DE3100997C2 - Bad zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumüberzügen - Google Patents

Bad zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumüberzügen

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Abstract

Es wird ein galvanisches Bad zum Abscheiden schleierfrei glänzender Rhodiumüberzüge beschrieben, das einen weißgoldähnlichen Farbton und spannungsarme Schichten liefert. Dieses Bad enthält neben Rhodiumsulfat oder -phosphat, Schwefelsäure und/oder Phosphorsäure noch zusätzlich eine Sulfonsäure, insbesondere eine aromatische Sulfonsäure, wie beispielsweise Phenolsulfonsäure.

Description

Die Erfindung betrifft ein Bad zum galvanischen Abscheiden schleierfrei glänzender Rhodiumüberzüge, das Rhodiumsulfat oder -phosphat, Schwefelsäure und/oder Phosphorsäure enthält.
Für dekorative Rhodinierungen, besonders für die Beschichtung von Weißgold, werden Rhodiumüberzüge benötigt, die einen schleierfreien Hochglanz und einen besonders hellen, der Weißgoldfarbe ähnlichen Grauton aufweisen. Die Schichtdicken dieser Überzüge liegen zwischen 0,1 und 1 μίτι.
Zur Abscheidung galvanischer Rhodiumschichten werden hauptsächlich Bäder verwendet, die Rhodiumphosphat oder -sulfat und Schwefel- oder Phosphorsäure enthalten. Werden Schichten von mehr als 0,1 μπι Dicke abgeschieden, so gelingt es aus diesen Bädern ohne weitere Zusätze nicht, die geforderten schleierfrei glänzenden Überzüge abzuscheiden. Auch der hellgraue Farbton der Schichten ist mit den bekannten Bädern nur schwer reproduzierbar zu erhalten, selbst wenn bei der Herstellung der Rhodiumpräparate die erforderlichen Bedingungen genau eingehalten werden.
Überzüge aus diesen Bädern weisen außerdem starke innere Spannungen auf, so daß bereits bei sehr dünnen Schichten zahlreiche Risse in der Schicht auftreten. Die korrosionsschützende Wirkung der Rhodiumschicht wird dadurch stark vermindert.
Es sind bereits Rhodiumbäder mit verschiedenen Zusätzen bekannt, die die genannten nachteiligen Eigenschaften der abgeschiedenen Rhodiumschichten verbessern sollen. Metallische Zusätze wie Thallium (CH-PS 5 53 255) oder Kupfer (FR-PS 15 77 593) haben den Nachteil, daß sie stark giftig sind oder nicht den gewünschten hellen Farbton ergeben.
Bei der Verwendung von Alkalimetallchloriden, wie MgCl2 oder AlCI3(DE-AS 23 29 578), kann an der Anode etwas Chlor entstehen, wodurch die Anwendung wesentlich erschwert wird. Außerdem ist es durch den ständigen Chloridaustrag schwer, konstante Abschei-
dungsbedingungen zu erzielen.
Die Verwendung organischer Verbindungen in Rhodiumbädern führt in der Regel zu schichten, die zwar glänzend sein können, aber nicht mehr die helle Farbe aufweisen.
So ist ein Rhodiumbad bekannt (DE-PS 6 27 264), das Benzoesäure, Phenollösung und Gelatine enthalten kann. Weiterhin sind mehrbasische organische Säuren (DE-AS 22 42 503) und Glutarsäure (DE-OS 22 42 503) als Zusätze bekannt Die aus diesen Bädern hergestellten Rhodiumschichten zeigen jedoch nicht die gewünschte Weißgoldfarbe.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Bad zum galvanischen Abscheiden schleierfrei glänzender Rhodiumüberzüge zu finden, das Rhodiumsulfat oder -phosphat. Schwefelsäure und/oder Phosphorsäure enthält und einen dem Weißgold ähnlichen Farbton und spannungsarme Schichten liefert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß es mindestens eine Sulfonsäure enthält Vorteilhafte Ausbildungen des Bades nach Anspruch 1 sind in den Ansprüchen 2 bis 6 beschrieben.
Obwohl organische Verbindungen in der Regel als Zusatz zu Rhodiumbädern die helle Farbe der Überzüge beeinträchtigen, hat sich überraschend gezeigt, daß Sulfonsäuren, insbesondere aromatische Sulfonsäuren, wie z. B. Phenolsulfonsäure, Pyridin-3-Sulfonsäure oder Naphthalin-tri-Sulfonsäure, in schwefel- und phosphorsauren Bädern äußerst stabil sind und zu sehr hellen und glänzenden Schichten führen, die spannungsarm sind, so daß auch noch Schichten über 1 μηι Dicke abgeschieden werden können. Auch Alkylsulfonsäuren mit 1 bis 7 C-Atomen, wie Äthansulfonsäure, Butansulfonsäure und 2-Hydroxyäthansulfonsäure oder Vinylsulfonsäure, können hierfür verwendet werden.
Durch Zusatz einer kleinen Menge einer Phosphonsäure, z.B. von 1-Hydroxyäthan-l, 1-diphosphonsäure und/oder eines stabilen Netzmittels, z. B. eines Fluortensids, wird ein Festhaften des an der Kathode entstehenden Wasserstoffes verhindert, wodurch die Gleichmäßigkeit von Farbe und Glanz auf der gesamten zu rhodinierenden Oberfläche noch verbessert wird.
Die Bäder können bei Stromdichten von 0,5—5 A/ dm2 und Temperaturen bis 60°C betrieben werden.
Die Erfindung soll anhand folgender Beispiele näher erläutert werden:
Beispiel 1
Aus einem Rhodiumbad, das 2 g/l Rhodium als Rhodiumsulfat und 40 g/l Schwefelsäure enthält, wird bei 4O0C und einer Stromdichte von 1 A/dm2 eine 0,5 μπι dicke Rhodiumschicht abgeschieden. Die Schicht ist milchig-matt.
Nach Zusatz von 0,5 g/l einer 65%igen Phenolsulfonsäurelösung wird die Abscheidung unter den gleichen Bedingungen wiederholt. Es wird eine schleierfrei glänzende Rhodiumschicht mit sehr hellgrauer Farbe erhalten, die praktisch keine Risse aufweist.
Beispiel 2
Aus einem Rhodiumbad, das 5 g/l Rhodium als Rhodiumphosphat, 10 g/l Phosphorsäure und 60 g/l Schwefelsäure enthält, wird bei Raumtemperatur und einer Stromdichte von 1 A/dm2 eine 0,2 μηι dicke Rhodiumschicht abgeschieden.
Die Schicht ist glänzend und weist einen Lichtrefle-
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xionsgrad von 0,716 auf.
Nach Zusatz von 1 g/i Pyridin-3-sulfonsäure wird die Abscheidung wiederholL Der Lichtreflexionsgrad hat sich auf 0,770 erhöht.
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Claims (6)

31 OO 997 Patentansprüche:
1. Bad zum galvanischen Abscheiden schleierfrei glänzender Rhodiumüberzüge, das Rhodiumsulfat oder -phosphat. Schwefelsäure und/oder Phosphorsäure enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es mindestens eine Sulfonsäure enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es mindestens eine aromatische Suifonsäure enthält
3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es 1 —10 g/l Rhodium als Rhodiumsulfat und/oder Rhodiumphosphat, 20—200 g/l Schwefel- und/oder Phosphorsäure und 0,1—5 g/l mindestens einer aromatischen Sulfonsäure enthält
4. Bad nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,1 bis 5 g/l Phenolsulfonsäure, Pyridinsulfonsäure und/oder Naphthalinsulfonsäure enthält
5. Bad nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich 0,01 bis 2 g/l eines Netzmittels enthält.
6. Bad nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich 0,5 bis 10 g/l einer Phosphonsäure enthält.
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JP57002915A JPS57137492A (en) 1981-01-15 1982-01-13 Electroplating for precipitate rhodium film
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE50012619D1 (de) * 1999-12-23 2006-05-24 Degussa Galvanotechnik Gmbh Bad zur galvanischen abscheidung von hochglänzenden weissen rhodiumschichten und weissmacher hierfür
US8372744B2 (en) * 2007-04-20 2013-02-12 International Business Machines Corporation Fabricating a contact rhodium structure by electroplating and electroplating composition

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3528895A (en) * 1967-07-10 1970-09-15 Sel Rex Corp Plating low stress bright rhodium
US3671408A (en) * 1971-05-25 1972-06-20 Sel Rex Corp Rhodium-platinum plating bath and process
DD109409A1 (de) * 1974-01-31 1974-11-05
DE2506467C2 (de) * 1975-02-07 1986-07-17 Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Palladium-Nickel-Legierungen
JPS5224131A (en) * 1975-08-14 1977-02-23 Dowa Mining Co Luster* thick rhodium plating method
DE3176572D1 (en) * 1980-09-25 1988-01-21 Nippon Mining Co Rhodium-plated article with black or blue color, process for making the same and bath therefor

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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BR8200158A (pt) 1982-11-03
JPS57137492A (en) 1982-08-25
DE3263183D1 (en) 1985-05-30
JPH029115B2 (de) 1990-02-28
EP0056590A1 (de) 1982-07-28
DE3100997A1 (de) 1982-08-05
EP0056590B1 (de) 1985-04-24
HK51088A (en) 1988-07-15

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