SA05260312B1 - الطلاء على الطبقات التحتية - Google Patents
الطلاء على الطبقات التحتية Download PDFInfo
- Publication number
- SA05260312B1 SA05260312B1 SA5260312A SA05260312A SA05260312B1 SA 05260312 B1 SA05260312 B1 SA 05260312B1 SA 5260312 A SA5260312 A SA 5260312A SA 05260312 A SA05260312 A SA 05260312A SA 05260312 B1 SA05260312 B1 SA 05260312B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- substrate
- coated
- photocatalytically
- glass
- titanium oxide
- Prior art date
Links
- 239000003973 paint Substances 0.000 title description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 109
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 89
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 83
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 65
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 55
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 16
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 2
- 241001136792 Alle Species 0.000 claims 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 claims 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 claims 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 48
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 15
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 10
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 9
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 9
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Chemical group 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- -1 carboxylate ester Chemical class 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007799 cork Substances 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000005348 self-cleaning glass Substances 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100048435 Caenorhabditis elegans unc-18 gene Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000806990 Hala Species 0.000 description 1
- 101001012669 Homo sapiens Melanoma inhibitory activity protein 2 Proteins 0.000 description 1
- RMOUBSOVHSONPZ-UHFFFAOYSA-N Isopropyl formate Chemical compound CC(C)OC=O RMOUBSOVHSONPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N Isopropyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC(C)C IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029778 Melanoma inhibitory activity protein 2 Human genes 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000940835 Pales Species 0.000 description 1
- 206010033546 Pallor Diseases 0.000 description 1
- 235000005311 Pandanus odoratissimus Nutrition 0.000 description 1
- KFNNIILCVOLYIR-UHFFFAOYSA-N Propyl formate Chemical compound CCCOC=O KFNNIILCVOLYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- MTLGAMQHOCYULH-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Ti+4].[Cl-].[Ti+4] Chemical compound [Cl-].[Ti+4].[Cl-].[Ti+4] MTLGAMQHOCYULH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UDWPONKAYSRBTJ-UHFFFAOYSA-N [He].[N] Chemical compound [He].[N] UDWPONKAYSRBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZEIGZRZVJNUIX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethyl formate Chemical compound CC(O)=O.CCOC=O HZEIGZRZVJNUIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000000809 air pollutant Substances 0.000 description 1
- 231100001243 air pollutant Toxicity 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 229940096118 ella Drugs 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVEAAGBEUOMFRX-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hydrochloride Chemical compound Cl.CCOC(C)=O MVEAAGBEUOMFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- JSRLCNHTWASAJT-UHFFFAOYSA-N helium;molecular nitrogen Chemical compound [He].N#N JSRLCNHTWASAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCSINKKTEDDPNK-UHFFFAOYSA-N propyl propionate Chemical compound CCCOC(=O)CC MCSINKKTEDDPNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008001 rakum palm Nutrition 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- WMOVHXAZOJBABW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)(C)C WMOVHXAZOJBABW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOLLAFOLCSJHRE-ZHAKMVSLSA-N ulipristal acetate Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C@@H]1C2=C3CCC(=O)C=C3CC[C@H]2[C@H](CC[C@]2(OC(C)=O)C(C)=O)[C@]2(C)C1 OOLLAFOLCSJHRE-ZHAKMVSLSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Abstract
الملخص: يتعلق الاختراع الحالي بعملية لإنتاج طبقة مطلية ذاتية التنظيف ذات فعالية حفزية ضوئية photocatalytically، وخاصة طبقة تحتية substrate زجاجية، التي نشتعل على ترسيب طلاء من ثاني أكسيد التيتانيوم titaniu oxide على سطح الطبقة التحتية substrate بواسطة تلامسها مع خليط مائع يحتوي على مصدر تيتانيوم titanium ومصدر للأكسجين oxygen ، وتكون درجة حرارة الطبقة التحتية substrate 600م على الأقل. السطح المطلي له متانة جيدة، وفعالية حفزية ضوئية photocatalytically عالية وإنعكاس منخفض للضوء المرئي Iight visible . الأفضل أن تتراوح درجة حرارة الترسيب بين ٦٤5م و ٠0 ٧٢ م مما يوفر بشكل خاص متانة جيدة. يفضل أن يحتوي خليط المائع على كلوريد تيتانيوم titanium chloride و إستر ester خاصة أسيتات الإيثيل ethyl acetate . تم أيضا الكشف عن طبقة تحتية substrate مطلية ذاتية التنظيف، خاصة طبقة تحتية substrate زجاجية لها فعالية حفزية ضوئية photocatalytically منخفض للضوء المرئي visible light؛ وكذلك زجاج مطلي متين ذاتي التنظيف.
Description
Y -— _— الطلاء على الطبقات التحتية Cua oll الكامل : إن هذا الطلب عبارة عن طلب جزئي من الطلب رقم ٠٠١7٠544 والذي تم إيداعه في المملكة العربية السعودية بتاريخ —AY EXD JA Y الموافق “ee / ١١ A q كم . خلفية الاختراع يتعلق الاختراع بعملية لإنتاج طبقات تحتية substrate مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية؛ ويتعلق ٠ بشكل خاص؛ ولكن ليس على سبيل الحصرء بعملية لإنتاج زجاج مطلي ذى فعالية حفزية ضوئية وكذلك الزجاج المطلي . من المعروف أنه يتم ترسيب طبقات رقيقة من الطلاء مكونة من طبقة أو أكثر ولها خواص مختلفة على طبقات تحتية1ه055:0؟ Jad طبقات substrated fad من الزجاج. أحد الخواص محل الاهتمام هي الفعالية الحفزية الضوئية التي تنشاً بواسطة تولد الضوء في شبه موصل من
أ ثقب - زوج إلكترونات a Laie إضاءة شبه الموصل بواسطة ضوء له تردد معين. يمكن توليد ثقب - زوج الإلكترونات في ضوء الشمس ويمكن أن يتفاعل في الهواء الرطب لتكوين شقوق هيدروكسي وبيروكسي على سطح شبه الموصل . تؤكسد الشقوق السخام العضوي على السطح. لهذه الخاصية استخدام في الطبقات التحتية substrate ذاتية التنظيف وخاصة في الزجاج ذاتي التنتظيف المستخدم في النوافذ.
١ .قد يكون ثاني أكسيد التيتانيوم titanium oxide محفزاً ضوئياً فعالاً ويمكن ترسيبه على الطبقات التحتية لتكوين طلاء شفاف له خواص حفزية ضوئية ذاتية التنظيف. تم الكشف عن طلاءات ثاني أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذات الحفزية الضوئية في البراءات الاتية :
vo
AY) VAT 5 AY / و البراءات الدولية ارقام 654لا TY - 01491 البراءة الاوروبية رقم : و 98/414850 وفي
Abstract 7١ of ألا Electrochemical Society Meeting (Reno, Nev., 6-1, pA) +) and ذكر AA ve تم في البراءة الدولية in New Scientist magazine (Y1 Aug. 15948, p.) 1) على زجاج titanium oxide عملية ترسيب بخار كيميائي لترسيب طلاءات من أكسيد التيتانيوم titanium» 5568) مسطح ساخن بمعدل ترسيب عال باستخدام خليط غازي منتج له من كلوريد لتكوين طلاء أكسيد التيتانيوم oxygen ومركب عضوي كمصدر للأكسجين chloride . titanium oxide كان يعتقد أنه لتوفير فعالية حفزية ضوئية جيدة يجب ترسيب طلاءات من أكسيد التيتانيوم نسبياً. ذكرت على سبيل المثال البراءة الدولية 98/414406 أن الطلاء Asan titanium oxide ٠ ذاتي التنظيف ذى الفعالية الحفزية الضوئية يجب أن يكون سميكا إلى حد كاف لتوفير مستوى (dB أنجستروم على ٠٠١ مقبول من الفعالية ويفضل أن يكون سمك هذا الطلاء حوالي أنجستروم على الأقل (تتراوح جميع السمك المقاسة ©٠0٠0 ويفضل أكثر أن يكون سمكه حوالي ٠٠١ المنتجة في الأمثلة بين 060 أنجستروم و titanium oxide لطلاءات أكسيد التيتانيوم . أنجستروم) Vo السميكة نسبياً هي الإنعكاس الكبير titanium oxide إلا أن مشكلة طلاءات أكسيد التيتانيوم نسبياً. تم التعرف على هذه المشكلة في SE للضوء المرئي وهكذا يكون نفاذ الضوء المرئي تتعلق بحاجبات الريح الزجاجية المطلية؛ حيث تم اقتراح أنه New Scientist مقالة في مجلة لتقليل تأثير الإنعكاس الكبير؛ فإنه يجب طلاء حاجبات الريح الزجاجية بطبقة ناعمة سوداء أو -بمادة أخرى لا تعكس الضوء من على حاجبات الريح الزجاجية المطلية. ©
Yt
- os —
تتعلق البراءة الاوروبية رقم 01891 - TY المشار إليها من قبل بالواح زجاجية محفزة ضوئياً ذات طلاء من أكسيد التيتانيوم titanium oxide له تركيب ssh خاص يتميز بوجود قمم خاصة في نموذج حيود أشعة X الخاص بها. تتوقع المواصفة مدى من سمك الطلاءات يتراوح بين Yo نانومتر و ١75 نانومتر في جميع الأمثلة النوعية وتكون ذات حفزية ضوئية أقل في الطلاءات do السمك القليل من الطلاءات ذات السمك الكبير. تتوقع أيضاً المواصفة مدى من درجات حرارة الترسيب يتراوح بين ٠٠72م كحد أدنى و 7560م كحد أقصى ولكن الأفضل هي درجات الحرارة التي تتراوح بين op Tega Er وفي جميع الأمثلة النوعية للاختراع يتم ترسيب طبقة ثاني أكسيد التيتانيوم titanium oxide عند درجة حرارة تقع داخل هذا المدى المفضل أو
أقل منه.
٠ 8 وجد مقدمو الطلب أن ترسيب طلاءات أكسيد التيتانيوم titanium oxide عند درجات حرارة أعلى وخاصة عند درجة حرارة lef من 710s أنه يمكن الحصول على طلاءات لها فعالية حفزية ضوئية معززة بالنسبة لسمك معين مما يمكن من الحصول على نفس الفعالية الحفزية الضوئية مع استخدام طلاءات ذات سمك أقل. تميل هذه الطلاءات ذات السمك الأقل أن يكون لها بشكل مفيد إنعكاس أقل للضوء المرئي؛ وظاهرياً كنتيجة لدرجة حرارة ترسيبها الأعلى؛ يكون
ve لها قوة تحمل محسنة؛ وخاصة للإحتكاك وتغير درجة الحرارة الدوري في الجو الرطب. وصف عام للاختراع وفقاً لذلك يوفر الاختراع الحالي عملية لإنتاج طبقة تحتية مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية تشتمل على ترسيب طلاء من أكسيد التيتانيوم titanium oxide على سطح الطبقة التحتية بواسطة تلدمس سطح الطبقة التحتية مع خليط مائع يحتوي على مصدر ثتيتانيوم titanium
Y. ومصدر للأكسجين oxygen ؛ وتكون الطبقة التحتية عند درجة حرارة al ٠٠ على الأقل.
م - وحيث يكون للسطح المطلي للطبقة التحتية فعالية حفزية ضوئية أكبر من TV xe دقيقة أ وإنعكاس ضوء مرئي مقاس على الجانب المطلي مقداره 770 أو أقل. يفضل أن تتراوح درجة حرارة الطبقة التحتية بين TTY و ١77”م؛ ويفضل أكثر أن تتراوح بين al to و * ca VY ga ٠ المفيد أن يشتمل خليط المائع على كلوريد تيتانيوم titanium chloride كمصدر تيتانيوم titanium وعلى إستر ester بخلاف إستر ميثيل methyl ester . وهكذا في نموذج مفضلء يوفر الاختراع الحالي عملية لإنتاج طبقة تحتية مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية والتي تشتمل على ترسيب طلاء من أكسيد التيتانيوم titanium oxide له سمك أقل من 56 نانومتر على سطح ما بواسطة تلدمس سطح الطبقة التحتية مع خليط مائع يشتمل على كلوريد تيتانيوم titanium chloride ٠ وإستر ester بخلاف إستر ميثيل methyl ester .
يمكن إجراء العملية عندما يتلامس سطح الطبقة التحتية مع خليط المائع عندما تكون الطبقة
التحتية عند درجة حرارة تتراوح بين Tew م و .5 لام . يفضل أن الإستر ester تكون إستر ألكيل alkyl ester بها مجموعة ألكيل gad alkyl ذرة هيدروجين hydrogen في الموضع B (يتم اشتقاق de sane الألكيل بإستر ester الألكيل من ve ككحول أثناء تخليق الإستر ester وذرة الهيدروجين hydrogen في الموضع | هي ذرة الهيدروجين 008 المرتبطة بذرة الكربون م والمرتبطة بذرة الأكسجين oxygen في وصلة الإيثر في الإستر :8816 ) ٠ ويفضل أن تكون الإستر ester هي إستر كربوكسيلات carboxylate
. ester veut
قد تكون الإسترات esters المناسبة هي إسترات ألكيل alkyl esters بها C:-C,. alkyl 4c sana ؛٠ ولكن يفضل أن تكون الإستر ester عبارة عن إستر ألكيل alkyl ester بها مجموعة .Cr-s alkyl يفضل أن تكون الإستر ester عبارة عن مركب له الصيغة: R-C-(0)-O-C(X)(XV)-C(Y)(Y)-R' ° حيث SR "8 تمثلان هيدروجين hydrogen أو مجموعة 5cY 5¢X 5X sealkyl JS '7ا تمثل مستبدلات أحادية التكافؤ؛ ويفضل مجموعات ألكيل alkyl أو ذرات هيدروجين . hydrogen وحيث تمثل واحدة على الأقل من 17 و "لآ ذرة هيدروجين hydrogen تشمل الإسترات 5 المناسبة التي يمكن استخدامها في عملية الاختراع الحالي: ethyl formate, ethyl acetate, ethyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl formate, n-propyl ١ acetate, n-propyl propionate, n-propyl butyrate, isopropyl formate, isopropyl acetate, isopropyl propionate, isopropyl butyrate, n-butyl formate, n-butyl acetate and t-butyl acetate.
Aa) ويفضل أكثر أن تشتمل «ethyl ester على إستر إيثيل ester يفضل أن تشتمل الإستر ؛ أو بروبيونات إيثيل ethyl acetate ؛ أو أسيتات إيثيل ethyl formate على فورمات إيثيل ester Vo . ethyl acetate Ji على أسيتات ester والأفضل أن تشتمل الإستر ethyl propionate
Led قد يكون خليط المائع في صورة سائل؛ وخاصة مشتقا في صورة رذاذ دقيق (عملية يشار غالباً بالترسيب بالرش)؛ ولكن يفضل أن يكون خليط المائع عبارة عن خليط غازي. يشار غالباً
VY — — إلى عملية الترسيب التي يتم إجراؤها باستخدام خليط غازي كمادة منتجة بترسيب Sa الكيميائي (CVD) الصورة المفضلة لعملية CVD هي عملية CVD ذات تدفق صفحي» وذلك على الرغم من أنه يمكن استخدام عملية CVD ذات تدفق اضطرابي أيضاً. يمكن إجراء العملية على طبقات تحتية ذات أبعاد مختلفة تشمل طبقات تحتية على شكل ألواح oo وخاصة على الألواح المقطوعة من الزجاج؛ أو يفضل مباشرة أثناء عملية إنتاج الزجاج المسطح على شريط متصل من الزجاج. وهكذا يفضل إجراء العملية مباشرة أثناء عملية إنتاج الزجاج المسطح وتكون الطبقة التحتية عبارة عن شريط من الزجاج. إذا تم إجراء العملية مباشرة فيفضل إجراؤها على الشريط الزجاجي أثناء وجودة في حمام الطفو. ميزة إجراء العملية مباشرة هو أن الطلاءات المترسبة مباشرة تميل إلى المتانة ويكون لها خاصة - مقاومة احتكاك مرتفعة ومقاومة للكيماويات. تفضل عملية الترسيب المباشر؛ ويمكن إجراء عمليات ترسيب أخرى عند الضغط الجوي بشكل رئيسي. في نموذج مفضل بشكل خاص تم توفير Adee لإنتاج زجاج مطلي شديد التحمل od فعالية حفزية ضوئية تشتمل على ترسيب طبقة من ثاني أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذى فعالية \o حفزية ضوئية على سطح طبقة تحتية من الزجاج بواسطة تلاميس سطح الطبقة التحتية التي تتراوح درجة حرارته بين 1469م و 7780م ويفضل أن تتراوح بين 176 مو + aa VY خليط مائع يحتوي على مصدر titanium pill كما لوحظ من قبل؛ وجد مقدمو الطلب أنه بترسيب أكسيد التيتانيوم titanium oxide عند ia) حرارة عالية يمكن إنتاج طلاء ذى فعالية حفزية عالية بالنسبة لسمكة؛ حيث أن الطلاءات ذات
يم - السمك القليلة تميل oY يكون لها إنعكاساً أقل؛ ويوفر Lad الاختراع منتجات جديدة بها توليفة مفيدة من فعالية حفزية ضوئية عالية وإنعكاس قليل أو متوسط للضوء. وهكذا يوفر الاختراع الحالي في صورة أخرى طبقة تحتية مطلية ذات فعالية حفزرية ضوئية تشتمل على طبقة تحتية عليها طلاء من أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذى فعالية حفزية ٠ ضوئية على أحد أسطحها تتميز بأن السطح المطلي للطبقة التحتية له فعالية حفزية ضوئية أكبر من 0 "٠١ X سم ' دقيقة ' وإنعكاس للضوء المرئ مقاسا عند السطح المطلي مقداره 77906 أو أقل. تعد الفعالية الحفزية الضوئية العالية مفيدة لأن كمية الملوثات (بما فيها الأوساخ) على السطح المطلي من الطبقة التحتية ذات الفعالية الحفزية الضوئية سوف تقل بشكل أسرع من الملوقات ٠ الموجودة على الطبقات التحتية ذات الفعاليات الحفزية الضوئية المنخفضة نسبياً. وسوف تحدث Lia إزالة سريعة نسبياً للملوثات السطحية عند مستويات قليلة من شدة الضوء فوق البنفسجي. يتم تحديد الفعالية الحفزية الضوئية لأغراض هذه المواصفة Gul معدل نقص الامتقصاص المتكامل لقمم امتصاص الأشعة تحت الحمراء المناظر لامتدادات CH لغشاء رقيق من حمض الستياريك؛ المتكون على الطبقة التحتية المطلية؛ مضاءة بواسطة ضوء فوق بنفسجي من مصباح ٠ ملالا له شدة حوالي ¥Y وات/ Ta عند سطح الطبقة التحتية المطلية وطول موجي للقمة مقداره YO نانومتر. يمكن تكوين حمض الستياريك stearic acid عند الطبقة التحتية المطلبة بواسطة الصب الدوراني لمحلول من حمض الستياريك stearic acid في ميثانول methanol كما ذكر من فيما بعد. يفضل أن يكون للسطح المطلي من الطبقة التحتية فعالية حفزية ضوئية أكبر من TVX) سم ا © دقيقة 'ء ويفضل أكثر أن تكون أكبر من "٠١ XY سم دقيقة ". 0 ند
و يعد إنعكاس الضوء المرئي القليل مفيداً لأنه يصرف الانتباه بشكل أقل من الإنعكاس الكبير وخاصة بالنسبة للطبقات التحتية من pla ويناظر الإنعكاس القليل للضوء المرئي النفاذ العالي له وهو مطلوب غالبا في الاستخدامات المعمارية وخاصة في الاستخدامات في صناعة زجاج السيارات. ٠ يفضل أن يكون للطبقة التحتية المطلية إنعكاساً للضوء المرئي مقاساً عند الجانب المطلي مقداره ٠ أو أقل؛ ويفضل أكثر أن يكون مقداره TY أو أقل؛ والأفضل أن يكون مقداره 11١ أو أقل. في معظم نماذج الاختراع تكون الطبقة التحتية شفافة بشكل رئيسي وفي نموذج مفضل من الاختراع تشتمل الطبقة التحتية على طبقة تحتية من الزجاج. عادة ما تكون الطبقة التحتية ٠ الزجاجية طبقة تحتية من زجاج جير الصودا .soda lime glass عندما تكون الطبقة التحتية عبارة عن طبقة تحتية من زجاج جير الصودا أو طبقة تحتية تحتوي على أيون فلز أقلاء AT فيفضل أن يكون للطبقة التحتية المطلية طبقة سفلية مانعة من أيون فلز القلويات alkali metal ion بين سطح الطبقة التحتية وطلاء أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذى الفعالية الحفزية الضوئية. يقلل هذا ميل أيونات فلز القلويات JED alkali metal jon إلى ve طلاء أكسيد التيتانيوم oxide «تدتصها_ذى الفعالية الحفزية الضوئية والذي يعتبر مفيداً لأنه من المعروف أن أيونات فلز القلويات alkali metal jon تميل إلى أن تسمم طلاءات أكسيد شبه الموصل مما يقلل من فعاليتها. قد تشتمل الطبقة السفلية المانعة من أيون فلز القلويات alkali metal fon على أكسيد فلز metal oxide ولكن يفضل أن تكون الطبقة المائعة من أيون فلز القلويات alkali metal jon عبارة عن oy. أكسيد سيليكون A silicon oxide قد يكون أكسيد السيليكون silicon oxide عبارة عن hw 9.6
Coy. ولكن ليس من الضروري أن يكون وفقاً للمعادلة الكيميائية وقد يحتوي على شوائب مثل الكربون ويتم ترسيبها كما ذكر silicon oxycarbide (يشار إليها غالبا على أنها أوكسي كربيد السيليكون (يشار إليها غالباً على أنها nitrogen في البراءة البريطائية 7194451 - ب أو نيتروجين .) silicon oxynitride أوكسي نيتريد السيليكون
٠ .من المفيد إذا كانت الطبقة السفلية المائعة من أيون فلز القلويات alkali metal fon رقيقة بحيث لا يكون لها تأثير كبير على الخواص الضوئية للطلاء» وخاصة بواسطة تقليل شفافية الطبقة التحتية المطلية الشفافة أو إحداث ألوان تداخل أثناء الإنعكاس أو النفاد. سوف يعتمد مدى السمك المناسب على خواص المادة المستخدمة لتكون طبقة مائعة من أيون فلز القلريات alkali metal ion (وخاصة معامل الإنكسار) ولكن عادة ما يكون سمك الطبقة السفلية المانعة من أيون فلز
٠ القلويات alkali metal jon أقل من ٠١ نانومتر؛ ويفضل أن يكون سمكها أقل من 5٠ نانومتر. عندما تكون موجودة يجب أن تكون الطبقة السفلية المانعة من أيون فلز القلويات alkali metal jon سميكة إلى حد كاف لمنع إنتقال أيونات فلز القلويات alkali metal ion من الزجاج إلى طلاء أكسيد التيتانيوم ٠ titanium oxide من مميزات الاختراع الحالي أن سمك طلاء أكسيد التبتانيوم titanium oxide ذى الفعالية
١ الحفزية الضوئية يكون قليلاً (يشارك في الإنعكاس القليل للضوء المرئي على الطبقة التحتية المطلية) ولكن لا يزال للطبقة التحتية المطلية فعالية حفزية ضوئية ممتازة. يفضل أن يكون سمك طلاء أكسيد التيتانيوم 3١ titanium oxide نانومتر أو أقل؛ والأفضل أن يتراوح سمكه بين ؟ و Yo نانومتر تقريباً. يعد الاختراع الحالي مفيداً أيضاً لأن ترسيب طبقة رقيقة من طلاءات أكسيد التيتانيوم titanium
zis oxide © إلى مادة منتجة JF ويمكن ترسيب الطبقات في وقت قليل نسبياً. من المحتمل غ١٠
١١ - أيضاً بصورة أقل أن يسبب الطلاء الرقيق من أكسيد التيتانيوم titanium oxide الوان تداخل أثناء الإنعكاس أو النفاد. إلا أنه توجد ميزة خاصة هي أن إنعكاس الضوء المرئي لطلاء أكسيد التيتانيوم titanium oxide يكون قليلاً والذي يعد مهما بشكل خاص عندما تكون الطبقة التحتية المطلية عبارة عن زجاج مطلي . عادة ما يحدد نفاد الضوء المرئي المطلوب من الزجاج المطلي
سمك طلاء أكسيد التيتاتيوم titanium oxide .
يفضل أن يكون للسطح المطلي للطبقة التحتية زاوية تلامس أستاتيكية للماء مقدارها "7١ أو أقل. للزجاج المحضر أو المنظف حديثاً سطح آلف للماء (تكون زاوية التلامس الاستاتيكية للماء أقل من 450 تقريباً مما يبين أن السطح آلف للماء) ولكن سرعان ما تلتصق الملوثات العضوية : بالسطح مما يزيد من زاوية التلامس. الفائدة المحددة للأسطح المطلبة وخاصة أنواع الزجاج ٠ المطلي وفقاً للاختراع Jal هي أنه إذا اتسخ السطح المطلي؛ فإن تعرضه للأشعة فوق البنفسجية ذات الطول الموجي المناسب سوف يقلل زاوية التلامس بواسطة تقليل أو تدمير تلك الملوثات. وهناك ميزة أخرى أن الماء سوف ينتشر عبر السطح ذى زاوية التلامس المنخفضة مقللا التأثير الذي لا يمكن تجاهلة لقطرات الماء على السطح (مثلاً من الأمطار) فيغسل أي أوساخ أو ملوثات أخرى لم يتم تدميرها بواسطة الفعالية الحفزية الضوئية للسطح. زاوية ١ التلامس الاستاتيكية للماء هي الزاوية المحددة بواسطة السطح الفاصل لقطرة الماء على سطح الزجاج ويمكن تحديدها بواسطة أسلوب معروف وذلك بقياس قطر قطرة ماء ذات حجم معين
على سطح الزجاج وحسابها باستخدام إجراء تكراري. يفضل أن يكون للمادة التحتية المطلية ضبابية مقدارها 7١ أو أقل؛ ويعد ذلك مفيداً لأنه يسمح
بوضوح الرؤية خلال الطبقة التحتية المطلية الشفافة. Yt
— \ Y —
في نماذج مفضلة؛ يكون السطح المطلي للطبقة التحتية شديد التحمل للإحتكاك؛ بحيث يظل ذو
فعالية حفزية ضوئية بعد أن يتعرض لثلثمائة شوط في الاختبار القياسي الأوروبي للإحتكاك.
ويفضل أن يظل السطح المطلي ذى فعالية حفزية ضوئية بعد أن يتعرض لخمسمائة شوط في
الاختبار القياسي الأوروبي للاحتكاك. ويفضل أكثر أن يظل السطح المطلي ذى فعالية حفزية
م ضوئية بعد أن يتعرض لألف شوط في الاختبار القياسي الأوروبي للاحتكاك.
يعد هذا مفيداً لأن الطبقات التحتية المطلية ذاتية التنظيف وفقاً للاختراع سوف تستخدم غالباً مع
سطح عرضي معرض للجو (مثل أنوا ع زجاج مطلية لها سطح مطلي من الزجاج كسطح
خارجي لنافذة) وحيث يكون الطلاء معرضا للاحتكاك.
يشير الاختبار القياسي الأوروبي للاحتكاك إلى اختبار الاحتكاك المذكور في المواصفة الأوروبية BSEN ٠١+ ٠ الجزء الثاني Aid 1999 ويشتمل على الحركة الترددية لوسادة من الفلين بسرعة
وضغط محددين على سطح العينة .
في المواصفة الحالية تعتبر الطبقة التحتية المطلية مازالت ذات فعالية حفزية ضوئية إذا ما قللت
زاوية التلامس الاستاتيكية للماء إلى أقل من ٠6 بعد تعرضها للاختبار القياسي الأوروبي
للاحتكاك؛ والضوء فوق البنفسجي (مثلا طول موجي عند القمة مقداره Yo نانومتر). للحصول ١ على زاوية التلامس هذه بعد حك الطبقة التحتية المطلية فإن هذا يستغرق أقل من £A ساعة من
التعرض لأشعة شدتها VY وات/ م تقريباً. عند سطح الطبقة التحتية.
يفضل أن تكون ضبابية الطبقة التحتية المطلية مقدارها SY أقل بعد تعرضها للاختبار القياسي
الأوروبي للاحتكاك.
دس الطبقات التحتية المطلية شديدة التحمل وفقاً للاختراع الحالي قد تكون ششديدة التحمل أيضاً للتعرض الدوري للرطوبة (الذي يهدف أن يكون له تأثير مشابه للتعرض للعوامل الجوية). وهكذا في نماذج مفضلة من الاختراع يكون السطح المطلي للطبقة التحتية شديد التحمل للتعرض الدوري للرطوبة بحيث يظل ذى فعالية حفزية ضوئية بعد تعرضه لمائتي دورة من اختبار ٠ التعرض الدوري للرطوبة. في المواصفة الحالية يشير اختبار التعرض الدوري للرطوبة إلى اختبار يتعرض فيه الطلاء دورياً إلى درجة حرارة 75م إلى #لأم ثم إلى a To على مدى ؛ ساعات في رطوبة نسبية 7٠٠١ تقريباً. تعتبر الطبقة التحتية مازالت ذات فعالية حفزية ضوئية إذا تم تقليل زاوية التلامس الأستاتيكية للماء إلى أقل من ٠٠# م بعد الاختبار وتعرضها للضوء فوق البنفسجي.
٠ في نموذج مفضل آخرء يوفر الاختراع الحالي زجاجاً مطلياً شديد التحمل له فعالية حفزية ضوئية يشتمل على طبقة تحتية من الزجاج عليها طلاء على أحد أسطحهاء؛ ويشتمل الطلاء : المذكور على طبقة سفلية مانعة من أيون فلز أقلاء وطبقة أكسيد تيتانيوم ذات فعالية حفزية ضوئية؛ وحيث يكون السطح المطلي للطبقة التحتية شديد التحمل للحك بحيث يظل ذى فعالية حفزية ضوئية بعد تعرضه لثلثمائة شوط في الاختبار القياسي الأوروبي للاحتكاك. في هذا
vo النموذج يفضل أن يكون للزجاج المطلي إنعكاسا للضوء المرئي مقاساً على الجانب المطلي مقداره 7725 أو أقل؛ ويفضل أن يكون سمك طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذات الفعالية الحفزية الضوئية مقداره Yo نانومتر أو أقل. تعد الطلاءات الرقيقة شديدة التحمل للحك مما يدعو للدهشة لأنه كان يعتقد فيما مضى أن الطلاءات السميكة نسبياً فقط لها تكون شديدة التحمل بشكل
Yong
- ١ع
في نموذج آخر كذلك؛ يوفر الاختراع الحالي زجاجاً مطلياً يشتمل على طبقة تحتية من الزجاج عليها طلاء من أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذى فعالية حفزية ضوئية على أحد أسطحهاء وتتميز بأن السطح المطلي من الزجاج له فعالية حفزية ضوئية أكبر من ؛ 7 ٠١ سم" دقيقة"
'؛ ويفضل أكبر من 3 » "٠١ سم "ا دقيقة '؛ وأن الزجاج المطلي له إنعكاس للضوء المرئي
© مقاسا على الجانب المطلي أقل من .77١8 الطبقات التحتية المطلية للاختراع الحالي لها استخدامات في مجالات كثيرة؛ على سبيل المثال لتزجيج النوافذ ويشمل ذلك وحدة التزجيج المتعدد التي تشتمل على لوح تزجيج أول من طبقة تحتية مطلية ولوح تزجيج ثان مقابل بينهما فاصل؛ أو عندما تكون الطبقة التحتية المطلية زجاجاً مطلياً مثل زجاج صفائحي يشتمل على رقيقة زجاجية أولى؛ وطبقة بينية بوليمرية (من بولي ٠ فينيل بيوتيرال على سبيل (JB ورقيقة زجاجية ثائية.
بالإضافة إلى استخداماتها في الطبقات التحتية ذاتية التنظيف (وخاصة الزجاج ذاتي التنتظيف المستخدم في النوافذ)؛ قد تكون Lad الطبقات التحتية المطلية للاختراع الحالي مفيدة في تقليل تركيز الملوثات الجوية. فعلى سبيل المثال قد يدمر الزجاج المطلي المعرض للأشعة ذات الأطوال الموجية التي تقع في الضوء فوق البنفسجي (وتشمل الأطوال الموجية الموجودة في
00 ضوء الشمس) الملوثات الجوية Jie أكاسيد النيتروجين «nitrogen والأوزون؛ والملوثفات العضوية التي تمتز على السطح المطلي من الزجاج. يعد هذا الاستخدام Tae بشكل خاص في المساحات المفتوحة من المناطق المحاطة بالمباني العالية (مثل شوارع المدن) حيث يكون تركيز الملوثات العضوية عال نسبياً (وخاصة في ضوء الشمس الشديد)؛ وكذلك أيضاً حين تكون مساحة السطح المتاحة من الزجاج كبيرة نسبياً. بديلاً ella يمكن استخدام الزجاج المطلي
٠١ج
— م \ _ (سطحه المطلي إلى الداخل) لتقليل تركيز الملوثات الجوية داخل المباني؛ وخاصة في المباني الإدارية التي بها تركيز عال نسبياً من الملوثات الجوية. شرح مختصر للرسومات هه شكل رقم ) \ ( : عبارة عن منحنى لزجاج مطلي ذى فعالية حفزية ضوئية منتج بواسطة عملية وفقاً للاختراع كدالة في سمك طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide . شكل رقم (7): عبارة عن جهاز للترسيب المباشرة لطلاءات من البخار الكيميائي وفقاً للاختراع. الوصف التفصيلي في شكل رقم )١( تم إنتاج أنواع الزجاج المطلية باستخدام عملية CVD مباشرة كما ذكر في ٠ الأمثلة فيما بعد تتعلق الدوائر المفتوحة )١( بطبقات أكسيد التيتانيوم titanium oxide المترسبة باستخدام رابع كلوريد التيتانيوم titanium tetrachloride كمادة منتجة cal وتتعلق الصلبان (؟) بطبقات أكسيد التيتانيوم titanium oxide المترسبة باستخدام تترا إيثوكسيد التيتانيوم titanium 26007106 كمادة منتجة له. يمكن وضع طبقات الطلاء مباشرة على المادة التحتية من الزجاج بواسطة ترسيب البخار vo الكيميائي أثناء عملية تصنيع الزجاج. يوضح شكل رقم (Y) جهازاً يشار إليه عموما بالرقم )٠١( وهو مفيد في الإنتاج المباشر لأنواع الزجاج المطلي Gay للاختراع الحالي؛ ويشتمل على قسم الطفو float section (١١)؛ وفرن التلدين (VY) lehr ¢ وقسم تبريد L(Y) cooling section لقسم الطفو (VV) قاع )٠( bottom يحتوي على حمام من مصهور القصدير contains a molten tin م١٠
- 01 لهت وسقف roof )11 وجدران جانبية غير موضحة؛ وجدران طرفية (7١)؛ والتي توفر حيزاً محكم الغلق (8١)؛ حيث يتم الحفاظ على الجو غير المؤكسد لمنع أكسدة حمام القصدير (Ve) أثناء تشغيل الجهاز (١٠)؛ يتم صب الزجاج المصهور (V9) في قالب على المجمرة (١٠)؛ ويتدفق من هناك أسفل جدار قياسي (YY) وبعد ذلك يتحرك إلى أسفل على سطح حمام © القصدير (Yo) مكونا شريطا من الزجاج الطافي (WV) float glass ribbon والذي تتم إزالة Aad بكرات إخراج (YY) lift-out rolls ونقله خلال فرن التلدين (VY) وبعد ذلك خلال قسم التبريد VF) يتم الحفاظ على الجو غير المؤكسد في قسم الطفو )١١( بإدخال غاز مناسب مثل غاز يحتوي على النيتروجين nitrogen و ZY بالحجم هيدروجين hydrogen إلى المنطقة (VA) خلال ٠ المجاري (YY) conduits « والتي تتصل بفعالية بالمشعب manifold (4 7). يتم إدخال الغاز غير المؤكسد إلى المنطقة (VA) من المجاري (YF) بمعدل يكفي لموازنة الفواقد في الغاز (يتسرب جزء من الجو غير المؤكسد من المنطقة VA عن طريق تدفقه أسفل الجدران الطرفية ١١)؛ وذلك للحفاظ على ضغط موجب إلى حد طفيف فوق الضغط الجوي. يتم تسخين حمام القصدير (V0) والحيز المغلق (VA) enclosed zone بواسطة الاشعاع الحراري الموجه ١ إلى أسفل من السخانات (YO) يتم الإبقاء بصفة عامة على منطقة التسخين (VA) عند درجات حرارة أعلى من ١77١ ف إلى ٠500 اف (١7لأم إلى (VT عادة ما يحتوي الجو في فرن التلدين (VY) على هواء ولا يشمل ذلك قسم التبريد. يتم نفخ الهواء الجوي على الزجاج بواسطة المراوح (776). يشتمل الجهاز )٠١( أيضاً على وسائل طلاء (YY) و (YA) و )19( و (Fo) موضوعة على ys التوالي في منطقة الطفو )١١( فوق شريط الزجاج الطافي (YY) يتم الإمداد بالخليط.الغازي
ال المنتج للطبقات المنفصلة من الطلاء إلى وسائل الطلاء المناظرة والتي توجه بدورها المخاليط الغازية المنتجة للطبقات إلى سطح شريط الزجاج الطافي (VY) تكون درجة حرارة شريط الزجاج الطافي (TV) أعلى ما يمكن في موضع وسيلة الطلاء 7 الأقرب إلى المجمرة )+ (Y وتكون أقل ما يمكن في موضع وسيلة الطلاء (0“) الأقرب إلى فرن التلدين (VY)
٠ تم أيضاً توضيح الاختراع بواسطة الأمثلة التالية؛ وفيها يتم وضع الطلاءات بواسطة ترسيب البخار الكيميائي عن طريق التدفق الصفحي في حمام الطفو على شريط متحرك من الزجاج الطافي أثناء Adee إنتاج الزجاج. يتم في الأمثلة وضع طبقتين من الطلاء على شريط الزجاج. تم قياس جميع حجوم الغازات عند معدل الضغط ودرجة الحرارة ما لم يذكر خلاف ذلك. تم تحديد سمك الطبقات المذكورة بواسطة المجهر الإلكتروني باستخدام المسح شديد الوضوح وعمل
٠ نموذج ضوئي لطيف الأنعكاس والنفاذية للزجاج المطلي. تم قياس سمك الطلاءات بتباين مقداره 8 تقريباً. تم تحديد خواص النفاذية والإنعكاس لأنواع الزجاج المطلية باستخدام مقياس الطيف -0لطه11218. تشير قيم bg a و*آ المستخدمة في هذا الطلب لألوان الأنعكاس و/أو النفاذية لأنواع الزجاج إلى ألوان .CIELab تم تحديد إنعكاس ونفاذية الضوء المرئي لأنواع الزجاج المطلية باستخدام جهاز الإضاءة Do وجهاز المشاهدة القياسي ©0151 وفقاً لمواصفة الأيزو
م 44840 (Parry Moon airmass Y) . تم قياس ضبابية أنواع الزجاج باستخدام مقياس الضبابية .WYK-Gardner Hazeguard تم تحديد الفعالية الحفزية الضوئية لأنواع الزجاج المطلية من معدل نقص مساحة قمم الأشسعة تحث الحمراء المناظرة لإمتدادات C-H لغشاء حمض الستياريك stearic acid على السطح المطلي للزجاج المضاء بواسطة UVA . تكون غشاء حمض الستياريك stearic acid على عينات
ge ٠ الزجاج مساحتها ١-“سم"ء بواسطة الصب الدوراني لعشرين ميكرولتر من محلول حمض
م١ - الستياريك stearic acid في ميثانول TY XA, A) methanol مول / ديسي ("se على سطح مطلي من الزجاج بسرعة 7٠00١0 دورة/ دقيقة لمدة ١ دقيقة. تم قياس طيف الأشعة تحت الحمراء أثناء النفاذية وتم قباس إرتفاع القمة المناظرة لامتداد CH (عند حوالي 3١-7700 سم ') لغشاء حمض الستياريك؛ وتم تحديد مساحة القمة المناظرة من منحنى معايرة مساحة القمة o _مقابل ارتفاعها. تمت إضاءة الجانب المطلي من الزجاج بواسطة مصباح 0178-3051 له طول موجي عند القمة مقداره YO) نانومتر وله شدة عند سطح الزجاج المطلي Ta fds VY تقريباً (تم الحصول عليه من (Q-panel Co., Claveland, Ohio, USA) وله طول موجي للقمة مقداره TOO نانومتر وشدة عند سطح الزجاج المطلي حوالي PY وات/م". تم التعبير عن الفعالية الحفزية الضوئية في هذه المواصفة كمعدل لنقص مساحة قمم Tau IU) IR دقيقة ') أو .ما ٠ (الدقيقة) وهي زمن التعرض للأشعة فوق البنفسجية المحدد لتقليل إرتفاع القمة (امتصاص) لقمة في مساحة الطول الموجي إلى 7٠١ من قيمتها الأصلية. تم تحديد زاوية التلامس الاستاتيكية للماء لأنواع الزجاج المطلية بواسطة قياس قطر قطرة الماء (يتراوح حجمها بين ١ و © ميكرولتر) الموضوعة على سطح الزجاج المطلي بعد تعرضه للأشعة بواسطة مصباح 17/875١ لمدة ساعتين تقريباً (ما لم يذكر خلاف ذلك). ١ الأمثلة :)١١-١( تم طلاء شريط سمكه ١ مم من زجاج جير الصودا الطافي يتقدم في فرن التلدين بسرعة You متر/ ساعة بطبقتين من الطلاء عند تحرك الشريط عبر حمام الطفو عند موضع تتراوح فيه درجة حرارة الزجاج بين 66م و pW يشتمل جو حمام الطفو على تدفق خليط غازي من النيتروجين nitrogen و 795 هيدروجين hydrogen عند ضغط Ne ملي بار.
- ye كانت الطبقة (١ الطبقة الأولى المراد ترسيبها على الزجاج) عبارة عن طبقة من أكسيد السيليكون silicon oxide . تم ترسيب الطبقة ١ بتلامس خليط غازي من مونوسيلان monosilane (:5111؛ ٠١ ملء دقيقة)؛ وأكسجين ١١( oxygen مل/ دقيقة)؛ وإيثيلين ethylene TT) مل/ دقيقة)؛ ونيتروجين A) mitrogen لتر/ دقيقة) وتدفقه موازيا لسطح الزجاج في اتجاه م تحركه باستخدام جهاز طلاء مثل المذكور في مواصفة البراءة الإنجليزية رقم 1507977 (يشار إليه بالتحديد على أنه شكل (7) والوصف المناظر في صفحة ؟ السطر VV حتى صفحة ؛ السطر (Vo ويكون مسار تحرك الخليط الغازي عبر سطح الزجاج حوالي 816 متر.تم الاستخلاص عند ضغط مقداره 0,4 - 1,7 ملي بار تقريباً. تم طلاء شريط الزجاج بعرض حوالي ٠١ سم عند نقطة تكون درجة حرارتها حوالي 776 vp يتراوح سمك طبقة السيليكا © 51118 بين 5٠١ و YO ميكرون. كانت YAS) (الطبقة الثانية المراد ترسيبها) من ثاني أكسيد التيتانيوم titanium oxide . تم ترسيب الطبقة ١ بواسطة مزج تيارين غازيين منفصلين يشتملان على رابع كلوريد التيتانيوم titanium tetrachloride في غاز حامل متدفق من النيتروجين nitrogen ¢ وأسيتات ethyl Jd A acetate غاز Jala متدفق من النيتروجين nitrogen وتدفق كتلي من النيتروجين nitrogen Ve بمعدل 8 لتر/دقيقة (تم قياس معدل التدفق عند 90978 جرام/ بوصة' ) في خليط غازي وبعد ذلك تم توصيله خلال الخطوط مع إبقاؤه عند ٠705م تقريباً إلى جهاز طلاء يتكون من وسيلة طلاء ذات تدفق مزدوج مبردة بالزيت. كان ضغط غاز النيتروجين nitrogen الحامل وغاز النيتروجين nitrogen ذى التدفق الكتلي حوالي 909760 جرام/ بوصة'. يتلامس الخليط الغازي مع سطح الزجاج ويتدفق موازيا له قبل وبعد الشريط الزجاجي وعلى إمتداده. كان المسار القبلي CSN EEE الخليط الغازي حوالي ١,16 متر وكان المسار البعدي حوالي ١.16 متر مع الإخراج عند ضغط TALI PEN ملي بار. تم سحب راجع كلوريد التيتانيوم titanium chloride
Yt
لا
وأسيتات الإيثيل ethyl acetate 4 تيارات منفصلة من غاز النيتروجين nitrogen الحامل
المتدفق بواسطة تمرير خلال وسائل تكوين فقاعات تحتوي على رابع كلوريد تيتانيوم titanium nitrogen ثم ذكر معدلات تدفق غازات التيتروجين . ethyl acetate أسيتات إيثيل chloride
الحاملة في جدول )١( (تم قياس معدلات التدفق عند 90978 جرام/ بوصة'). تم إبقاء وسيلة
٠ تكوين فقاعات رابع كلوريد التيتانيوم titanium tetrachloride عند 145 ca وتم إبقاء وسيلة تكوين
فقاعات أسيتات الإيثيل ethyl acetate عند 7؛"م. تم أيضاً ذكر معدلات التدفق المقدرة لرابع
كلوريد التيتانيوم titanium tetrachloride المسحوب وأسيتات الإيثيل ethyl acetate المسحوبة
في جدول )١( لكل مثال من الأمثلة .)15-١( تم قياس خواص الطلاءات المكونة من طبقتين.
تم ذكر قيم سمك الطبقة ؟ (طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide )؛ وقيم / أنعكاس الضوء ٠ المرئي المقاسة على الجانب المطلي؛ و *1؛ وضابية أنواع الزجاج المطلية في جدول (X)
بالنسبة للأمثلة L(V 0m) كانت ضبابية كل نوع زجاج مطلي أقل من 0,7 7.
تم تحديد الفعالية الحفزية الضوئية وزاوية التلامس الاستاتيكية مع الماء لأنواع الزجاج المطلي.
تم ذكر الارتفاع الابتدائي للقمة والمساحة الابتدائية للقمة لقمم 18 المناظرة لامتدادات CH
لحمض الستياريك؛ والفعالية الحفزية الضوئية؛ وزاوية التلامس الاستاتيكية للماء و LB te. (YoY) ٠١ في جدول (VF) من المدهش أن تأثير سمك طبقة أكسيد titanium oxide asia) كان
طفيفا على الفعالية الحفزية الضوئية.
الأمثلة (16-؟١):
تم إجراء الأمثلة )14-11( تحت نفس ظروف الأمثلة )١5-١( فيما عدا أن ضغط الحمام كان
حوالي ١,1١ ملي بارء والإخراج من أجل ترسيب الطلاء السفلي من السيليكا silica (الطبقة )١ ٠ كان عند ١,7 ملي بارء وتم إبقاء وسيلة تكوين فقاعات رابع كلوريد التيتانيوم. titanium
J وثم إيقاء وسيلة تكوين فقاعات أسيتات ¢ 5 Yao عند درجة حرارة حوالي tetrachloride
. 5 YY م ؛ وتم إبقاء خطوط التوصيل عند حوالي fo Js عند ethyl acetate
تم ذكر معدلات تدفق غاز النيتروجين nitrogen الحامل ؛ معدلات التدفق المقدرة لرابع كلوريد
التيتانيوم titanium tetrachloride المحسوب وأسيتات الإيثيل ethyl acetate المسحوبة لكل من
.)١( جدول (VAY) الأمثلة ٠
تم ذكر قيم السمك المقدرة للطبقة ١ (طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide )؛ وقيم انعكاس
الضوء المرثي المقاسة على الجانب المطلي؛ و *1؛ وضبابية أنواع الزجاج المطلية في جدول
(14-19) لكل مثال من الأمثلة (Y)
تم ذكر الارتفاع الابتدائي للقمة والمساحة الابتدائية للقمة لقمم TR المناظرة لامتدادات C-H ٠ لحمض الستياريك؛ والفعالية الحفزية الضوئية؛ و ..74؛ وزاوية التلامس الاستاتيكية للماء لكل
مثال من الأمثلة (YA) في جدول رقم (YF)
لم تكن الفعالية الحفزية الضوئية للأمثلة )١5-١١( أكبر بشكل رئيسي منها في الأمثلة (Yo)
بالرغم من طلاءات أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذات السمك الأكبر (ومن ثم كانت أكثر
إنعكاسية).
٠١١م
)١( جدول رقم أسيتات إيثيل 110 (dag رطل/ ٠١ لتر/دقيقة مقاساً عند ethyl acetate (لتر/ دقيقة) (لتر/ دقيقة) ethyl acetate 1101, فقاعات 1 oo YY ١ 7 ١
Ye +e YE LY oY Y Y ٠,١١ 6 0 ١ 1 "4 م ا م ¢ eV AR: oe ١ 5
Yo ve Ve Yo oY 1
Ye eV oY eA ل ١ ve NT .,0 eA A كير مم +) o,f q oY eA Yo o,f ٠١ او en A Yo كر ١١ ءءء oe YY ٠,1١ 1 VY مم oN 1 “oA yy 14 YY 4 oA Ve قم" oe YY ٠ 1 \o غم فا 8 ٠,١ 7 ١ بلا “4 A إفا 7 ار لاي vel YA م ا ٠ vv 14
Yong
سوب جدول رقم (Y) ( J ) ( J ) المطلي ( J ) للزجاج المطلي titanium oxide
PAY 3 YR yo \ لان 2 74 VEY Y
CY 2 A ١ ¥
CoA ‘ ١ NY ¢
CoA 3 ١71 1 o eV . . 1, 1
SE 8 2 A 7 et vv qv رلا A ب م" 91 1 9 لاي 11 4 8,1 ١ "1 vo AY £1 ١ 1 5 Vo, Vo, VY
AY . 2 م VY
CAE 3 VY ا ١ 7 51١ 14,0 Yor Vo
OY EVA YA, 2 8 ل 8 Y4,) تقريباً 4 VY
LYE 60,1 Yo,4 تقريباً TY VA
OY 8 تقريباً ف TV 4 ١١غ
— كلا جدول رقم )¥( قمم TR المناظرة لامتدادات C-H لغشا ء ٠١-٠ ( stearic acid اسم ”\ ( المثال | الارتفاع الابتدائي | المساحة | الفعالية الحفزية | زاواية te, Lal (وحدات | الإبتدائية للقمة | الضوئية Vex) | التلامس | (دقيقة) متغيرة) (las a’ | (Taw) | الأستاتيكية للماء ()
Ye. له q,¢ V0 8 oe Ve ١ ٠١ ١ + ٠١ ٠١ دارا oe YY) Y
A Y + VY ١ ما oe ل Yo ٠١+ ٠84 1A YY YY E ¢ ١ ١ Y+ ١ "١ A, Y \ م ve 7 AY © ٠١ ١+ Yo AA +, 4A 0 YA 1 ٠١ ٠+ ٠ ٠ ٠ oe VEY ل \§ Y+£ 41 خخ ل يا تمي A + 1+ ٠6 1,0 يق ما 5 تن" + ٠ اي AA +,» YYA ٠١
Ya + YA 0,¢ د 0 ١ 9 1١7 ٠١ 41ت ما VY yo Y+ V1 ¢ 9,1 لا قم مرا 3 Y+ ٠ 8 "1 4 تن" ل Y+ ٠ AY ٠,٠ YY) Yo 7 كك قا رخا "9 ¢
A VY ٠١ 1 ا مي YYo YA 0 اد VY ٠١ لأ A 1 ٠١ 4 +, 2 YOA 4 Yet
— Y مج —
الأمثلة (TV - Ye) تم إجراء الأمثلة (YY -7١( تحت نفس ظروف الأمثلة ١( - 10( فيما عدا أنه تم ترسيب الطبقة ¥ من خليط غازي يشتمل على تترا إيثوكسيد تيتانيوم titanium tetraethoxide مسحوب في غاز نيتروجين nitrogen حامل بواسطة تمرير الغاز الحامل خلال وسيلة تكوين فقاعات تحتوي على تترا aS gi تيتانيوم A titanium tetracthoxide إيقاؤه عند ١7١ م .تم ذكر معدلات تدفق غاز النيتروجين nitrogen الحامل (مقاسا عند ٠١ رطل/ بوصة') وتترا إيثوكسيد التيتانيوم titanium tetraethoxide فى جدول (4) لكل مثال من الأمثلة (YY -٠٠ كان معدل
َ في التدفق الكتلي للنيتروجين nitrogen ع لتر/ دقيقة (مقاساً عند [da Yo بوصة") . تم قياس خواص الطلاءات ذات الطبقتين. تم ذكر قيم سمك الطبقة ؟ (طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide ٠ ) وقيم انعكاس الضوء المرئي المقاسة على الجانب المطلي والضبابية لأنواع الزجاج المطلية في جدول )0( بالنسبة للأمثلة (YY -7١( كانت ضبابية كل نوع من الزجاج
المطلي أقل من JN تم تحديد الفعالية الحفزية الضوئية وزاوية التلامس الاستاتيكية للماء لأنواع الزجاج المطلي. تم ذكر الإرتفاع الابتدائي للقمة والمساحة الابتدائية لها وقمم IR المناظرة لامتدادات 0-15 5 لات oe والفعالية الحفزية الضوئية؛ وزاوية التلامس الأستاتيكية للماء مثال من الأمثلة (YY -7١( في
جدول رقم (1). الأمثلة YA) و ؟1): ثم إجراء الأمثلة Y A) و 3 ( تحت نفس ظروف الأمثلة ) لا (Y فيما عدا أن وسيلة تكوين فقاعات تترا إيثوكسيد التيتانيوم titanium tetracthoxide تم إبقاؤها عند a VTA وكان ضغط
١,١١ plead) ملي بار. تم ذكر البيانات المتعلقة بالأمثلة (Ya 5 YA) المكافئة لبيانات AB (YY -7٠١( في الجداول (4) و(*) و(3). جدول رقم (4) معدلات تدفق Jalal nitrogen gas إلى وسيلة معدل تدفق إيثوكسيد المثال / تكوين الفقاعات (لتر/ دقيقة مقاسة عند ٠١ رطل/ التيتانيوم (لتر/دقيقة) بوصة') «Yo Ya 4 + A] A +, 0 ١ OY YY فم ve VE +, Yo Yy ٠ Y¢ ام ved Yo Yo 7 ا 1 YY 1 تمان oe, Ya +, YA ea 0 4 كت
- الال (2) جدول رقم ا me ان )7( المثال الضبابية )7( (نانومتر) للزجاج المطلي oxide ع a VY ١ "1 2 Vy Y) اكد Yo,v 1 yy +, YA 5 YA YY 3 3 Y¢ 9 1 \ أ Yo +) 4 ٠١ 445 7 اكت AA 13% لو "75 8,7 YAY YA +, YY YA,¢ 1,4 5 غير مقاسة
- سالا )6( جدول رقم 2. | المثال | الارتفاع الابتدائي المساحة الفعالية الحفزية | زاواية التلامس الأستاتيكية للماء | (دقيقة) | TV ox) للقمة (وحدات | الإبتدائية للقمة | الضوئية 0 )' متغيرة) (سم ")| اسم" دقيقة o +14 o,v ا SL Y.
VY a o,v Y,+40 VAY 71١ ل١ ا 7 ,6 م ال؟ YY
VY من 7 رلا ال YY
VY Y+1V Y Y, 010 RL Y¢
VY £41 Y إل A Var) Yo
YY Y4Y 2 Y, Ao VY 71
YA 9+7 ل وى" فخ بن
YA VY v1 YY oY YA
YY Xi vy AEA Lave Yq غير مقاسة a ٠١غ
و" - الأمثلة (47-70): ض في الأمثلة )£77( تم مباشرة وضع طلاءات من طبقتين بواسطة CVD على شريط الزجاج الطافي عبر عرضه الكامل البالغ ١7 بوصة (©*,© متر) في حمام الطفو أثناء عملية إنتاج الزجاج المسطح. تم توضيح الجهاز المستخدم في ترسيب الطلاء في شكل (7). يحتوي جو ٠ حمام الطفو على نيتروجين nitrogen و 77 بالحجم هيدروجين hydrogen . كان ضغط الحمام ملي بار. يتكون الطلاء ذى الطبقتين من طبقة أكسيد سيليكون silicon oxide يتم ترسيبها 9 على شريط الزجاج المسطح ويتم ترسيب طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide على طبقة أكسيد السيليكون silicon oxide . كانت كيمياء المادة المنتجة للمخاليط الغازية المستخدمة لترسيب الطلاء هي ٠ نفسها المستخدمة في الأمثلة -١( 15). تم تغيير درجة حرارة ترسيب الطبقات بواسطة استخدام ض وسائل طلاء مختلفة (YY) أو (YA) (79)؛ أو )7( (بالرجوع إلى شكل رقم ؟). تم وضع وسيلة الطلاء GA (YY) ما يكون للفرن ذى درجة الحرارة الأعلى؛ وتم وضع وسيلة الطلاء )70( أقرب ما يكون لفرن التلدين كونه الأبرد. ثم في (PYF) ABA و )£7( استخدام وسيلتي طلاء YA) و79 في الأمثلة YY ١ و YY و YA في المثال 7؛) لترسيب طلاء أكسيد ١٠ السيليكون silicon oxide فائدة استخدام وسيلتي طلاء لترسيب طبقة أكسيد السيليكون silicon oxide هي أنه يمكن استخدام أزمنة دورات تشغيل أطول. يتكون الخليط الغازي المستخدم لترسيب طبقة أكسيد السيليكون silicon oxide في الأمثلة -7٠١( )8( من الغازات التالية بمعدلات التدفق الآتية: هليوم You) helium لتر/ دقيقة)؛ ونيتروجين nitrogen (7885 لتر/ «(Add و مونوسيلان Y,0) monosilane لتر/ دقيقة)؛ و ٠ لإيثيلين Vo) ethylene لتر/ دقيقة)؛ وأكسجين ٠١( oxygen لتر/ دقيقة). بالنسبة لمثال (7؛) تم
!م استخدام نفس الغازات ونفس معدلات التدفق فيما عدا بالنسبة للمونوسيلان Y,¥) monosilane لتر/ دقيقة)؛ والإيثيلين VY,A) ethylene لتر/ دقيقة) و أكسجين 4,Y) oxygen لتر/ دقيقة). عند استخدام وسيلتي طلاء لترسيب طبقة أكسيد السيليكون silicon oxide .في الأمثلة (£Y =F) ثم استخدام معدلات التدفق المذكور لكل وسيلة طلاء. م في الأمثلة -7٠١( 47) كانت درجات حرارة الترسيب (أي درجة حرارة شريط الزجاج المسطح تحث وسيلة الطلاء المناظرة لكل من وسائل الطلاء =v V) « 0 كما هي موضحة في جدول 071 . لدرجات الحرارة في جدول (V) تفاوت حوالي + aoe 78 م) ٠ كان إخراج كل وسيلة طلاء عند ؟ ملي بار تقريباً. جدول رقم (V) لال ٠ف (AVY) YA 6 ف (Aas) 9 178 ف (a1YV) Ye 18 ف (IY) ٠ ثم سحب رابع كلوريد التيتانيوم (TiC) titanium tetrachloride وأسيتات الإيثيل ethyl acetate في تيارات حاملة منفصلة من غازات نيتروجين [nitrogen هليوم. تم استخدام مبخر ذو غشاء رقيق من أجل تبخير TICK تم الاحتفاظ ب ,2101 السائل في حاوية ذات ضغط مرتفع (أرتفاع الضغط حوالي 0 رطل/ بوصة'). تم استخدام هذا لتوصيل السائل إلى مضخة معيارية ونظام لقياس تدفق قوة كوريوليس. بعد ذلك تتم التغذية بالتدفق المعياري من المادة المنتجة إلى كد
لأسا المبخر ذى الغشاء الرقيق عند درجة حرارة ١٠٠أف (p77) بعد ذلك يتم سحب .1101 في الغاز الحامل (هليوم) ويتم توصيله إلى نقطة الخلط أسفل الخطوط عند (VY) You تم Joa أسيتات ethyl acetate Jay! بطريقة مشابهة. تم الاحتفاظ بأسيتات الإيشيل ethyl 568 .في حاوية ذات ضغط مرتفع (أرتفاع الضغط حوالي © رطل/ بوصة). تم استخدام هذا ٠ لتوصيل السائل إلى مضخة معيارية ونظام لقياس تدفق قوة كوريوليس. بعد ذلك تتم التغذية بالتدفق المعياري من sald) المنتجة إلى المبخر ذى الغشاء الرقيق عند درجة حرارة GOYA (١٠م). بعد ذلك تم سحب أسيتات الإيثيل ethyl acetate المتبخرة في غاز Jala (خليط من الهليوم helium / النيتروجين nitrogen ) وتوصيلها إلى نقطة الخلط أسفل الخطوط عند 0٠75"ف (١١١م). ٠ تم تجميع التيارات الغازية ل ,1101 وأسيتات الإيثيل ethyl acetate لتكوين خليط غازي يستخدم لترسيب طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide وكانت نقطة الخلط هذه قبل وسيلة الطلاء مباشرة. تم ذكر السرعة الخطية لشريط الزجاج الطافي ودرجة حرارة ترسيب أكسيد السيليكون silicon oxide ء وتم ذكر درجة حرارة ترسيب طبقات أكسيد التيتانيوم titanium oxide ؛ ومعدلات ١ تدفق غاز Ny/He الحامل ذى التدفق الكتلي ¢ ومعدل تدفق ,1101 وأسيتثات ethyl acetate JY! بالنسبة -*٠١( ABOU 47) في جدول رقم (A) تم تبريد شريط الزجاج المسطح المطلي وتقطيعه وتم تحديد الخواص الضوئية والفعالية الحفزية الضوئية للعينات. يحتوي جدول رقم(4) على الضبابية؛ والخواص الضوئية elt النفاذ والأنعكاس (النسبة المثوية لإنعكاس/ نفاذ الضوء المرئي وإحداثيات اللون باستخدام ٠ نظام (IAP للعينات. تعرضت أنواع الزجاج المطلي لاختبار الاحتكاك وفقاً للمواصفة BSEN 7 » وفيها يتم تثبيت عينة أبعاده Yoo X pales مم بجساءة عند أركانها الأربعة بطاولة الاختبار لضمان عدم أمكانية تحرك العينة. بعد ذلك يتم تركيب وسادة جديدة من الفلين مقطوعة غ١
- لا
بالأبعاد المذكورة في المواصفة BSEN ٠0576 الجزء الثاني لعام ١994 في أصبع الاختبار ويتم
إنزاله على سطح الزجاج. بعد ذلك يتم ضبط ضغط الحمل على أصبع الاختبار عند ؛ نيوتن
ويبدأ الاختبار. يسمح للأصبع بأن يتحرك تردديا عبر العينة لمدة 9060© شوط بسرعة. 60 + 1
شوط/ دقيقة. بعد إنتهاء هذا الاحتكاك يتم إخراج العينة وفحصها ضوئيا من أجل الفعالية الحفزية ١ الضوئية. تعتبر العينة إجتازت الاختبار إذا كانت نتائج الاحتكاك هي حدوث تغير في النفاذية لا
يتعدى + 70 عند قياسها عند 00٠ نانومتر وأن تظل الطبقة التحتية المطلية ذات فعالية حفزية
ضوئية مما يعني أنه بعد الاختبار وتعريضها للضوء فوق البنفسجي لمدة ساعتين تنخفض زاوية
التلامس الاستاتيكية للماء إلى أقل من Sve
تم أيضاً تعريض أنواع الزجاج لاختبار التعرض الدوري للرطوبة وفيه يتعرض الطلاء لدورة
٠ حرارة “ام إلى Ve إلى ©7أم لمدة ؛ ساعات في رطوبة نسبية 7٠٠١ تقريباً. تم ذكر زاوية التلامس الاستاتيكية للماء لأنواع الزجاج المطلي بعد إنتاجها وتعريضها للأشعة فوق البنفسجية لمدة ١7١ دقيقة بواسطة مصباح UVA Yo) عند YY وات/ م تقريباً وبعد 206 ٠٠ dfs و/أو ٠ شوط في اختبار الاحتكاك القياسي الأوروبي في جدول .)٠١( تم تحديد زاوية تلامس العينات التي تم حكها بعد تعرضها للأشعة لمدة ساعتين.
١ كانت العينات التي تم ترسيب الطلاء عليها عند درجات حرارة عالية ١5٠-13١ "ف (771- لالاحام) ذات فعالية حفزية ضوئية حتى بعد ٠٠٠١ شوط في اختبار الاحتكاك القياسي الأوروبي أو بعد ٠٠٠ دورة من التعرض الدوري للرطوبة. تم ذكر الفعالية الحفزية الضوئية بمدلول gta لأنواع الزجاج المطلي بعد إنتاجهاء وبعد 00 و/أو ٠0 و/أو ٠٠٠١ شوط في اختبار الاحتكاك القياسي الأوروبي وبعد ٠٠١ دورة من اختبار التعرض الدوري
٠ للرطوبة في جدول رقم .)١١( في جدول رقم (VV) يوضح المصطلح فعال أن أنواع الزجاج المطلي كانت ذات فعالية حفزية ضوئية ولكن لم يتم تحديد .4 لها.
٠١م
vy — جدول رقم (A) ا سس المثال | السرعة | درجة حرارة ترسيب | درجة حرارة | معدلات تدفق الغازات | معدلات تدفق المواد
Akad | طبقة silica | الترسيب "م الحامل المنتجة
ethyl TiCl, JA Ny JA He (متر/
دقيقة) دقيقة دقيقة | سم/دقيقة | acetate
| سم ”/دقيقة YY Ly Ya.
Yao 71 VV 04 4 7 YY L,Y You You 171 YY 1 ٠ 71 LY You Yau 71 YY, 1 ٠ 77 “ار vy ا ولالاة 71 Yoo Yao ار YY Yau Yao 71 14. ٠4 vi 1 1 Yau Yao 71 14. ٠4 Yo 1 1 V1 1 Yoo Yoo 171 14. V4.4 v1 VEY 6,0 Yoo Ya vy 14. 14,4 vy VEY 0,0 Ya Yao YY 14, ٠4 YA VEY 0,0 Yoo Fao vy 14. ٠4 vq £4 4 ف YE, °,0 You Yoo vy VY 1,0 £3 .14 يل يال 3 Vey Yo,t 4,0 Yau Yoo vy 14.5 YY YY 3 ا
جدول رقم )4( © bv | a محتقا [1] b | a ازيم محا oa 1 حرج | صن ا ١ #ركم | ١١ص oY مذ | 7 v.
OY vs حلا | avy ١ مركم | ١١ر6 oY £0, TR 7١
VAY حلى اذ ١ 1ن" حقر١١ | ركم | حرق 601 1 vy
RY Y,4 Y= | لق | Aee ١ 4A oY £8, YY, A ry
AY Y,V YO) — 8 AEA -لابم/ ٠,1 0 7 Ye ١ 1 Vy) LR كا 1 1 حارم غرفم Yo
Ye ارا م 87 Ao A AY v0 £Y,1 3 1
CoA YY | حابر | age | ALY ١ حورلا ١ £Y,Y ١ ب CY VY Y= | م 1 حوره نأ | مرح 18 YA
RE أرق | حلا م AVY ١ حدر I. £8 | ١ vq
CA ب ne q¢,y | 4 ره “ £41 1,1 2 8 8 a a a a a a a ١
Cg 7,1 حكرة | مركم ا لمر | حلا 1 £4 Xi ¢Y ه لم يتم قياسها
- دوس (V+) جدول رقم swe si phys
Yous Yoo لمدة uy بعد التعرض لأشعة ١ صفر | JEW دقيقة ١٠ ان أخفق YY ve أخفق A و 8١ أخفق 2 2 YY
Gaal دن 4 vy أخفق a a 7 ف ,8 أخفق yo اص 1 ¢,¥ أخفق yo > vy YY vv
Yo > A 1,4 YA yo > 8,1 Y,Y 4 vo > كن Y,A £ ٠١ Y,A - لأ 1 a A=0 4 o,Y-¢,V 8, £Y لم يتم قياسها 2
اسم - جدول رقم (VY) ل قم م عدن فرطاضه | me سنس انا ع ااا دورة رطوبة 7 ل أخفق أخفق 7١ م ١ أخفق فعال A,0 vy أخفق فعال A ry أخفق فعال ve 1 أخفق فعال Yo أخفق فعال 4 م أخفق فعال بال ١٠١ Ca. ١5 فعال YA | درا Y\1. Ca فعال Jad 1١3٠١ Ca VY v4 ١٠١ Ca YA,0 £ فعال ١11٠١ Ca 2 1 فعال £Y م ير فعال ْ لم يتم قياسها
Claims (1)
- “سم - عناصر الحماية photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية -١ ١ titanium زجاجية لها طلاء من أكسيد تيتانيوم substratediag تشتمل على طبقة " على أحد أسطحهاء حيث يبلغ photocatalytically له فعالية حفزية ضوئية oxide |" ذي الفعالية الحفزية الضوئية titanium oxide طلاء أكسيد التيتانيوم claw ؟؛ نانومتر أو أقل وتكون الفعالية الحفزية الضوئية ٠١ photocatalytically ِّ ويكون انعكاس الضوء المرئي "aad سم ١١ x 0 أكبر من photocatalytic 1 visible light V للطبقة التحتية substrate المطلية المقاس على الجانب المطلي 7١ 7 أوأقل. ١ “- طبقة تحتية substrate مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية photocatalytically وفقاً X لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون للسطح المطلي للطبقة التحتية substrate فعالية ¥ حفزية ضوئية photocatalytic أكبر من "Vu x ١ سم دقيقة '. photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية -“ ١ فعالية substrate حيث يكون للسطح المطلي للطبقة التحتية Y) لعنصر الحماية la, Y .' سم ' دقيقة “Vo x¥ أكبر من photocatalyticdy gaa حفزية ¥ ١ ؛- طبقة تحتية substrate مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية photocatalytically وفقاً Y لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون للطبقة التحتية substrate المطلية انعكاس للضوء ¥ المرئي light visible مُقاس على الجانب المطلي مقداره ١١ 7 أو أقل. كت a photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية —o ١ المطلية طبقة تحتية substrate حيث يكون للطبقة التحتية ٠ )١( لعنصر الحماية " وطلاء substrate معدنية مائعة للأيون بين سطح الطبقة التحتية 49588 substrate ' ¢ أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذي الفعالية الحفزية photocatalyticallyd gall .١ 7- طبقة تحتية substrate مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية photocatalytically وفقاً ¥ لعنصر الحماية (5)؛ حيث أن الطبقة التحتية substrate القلوية المعدنية المائعة للأيون metal ion-blocking 1211 تتكون من طبقة من أكسيد السيليكون titanium oxide—V 1 طبقة تحتية substrate مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية photocatalytically Y وفقاً لعنصر الحماية ) \ ( ؛ Cua يتراوح سمك طلاء أكسيد التبتانيوم titanium oxide " - ذي الفعالية الحفزية الضوئية photocatalytically بين 7 نانو متر و ٠١ نانو متر.Ga photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية —A ١ زاوية substrate حيث يكون للسطح المطلي من الطبقة التحتية ٠ )١( لعنصر الحماية " أو أقل. °F للماء مقدارها static استاتيكية contact اتصال Yphotocatalytically ذات فعالية حفزية ضوئية Alle substrate طبقة تحتية -4 ١Jd المطلية substrate تكون ضبابية الطبقة التحتية Cum ؛)١( وفقاً لعنصر الحماية Y JY منphotocatalytically ذات فعالية حفزية ضوئية ةيلطم substrate طبقة تحتية -٠ ١ وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ تم انتاجها بواسطة عملية تشتمل على ترسيب طبقة أكسيد 7 Yet- va على سطح photocatalytically ذات فعالية حفزية ضوئية titanium oxide تيتانيوم - زجاجية بواسطة سطح الطبقة التحتية 16 الذي تتراوح substrate ؛| طبقة تحتية مع خليط مائع يحتوي على مصدر للتيتانيوم (a YY gate درجة حرارته بين © . titanium 1 photocatalytically طبقة تحتية 46 مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية -١١ ١ مضاد substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون السطح المطلي للطبقة التحتية Y photocatalytically السطح المطلي ذي فعالية حفزية ضوئية Hay للخدش ؛ بحيث ¥ شوط في اختبار الاحتكاك القياسي الأوروبي. Yor ؛ بعد أن يتعرض ل photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية -١ ١ يظل السطح المطلي ذي فعالية حفزية ضوئية Cum ؛)١١( وفقاً لعنصر الحماية Y شوط في اختبار الاحتكاك القياسي ove بعد أن يتعرض photocatalytically |“ ؛ - الأوروبي. a photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية -١ ١ لعنصر الحماية (١١)؛ حيث يظل السطح المطلي ذي فعالية حفزية ضوئية بعد أن يتعرض ل١٠٠٠ شوط في اختبار الاحتكاك القياسي photocatalytically |" ؛ - الأوروبي. وفقاً photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية -4 \ 1 المطلية ؟ substrate الطبقة التحتية haze لعنصر الحماية (١)؛ حيث تكون ضبابية Y ِ بعد تعرضها لاختبار الاحتكاك الأوروبي. OF ا " . أو تي la photocatalytically مطلية ذات فعالية حفزية ضوئية substrate طبقة تحتية - ١ شديد substrate حيث يكون السطح المطلي من الطبقة التحتية ٠ )١( ا لعنصر الحماية " التحمل للتعرض الدوري للرطوبة بحيث يظل السطح المطلي ذي فعالية حفزية Y دورة في اختبار التعرض الدوري Yeo بعد تعرضه ل photocatalytically »ْم ضوئية الرطوبة. ٠١ 5- زجاج Mas شديد التحمل ذي فعالية حفزية ضوئية photocatalytically يشتمل Y على طبقة تحتية substrate من الزجاج مطلية على أحد أسطحهاء ويشتمل الطلاء " المذكور على طبقة سفلية مائعة من أيون فلز أقلاء وطبقة خارجية من أكسيد التيتانيوء titanium oxide ¢ ذات فعالية حفزية ٠ photocatalyticallyas sua حيث يكون السطح © المطلي من الطبقة التحتية substrate مضاد للخدش بحيث يظل ذي فعالية حفزية 7 ضوئية photocatalytically بعد تعرضه لثلاثمائة شوط في اختبار الاحتكاك القياسي الأوروبي ؛ وحيث يكون له انعكاس للضوء المرئي مُقاس على الجانب المطلي مقداره ٠ A ل أو أقل ؛» وحيث يكون سمك طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide ذات الفعالية 4 الحفزية الضوئية photocatalytically مقداره ٠١ نانو متر أو أقل وتكون الفعالية Ye الحفزية الضوئية أكبر من TV eX A سم" دقيقة '.-١١ ١ زجاج مطلي يشتمل على طبقة تحتية 0056 _من_الزجاج عليها طلاء من Y أكسيد تيتانيوم titanium oxide ذو فعالية حفزية ضوئية photocatalytically على أحد ¥ أسطحهاء وحيث يكون فعالية حفزية ضوئية photocatalytically مْقاس Je الجانب og المطلي مقداره ٠١ / أو أقل ؛ وحيث يكون سمك طبقة أكسيد التيتانيوم titanium oxide o ذات الفعالية الحفزية الضوئية photocatalytically مقداره ٠١ نانو متر أو أقل وتكون الفعالية الحفزية الضوئية shotocatalytically أكبر من م ان سم" دقيقة أ دV وحيث يكون للزجاج المطلي انعكاس للضوء المرئي مُقاس على الجانب المطلي أقل A من Y. .7 ١ 8- وحدة تركيبة زجاجية متعددة A multiple glazing تشتمل على لوح غطاء glazing pane gala) من طبقة تحتية substrate وفقاً لعنصر الحماية )١( بينه وبين VF الوح الزجاج glazing pane الثاني فاصل. ١ - زجاج صفائحي laminated glass يشتمل على طبقة زجاج أولى من زجاج ١" مطلي وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ وطبقة بينية بوليميرية polymer interlayer « وطبقة "- زجاجية ثانية.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9913315.9A GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | Improved process for coating glass |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SA05260312B1 true SA05260312B1 (ar) | 2008-07-19 |
Family
ID=10854957
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SA00210544A SA00210544B1 (ar) | 1999-06-08 | 2000-11-19 | الطلاء على الطبقات التحتية |
SA5260312A SA05260312B1 (ar) | 1999-06-08 | 2000-11-19 | الطلاء على الطبقات التحتية |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SA00210544A SA00210544B1 (ar) | 1999-06-08 | 2000-11-19 | الطلاء على الطبقات التحتية |
Country Status (24)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6840061B1 (ar) |
EP (2) | EP1254870B1 (ar) |
JP (1) | JP4716631B2 (ar) |
KR (2) | KR100783308B1 (ar) |
CN (2) | CN101219861A (ar) |
AR (2) | AR024312A1 (ar) |
AU (1) | AU775906B2 (ar) |
BR (1) | BR0011382A (ar) |
CA (1) | CA2375662C (ar) |
CZ (1) | CZ20014395A3 (ar) |
EA (1) | EA004759B1 (ar) |
GB (1) | GB9913315D0 (ar) |
HK (1) | HK1044328A1 (ar) |
HU (1) | HUP0203433A2 (ar) |
IL (1) | IL146661A (ar) |
MX (1) | MXPA01012578A (ar) |
MY (1) | MY125239A (ar) |
PL (1) | PL352478A1 (ar) |
SA (2) | SA00210544B1 (ar) |
TR (1) | TR200103541T2 (ar) |
TW (1) | TW591116B (ar) |
UA (1) | UA74550C2 (ar) |
WO (1) | WO2000075087A1 (ar) |
ZA (1) | ZA200109801B (ar) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK0816466T3 (da) * | 1995-03-20 | 2006-06-12 | Toto Ltd | Anvendelse af materiale, der har en ultrahydrofil og en fotokatalytisk overflade |
FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
US6884399B2 (en) | 2001-07-30 | 2005-04-26 | Carrier Corporation | Modular photocatalytic air purifier |
EP1462541B1 (en) * | 2001-12-03 | 2015-03-04 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for forming thin film. |
GB0129434D0 (en) | 2001-12-08 | 2002-01-30 | Pilkington Plc | Self-cleaning glazing sheet |
US6679978B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-01-20 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
FR2838735B1 (fr) * | 2002-04-17 | 2005-04-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement auto-nettoyant |
GB0306797D0 (en) * | 2003-03-25 | 2003-04-30 | Pilkington Plc | Titania coatings |
GB0313029D0 (en) | 2003-06-06 | 2003-07-09 | Pilkington Plc | Coated glass |
FR2857030B1 (fr) * | 2003-07-01 | 2006-10-27 | Saint Gobain | Procede de depot d'oxyde de titane par source plasma |
FR2857885B1 (fr) * | 2003-07-23 | 2006-12-22 | Saint Gobain | Procede de preparation d'un revetement photocatalytique integre dans le traitement thermique d'un vitrage |
US7223441B2 (en) * | 2004-03-10 | 2007-05-29 | Pilkington North America, Inc. | Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass |
ES2294693T3 (es) * | 2004-03-10 | 2008-04-01 | Pilkington North America, Inc. | Procedimiento para la deposicion de revestimientos de oxido de aluminio. |
DE102004016436B3 (de) * | 2004-03-31 | 2005-12-29 | Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.) | Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtsystemen mit photokatalytischen Eigenschaften auf Oberflächen und dessen Verwendung |
US7011737B2 (en) * | 2004-04-02 | 2006-03-14 | The Penn State Research Foundation | Titania nanotube arrays for use as sensors and method of producing |
CN1325414C (zh) * | 2004-05-24 | 2007-07-11 | 大连轻工业学院 | 一种能杀菌和自洁净的涂掺杂锌的二氧化钛薄膜的玻璃 |
WO2006017311A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
EP1842835B1 (en) * | 2004-12-03 | 2017-06-21 | Cardinal CG Company | Hydrophilic coatings |
US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
US20060128563A1 (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-15 | Flabeg Gmbh & Co., Kg | Method for manufacturing a non-fogging element and device for activating such an element |
US8344238B2 (en) * | 2005-07-19 | 2013-01-01 | Solyndra Llc | Self-cleaning protective coatings for use with photovoltaic cells |
EP1946040B1 (en) * | 2005-11-07 | 2017-03-22 | Cardinal CG Company | Method and apparatus for identifying photocatalytic coatings |
EP2013150B1 (en) * | 2006-04-11 | 2018-02-28 | Cardinal CG Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
JP2009534563A (ja) | 2006-04-19 | 2009-09-24 | 日本板硝子株式会社 | 同等の単独の表面反射率を有する対向機能コーティング |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
WO2009036284A1 (en) | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
JP5164542B2 (ja) | 2007-12-04 | 2013-03-21 | ニチハ株式会社 | 建材の塗装方法 |
FR2956869B1 (fr) | 2010-03-01 | 2014-05-16 | Alex Hr Roustaei | Systeme de production de film flexible a haute capacite destine a des cellules photovoltaiques et oled par deposition cyclique des couches |
GB2477763A (en) | 2010-02-11 | 2011-08-17 | Thorn Security | Fire detector with a component including a contaminant-resistant surface |
FI20105753A (fi) * | 2010-06-30 | 2011-12-31 | Beneq Oy | Lasinvalmistusmenetelmä ja -laite |
FR2963343B1 (fr) * | 2010-07-28 | 2012-07-27 | Saint Gobain | Vitrage pourvu d'un revetement contre la condensation |
GB201112648D0 (en) | 2011-07-22 | 2011-09-07 | Pilkington Group Ltd | Deposition process |
CN104812717A (zh) * | 2012-11-26 | 2015-07-29 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
GB201321619D0 (en) * | 2013-12-06 | 2014-01-22 | Pilkington Group Ltd | A Coated Glazing |
CN105483650B (zh) * | 2015-12-14 | 2017-12-22 | 青岛水务集团有限公司科技中心 | 一种用于净水设备的光触媒二氧化钛镀膜玻璃丝及其制备方法 |
KR102565854B1 (ko) * | 2016-04-04 | 2023-08-10 | 주식회사 케이씨씨글라스 | 스테인 방지 코팅유리 |
US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
GB202011249D0 (en) | 2020-07-21 | 2020-09-02 | Pilkington Group Ltd | Antimicrobial substrate |
GB2600168A (en) | 2020-10-26 | 2022-04-27 | Pilkington Group Ltd | Use of coated substrates |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51134711A (en) | 1975-05-16 | 1976-11-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of producing glass having coating of titanium oxide |
GB1524326A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
GB1523991A (en) | 1976-04-13 | 1978-09-06 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
BE879189A (fr) | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
CH628600A5 (fr) | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
US4971843A (en) | 1983-07-29 | 1990-11-20 | Ppg Industries, Inc. | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass |
GB2150044B (en) | 1983-12-22 | 1986-12-17 | Glaverbel | Coated glazing material |
JPH0682625B2 (ja) | 1985-06-04 | 1994-10-19 | シーメンス ソーラー インダストリーズ,エル.ピー. | 酸化亜鉛膜の蒸着方法 |
GB8531424D0 (en) | 1985-12-20 | 1986-02-05 | Glaverbel | Coating glass |
JPS63100042A (ja) | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 汚れ難いガラス物品 |
GB8630918D0 (en) | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
GB8824104D0 (en) | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
US4997576A (en) | 1989-09-25 | 1991-03-05 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
US5194161A (en) | 1989-09-25 | 1993-03-16 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for enhanced photocatalyzation of organic compounds with palladium |
US5256616A (en) | 1989-09-25 | 1993-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
US5393593A (en) | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
GB9102766D0 (en) | 1991-02-09 | 1991-03-27 | Tioxide Group Services Ltd | Destruction process |
US5580364A (en) | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
DE69305936T3 (de) | 1992-07-11 | 2004-07-22 | Pilkington United Kingdom Ltd., St. Helens | Verfahren zur Herstellung von reflektierenden Schichten auf Glas |
WO1995015816A1 (fr) | 1993-12-10 | 1995-06-15 | Toto, Ltd. | Substance multifonction a effet photocatalytique et procede de production |
ATE235314T1 (de) | 1993-12-10 | 2003-04-15 | Toto Ltd | Multifunktionelles material mit photokatalytischer funktion und verfahren zur dessen herstellung |
EP0737513B1 (en) | 1994-10-31 | 2002-05-29 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | Titanium oxide photocatalyst structure and method of manufacturing the same |
DK0816466T3 (da) | 1995-03-20 | 2006-06-12 | Toto Ltd | Anvendelse af materiale, der har en ultrahydrofil og en fotokatalytisk overflade |
AU6843296A (en) | 1995-08-18 | 1997-03-12 | Adam Heller | Self-cleaning glass and method of making thereof |
DK0850203T3 (da) | 1995-09-15 | 2001-01-29 | Rhodia Chimie Sa | Substrat med fotokatalytisk belægning på basis af titandioxid og organiske dispersioner på basis af titandioxid |
FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
US6090489A (en) | 1995-12-22 | 2000-07-18 | Toto, Ltd. | Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface |
US5939194A (en) | 1996-12-09 | 1999-08-17 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material |
GB9616983D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
US6054227A (en) | 1997-03-14 | 2000-04-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning appliances |
US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
JPH1179788A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-23 | Central Glass Co Ltd | 被膜形成ガラスおよびその製法 |
US6110528A (en) * | 1998-07-02 | 2000-08-29 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for the preparation of fine hollow glass spheres coated with titanium oxide |
-
1999
- 1999-06-08 GB GBGB9913315.9A patent/GB9913315D0/en not_active Ceased
-
2000
- 2000-01-06 UA UA2002010188A patent/UA74550C2/uk unknown
- 2000-05-31 MY MYPI20002414A patent/MY125239A/en unknown
- 2000-06-01 MX MXPA01012578A patent/MXPA01012578A/es not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 KR KR1020077013830A patent/KR100783308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 CN CNA2008100024072A patent/CN101219861A/zh active Pending
- 2000-06-01 KR KR1020017015837A patent/KR20020026874A/ko active IP Right Grant
- 2000-06-01 AU AU50924/00A patent/AU775906B2/en not_active Expired
- 2000-06-01 IL IL14666100A patent/IL146661A/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 TR TR2001/03541T patent/TR200103541T2/xx unknown
- 2000-06-01 PL PL00352478A patent/PL352478A1/xx unknown
- 2000-06-01 EP EP02009640.0A patent/EP1254870B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 JP JP2001501572A patent/JP4716631B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 CA CA002375662A patent/CA2375662C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-01 BR BR0011382-4A patent/BR0011382A/pt not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 CZ CZ20014395A patent/CZ20014395A3/cs unknown
- 2000-06-01 EP EP00935378.0A patent/EP1198431B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 EA EA200200002A patent/EA004759B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-06-01 WO PCT/GB2000/002111 patent/WO2000075087A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-06-01 HU HU0203433A patent/HUP0203433A2/hu unknown
- 2000-06-01 CN CN00808643A patent/CN1354732A/zh active Pending
- 2000-06-06 US US09/587,970 patent/US6840061B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-07 AR ARP000102828A patent/AR024312A1/es active IP Right Grant
- 2000-06-13 TW TW089111509A patent/TW591116B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-11-19 SA SA00210544A patent/SA00210544B1/ar unknown
- 2000-11-19 SA SA5260312A patent/SA05260312B1/ar unknown
-
2001
- 2001-11-28 ZA ZA200109801A patent/ZA200109801B/en unknown
-
2002
- 2002-07-23 HK HK02105439.6A patent/HK1044328A1/zh unknown
-
2007
- 2007-02-02 AR ARP070100453A patent/AR059303A2/es active IP Right Grant
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SA05260312B1 (ar) | الطلاء على الطبقات التحتية | |
US20060019104A1 (en) | Coated substrates | |
KR100735763B1 (ko) | 규소 유도체 층을 구비한 투명 기판과 상기 기판을 사용하는 방법 | |
CN103582617A (zh) | 用于涂布易清洁涂层的基底元件 | |
JPH09225387A (ja) | 親水性部材、及び部材表面の親水化方法 | |
CN104080754A (zh) | 用于涂布易清洁涂层的基底元件 | |
CN105859153A (zh) | 一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法 | |
EP1608793B1 (en) | Titania coatings | |
US7137276B2 (en) | Process for coating glass | |
JP2014534143A (ja) | 光触媒材料及び前記材料を含む板ガラス又は光起電力セル | |
JP6508055B2 (ja) | 薄膜形成方法、薄膜および薄膜付きガラス板 | |
HU219726B (hu) | Pirolitikus bevonattal ellátott üvegtábla | |
JP3980877B2 (ja) | ゾル組成物、その製造方法、硬化体および基材の撥水処理方法 | |
GB2600168A (en) | Use of coated substrates |