженням із парової 7/5 фази (СМО - Спетіса! Марог Оеровійоп). Переважно в СМО використовують ламінарний потік, хоча також може бути використаний СМО-спосіб із турбулентним потоком.
Осадження за способом може бути здійснено на підкладки різних розмірів, в тому числі на листові підкладки, зокрема, на форматні листи зі скла, або переважно на безперервну стрічку скла безпосередньо в процесі виготовлення флоат-скла. Таким чином, переважно, спосіб здійснюють в оперативному режимі, тобто, безпосередньо в процесі виготовлення флоат-скла, а підкладкою при цьому є стрічка скла. Якщо спосіб здійснюють в ході виробничого процесу, то його переважно виконують на стрічці скла, коли вона знаходиться у флоат-ванні.
Перевага здійснення способу в оперативному режимі складається в тому, що отримане в такому режимі покриття є більш зносостійким, зокрема, має підвищену стійкість до стирання і більш високу хімічну стійкість. сч
Хоча спосіб осадження в оперативному режимі є переважним, можливі також і інші способи осадження, які здійснюються по суті при атмосферному тиску. і)
У найбільш переважному варіанті здійснення запропонований спосіб виготовлення скла зі зносостійким активним фотокаталітичним покриттям включає осадження на поверхню скляної підкладки активного фотокаталітичного шару окису титану шляхом приведення поверхні підкладки, що має температуру в діапазоні о зо 645-7202С, переважно в діапазоні 670-7202С, в зіткнення з текучою сумішшю, яка містить джерело титану.
Як було відмічено вище, автори виявили, що осадженням окису титану при високій температурі можуть бути о отримані покриття з відносно високою для їх товщини фотокаталітичною активністю, і, оскільки покриття змалою юю товщиною дають більш слабке відбиття, то винахід також відноситься до нових виробів, в яких висока фотокаталітична активність добре поєднується з помірним або низьким відбиттям світла. в
Таким чином, в іншому аспекті даний винахід надає виріб із активним фотокаталітичним покриттям, який ї- містить підкладку з нанесеним на одну з її поверхонь активним фотокаталітичним титаноокисним покриттям, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки має фотокаталітичну активність більше ніж 5Х10Зсм' хв, і тим, що відбиття підкладкою з покриттям видимого світла, виміряне на покритій стороні, « становить 3595 або менше.
Висока фотокаталітична активність є корисною тому, що кількість забруднень (включаючи бруд) на покритій о) с поверхні підкладки з активним фотокаталітичним покриттям, буде зменшуватись швидше, ніж на підкладках із "» відносно низькою фотокаталітичною активністю. Крім того, при високій фотокаталітичній активності " забезпечується більш швидке видалення забруднень поверхні при низьких рівнях інтенсивності ультрафіолетового світла.
Фотокаталітичну активність в контексті даного опису визначають шляхом вимірювання рівня зменшення - інтегрованої поглинальної здатності піків інфрачервоного поглинання, відповідних смугам С-Н тонкої плівки їх стеаринової кислоти, нанесеної на підкладку з покриттям, при впливі УФ-опромінювання від УФА-лампи, що має інтенсивність близько 32Вт/м? біля покритої поверхні підкладки і пікову довжину хвилі ЗБ1нм. Стеаринова і-й кислота може бути нанесена на покриту підкладку центрифугуванням розчину стеаринової кислоти в метанолі, «сл 20 якописано нижче. о Переважно, покрита поверхня підкладки має фотокаталітичну активність більше ніж 1 х10'7см''хв"!, більш переважно більше ніж 3х10 см" хв".
При слабкому відбитті видимого світла виникає менше відволікаючих увагу чинників, ніж при високому 5 відбитті, що важливо, особливо у разі скляних підкладок, оскільки при слабкому відбитті видимого світла забезпечується високе пропускання світла, що важливо у разі застосування скла в архітектурних спорудах і
ГФ) особливо в автомобілях.
Ге Переважно, відбиття підкладкою з покриттям видимого світла, виміряне на покритій стороні, становить 2095 або менше, більш переважно 1795 або менше і найбільш переважно 1595 або менше. во У більшості варіантів здійснення винаходу покрита підкладка буде по суті прозорою, а в переважному варіанті здійснення підкладкою є скляна основа. Звичайно скляна основа виконана з натрієво-кальцієво-силікатного скла.
Якщо підкладка виконана з натрієво-кальцієво-силікатного скла або містить іон іншого лужного металу, то переважно між поверхнею підкладки і активним фотокаталітичним титаноокисним покриттям є підстилаючий в5 шар, що блокує іон лужного металу. Це знижує здатність іонів лужних металів мігрувати з підкладки в активне фотокаталітичне титаноокисне покриття, що важливо в зв'язку з відомою здатністю іонів лужних металів отруювати напівпровідникові окисні покриття і знижувати їх активність.
Підстилаючий шар, що блокує іони лужного металу, може містити оксид металу, але переважно шар, що блокує іони лужного металу, являє собою шар оксиду кремнію. Оксидом кремнію може бути кремнезем, але він не обов'язково повинен бути стехіометричним і може містити включення, такі як вуглець (у цьому разі його часто називають оксикарбідом і осаджують, як описано |в ЗВ 2,199,84881) або азот (оксинітрид кремнію).
Доцільно, якщо підстилаючий шар, що блокує іон лужного металу, буде настільки тонким, щоб він не впливав істотним чином на оптичні властивості покриття, зокрема, не знижував прозорість підкладки з покриттям або не створював інтерференційних узорів при відбитті або пропусканні. Відповідний діапазон товщини буде залежати /о Від властивостей матеріалу, що використовується для формування шару, що блокує іони лужного металу (зокрема, від його коефіцієнта заломлення), але звичайно підстилаючий шар, що блокує іони лужного металу, має товщину менше ніж бонм, переважно - менше ніж 40нм. Якщо цей шар присутній, то він завжди повинен бути досить товстим для зниження або блокування міграції іонів лужного металу зі скла в титаноокисне покриття.
Перевага даного винаходу складається в тому, що товщина активного фотокаталітичного титаноокисного /5 покриття може бути досить малою (що забезпечує слабке відбиття видимого світла покритої підкладки), однак підкладка з покриттям при цьому має високу фотокаталітичну активність. Переважно, титаноокисне покриття має товщину ЗОнм або менше, більш переважно 20нм або менше і найбільш переважно титаноокисне покриття має товщину в діапазоні від 2нм до «2Онм.
Перевага даного винаходу полягає також в тому, що при осадженні титаноокисних покриттів потрібно менше 2о початкової суміші, ії шари можуть бути осаджені протягом відносно короткого часу. Тонке титаноокисне покриття також із меншою імовірністю буде спричиняти появу інтерференційних узорів при відбитті або пропусканні світла. Однак особлива перевага складається в тому, що титаноокисне покриття має низьку відбивну здатність видимого світла, що особливо важливо, коли підкладкою є скло. Звичайно товщина титаноокисного покриття визначається виходячи з величини необхідного пропускання світла скла з покриттям. с
Переважно, покрита поверхня підкладки має крайовий кут змочування з водою рівний або менше ніж 20 9.
Свіжовиготовлене або очищене скло має гідрофільну поверхню (крайовий кут змочування з водою менше ніж 402 о означає гідрофільну поверхню), але органічні забруднення швидко прилипають до поверхні, збільшуючи кут змочування. Особлива користь підкладок із покриттям (і особливо скла з покриттям) по даному винаходу полягає в тому, що опромінювання ультрафіолетовим світлом відповідної довжини хвилі навіть забрудненої покритої о поверхні буде знижувати кут змочування за рахунок зменшення кількості або руйнування цих забруднень.
Додаткова перевага полягає в тому, що вода буде розтікатися по поверхні, що має менший кут змочування, чим що забезпечується зменшення відволікаючого ефекту краплин води на поверхні (наприклад, від дощу) і змивання юю бруду і інших речовин, які не були зруйновані за рахунок фотокаталітичної активності поверхні. Крайовий кут змочування з водою являє собою кут, що утворюється меніском краплини води на поверхні скла, і може бути З визначений відомим способом шляхом вимірювання діаметра краплини води відомого об'єму на поверхні скла і ч- розрахований ітеративним методом.
Переважно, підкладка з покриттям має коефіцієнт матовості 195 або менше, що також корисно, оскільки цим забезпечується хороша обзорність через прозору підкладку з покриттям. «
У переважних варіантах здійснення покрита поверхня підкладки стійка до стирання настільки, що покрита поверхня залишається фотокаталітично активною після 300 ходів в тесті на стирання по європейському - с стандарту. Переважно, покрита поверхня зберігає фотокаталітичну активність після 500 ходів в тесті на ц стирання по європейському стандарту, і більш переважна - після 1000 ходів в тесті на стирання по "» європейському стандарту.
Це є важливою властивістю, оскільки самоочисні вироби з покриттям по даному винаходу будуть часто
Ввикористовуватися покритою поверхнею назовні (наприклад, скло, покрита поверхня якого використовується як -І зовнішня поверхня вікна), і покриття буде зазнавати стирання.
Європейський стандарт тесту на стирання по |ІВ5 ЕМ 1096 Рагі 2 (1999)) включає зворотно-поступальний рух т фетрового притискного полозка при заданій швидкості і тиску на поверхню зразка. 1 У контексті даного опису підкладка з покриттям буде вважатися такою, що зберегла фотокаталітичну активність, якщо після випробувань на стирання по європейському стандарту опромінювання ультрафіолетовим і-й світлом (наприклад, із піковою довжиною хвилі З5їнм) знижує крайовий кут змочування з водою до величини с нижче ніж 152. Цей кут змочування після стирання покритої підкладки звичайно досягається менше ніж за 48 часів опромінювання при інтенсивності близько 32Вт/м2 біля покритої поверхні підкладки.
Переважно, підкладка з покриттям має коефіцієнт матовості 295 або менше після випробувань на стирання по європейському стандарту. о Зносостійкі підкладки з покриттям по даному винаходу можуть бути також стійкими до циклічних випробувань на вологостійкість (які моделюють атмосферний вплив). Так, в переважних варіантах здійснення винаходу де покрита поверхня підкладки стійка до циклічних випробувань на вологостійкість настільки, що покрита поверхня залишається фотокаталітично активною після 200 циклів. У даному описі циклічні випробування на 60 вологостійкість являють собою випробування, в яких покриття піддають термоциклюванню по циклу 35 200-759 протягом 4 годин при майже 10095 відносній вологості. Підкладка з покриттям вважається такою, що зберегла фотокаталітичну активність, якщо після випробувань опромінювання ультрафіолетовим світлом знижує крайовий кут змочування з водою до величини нижче ніж 152,
У наступному переважному варіанті здійснення даний винахід надає зносостійке фотокаталітично активне бо скло з покриттям, що являє собою скляну підкладку, що має покриття на одній із її сторін, при цьому згадане покриття містить підстилаючий шар, що блокує іон лужного металу, і фотокаталітично активний шар окису титану, і покрита поверхня підкладки стійка до стирання настільки, що покрита поверхня залишається фотокаталітично активною після 300 ходів у випробуванні на стирання по європейському стандарту. У цьому варіанті здійснення скло з покриттям переважно відбиває 3595 або менше видимого світла з покритої сторони, а фотокаталітично активний титаноокисний шар переважно має товщину ЗОнм або менше. Несподівано виявилося, що тонкі покриття стійкі до стирання, хоч раніше передбачається, що лише відносно товсті покриття можуть мати хорошу зносостійкість.
У наступному варіанті здійснення даний винахід надає скло з покриттям, що являє собою скляну підкладку, /о яка має активне фотокаталітичне титаноокисне покриття на одній із її сторін, яке відрізняється тим, що покрита поверхня скла має фотокаталітичну активність більше ніж 4 х10'см''хв', переважно більше ніж бх10 см хв", і більш переважно - більше ніж 8х10см' хв", і тим, що скло з покриттям відбиває менше 2095 видимого світла при вимірюванні на покритій стороні.
Вироби з покриттям по даному винаходу мають застосування в багатьох областях, наприклад, в модулях 715 скління, в тому числі в багатопанельних модулях скління, які містять першу панель скління у вигляді скла з покриттям і другу панель скління з повітряним проміжком між ними, або у вигляді ламінованого скла, яке містить перший скляний шар зі скла з покриттям, полімерний проміжний шар (наприклад, із полівінілбутиралю) і другий скляний шар.
Вироби з покриттям по даному винаходу можуть не тільки використовуватися як самоочисні вироби (зокрема, самоочисні шибки), але також можуть бути корисними для зниження концентрації атмосферних забруднень.
Наприклад, скло з покриттям при опромінюванні світлом ультрафіолетового діапазону (в тому числі ультрафіолетовим випромінюванням, що міститься в сонячному світлі), може руйнувати атмосферні забруднення, такі як оксиди азоту, озон і органічні забруднювачі, що адсорбуються на поверхні скла з покриттям. Це особливо важливе при застосуванні на відкритому просторі в забудованих районах (наприклад,на -:СМ міських вулицях), де концентрація органічних забруднювачів може бути відносно високою (особливо в о інтенсивному сонячному світлі), але в цьому випадку потрібно, щоб площа поверхні скла була досить великою. В інших випадках скло з покриттям (із покритою поверхнею, звернутою всередину) може бути використано для зменшення концентрації забруднення повітря всередині будівель, особливо в адміністративних будівлях, які мають відносно високу концентрацію забруднень. о
Далі винахід проілюстрований, але не обмежений, наступними кресленнями. ю
На Фіг.1 показаний графік залежності фотокаталітичної активності від товщини титаноокисного шару для скла з покриттям, виготовленим способом по винаходу. іт)
На Фіг.2 показана установка для хімічного осадження покриттів по винаходу з парової фази безпосередньо в «т процесі виготовлення скла. 3 Представлені на Фіг.1 зразки скла з покриттям були отримані безпосередньо в процесі виготовлення, тобто, в. в оперативному режимі, способом СУМОЮ, описаним нижче в Прикладах. Кружки 1 відносяться до титаноокисних шарів, осаджених із використанням тетрахлориду титану як початкового титанового компонента, а хрестики 2 відносяться до титаноокисних шарів, осаджених із використанням тетраетоксиду титану як початкового « титанового компонента.
Шари покриття можуть бути нанесені в оперативному режимі на скляну підкладку шляхом хімічного т с осадження з парової фази в процесі виробництва скла. На Фіг.2 показана установка, позначена загальною "» позицією 10, придатна для оперативного виготовлення скляних виробів із покриттям по даному винаходу, що " включає флоат-секцію 171, л ер 12 і секцію охолоджування 13. Флоат-секція 11 має дно 14 із ванною розплавленого олова 15, кришку 16, бічні стінки (не показані) і торцеві стінки 17, які разом утворюють герметичну конструкцію, яка містить замкнуту зону 18, в якій підтримується атмосфера, яка не окислює, що - виключає окислення олова у ванні 15. У процесі роботи установки 10 розплавлене скло 19 заливають в трубу 20 їз і звідти воно перетікає під дозуючою стінкою 21 вниз на поверхню ванни олова 15, утворює стрічку флоат-скла 37, яку витягують за допомогою відривних роликів 22 і транспортують через лер 12 і потім через секцію о охолоджування 13. сл 20 Неокислююча атмосфера у флоат-секції 11 підтримується шляхом подачі відповідного газу, наприклад, газу, який містить азот і 295 (об'єми.) водню, в зону 18 через трубопроводи 23, які сполучені з колектором 24. м) Неокислюючий газ подають у зону 18 із трубопроводів 23 зі швидкістю, достатньою для компенсації втрат газу (частина неокислюючої атмосфери витікає із зони 18 під торцевими стінками 17), і для підтримування невеликого надлишкового тиска відносно навколишнього середовища. Ванну олова 15 і замкнуту зону 18 нагрівають за 2о рахунок випромінювання від встановлених вище нагрівників 25. Зону нагріву 18 загалом підтримують при о температурі близько 1330-14002Е (721-7602С). Атмосфера в лері 12 звичайно складається з повітря, а зона охолоджування взагалі відкрита назовні. Скло обдувається навколишнім повітрям за допомогою вентиляторів ді 26.
Установка 10 також включає пристрої 27, 28, 29 і ЗО для нанесення покриттів, розташовані послідовно в 60 фрлоат-зоні 11 над стрічкою флоат-скла 37. Початкові газоподібні суміші для окремих шарів покриття подаються у відповідні пристрої для нанесення покриттів, які, в свою чергу, направляють початкові газоподібні суміші на гарячу поверхню стрічки флоат-скла 37. Температура стрічки флоат-скла 37 має найбільш високе значення в місці розміщення пристрою для нанесення покриттів 27, найближчого до труби 20, і найбільш низьке значення - в місці розміщення пристрою для нанесення покриттів ЗО, найближчому до леру 12. бо Далі винахід проілюстрований Прикладами, в яких покриття наносили шляхом хімічного осадження з парової фази з ламінарним потоком у флоат-ванні на рухому стрічку флоат-скла в процесі виробництва скла. У цих
Прикладах на стрічку скла наносили двохшарові покриття.
Всі об'єми газу виміряні при нормальних температурі і тиску, якщо не обумовлено інакше. Величини товщини, вказані для шарів, визначали з використанням скануючого електронного мікроскопа високого дозволу і оптичного
Моделювання відбиття і спектрів пропускання скла з покриттям. Товщину покриттів вимірювали з погрішністю близько 5 95. Властивості пропускання і відображення скла з покриттям визначали з використанням спектрофотометра Нігаспі О-4000. Величини а, Б і 1", що згадуються тут відносно пропускання і/або відбиття скла, оцінювали за системою СІЕ ГГ аб. Відбиття і пропускання видимого світла для скла з покриттям визначали з використанням джерела світла Об65 і стандартного вимірювача СІЕ 22, у відповідності зі стандартом ІЗО 9050 70 (Рату Мооп аїгптазе 2). Коефіцієнти матовості скла з покриттям вимірювали з використанням МУУК-Сагапег
Нагедцага ї- нефелометр.
Фотокаталітичну активність скла з покриттям визначали по мірі зменшення площі інфрачервоних піків, відповідних С-Н лініям плівки стеаринової кислоти на покритій поверхні скла під опромінюванням ультрафіолетом А. Плівка стеаринової кислоти була нанесена на зразки скла площею 7-8см? центрифугуванням 75 20Омкл розчину стеаринової кислоти в метанолі (8,8х10 моль дм") на покриту поверхню скла при 2000об./хв. протягом хв. Інфрачервоні спектри вимірювали при пропусканні; вимірювали висоту піку, відповідного. С-Н лініям (приблизно при 2700-3000см 77) плівки стеаринової кислоти, і відповідну площу піку визначали по калібрувальній кривій залежності площі піку від висоти піку. Покриту сторону скла освітлювали лампою УФА-351 (придбаною в О-Рапеї Со., Сіемеіапа, Опіо, ОА), яка має пікову довжину хвилі Зб1нм і інтенсивність біля поверхні покритого скла близько 32Вт/м2. Фотокаталітична активність в даному описі виражена або у вигляді швидкості зменшення площі ІЧ-піків (в см хв.) або як їооу, (в хв.), що являє собою час УФ-опромінення, необхідний для зниження висоти (поглинання) піку в області даної довжини хвилі до 1095 його початкового значення.
Крайовий кут змочування з водою для скла з покриттям визначали шляхом вимірювання діаметра краплини с води (об'ємом від 1 до бмкл), вміщеної на поверхню скла з покриттям після опромінювання скла з покриттям Ге) лампою УФА-351 протягом близько 2 годин (або як вказано в Прикладі).
Приклади 1-15
На стрічку натрієво-кальцієво-силікатного скла завтовшки мм, з швидкістю переміщення в лері ЗООм/година, наносили двохшарове покриття при проходженні стрічки через флоат-ванну в тому місці, де температура скла о була в діапазоні від «6502 до «6709. Атмосфера флоат-ванни складалася з газоподібної суміші азоту і 990 юю водню при тиску у ванні близько 0,15мбар. ю
Шар 1 (перший шар, який осаджувався на скло) являв собою шар окису кремнію. Шар 1 осаджували при зіткненні скла з газоподібною сумішшю моносилану (5іНа, бОмл/хв.), кисню (12Омл/хв.), етилену (ЗбОмл/хв.), «Ж і азоту (вл/хв.), потік якої переміщувався паралельно поверхні скла в напрямку руху скла, з використанням м апарату для нанесення покриттів, як описано |в патенті СВ 1 507 966) (зокрема, на Фіг.2 і в описі до нього на стор.3, рядок 73 - стор.4, рядок 75), при цьому відрізок шляху газоподібної суміші по поверхні скла складав біля 0,15м. Екстракцію здійснювали при тиску близько 0,9-1,2мбар. Покриття на стрічку скла наносили на ширину близько 1Осм в точці, де температура стрічки становила 76702С. Шар кремнезему мав товщину близько 20-25нм. « 20 Шар 2 (другий шар, який осаджувався) являв собою шар двоокису титану. Шар 2 осаджували шляхом -о об'єднання окремих газових потоків, що містять тетрахлорид титану в газоподібному азоті-носії, етилацетат в с газоподібному азоті-носії і транспортуючого потоку азоту з витратою 8л/хв. (швидкість потоку вимірювали при :з» тиску 20 фунтів на кв. дюйм (-1,4бар)) в газоподібну суміш, яку потім подавали (по подаючих трубопроводах, температуру в яких підтримували при 72502) в установку для нанесення покриттів, яка включає двохпотокову 5 Машину для нанесення покриттів із масляним охолоджуванням. Тиск азоту-носія і транспортуючого азоту -1 складав близько 20 фунтів на кв. дюйм (-1,4бар). Газоподібна суміш стикалася з поверхнею скла, протікаючи паралельно їй у напрямку і назустріч напрямку руху стрічки скла. Відрізок шляху газоподібної суміші у ве напрямку течії складав близько 0,15м, назустріч напрямку течії - 0,15м, екстракцію здійснювали при тиску с близько 0,15мбар. Тетрахлорид титану і етилацетат вводили в окремі потоки азоту-носія шляхом пропускання 5о азоту через барботери, які містять тетрахлорид титану або етилацетат. Швидкості течії газів-носіїв приведені о в Таблиці 1 (виміряні при 20 фунтах на кв. дюйм (-1,4бар)). Барботер для тетрахлориду титану мав температуру о 6992, а барботер для зтил ацетата мав температуру 422С. Розрахункові швидкості залученого в процес тетрахлориду титану і залученого в процес етилацетату також приведені в Таблиці 1 для кожного з Прикладів 1-15.
Потім оцінювали властивості двохшарових покриттів. Товщину шару 2 (титаноокисного шару) і відбиття видимого світла, виміряні на покритій стороні, 7" і коефіцієнти матовості скла з покриттям приведені в
Ф) Таблиці 2 для Прикладів 1-15. Коефіцієнт матовості кожного із зразків скла з покриттям був нижче 0,296. ка Визначали також фотокаталітичну активність і крайовий кут змочування з водою для скла з покриттям.
Початкова висота піку і початкова площа піку для 14-піків, відповідних С-Н ділянкам стеаринової кислоти, бо фотокаталітична активність, крайовий кут змочування з водою і (905; для Прикладів 1-15 приведені в Таблиці 3.
Несподівано виявилося, товщина титаноокисного шару не впливає істотним чином на фотокаталітичну активність.
Приклади 16-19
Приклади 16-19 виконували в тих же умовах, що і Приклади 1-15, за тим винятком, що тиск у ванні складав 65 близько 0,11мбар, екстракцію при осадженні кремнеземного підстилаючого шару (шару 1) здійснювали при тиску близько 0,7мбар, барботер для тетрахлориду титану підтримували при температурі близько 1002, барботер для етилацетату підтримували при температурі близько 452С, а подаючі трубопроводи підтримували при температурі близько 22026.
Швидкості азоту-носія і розрахункові швидкості залученого тетрахлориду титану і залученого етилацетату приведені для кожного з Прикладів 16-19 в Таблиці 1.
Розрахункова товщина шару 2 (титаноокисного шару) і відбиття видимого світла, виміряне на покритій стороні І " і коефіцієнти матовості скла з покриттям приведені в Таблиці 2 для Прикладів 16-19.
Початкова висота піку і початкова площа піку для ІЧ-піків, відповідних С-Н лініям стеаринової кислоти, фотокаталітична активність, (до, і крайовий кут змочування з водою для кожного з Прикладів 16-19 приведені в 70 Таблиці 3.
Фотокаталітична активність в Прикладах 16-19 не була істотно вище, ніж в Прикладах 1-15, незважаючи на більш товсті (і отже, такі, що мають більш високу відбивну здатність) титаноокисні покриття. виміряні при 20 фунтах/кв. дюйм (1,4бар)) ТІСЦ (л/хв.) етил-ацетату (л/хв.) ше т тІСЦ 2 4 вюв1111111711111021111111б6 1711 6 11вма111111111111111оив17бом 77136 см 2 ПОСТИ ПО НЯ ПООНОСУ ЗНАННЯ ПОН ННЯ НОНО УНН о 1111110в800001оов ов о зо
ПОЕТИ ПОП НЯ ПОЛОН ПОН ННЯ НО ю ю в 10000в611011111021 00595005 - зв а 117в611111011011081бовв 1 омв « й -
Приклад | Товщина титаноокисного шару Відбиття видимого світла для скла з Величина І!" для скла з покриттям |Матовість с іо нні с ні нн й х» що т ї» 61111111 шк и В НЯ ПО ОЛЯ ПОЛО НИЖ т в 17281111м1111111111111111111111ом
Фо 11110161 ов. с ю17в60000011088 | о 10151111 8 8181183 о юю 61 а11ви111111111111148111111оз 00011019 84 | 03 во бо Таблиця З пекла м км відтоюдн очі Діян плівки отаариново ооточаталітчна активність |Ста-тичний кут контакта з 9095 кислоти (2700-3000см-1) (х10-2см-хв.71) водою (2) (хв.)
Ше жан (довільні одиниці) (см-7) й
ПОЕТИ ПОТ ЕН ПОЕТ ТАННЯ ПОН я ПО: ЗИ НСЯ в 00100008001100006805 ю 1 юв00108001000088000016и000019 в 0100009500010000086 66 01000008 2 вю01000020001000000ю021и 18, 2 1 вю0010000900010000064000001000018529. во в. сч 25 ле 1оовв|77111гбво 11110116 в о
Приклади 20-27
Приклади 20-27 виконували в тих же умовах, що і Приклади 1-15, за тим винятком, що шар 2 осаджували з газоподібної суміші, що містить тетраетоксид титану, залучений в газоподібного азот-носія шляхом пропускання ав! 30 газу-носія через барботер, який містить тетраетоксид титану при температурі 170 2С. Швидкості течії азоту-носія (виміряні при 2о0фунтах/кв.дюйм (1,4бар)) і тетраетоксиду титану приведені в Таблиці 4 для кожного й з Прикладів 20-27. Швидкість течії об'ємного азоту становила 8,5л/хв. (виміряна при 20фунтах/кв.дюйм (1 ,4бар)). І в)
Оцінювали властивості двохшарових покриттів. Значення товщини шару 2 (титаноокисного шару) і відбиття видимого світла, виміряні на покритій стороні, а також коефіцієнти матовості скла з покриттям приведені в З 35 Таблиці 5 для Прикладів 20-27. Коефіцієнт матовості кожного із зразків скла з покриттям була нижче ніж 0,790. -
Визначали фотокаталітичну активність і крайовий кут змочування з водою для скла з покриттям. Початкова висота піку і початкова площа піку для ІЧ-піків, відповідних С-Н ділянкам стеаринової кислоти, фотокаталітична активність, (до, і крайовий кут змочування з водою для кожного з Прикладів 20-27 приведені в «
Таблиці 6. 40 Приклади 28 і 29 - с Приклади 28 і 29 виконували в тих же умовах, що і Приклади 20-27, за тим винятком, що барботер для а тетрактоксиду титану підтримували при температурі 1689С, а тиск у ванні становив 0О,11мбар. Дані для є» Прикладів 28-29, еквівалентні даним для Прикладів 20-27, приведені в таблиці 4, 51 6. : при 20 фунтах/кв. дюйм (1,4бар)) титану (л/хв.) 2 сл
ФО о ов 17751 ою о іме) во бю ва нини нини нини ши вв 81771001 2А 2А а а
51777781 я 51779818 05 д пеиклад чі» відповідні Ф' Дяянкам плівки отавринової Фото аталітчна активність |Ста-тичний кут контакта з 9095 кислоти (2700-3000см-7) (х10-2см-їхв.77) водою (2) (хв.) (довільні одиниці) (см"7) ів пе: гу пи ниє ти ох ЗА ПО ЗА Ех 7 сч (8)
Приклади 30-42
У Прикладах 30-42 двохшарові покриття наносили в оперативному режимі СМО-способом на стрічку о 3о флоат-скла по всій її ширині близько 132дюймів (3,35м) у флоат-ванні в процесі виробництва флоат-скла. М)
Установка, що використовується для осадження покриттів, показана на Фіг.2. Атмосфера у флоат-ванні складалася з азоту і 295 (0б.) водню. Тиск у ванні становив 0,15мбар. ю
Двохшарове покриття складалося з шару окису кремнію, осадженого першим на стрічці флоат-скла, і шару «І окису титану, осадженого на шарі окису кремнію. Технології приготування початкових газових сумішей, що використовуються для осадження покриття, були тими ж, що в Прикладах 1-15. Температуру осадження шарів ге варіювали шляхом використання різних пристроїв для нанесення покриттів 27, 28, 29 або 30 (див. Фіг.2).
Пристрій для нанесення покриттів 27, найближчий до труби, був найбільш гарячим, а пристрій 30, найближчий до леру, був найбільш холодним. У Прикладах 30-33 і 42 два пристрої для нанесення покриттів (28 і 29 в « дю Прикладах 30-33 і пристрої 27 і 28 в Прикладі 42) використали для осадження шару окису кремнію. з
Перевага використання двох пристроїв для нанесення покриттів для осадження шару окису кремнію с складається в тому, що можливі більш тривалі виробничі періоди. :з» Газоподібна суміш для осадження шару окису кремнію в Прикладах 30-41 складалася з наступних газів з наступними швидкостями течії: гелій (25Ол/хв.), азот (285л/хв.), моносилан (2,бл/хв.), етилен (15л/хв.) і кисень (ТОл/хв.). У Прикладі 42 використали ті ж гази і швидкості, крім швидкостей моносилану (2,Зл/хв.), - 15 етилену (13,8л/хв.) і кисню (9,2л/хв.). У тих випадках, коли для осадження шару окису кремнію в Прикладах 30-42 використали два пристрої нанесення покриттів, вказані швидкості течії використали для кожного з т» пристроїв. сл У Прикладах 30-42 температури осадження (тобто, температури стрічки флоат-скла під пристроями для нанесення покриттів, відповідного кожному з пристроїв 27-30) були такими, як вказано в Таблиці 7. Температури 1 50 в Таблиці 7 мають погрішність близько 502 (42822). Видобування з кожної з установок для нанесення о покриттів проводили приблизно при 2мбар. 5 о ю 60
Тетрахлорид титану (ТіСІд)) і етилацетат залучалися до окремих струменів газу-носія (азоту/гелію). Для випаровування ТІіСІ,; використовували тонкоплівковий випарювач. Рідкий ТіСіІ. знаходився в герметичному контейнері під тиском (тиск на виході близько 5 фунтів на кв. дюйм (0,35бар)). Тиск використовували для подачі рідини в дозувальний насос і коріолісівську систему вимірювання швидкості потоку. Потік первинного б; тазу, що дозується, потім подавали в тонкоплівковий випарювач при температурі 1102 (432С). Потім ТіСіІд вводили в газ-носія (гелій) і подавали у ведучі до точки змішування низхідні трубопроводи, температуру яких підтримували рівною при 2509 (12122). Етилацетат подавали таким же способом. Рідкий етилацетат знаходився в герметичному контейнері під тиском (тиск на виході близько 5 фунтів на кв. дюйм), звідки його подавали в дозувальний насос і коріолісівську систему вимірювання швидкості потоку. Потік первинного газу, що дозується, потім подавали в тонкоплівковий випарювач при температурі 2682 (13122). Потім випарований етилацетат вводили в газ-носія (суміш гелію/азоту) і подавали у ведучі до точки змішування низхідні трубопроводи при температурі останніх 2502Е (12122).
Газові струмені ТісСі/ і етилацетату об'єднували з утворенням газоподібної суміші, що використовується для осадження титаноокисного шару. Ця точка змішування знаходилася безпосередньо перед пристроєм нанесення 70 покриттів.
Лінійна швидкість стрічки флоат-скла, температура осадження шару окису кремнію і температура осадження шару окису титану, а також об'ємні швидкості течії газу-носія Не/М о і швидкість течії ТіСі/ і етилацетату приведені для Прикладів 30-42 в Таблиці 8.
Стрічку флоат-скла з покриттям охолоджували, розрізали і визначали оптичні властивості і фотокаталітичну 75 активність зразків. У Таблиці 9 приведені коефіцієнти матовості і оптичні властивості (відсоток пропускання/ відбиття видимого світла і колірні координати за системою СІЕ аб) зразків. Скло з покриттям випробували на стирання відповідно до процедури В5 ЕМ 1096, при якій зразок розміром ЗООмм хЗООмм жорстко фіксують за чотири кути на випробувальному стенді, так щоб забезпечити його нерухомість. Свіжу фетрову прокладку вирізають по розмірах, встановлених в стандарті (В5 ЕМ 1096 Рагі 2 (1999)), прикріплюють до випробувального штифта і опускають штифт на поверхню скла. Потім встановлюють тиск навантаження на випробувальний штифт 4Н і починають випробування. Штифт здійснює 500 зворотно-поступальних ходів по поверхні зразку зі швидкістю бОходів/хв.-6ходів/хв. По закінченню випробування зразок витягують і досліджують оптично і на фотокаталітичну активність. Зразок вважається таким, що пройшов тест, якщо стирання привело до зміни пропускання не більш ніж на 595 (вимірювання при 55Онм) і підкладка з покриттям зберегла фотокаталітичну с активність, тобто, після випробування опромінювання ультрафіолетовим світлом протягом 2 годин знижує о крайовий кут змочування з водою до величини нижче ніж 159.
Скло також піддавали циклічним випробуванням на вологостійкість, при яких покриття піддавали температурному циклу 3590-7592 протягом 4 годин при майже 10095 відносній вологості.
Крайовий кут змочування з водою для скла з покриттям після виготовлення, після 130 хвилин о
УФ-опромінювання (лампою УФА з довжиною хвилі З5інм і інтенсивністю близько 32Вт/м 2) і після 300, 500 юю мМабо 1000 ходів в тесті на стирання по європейському стандарту приведені в Таблиці 10. Кут змочування підданих стиранню зразків визначали після опромінювання протягом 2 годин. юю
Зразки, осаджені при більш високих температурах 1330-12502Е (721-677), зберегли фотокаталітичну «Ж активність навіть після 1000 ходів в тесті на стирання по європейському стандарту або після 200 циклів випробування на вологостійкість. Значення фотокаталітичної активності як ї 903, для скла з покриттям після - виготовлення, після 300, 500 і/або 1000 ходів в тесті на стирання по європейському стандарту і після 200 циклів випробування на вологостійкість приведені в Таблиці 11. У Таблиці 11 помітка "активний" означає, що скло з покриттям було фотокаталітично активним, але показник (ооу, не був визначений. « о З с Приклад Лінійна швидкість Температура осадження « » (м/хв.) кремнеземного шару (С) " осадження (2С)) газів-носіїв компонентів /хв. смУ/хв. - м
Ф со м 1ю800110196ю1 860030 зю06000100016 5 ю9010006ю001000вмо0зю 0 зю 60006 с бв1ю80101008ю00001085м00 зо зо 500010016 ю801006ю0000010в0зюзю 3) 5560мл в ю8010110086ю00000100600 зо зо вому ве 1лое171111вво11111116 | зо 0 зо 55 мл о бе 1ю801600000010вт003ю0 зо в50мт я в5011001111005ю0000 3340000 з 60
Приклад Матовість (95) в са в то са в, б5 32 14,6 (451 0,3 | -10,5 | 84,3 193,6 -1,113,6 012 за |ззвмо|ов| зв |вввіалрттре, ол зв зв аз од вв вва ля 0 зв ме ало ом ве втивеит 007 зе Б 4о4 00 в вто юе иа оо ло 6406 00 66 ввбеетлитя 008 то м іа а|а|а|а ав а 42 | 14 (448 од ве вівезвілизи 04 й отполятаохв Уєсопромінювання) | оо | 5оо | 1000. бю 80000038 вда ю 01011138 від б» а 10108011 відн в а61001111038 від п М по о ЕТ М НИ ПОМ 5 010001010032 відн сч 00011134 відо 138315 о в 011311111111я5 вела мк бю »00011113831я5 о зо арт 111тв111111111111рм ла ал | яті 1711 1вевв ви їй а - не виміряно « з в
Приклад /Теовр (хв.) після наступного числа стираючих ходів (9095 (хв.) після 200 циклів випробувань на вологостійкість ої зю | вю | ою бю т50вднюя 00001000 вд 1111100 « й вход 000000100000010000000000000вдюа 00000 - вав овдню | 00001000101100011100000000вдмоя 11111 ш в 800вдню 00001010 вдо 111111 ї» м я вд 00000110 відо 14000 вд 00001010 вдо 1111110 їв вв вдо | відо - вв 00000001 10000110 яви вв 10000111 вювию 2 ПЕ Ел НОЯ НО Ел НОЯ ПОЛ сл бю лвв 00000001 10000110 яви п ПИ и ПО ПОН ПО НИ ПН з зн 15111110 ій а - не виміряно о
Claims (41)
- Формула винаходу о 1. Спосіб виготовлення скла зі зносостійким активним фотокаталітичним покриттям, який відрізняється тим, що включає осадження на поверхню скляної підкладки активного фотокаталітичного титаноксидного шару 60 товщиною, меншою ніж 40 нм шляхом приведення поверхні підкладки, що має температуру в діапазоні 645-7202С, в зіткнення з текучою сумішшю, яка містить джерело титану.
- 2. Спосіб за п.1, який відрізняється тим, що підкладка має температуру в діапазоні 670-720,
- З. Спосіб за пп.1 або 2, який відрізняється тим, що текуча суміш являє собою газоподібну суміш, яка містить в5 тетраалкоксид титану як джерело титану.
- 4. Спосіб за будь-яким з попередніх пунктів, який відрізняється тим, що текуча суміш являє собою газоподібну суміш, що містить тетраетоксид титану як джерело титану.
- 5. Спосіб за пп.1 або 2, який відрізняється тим, що текуча суміш являє собою газоподібну суміш, що містить хлорид титану як джерело титану і складний ефір, відмінний від метилового ефіру.
- 6. Спосіб виготовлення підкладки з активним фотокаталітичним покриттям, який відрізняється тим, що включає осадження титаноксидного покриття, що має товщину, меншу ніж 40 нм, на підкладку шляхом приведення поверхні підкладки в зіткнення з текучою сумішшю, яка містить хлорид титану і складний ефір, відмінний від метилового ефіру.
- 7. Спосіб за п.б, який відрізняється тим, що поверхня підкладки взаємодіє з текучою сумішшю при 70 температурі підкладки в діапазоні 6000-7502.
- 8. Спосіб за пп.б або 7, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою алкільний ефір, який містить алкільну групу з воднем в В-положенні.
- 9. Спосіб за будь-яким з пп.6-8, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою карбоксилатний ефір.
- 10. Спосіб за будь-яким з пп.6-9, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою алкільний ефір, який 7/5 має алкільну групу Со - Су.
- 11. Спосіб за п.10, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою етиловий ефір.
- 12. Спосіб за п.11, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою етилацетат.
- 13. Спосіб за будь-яким з пп.6-12, який відрізняється тим, що складний ефір являє собою єдине джерело кисню в текучій суміші.
- 14. Спосіб за будь-яким з попередніх пунктів, який відрізняється тим, що текуча суміш являє собою газоподібну суміш.
- 15. Спосіб за будь-яким з попередніх пунктів, який відрізняється тим, що операції способу виконують в оперативному режимі в процесі виробництва флоат-скла, а підкладкою є стрічка скла.
- 16. Спосіб за п.15, який відрізняється тим, що операції способу виконують у флоат-ванні. с
- 17. Спосіб за будь-яким з попередніх пунктів, який відрізняється тим, що операції способу виконують при о атмосферному тиску.
- 18. Виріб зі зносостійким активним фотокаталітичним покриттям, який включає підкладку з нанесеним на одну з її поверхонь фотокаталітичним активним титаноксидним покриттям, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки має фотокаталітичну активність, більшу ніж 5 4103 см хв", а підкладка з покриттям ав відбиває 35 95 або менше видимого світла при вимірюванні на покритій стороні.
- 19. Виріб за п.18, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки має фотокаталітичну активність, о більшу ніж 1.1072 см"! хв". юю
- 20. Виріб за п. 19, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки має фотокаталітичну активність, « більшу ніж 3.1072 см"! хв". Зо
- 21. Виріб за будь-яким з пп. 18-20, який відрізняється тим, що підкладка з покриттям відбиває 20 95 або в. менше видимого світла при вимірюванні на покритій стороні.
- 22. Виріб за п. 21, який відрізняється тим, що підкладка з покриттям відбиває 15 95 або менше видимого світла при вимірюванні на покритій стороні. «
- 23. Виріб за будь-яким з пп. 18-22, який відрізняється тим, що підкладка виконана зі скла.
- 24. Виріб за будь-яким з пп. 18-23, який відрізняється тим, що підкладка з покриттям містить між поверхнею о, с підкладки і активним фотокаталітичним титаноксидним покриттям проміжний шар, що блокує іон лужного металу. "»
- 25. Виріб за п. 24, який відрізняється тим, що проміжний шар, який блокує іон лужного металу, є шаром " оксиду кремнію.
- 26. Виріб за будь-яким з пп. 18-25, який відрізняється тим, що активне фотокаталітичне титаноксидне покриття має товщину 30 нм або менше. -
- 27. Виріб за будь-яким з пп. 18-26, який відрізняється тим, що активне фотокаталітичне титаноксидне їх покриття має товщину 20 нм або менше.
- 28. Виріб за п. 27, який відрізняється тим, що активне фотокаталітичне титаноксидне покриття має товщину в о діапазоні від 2 до 20 нм. с 20
- 29. Виріб за будь-яким з пп. 18-28, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки має крайовий кут змочування з водою 202 або менше. о
- 30. Виріб за будь-яким з пп. 18-29, який відрізняється тим, що підкладка з покриттям має коефіцієнт матовості менше ніж 1 905.
- 31. Виріб за будь-яким з пп. 18-30, який відрізняється тим, що він отриманий способом за будь-яким з пп. 29 1-17. ГФ)
- 32. Виріб за будь-яким з пп. 18-31, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки стійка до стирання, причому вона залишається фотокаталітичноактивною після 300 ходів у випробуваннях на стирання за о європейським стандартом.
- 33. Виріб за п. 32, який відрізняється тим, що покрита поверхня залишається фотокаталітичноактивною після 60 500 ходів у випробуваннях на стирання за європейським стандартом.
- 34. Виріб за п. 33, який відрізняється тим, що покрита поверхня залишається фотокаталітичноактивною після 1000 ходів у випробуваннях на стирання за європейським стандартом.
- 35. Виріб за будь-яким з пп. 32-34, який відрізняється тим, що коефіцієнт матовості підкладки з покриттям становить 2 95 або менше після випробувань на стирання за європейським стандартом. бо
- 36. Виріб за будь-яким з пп. 18-35, який відрізняється тим, що покрита поверхня підкладки стійка до циклічних випробувань на вологостійкість, так що покрита поверхня залишається фотокаталітичноактивною після 200 циклів випробувань підкладки з покриттям на вологостійкість.
- 37. Скло зі зносостійким фотокаталітичним активним покриттям, яке відрізняється тим, що містить скляну Підкладку, що має покриття на одній із його поверхонь, де згадане покриття містить проміжний шар, який блокує іон лужного металу, і зовнішній активний фотокаталітичний титаноксидний шар, причому поверхня підкладки стійка до стирання та залишається фотокаталітичноактивною після 300 ходів у випробуваннях на стирання за європейським стандартом.
- 38. Скло за п. 37, яке відрізняється тим, що відбиває 35 95 або менше видимого світла при вимірюванні на 70 покритій стороні і фотокаталітичний активний титаноксидний шар якого має товщину 30 нм або менше.
- 39. Скло з покриттям, яке містить скляну підкладку, що має фотокаталітичне активне титаноксидне покриття на одній із його сторін, яке відрізняється тим, що покрита поверхня скла має фотокаталітичну активність, більшу за 8.102 см"! хв", і тим, що скло з покриттям відбиває менше ніж 20 95 видимого світла при вимірюванні на покритій стороні.
- 40. Багатопанельний модуль скління, який містить першу панель скління у вигляді підкладки з покриттям за будь-яким з пп. 18-39, яка розташована навпроти другої панелі скління з проміжком між ними.
- 41. Ламіноване скло, яке містить перший скляний шар зі скла з покриттям за будь-яким з пп. 18-39, полімерний проміжний шар і другий скляний шар. с щі 6) «в) ІФ) ІФ) « і -- . и? -і щ» 1 1 (42) іме) 60 б5
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9913315.9A GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | Improved process for coating glass |
| PCT/GB2000/002111 WO2000075087A1 (en) | 1999-06-08 | 2000-06-01 | Process for the production of photocatalytic coatings on substrates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA74550C2 true UA74550C2 (en) | 2006-01-16 |
Family
ID=10854957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UA2002010188A UA74550C2 (en) | 1999-06-08 | 2000-01-06 | A process for the production of a photocatalytically active self-cleaning coated substrate, a process for the production of substrate with a photocatalytically active coating, an article, a glass with photocatalytically active coating (variants, a multipanel module of glazing and laminated glass |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6840061B1 (uk) |
| EP (2) | EP1254870B1 (uk) |
| JP (1) | JP4716631B2 (uk) |
| KR (2) | KR100783308B1 (uk) |
| CN (2) | CN101219861A (uk) |
| AR (2) | AR024312A1 (uk) |
| AU (1) | AU775906B2 (uk) |
| BR (1) | BR0011382A (uk) |
| CA (1) | CA2375662C (uk) |
| CZ (1) | CZ20014395A3 (uk) |
| EA (1) | EA004759B1 (uk) |
| GB (1) | GB9913315D0 (uk) |
| HK (1) | HK1044328A1 (uk) |
| HU (1) | HUP0203433A2 (uk) |
| IL (1) | IL146661A (uk) |
| MX (1) | MXPA01012578A (uk) |
| MY (1) | MY125239A (uk) |
| PL (1) | PL352478A1 (uk) |
| SA (2) | SA00210544B1 (uk) |
| TR (1) | TR200103541T2 (uk) |
| TW (1) | TW591116B (uk) |
| UA (1) | UA74550C2 (uk) |
| WO (1) | WO2000075087A1 (uk) |
| ZA (1) | ZA200109801B (uk) |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0816466T3 (da) * | 1995-03-20 | 2006-06-12 | Toto Ltd | Anvendelse af materiale, der har en ultrahydrofil og en fotokatalytisk overflade |
| FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
| US6884399B2 (en) | 2001-07-30 | 2005-04-26 | Carrier Corporation | Modular photocatalytic air purifier |
| EP1462541B1 (en) * | 2001-12-03 | 2015-03-04 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for forming thin film. |
| GB0129434D0 (en) | 2001-12-08 | 2002-01-30 | Pilkington Plc | Self-cleaning glazing sheet |
| US6679978B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-01-20 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
| FR2838735B1 (fr) * | 2002-04-17 | 2005-04-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement auto-nettoyant |
| GB0306797D0 (en) * | 2003-03-25 | 2003-04-30 | Pilkington Plc | Titania coatings |
| GB0313029D0 (en) | 2003-06-06 | 2003-07-09 | Pilkington Plc | Coated glass |
| FR2857030B1 (fr) * | 2003-07-01 | 2006-10-27 | Saint Gobain | Procede de depot d'oxyde de titane par source plasma |
| FR2857885B1 (fr) * | 2003-07-23 | 2006-12-22 | Saint Gobain | Procede de preparation d'un revetement photocatalytique integre dans le traitement thermique d'un vitrage |
| US7223441B2 (en) * | 2004-03-10 | 2007-05-29 | Pilkington North America, Inc. | Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass |
| ES2294693T3 (es) * | 2004-03-10 | 2008-04-01 | Pilkington North America, Inc. | Procedimiento para la deposicion de revestimientos de oxido de aluminio. |
| DE102004016436B3 (de) * | 2004-03-31 | 2005-12-29 | Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.) | Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtsystemen mit photokatalytischen Eigenschaften auf Oberflächen und dessen Verwendung |
| US7011737B2 (en) * | 2004-04-02 | 2006-03-14 | The Penn State Research Foundation | Titania nanotube arrays for use as sensors and method of producing |
| CN1325414C (zh) * | 2004-05-24 | 2007-07-11 | 大连轻工业学院 | 一种能杀菌和自洁净的涂掺杂锌的二氧化钛薄膜的玻璃 |
| WO2006017311A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| EP1842835B1 (en) * | 2004-12-03 | 2017-06-21 | Cardinal CG Company | Hydrophilic coatings |
| US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| US20060128563A1 (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-15 | Flabeg Gmbh & Co., Kg | Method for manufacturing a non-fogging element and device for activating such an element |
| US8344238B2 (en) * | 2005-07-19 | 2013-01-01 | Solyndra Llc | Self-cleaning protective coatings for use with photovoltaic cells |
| EP1946040B1 (en) * | 2005-11-07 | 2017-03-22 | Cardinal CG Company | Method and apparatus for identifying photocatalytic coatings |
| EP2013150B1 (en) * | 2006-04-11 | 2018-02-28 | Cardinal CG Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
| JP2009534563A (ja) | 2006-04-19 | 2009-09-24 | 日本板硝子株式会社 | 同等の単独の表面反射率を有する対向機能コーティング |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| WO2009036284A1 (en) | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| JP5164542B2 (ja) | 2007-12-04 | 2013-03-21 | ニチハ株式会社 | 建材の塗装方法 |
| FR2956869B1 (fr) | 2010-03-01 | 2014-05-16 | Alex Hr Roustaei | Systeme de production de film flexible a haute capacite destine a des cellules photovoltaiques et oled par deposition cyclique des couches |
| GB2477763A (en) | 2010-02-11 | 2011-08-17 | Thorn Security | Fire detector with a component including a contaminant-resistant surface |
| FI20105753A (fi) * | 2010-06-30 | 2011-12-31 | Beneq Oy | Lasinvalmistusmenetelmä ja -laite |
| FR2963343B1 (fr) * | 2010-07-28 | 2012-07-27 | Saint Gobain | Vitrage pourvu d'un revetement contre la condensation |
| GB201112648D0 (en) | 2011-07-22 | 2011-09-07 | Pilkington Group Ltd | Deposition process |
| CN104812717A (zh) * | 2012-11-26 | 2015-07-29 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
| GB201321619D0 (en) * | 2013-12-06 | 2014-01-22 | Pilkington Group Ltd | A Coated Glazing |
| CN105483650B (zh) * | 2015-12-14 | 2017-12-22 | 青岛水务集团有限公司科技中心 | 一种用于净水设备的光触媒二氧化钛镀膜玻璃丝及其制备方法 |
| KR102565854B1 (ko) * | 2016-04-04 | 2023-08-10 | 주식회사 케이씨씨글라스 | 스테인 방지 코팅유리 |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| GB202011249D0 (en) | 2020-07-21 | 2020-09-02 | Pilkington Group Ltd | Antimicrobial substrate |
| GB2600168A (en) | 2020-10-26 | 2022-04-27 | Pilkington Group Ltd | Use of coated substrates |
Family Cites Families (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51134711A (en) | 1975-05-16 | 1976-11-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of producing glass having coating of titanium oxide |
| GB1524326A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| GB1523991A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-06 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| BE879189A (fr) | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
| CH628600A5 (fr) | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| US4971843A (en) | 1983-07-29 | 1990-11-20 | Ppg Industries, Inc. | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass |
| GB2150044B (en) | 1983-12-22 | 1986-12-17 | Glaverbel | Coated glazing material |
| JPH0682625B2 (ja) | 1985-06-04 | 1994-10-19 | シーメンス ソーラー インダストリーズ，エル．ピー． | 酸化亜鉛膜の蒸着方法 |
| GB8531424D0 (en) | 1985-12-20 | 1986-02-05 | Glaverbel | Coating glass |
| JPS63100042A (ja) | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 汚れ難いガラス物品 |
| GB8630918D0 (en) | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
| GB8824104D0 (en) | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
| US4997576A (en) | 1989-09-25 | 1991-03-05 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
| US5194161A (en) | 1989-09-25 | 1993-03-16 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for enhanced photocatalyzation of organic compounds with palladium |
| US5256616A (en) | 1989-09-25 | 1993-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
| US5393593A (en) | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
| GB9102766D0 (en) | 1991-02-09 | 1991-03-27 | Tioxide Group Services Ltd | Destruction process |
| US5580364A (en) | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
| DE69305936T3 (de) | 1992-07-11 | 2004-07-22 | Pilkington United Kingdom Ltd., St. Helens | Verfahren zur Herstellung von reflektierenden Schichten auf Glas |
| WO1995015816A1 (fr) | 1993-12-10 | 1995-06-15 | Toto, Ltd. | Substance multifonction a effet photocatalytique et procede de production |
| ATE235314T1 (de) | 1993-12-10 | 2003-04-15 | Toto Ltd | Multifunktionelles material mit photokatalytischer funktion und verfahren zur dessen herstellung |
| EP0737513B1 (en) | 1994-10-31 | 2002-05-29 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | Titanium oxide photocatalyst structure and method of manufacturing the same |
| DK0816466T3 (da) | 1995-03-20 | 2006-06-12 | Toto Ltd | Anvendelse af materiale, der har en ultrahydrofil og en fotokatalytisk overflade |
| AU6843296A (en) | 1995-08-18 | 1997-03-12 | Adam Heller | Self-cleaning glass and method of making thereof |
| DK0850203T3 (da) | 1995-09-15 | 2001-01-29 | Rhodia Chimie Sa | Substrat med fotokatalytisk belægning på basis af titandioxid og organiske dispersioner på basis af titandioxid |
| FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| US6090489A (en) | 1995-12-22 | 2000-07-18 | Toto, Ltd. | Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface |
| US5939194A (en) | 1996-12-09 | 1999-08-17 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material |
| GB9616983D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
| US6054227A (en) | 1997-03-14 | 2000-04-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning appliances |
| US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| JPH1179788A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-23 | Central Glass Co Ltd | 被膜形成ガラスおよびその製法 |
| US6110528A (en) * | 1998-07-02 | 2000-08-29 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for the preparation of fine hollow glass spheres coated with titanium oxide |
-
1999
- 1999-06-08 GB GBGB9913315.9A patent/GB9913315D0/en not_active Ceased
-
2000
- 2000-01-06 UA UA2002010188A patent/UA74550C2/uk unknown
- 2000-05-31 MY MYPI20002414A patent/MY125239A/en unknown
- 2000-06-01 MX MXPA01012578A patent/MXPA01012578A/es not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 KR KR1020077013830A patent/KR100783308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 CN CNA2008100024072A patent/CN101219861A/zh active Pending
- 2000-06-01 KR KR1020017015837A patent/KR20020026874A/ko active IP Right Grant
- 2000-06-01 AU AU50924/00A patent/AU775906B2/en not_active Expired
- 2000-06-01 IL IL14666100A patent/IL146661A/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 TR TR2001/03541T patent/TR200103541T2/xx unknown
- 2000-06-01 PL PL00352478A patent/PL352478A1/xx unknown
- 2000-06-01 EP EP02009640.0A patent/EP1254870B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 JP JP2001501572A patent/JP4716631B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 CA CA002375662A patent/CA2375662C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-01 BR BR0011382-4A patent/BR0011382A/pt not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 CZ CZ20014395A patent/CZ20014395A3/cs unknown
- 2000-06-01 EP EP00935378.0A patent/EP1198431B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 EA EA200200002A patent/EA004759B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 WO PCT/GB2000/002111 patent/WO2000075087A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 HU HU0203433A patent/HUP0203433A2/hu unknown
- 2000-06-01 CN CN00808643A patent/CN1354732A/zh active Pending
- 2000-06-06 US US09/587,970 patent/US6840061B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-07 AR ARP000102828A patent/AR024312A1/es active IP Right Grant
- 2000-06-13 TW TW089111509A patent/TW591116B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-11-19 SA SA00210544A patent/SA00210544B1/ar unknown
- 2000-11-19 SA SA5260312A patent/SA05260312B1/ar unknown
-
2001
- 2001-11-28 ZA ZA200109801A patent/ZA200109801B/en unknown
-
2002
- 2002-07-23 HK HK02105439.6A patent/HK1044328A1/zh unknown
-
2007
- 2007-02-02 AR ARP070100453A patent/AR059303A2/es active IP Right Grant
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| UA74550C2 (en) | A process for the production of a photocatalytically active self-cleaning coated substrate, a process for the production of substrate with a photocatalytically active coating, an article, a glass with photocatalytically active coating (variants, a multipanel module of glazing and laminated glass | |
| US20060019104A1 (en) | Coated substrates | |
| EP0966409B1 (en) | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same | |
| KR101402175B1 (ko) | 오염방지 재제 및 이들의 생산 방법 | |
| CZ299321B6 (cs) | Substrát na bázi skla, keramiky nebo sklokeramiky, monolitická vícevrstvová jednotka, použití substrátu a zpusob výroby substrátu | |
| JPH09225387A (ja) | 親水性部材、及び部材表面の親水化方法 | |
| US7137276B2 (en) | Process for coating glass | |
| JP2006521470A (ja) | チタニア被膜 | |
| CZ167896A3 (en) | Glazing pane for screening solar radiation and process for producing thereof | |
| CN116075489A (zh) | 带有易清洁涂层的玻璃物品 |