TW573074B - A bath for the electrochemical deposition of high-gloss, white rhodium coatings and a whitener therefor - Google Patents

A bath for the electrochemical deposition of high-gloss, white rhodium coatings and a whitener therefor Download PDF

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573074 A7 -—__ B7 五、發明說明（2 ) _、支鏈或環烷基。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明因此關於一種用以電化學沉積高光澤度、白色 毙膜的浴，其含有溶解形式的铑，視需要包含一種有機化 合物當作增亮劑，其特徵在於該浴含有至少一種通式（I)化 合物當作增白劑， R - S 0 m - Η (I) 其中m代表3或4之數，而R係含有最高20個碳原子的直 鏈、支鏈或環烷基。 對應於式I的增白劑係爲選自於烷基硫酸酯類或烷基磺 酸類的化合物。式I中，R代表含有最高20個碳原子的直 鏈、支鏈或環烷基。 式I化合物係爲技藝中已知者且可容易取得的。 這些化合物能充分地溶解於水中且係與電化學浴相容 的。這些化合物具有界面活性劑性質，但是當碳原子總數 少於4時則會減少對應的效果，而當碳原子總數大於2〇時 它們的溶解度通常不再令人滿意的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 較佳的增亮劑係式I化合物其中R爲含有5至1 2個碳 原子的直鏈、支鏈或環烷基者，尤其是含有6至1 〇個碳原 子的支鏈院基。 由它們低的形成泡沫傾向，支鏈係特別適合於製程和 設備者，其中可觀形成的泡沫會構成問題，例如在空氣攪 拌的電解液中，在牽涉轉筒內處理的製程中，在高速沉積 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 573074 A7 B7 五、發明說明（3 ) 的設備（噴霧設備）中及在選擇沉積用的設備中，如浸漬電池 〇 依本發明之典型的增白劑包括： 硫酸已酯、磺酸己酯、硫酸2-乙基己酯、硫酸庚酯、 硫酸辛酯、磺酸辛酯、硫酸癸酯、磺酸癸酯、硫酸十二酯 、7-乙基-2-甲基-4-十一醇硫酸酯、硫酸環己基及其異構物 〇 這些化合物亦能以鹽形式存在。 在用於铑膜的電化學沉積浴中，本發明的增白劑之有 利使用濃度範圍係0.01至10克/升。依本發明之含有增白劑 的浴特佳爲含有濃度0.1至6克/升的式I。 依本發明使用式I化合物在一種非爲習用者的組成物之 電化學铑浴中當作增白劑，則以出乎意料的方式明顯地增 加所沉積的塗層之亮度或白度。可達成的高光澤度沉積的 最大薄膜厚度係亦可觀地增加。 可由許多常用的、市場上可取得的電化學铑浴，將對 應量的式I化合物加到其內，而製得依本發明的铑浴。 依本發明的電化學鍺浴典型上含有約： 0.1 - 2 0克/升的铑，當作硫酸铑、磷酸铑、烷磺酸铑或 胺磺酸铑， 1 0-200克/升的硫酸、磷酸、醯胺硫酸或這些酸的混合 物， 0-5克/升的吡啶-3-磺酸’當作增亮劑’ 0.1-2克/升的潤濕劑， (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) m ---訂---------線 —1^1" 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） -6 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 573074 Α7 _ Β7 五、發明說明（4 ) 0.1 -1 0克/升的式I化合物，當作依本發明的增白劑。 通常在0.5-5 A/dm2(滑軌操作）及在最高60 °C的溫度操作 該浴。 現將參照以下實例來說明本發明。 註：所有的亮度値（L*)係使用CIE-L*a*b*系統（ 1 976)來測量 ，其具有X - R11 e S P 6 8 S色測量儀器。 實例1 : 所用的浴係一種含有以下者的铑電解液： 2克/升磷酸铑形式的铑， 32克/升硫酸， 〇.2克/升吡啶-3-磺酸 ρΗ<1 溫度40 °C。 於此浴中，在lA/m2的電流密度，於先前已經鍍鎳的 25 X 40mm尺寸的面板上（實驗裝置：1升玻璃燒杯，鍍鉛的 鈦陽極，沒有攪拌），產生塗層。達成12.8 %的電流產率， 及L* = 88.7的亮度。由此電解液可沉積得無霧濁的塗層，最 大塗層厚度達到0.3μιη。 --旦添加2克/升的磺酸辛酯，則在1 A / m2時電流產率 僅表現不明顯地減少，至12.1 %(lA/m2)，但是亮度增加至 L* = 89.8。由此浴於是可沉積得無霧濁的塗層’最高達 0.5 μηι 厚。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格mo X 297公釐） -----— — — — — — I --------^ 11111--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 573074 Α7 _ Β7 五、發明說明（5 ) 實例2 : 所用的浴係一種含有以下者的铑電解液： 2克/升磷酸铑形式的铑， (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 32克/升硫酸， 0.2克/升的吡啶-3-磺酸 20毫克/升的潤濕性（氟化的界面活性劑） ρΗ<1 溫度40 °C。 於此浴中，在1 A / m2的電流密度，於先前已經鍍鎳的 2 5 X 4 0 m m尺寸的面板上（實驗裝置：1升玻璃燒杯，鍍鈾的 鈦陽極，以60mm磁鐵棒在200rpm攪拌浴，材料的移動=5 公分/秒）。達成37.8%的電流產率，及1^ = 87.2的亮度。在 2A/m2時，電流產率仍爲26.3%，而亮度達到L* = 86.3之値。 由此電解液可沉積得無霧濁的塗層，最大塗層厚度達到 0 · 3 μηι 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一旦添加2克/升的磺酸2-乙基己酯，則電流產率僅表 現不明顯地減少，分別至37.1%(1八/1112)和26.0%(2八/1112)，但 是亮度分別增加至L* = 89.5(l A/m2)和L* = 90.0(2A/m2)。由此 浴可沉積得無霧濁的0.7 μιη厚塗層。電解液在操作時很少 有泡沫，而因此特別適用於轉筒操作。 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

  1. 573074 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 附件4a : 第891 275 8 1號專利申請案（修正後無劃線） 中文申請專利範圍替_本_ 1 民國9i年9月4 0修正 ' 〜· ： 1 一. ... * — 1. 一種用以電化學沉積高光澤度白色铑膜之浴，其含 有溶解形式的铑，視需要包含一種有機化合物當作增亮劑 ，其特徵在於該浴含有至少一種通式（I)化合物當作增白 劑， R-SO.-H (I) 其中m代表數字4，而R係含有最高20個碳原子的直鏈 、支鏈或環烷基。 2. 如申請專利範圍第1項之電化學浴，其特徵在於含 有至少一種通式（I)化合物當作增白劑’ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) R-SO.-H (I) 其中m代表數字4，而R係含有5至12個碳原子的直鏈 、支鏈或環烷基。 3. 如申請專利範圍第2項之電化學浴，其中R係含6 至1 0個碳原子的支鏈烷基。 4·如申請專利範圍第1項之電化學浴，其特徵在於含 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 573074 ABCD 六、申請專利範圍 有當作增白劑的以下化合物：硫酸已酯、硫酸2-乙基己 酯、硫酸庚酯、硫酸辛酯、硫酸癸酯、硫酸十二酯、7-乙 基-2-甲基-4-十一醇硫酸酯、硫酸環己酯或其異構物。 5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之電化學浴， 其特徵在於含有0.01至10克/升的式I化合物。 6. 如申請專利範圍第5項之電化學浴，其含有0.1至 6克/升的式I化合物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -2- 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) A4規格（2I0X297公釐）
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20032218A1 (it) * 2003-11-14 2005-05-15 Calegaro Di Luigi Di Francesc O Calegaro S P Flli Metodo di finitura superficiale dell'argento e di sue leghe
US20070012575A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Morrissey Ronald J Bright rhodium electrodeposition
CN101949043B (zh) * 2010-09-08 2011-11-02 深圳大学 电镀黑色铑层的配方及其方法
US9248416B2 (en) 2012-09-14 2016-02-02 Marc C. Striebinger Apparatus for the pressurization and evacuation of a container
CN107687008A (zh) * 2017-08-28 2018-02-13 立美珠宝服务（深圳）有限公司 电金水及其制备方法
CN109778262A (zh) * 2017-11-10 2019-05-21 丹阳市金地生态园林发展有限公司 一种含环氧氯丙烷的金属合金增白电镀液
CN111850631B (zh) * 2020-07-30 2021-10-08 金川集团股份有限公司 高光泽装饰性镀铑层电镀液
IT202100027197A1 (it) 2021-10-22 2023-04-22 Berkem Srl Bagno galvanico per la deposizione elettrochimica di leghe rodio-rutenio avente colore simile al rodio puro ed elevata resistenza meccanica e deposito così ottenuto

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3780198A (en) * 1971-06-07 1973-12-18 Crown Cork & Seal Co System for carbonating beverages
FR2293968A1 (fr) * 1974-12-13 1976-07-09 Cem Comp Electro Mec Procede et dispositif pour realiser des emulsions gaz-liquide
JPS5224131A (en) * 1975-08-14 1977-02-23 Dowa Mining Co Luster* thick rhodium plating method
DE2644378A1 (de) * 1976-10-01 1978-04-06 Fuellpack Dipl Brauerei Ing Di Verfahren zur einleitung von gas, insbesondere kohlendioxidgas, in eine in einer leitung stroemende fluessigkeit, insbesondere ein getraenk, sowie einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS5757883A (en) * 1980-09-25 1982-04-07 Nippon Mining Co Ltd Production of black or blue rhodium coated articles and plating bath for this
JPS604920B2 (ja) * 1981-03-30 1985-02-07 日本鉱業株式会社 耐摩耗性良好な黒色ロジウムメッキ被覆物品の製造方法
US4402802A (en) * 1981-01-03 1983-09-06 Dequssa Aktiengesellschaft Electrolytic bath for the deposition of rhodium coatings
DE3100997C2 (de) * 1981-01-15 1986-08-14 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Bad zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumüberzügen
JPS63206492A (ja) * 1987-02-23 1988-08-25 Ishifuku Kinzoku Kogyo Kk 光沢ロジウムめつき液
US5329975A (en) * 1993-09-22 1994-07-19 Heitel Robert G Apparatus for pressurizing containers and carbonating liquids
DE9404731U1 (de) * 1994-03-21 1994-09-01 Negele Helfried Vorrichtung zur Einspeisung von Kohlendioxid in Leitungswasser
JPH1150295A (ja) * 1997-07-28 1999-02-23 Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk めっき浴
TR199801497U (xx) * 1998-08-03 2000-03-21 Çağlar Şeref Soda makinalarında yenilik.

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