TW546540B - An agent for reducing the substrate dependence of resist and a resist composition - Google Patents

An agent for reducing the substrate dependence of resist and a resist composition Download PDF

Info

Publication number
TW546540B
TW546540B TW087105778A TW87105778A TW546540B TW 546540 B TW546540 B TW 546540B TW 087105778 A TW087105778 A TW 087105778A TW 87105778 A TW87105778 A TW 87105778A TW 546540 B TW546540 B TW 546540B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
compound
poly
hydroxystyrene
acid
atom
Prior art date
Application number
TW087105778A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotoshi Fujie
Toru Soki
Yukiko Uehara
Original Assignee
Wako Pure Chem Ind Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wako Pure Chem Ind Ltd filed Critical Wako Pure Chem Ind Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW546540B publication Critical patent/TW546540B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

546540 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(1 ) 發萌背景 本發明係關於用作半導體設備等等之製造用之化學倍 增式正-或負-操作光阻劑組成物之構成物之基材依存性改 善劑,含該改善劑之光阻劑組成物,及使用該光阻劑組成 物之圖案形成方法。 以具有248ΠΠΙ之較矩輸出波長之1UF激元雷射代替i-線 光源(365nm)近來已回作微影製程中所用曝曬之光源,由 於起微米製造技術之需求使得半導體設備之積集度提昇。 因此,需要在數百毫焦耳下曝曬之一般解析-抑制型光阻 劑基於例如下列之理由而變得無用:因為使用激元雷射代 替水銀蒸氣燈,因此無法得到高能量;旦光阻劑在2 48 n id 下強力吸光(換言之,其穿透性不良)。因此,需要使用即 使在248nm下仍具有高穿透性且在數十毫焦耳下曝曬亦可 形成圖案之化學倍增式光阻劑。 然而,化學倍增式光阻劑會受基材之影響,因為其反 應機構可溶解抑制化合物(如鹼不可溶化合物或鹼不可溶 聚合物)由於在圖案形成過程中之曝曬能量而變成鹼可溶 ,即二步驟反應機構,其中因曝曬能量之故自光敏感性化 合物產生酸,且由於所產生之酸造成化學反應,因此鹼不 可溶化合物或聚合物變成鹼可溶。即*曝曬劑量之降低增 強了基材之邊界表面部份中之曝曬劑最微量差異之影響, 及鹼性基材及自基材釋出之水之影響。因此,在使用化學 倍增式光阻劑製造設備中,使用特殊之基材(例如,T i N, B P S G,等等)欲得到良好輪廓之圖案變成不可能,此點極 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 9 6 5 1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 546540 A7 B7 五、發明説明(2 ) 不利,此種基材依存性係嚴重之問題。 為了解決此問題,曾提出含有有機羧酸之光阻劑組成 物(例如,JP-A 9-6001, JP-A 9-6002, JP-A 9-6003,及 歐洲專利公開第6 7 9 9 5 1號),且曾提出此光阻劑組成物改 善特殊基材上之圖案輪廓。然而,含有有機羧酸之該光阻 劑組成物係不利,因為使用有機羧酸引起化學反應,而降 低基材依存性,此光阻劑組成物係為強酸,因此在儲存過 程中會損害其效能特性。為了減輕此缺點,應添加比較中 和有機羧酸所需之量大之鹼性化合物,卻又導致產生如敏 感度減低等等之問題。 據此,需要發展即使在特殊基材上亦可得到具有極佳 輪廓之圖案*且具有極佳儲存安定性及滿意之產能之高敏 感性光阻劑組成物。 發明概要 依此狀況觀之,本發明欲解決之問題係提供一種在使 用光阻劑組成物當作化學倍增式正-或負-操作為光阻劑組 成物形成圖案時,即使在特殊基材上亦可得到其良好輪廊 之细微圖案,且具有極佳儲存安定性,使形成具高敏感度 之圖案成為可能之光阻劑組成物。 本發明係為了解決上述之問題,且包含下列數項: (1) 一種降低光阻劑基材依存性之改善劑,其包括在 分子中含有至少一種其-N Η -直接鍵至少一個係直接鍵結於 至少一種選自包含-c( = o)-,-C( = S)-,及-S〇2-之基之構 造之化合物, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 2 3 9 6 5 1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 546540 A7 B7 五、發明説明(3 ) (2 ) —種光阻劑組成物包括:可經由酸之作用變成驗 可溶之聚合物,Μ光化輻射照射時可產生酸之化合物,分 子中含有至少一種其- ΝΗ -直接鐽至少一個係直接鍵結於至 少一種選自包含- C( = 0)-,-C( = S)_,及-S〇2-基之構造之 化合物,及可溶解此三種成份之溶劑。 (3) —種光阻劑組成物包括:鹼可溶之聚合物,經由 酸之作用可變成鹼可溶之化合物,Μ光化輻射照射時可產 生酸之化合物,分子中含有至少一種其- ΝΗ -直接鐽至少一 個係直接鐽結於至少一種選自包含-C ( = 0 ) -,- C ( = S )-,及 - S〇2 -基之構造之化合物,可使此四種成份溶解之溶劑。 (4) 一種光阻劑組成物包括:鹼可溶聚合物,經由酸 之作用,可與聚合物交聯使其難於鹼之化合物,Μ光化輻 射照射可產生酸之化合物,分子中含有至少一種其-ΝΗ -直 接鐽至少一個係直接鍵結於至少一種選自包含-C ( = 0 )-, - C( = S)-,及-S〇2 -基之構造之化合物,可溶解此四種成份 之溶劑。 (5) —種形成圖案之方法,包括之步驟為以上述(2) 至(4)項之任一種光阻劑組成物塗佈半導體基材之步驟, 加熱該塗佈以形成光阻劑薄膜之步驟,經過光罩使光阻劑 薄膜曝曬於輻射之步驟,以及必要時,在加熱後,使光阻 劑薄膜Μ鹼性顯像溶液顯像之步驟。 附圖之簡要敘沭 第1圖為使用含本發明化合物之光阻劑組成物製得具 有良好輪廓之接觸孔之剖面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 3 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(4 ) 第2圖為使用不含本發明化合物之光阻劑組成物製得 之具有不良輪廓之接觸孔之剖面圖。 第3圖為使用在23 °C下儲存2週後之舊有技藝光阻劑 組成物製得之具有不良輪廓之接觸孔之剖面圖。 第4圖為使用含有本發明化合物之光阻劑組成物製得 之具有良好輪廓之直線-反應間-圖案之剖面圖。 第5圖為使用不含本發明化合物之光阻劑組成物製得 之具有不良輪廓之直線-與空間-圖案之剖面圖。 第6圖為使用在23 °C下儲存2週後之舊有技藝光阻劑 組成物製得之具有不良輪廓之直線-與空間-圖案之剖面圖 0 較佯县體例之詳Μ敘沭 為了得到即使在特殊基材上亦可提供具有良好剖面之 细微圖案之化學放大型光阻劑組成物,本發明人等認真地 研究且因此發現分子中含有至少一種其- ΝΗ -直接鏈至少一 個係直接鍵結於至少一種選自包含_C( = 0)-,-C( = S)-,及 -S〇2-基之構造之化合物,對於防止傳統光阻劑物質對基 材依存性之問題明顯地有效(換言之,該化合物當作降低 基材依存性之改善劑非常地有效),且包括該化合物之光 阻劑組成物可達到上述之目的。因此,完成了本發明。 至於在分子中含有至少一種其- NH -直接鍵至少一個係 直接鍵結於至少一種選自包含- c( = o)-,-c( = s)-,及 - S〇2 -基之構造之化合物(此後簡稱為本發明之化合物), 為環狀化合物及無環化合物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、11
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 3 9 6 5 1 546540 經滴部中决標準局員_τ消費合作社印f Α7 Β7 五、發明説明(5 ) 至於本發明中所用之環狀化合物(此後簡稱為本發明 之化合物C ),可列舉如下式[1 ],[ 2 ]或[3 ]表示之化合物:
X
II ,c\ ;A NH 山 、、〆
II
X 其中X為氧原子或硫原子;A為飽和或不飽和之5_或6 -員環 ,且可含有氧原子,氮原子或硫原子當作構成原子,且構 成環之碳原子可具有取代基: Η ,油\ [2]
,—、(D ;Ε >、一/ 、 , 其中X為氧原子或硫原子;D為可能含有氧原子,氮原子或 硫原子當作構成原子之飽和或不飽和5 -或6 -員環,且構成 環之碳原子可具有取代基,且硫原子可具有一或二個氧基 ;且Ε為含有碳原子當作構成原子之飽和或不飽和6 -員環 或稠環,且環Ε與環D形成稠環; Η 人 [3] 厂、;G、9 = 〇 \ J >>一人、 、〜Λ L ; 其中G為可含有氧原子當作構成原子之飽和或不飽和6 -至 8 -員環;J及L二者分別為苯環,且環J及環L分別與環G形 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 5 3 9 6 5 1 546540 A7 B7五、發明説明(6 ) 成稠環。 式[1]中,A為除了碳原子及氮原子外,尚可含有氧原 子、氮原子或硫原子當作構成原子之飽和或不飽和5-或6 -員環。構成環之碳原子可具有取代基。碳原子上之取代基 包含烷基、氧代基及氧亞胺基。烷基可為直線或分枝。其 較佳之實例為1至6個碳原子之烷基,如甲基、乙基、正_ 丙基、異丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、正 -戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、正己基及異己基 0 式[2]中,D為除了碳原子及氮原子外,可含有氧原子 、氮原子或硫原子當作構成原子之飽和或不飽和5 -或6 -員 環。構成環之碳原子可具有取代基。至於碳原子上之取代 基,可列舉者為氧代基及K式[4]表示之基:
經漓部中决標準局員Vi消贽合作社印f 其中Q為氫原子或烷基。 式[4]中,MQ表示之烷基可為直線或分枝。其較佳之 實例為1至6個碳原子之烷基、如甲基、乙基、正丙基、異 丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、正戊基、異 戊基、特戊基、1-甲基戊基、正己基及異己基。 構成環之硫原子可具有一個或二個氧代基。 至於ME表示之包括碳原子為構成原子之飽和或不飽 和6 -員環,可列舉者為苯環、環己烷環、環己烯環、環己 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 6 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
546540 A7 B7五、發明説明(7 ) 二烯環,等等。 至於ME表示之稠環,可列舉者為萘環、憩環,等等 經漓部中次標準局員Jr.消費合作社印f 中 外 子 原8- 氮至 及6- 子和 原飽 碳不 除或 為和 G 1 ,之 子 3 t 原 式成 構 作 環 員 當 子 原 氧 有 含 可環
Μ 與 HU S 分 G
及 J 環 在 環 苯 各 之 表 代 環 稠 成 形 側 同 不 物 合 化 明 發 本
由 含 包 物 合 化 之 I-1 1X I-1 式 為 例 實 殊 特 之 G 之 C 物(C 合 酮 化雙 胺 甲 亞二 醯 , 之胺 生亞 衍醯 酸 二 元戊 二 及 系 胺 肪亞 脂醯 來 馬 胺 亞 醯 珀 琥 如 雙 乙 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 酮 Π a 氫 六 η 寧 丹 繞 啶 嘧 尿 a 因 海 啶 嘧 尿 氫二 代 氧二 啶 嘧 氧 四 脲 醯二 丙 脲 醯二 乙 Bi 三 式 等 等 酸 尿 紫 香 芳 由 含 包 物 合 化 之 胺 亞 醯 酞 如 物 合 化 胺 亞 醯 之 成 生 衍 酸 元二 系 胺 亞 醯 酞 氫 四 及 胺 亞 醯 萘 胺 亞 醯 基 羧二 萘
酮二 滿 睐 R3I 酮 酮 啉 唑 嗪 並 精含 0 諾 DI 酮 諾 pi 基 氫 酮 I 3 I 01 BS 並 苯 啶 胺 亞 醯 酞 酮 因 庚 噁 並 苯 η Θ 噁 並 苯 睬 1131 基 羥 並 苯 代 氧- 2 酮 啶 菲 苯睬 糖包並 2-P3I,,苯 ] 物二 合 氫 化 二 之 、 啶 胺 亞 醯 酞 基 苄 式 等 等 脲 醯 甲 苯 伸 酮 I 6 I 辛 唑 吖 ο Γ 氫 四 至 f-1 1~I I_ί 式Μ 等 等 Μ 示 表 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX 297公釐) 7 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(8 ) 外之化合物,包含苯均四酸二醯亞胺及本達隆( 物材 合 基 化低 胺降 亞可 醯亦 為量 例少 實加 好添 最使 之 即 C » 物胺 合亞 化醯 之酞 明及 發胺 本亞 , 釀 中珀 其琥 如 物 合 化 環 無 之 用 所 中 明 發 ο 本 性於 存至 依 之 物 合 化 之 明 發 本 為 CM? 稱 簡 後 此 /V 物 生 衍 醯之 磺示 胺表 為1] - 2 者 t 舉式 列 Μ 可及 物 合 化
CM
N
CM
2 X
X Η 〇 環 苯 或 基 烷 之 代 取 經 未 或 代 取 經 為 別 分 2 X 及 1 X 中 其 為 分 X 之 中 η 物 合 化 之 明 多發 許本 且為 ; 稱 數簡 整後 之此 3物Μ 1 i 合 化 該 子 原 硫 或 子 原 氧 為 別 式 為 者 舉 列 可 之 代 取 經 未 或 代 取 經 或 基 烷 , 之 A»代 物取 合經 化未 之或 明代 發取 本經 於為 至RO 中 其 基 芳 物 合 化 之 示 表 \)/ 基 烷 或 子 原 氫 為 經肩部中次摞率局員_τ消費合作ii印?^ 式 中 Μ 線 直 為 可 基 烷 之 中 基 基 烷 之 子 原 碳 個 基 6 丙 基 甲 如 基 丁 異 基 丁 正 基 戊 特、 基 戊 基 己 環 烷至環 之 1 、 代為 取例 經實 未之 或佳 代較 取其 經 。 之狀 示環 表或 U枝 ί分 基 丙 異 基 丙 - 正 Λ 基 乙 基 丁 特 第 基 戊 環 基 戊 基 甲 異及 、 基 基己 戊異 正 、 、 基 基己 丁 正 溴 、 氯 如 例 /|\ 子 原 素 鹵、 基 羥 含 包 基 代 取 之 基 烧 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 8 3 9 6 5 1 經肩部中决標準局員X消費合作社印f 546540 A7 B7 五、發明説明(9 ) 氟、碘,等等),及烷氧基等等。烷氧基可為線性或分枝 。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷氧基,如甲氧基、乙 氧基、正-丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、特 丁氧基、第二丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、正己氧基及 異己氧基。 MRo表示之經取代或未經取代之芳基中之芳基包含苯 環,萘基,等等。 芳基之取代基包含羥基,鹵素原子(例如,氯、溴、 氟、碘,等等),烷基,烷氧基,等等。烷基可為線性、 分枝或環狀。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷基*如甲 基、乙基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、 特丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊 基、環戊基、正己基、異己基、及環己基。烷氧基可為線 性或分枝。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷氧基,如甲 氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧 基、特丁氧基、第二丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、正己 氧基、及異己氧基。 式R0S〇2HHR’中,MRf代表之烷基可為線性,分枝或 環狀。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷基,如甲基、乙 基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基 、第二丁基、正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環 戊基、正己基、異己基及環己基。 式[21]中,各以乂1及爿2代表之經取代或未經取代之燒 基中之烷基可為線性或分枝。其較佳之實例為1至10個碳 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 9 3 9 6 5 1 546540 A7 B7五、發明説明(1 1 ) 其中R及Ri分別為氫原子或低级烷基;R2及R3分別為氫原 子,可被一或多個鹵素原子取代之烷基;或芳基,除了當 R2及R3二者均為氫原子外,R2及R3可結合形成伸烷基環; R4為可被一或多個鹵素原子取代之烷基,或芳烷基;R5為 氰基,酯化或未經酯化之羧基或經取代或未經取代之苯基 ;m及η’分別為自然數;且k為零或自然數,其條件為m> R 6 R6 R21 -(C —C H2)p —(C —C Η2)γ —— C H2)f~ R; 、11 [6] (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) R7
OH 經肩部中决標準局員Jr.消費合作社印製 其中R6為氫原子或低級烷基;R7為氫原子、低級烷基、低 級烷氧基、醯氧基、飽和之雜環氧基、或MR8〇-C〇-(CH2) Z-0-(其中Rs為烷基且Z為零或自然數)表示之基;R21為氫 原子或低級烷基;R22為氰基,經酯化或未經酯化之狻基 ,或經取代或未經取代之苯基,其條件為在R?為氫原子或 低級烷基之情況下,R22為烷氧基,5 -或6 -員之飽和雜環 基,或具有如R25S0-C0-(CH2)j0-(其中R25與低級烷基, 且j為0或1)表示之取代基之經取代苯基;P及r分別為自然 數;且f為0或自然數,其條件為p>f。 在式[5]中分別MR及1^代表之低級烷基及在式[2]中 分別MR6及R21代表之低級烷基可為線性或分枝,且包含 1至6個碳原子之烷基*如甲基、乙基、正丙基、異丙基、 正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 11 3 96 5 1 546540 A7 B7 素為 基基己 、 鹵例 丙戊異 氯 個實 異正、 含 多之 、、基 包 或佳 基基己 子 一較 丙丁正 原 被其 正二、 素 。可。 、第基 。齒 基之 狀基、戊基之 己表 環乙基 環癸中 異代或 、丁 、及基 及R4枝基特基基烧 基及 分甲、戊壬之 己R3, 如基基、表 正 ,性 ,丁 甲基代 、R2線基異1-辛R4 基M為烷、 、 、及 戊 各可之 基基基R3 丨基 中基子 丁戊庚 、 1Z甲 1 烷原 正特、R2 ](卜[5之碳、 、基個 ξ、 式代個基基己各 脑基在取10丙戊環Κ #3戊 子至環異、 "Γ特 原 1 、 、 基 五 經滴部中决摞準局員X消費合作社印f 溴、氟、碘等等。 R2及R3可結合形成之伸烷基環之較佳實例為具有3至 6個碳原子之伸烷基環,如伸丙基環、伸丁基環、伸戊基 環及伸己基環。MR4代表之芳烷基包含例如,苄基、苯乙基、苯基丙 基、甲基苄基、甲基苯乙基、乙基苄基,等等。 式[5]中,MR5代表之經酯化或未經酯化之羧基包含 羧基及具有例如,1至6個碳原子之烷基當作氫原子之取代 基之經取代之羧基,如甲基氧基羰基、乙基氧基羰基、丙 基氧基羰基、丁基氧基羰基、戊基氧基羰基、及己基氧基 羰基。 KRs代表之經取代或未經取代之苯基之取代基包含例 如,鹵素原子,如,氯、溴、氟、碘,較好為1至10個碳 原子之線性、分枝或環狀烷基,如甲基、乙基、正丙基、 異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、 正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環戊基、正己基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 1 2 3 9 6 5 1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
經漓部中次標準局員,τ消費合作社印架 546540 A7 B7 五、發明説明(13) 、異己基、環己基、庚基、辛基、壬基及癸基;較好為1 至6個碳原子之線性或分枝烷氧基,如甲氧基、乙氧基、 正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、特丁氧基、 第二丁氧基、正戊基氧基、異戊基氧基、正己基氧基及異 己基氧基;由羧酸衍生成之2至7個碳原子之線性、分枝或 環狀醯基,如乙醯基、丙醯基、正丁醯基、異丁醯基、正 戊醯基、特戊醢基、異戊醯基及環己烷碳醯基;5 -至6 -員 之飽和雜環氧基,如四氫呋喃氧基及四氫吡喃氧基;及K R25〇-C〇-(CH2:U〇 -代表之基,其中R25及j均如上述之定義 。式中,MR25代表之低級烷基可為線性、分枝或環狀, 且包含1至6個碳原子之烷基,如甲基、乙基、正丙基、異 丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、環 丁基、正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環戊基、 正己基、異己基及環己基。MR25〇-C〇-(CH2)jO -表示之基 之特定實例為甲基氧基羰基氧基、乙基氧基羰基氧基、異 丙基氧基羰基氧基、特丁基氧基羰基氧基、異丁基氧基羰 基氧基、特戊基氧基羰基氧基、乙基氧基羰基甲基氧基、 特丁基氧基羰基甲基氧基、1-甲基環戊基氧基羰基甲基氧 基、1-甲基環己基氧基羰基甲基氧基,等等。 式[6]中,KR7代表之低级烷基之較佳實例為1至6個 碳原子之直線或分枝烷基。其特定之較佳實例為異丙基、 異丁基、特丁基、第二丁基、異戊基、特戊基、1-甲基戊 基、異己基,等等。 KR?代表之低級烷基之較佳實例為1至6個碳原子之線 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 1 3 3 9 6 5 1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-口
546540 A7 B7 五、發明説明(14) 性或分枝烷氧基,如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧 基、正丁氧基、異丁氧基、特丁氧基、第二丁氧基、正戊 氧基、異戊氧基、正己氧基及異己氧基。 KR7代表之醜氧基之較佳實例為由羧酸衍生之2至7個 碳原子之線性、分枝或環狀醯氧基,如乙釀氧基、丙醯氧 基、正丁醯氧基、異丁醯氧基、正戊醯氧基、特戊醯氧基 、異戊醯氧基、及環己烷羰基氧基。 KR7代表之飽和雜環氧基較好為5 -或6 -員者,且包含 例如,四氫呋喃氧基、四氫吡喃氧基,等等。 至於MR7代表之R8〇-C〇-(CH2)z-〇 -基之R8,可列舉者 為1至10個碳原子之線性、分枝或環狀烷基,如甲基、乙 基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基 、第二丁基、正戊基、異戊基、1-甲基環己基、特戊基、 1-甲基戊基、環戊基、正己基、異己基、環己基、庚基、 辛基、壬基及癸基。1U0-C0-(CH2)z-0 -基之特定實例為甲 基氧基羰基氧基、乙基氧基羰基氧基、異丙基氧基羰基氧 基、異丁基氧基羰基氧基、特丁基氧基羰基氧基、特戊基 氧基羰基氧基、1-甲基環己基氧基羰基甲基氧基、特丁基 氧基羰基甲基氧基、1-甲基環戊基氧基羰基甲基氧基,等 等。 式[6]中,KR22代表之經酯化或未經酯化之羧基包含 羧基及具有例如1至6個碳原子之烷基當作氫原子之取代基 之經取代羧基,如甲基氧基羰基、乙基氧基羰基、丙基氧 基羰基、丁基氧基羰基、戊基氧基羰基、及己基氧基羰基 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁 _裝-
經肩部中次標準局员T消費合作社印f 本紙張尺度適用中國國家標準((:NS ) A4規格(21 OX 297公釐) 14 3 9 6 5 1 546540 A7 經漓部中决標準局員-J消費合作社印來 B7五、發明説明(15 ) Ο KR22代表之經取代或未經取代之苯基之取代基包含 例如,鹵素原子,如,氯、溴、氟、碘,較好為1至10個 碳原子之線性、分枝或環狀烷基,如甲基、乙基、正丙基 、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基 、正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環戊基、正己 基、異己基、環己基、庚基、辛基、壬基及癸基;較好為 1至6個碳原子之線性或分枝烷氧基,如甲氧基、乙氧基、 正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、特丁氧基、 第二丁氧基、正戊基氧基、異戊基氧基、正己基氧基及異 己基氧基;由羧酸衍生成之2至7個碳原子之線性、分枝或 環狀醯基,如乙醯基、丙醯基、正丁醯基、異丁醯基、正 戊醯基、特戊醯基、異戊醯基及環己烷碳醜基;5-至6-員 之飽和雜環氧基,如四氫呋喃氧基及四氫吡喃氧基;及Μ R25〇-C〇-(CH2;U〇 -代替之基,其中R25及j均如上述之定義 0 R22可為氰基、經酯化或未經酯化之羧基或經取代或 未經取代之苯基,但當R7為氫原子或低級烷基時,R22為 烷氧基、5-或6-員之飽和雜環基或具有MR25〇-CO(CH2)jO -(其中R25為低級烷基,其j為0或1)代表之取代基之經取 代基苯基。 式[5]化合物之特定實例為 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)-苯乙烯/對-羥基苯 乙烯],Γδ 本纸張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 9 6 5 1 _裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
1T
546540 A7 B7 五、發明説明(16 ) 聚[對- (1-苯甲氧基-卜甲基乙氧基)-苯乙烯/對-羥基 苯乙烯], 聚[對- (1-乙氧基乙氧基)-苯乙烯/對-羥基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基乙氧基)-苯乙烯/對-羥基苯乙烯], 聚[對-1-正丁氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯], 聚[對- (1,1-二甲基乙氧基)-1-甲基乙氧基苯乙烯/對 -羥基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/笨乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-氯苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-甲基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-甲基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-甲氧基苯乙烯], 經滴部中决標準局員T-消費合作社印製 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-特丁氧基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-1-甲基環己氧基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/甲基丙烯酸甲酯], 聚[對- (1-甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 1 6 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(17 ) 乙烯/甲基丙烯酸第三丁酯], 聚[對- (1-甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/丙烯腈], 聚[對- (1-苯甲氧基·'卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯/苯乙烯], 聚[對- (1-苯甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯/對-氯苯乙烯], 聚[對- (1-苯甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯/對-甲基苯乙烯], 聚[對- (1-苯甲氧基-1-甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯/對-乙氧基苯乙烯], 聚[對-(1-苯甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯/對-特丁氧基苯乙烯], 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/苯乙 烯), 聚(對-1_乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-氯 苯乙烯), 經漓部中次標準局員T-消費合作社印?木 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 聚(對-卜乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-甲 基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/間-甲 基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/甲基 丙烯酸甲酯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/甲基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 1 7 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(18 ) 丙烯酸環己酯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基笨乙烯/對-羥基苯乙烯/甲基 丙烯酸特丁酯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/丙烯 腈), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-甲 氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-特 丁氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/丙烯 酸), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-甲 氧羰氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 氧羰氧基苯乙烯), 經肩部中决標準局貝,τ消贽合作社印繁 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-異 丙氧羰氧基苯乙烯), 聚(對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-異 丁氧羰氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-異 丁氧羰氧基笨乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-異 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 3? Q β R 1 546540 A7 B7五、發明説明(19 ) 戊氧羰氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對_卜 經漓部中戎標準局員_τ消費合作社印f 乙 甲甲氯 甲乙特 1 基基烯 苯 · - · _ ~ - 甲甲丙 對 間對對 對對對 /////////// 烯烯 烯烯烯 烯烯烯 烯烯烯 乙乙 乙乙乙 乙乙乙 乙乙乙 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 基基 基基基 基基基 基基基 羥羥 羥羥羥 羥羥羥 羥羥羥 I I I I . I 塞 I I I I 對對 對對對 對對對 對對對 /////////// 烯烯烯 烯烯 烯烯烯 烯烯烯 乙乙 乙乙乙 乙乙乙 乙乙乙 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 苯 基基 基基基 基基基 基基基 氧氧 氧氧氧 氧氧氧 氧氧氧 卜乙 乙 乙 乙 乙 乙 乙 乙,乙 乙 乙 稀基 基 基 基 基 基 基 基}基 基 基 乙氧 氧 氧 氧 氧 氧 氧,氧烯氧 氧,氧 苯甲 甲 甲 甲 甲 甲 甲} 甲乙甲 ,甲 }甲 基 11-1 1 1}1}1 稀 1 苯 1}1 酯 1 氧- -卜-卜· -稀-輝-乙卜氧1-酯 I 丁 I 己ί 5^5»5::闱乙闱乙5苯53595特闱 環聚 聚乙聚乙聚烯聚苯聚苯聚基聚環聚酸聚酸聚 氧 P 苯苯乙 基基氧 基烯烯 甲烯 基基苯 氧氧丁 甲丙丙 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 19 3 9 6 5 1 546540 經滴部中决摞準局員Η消費合作社印f A7 B7 五、發明説明(20 ) 腈), 聚(對-1-正-丁氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對 -正-丁基苯乙烯), 聚(對-1-異丁氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/鄰-甲氧基苯乙烯), 聚{對- [1,1-二甲基乙氧基)-1-甲基乙氧基]苯乙烯/ 對-羥基苯乙烯/間-甲氧基苯乙烯}, 聚[對- (1,1-二甲基乙氧基)-1-甲基乙氧基苯乙烯/對 -羥基苯乙烯/鄰-甲基苯乙烯], 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 醯氧基苯乙婦), 聚(對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-特 戊醯氧基苯乙烯), 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-環 己烷羰氧基苯乙烯), 聚[間-1-(2 -氯乙氧基)乙氧基苯乙烯/間-羥基苯乙烯 /苯乙烯], 聚[間-卜(2 -乙基己氧基)乙氧基苯乙烯/間-羥基苯乙 烯/間-甲基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)-0(-甲基苯乙烯/對 -羥基-α-甲基苯乙烯/苯乙烯], 聚[對- (1-乙氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-甲基苯乙烯], 聚(對-1-正丙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 2 0 3 9 6 5 1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
546540 經漓部中决標準局員X消費合作社印來 A7 B7 五、發明説明(2]) 甲氧基苯乙烯), 聚[對- (1-甲基-1-正丙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基-苯乙烯/對-甲基苯乙烯], 聚(間-1 -乙氧基丙氧基苯乙烯/間-羥基苯乙烯/間-特 丁氧基苯乙烯), 聚(間-1-乙氧基丙氧基苯乙烯/間-羥基苯乙烯/對-甲 基苯乙烯), 聚[間- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/間-羥基苯 乙烯/間-特丁氧基苯乙烯), 聚[對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-四 氫呋喃氧基苯乙烯], 聚[對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-四 氫吡喃氧基苯乙烯], 聚[對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-四 氫吡喃氧基笨乙烯], 聚[對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-特 丁氧羰氧基苯乙烯], 聚[對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對特 丁氧羰氧基苯乙烯], 聚[對- (1-甲氧基-卜甲基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯 乙烯/對-特丁氧羰氧基苯乙烯], 聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 烯基苯氧乙酸特丁酯), 聚(對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 2 1 3 9 6 5 1 ▼裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11
546540 A7 B7五、發明説明(22 )烯基苯氧乙酸特丁酯),聚(對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-乙 經漓部中次標準局員Τ-消費合作社印f 酯 己 環 氧 甲- 11 酸 乙 氧 苯 基 烯 間 I__I 聚 特 曙 間 / 烯 乙 笨 基 羥- 間 / 烯 乙 苯 基 氧 乙 基 氧 乙 間 / 烯 乙 苯 基 羥 I 間 / 烯 乙 苯 基 氧 乙 ],基 烯氧 乙乙 苯卜 基- 氧 羰聚 氧 丁 間 烯 乙 苯 基 氧聚 丁 特 間 特 I 間 / 烯 乙 苯 基 羥- 間 / 烯 乙 苯 基 氧 乙 基 氧 甲 苯 基 氧 乙 基 氧 乙 ix 間 / 烯 乙 苯 基 氧 乙 基 氧 ),乙 烯卜 乙-苯 基聚 氧 丁 對 / (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁 對 間 對 / 烯 乙 苯 基 氧 丁 烯),基 乙烯氧 苯乙甲 基笨卜 羥基ί--Ϊ 對 氧 一 丁聚 烯- 乙 間 等 等 \J/ 烯 烯 乙 笨 基 烯 氧 乙 丁 苯 特 基 - 羥 對 I / 烯 乙 苯 基 羥 烯 乙 苯 基 羥 1 為對 例/ 烯 實 :®乙 定苯 特* 基 之z氧 物 4 了 合 Ϊ J 特 化 · 61對 I-- (V 式聚 基 甲 1-間 /1 ίν 聚聚 特 烯 , \7 乙烯 羥苯 4基 對羥 / I 烯對 本 氧基 己氧環, 訂 乙 苯
對對對對間對 /|\ ίν /|\ /IV /IV /1\ 聚聚聚聚聚聚 對 對 / / 烯烯 乙乙 苯苯 基基 氧氧 羰羰 氧氧 甲乙 烯 乙 苯 基 羥 烯 乙 苯 基 羥 烯烯 乙乙 苯苯 基基 羥羥 細 I 對對 / / 烯烯 乙乙 苯苯 基基 氧氧 羰羰 氧氧 丙丁 異異 烯烯 乙乙 苯苯 基基 羥 羥 I I 間對 / / 烯烯 乙乙 苯苯 基基 氧氧 羰羰 氧氧 丁 丁 異特 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 22 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(23 ) 聚(間-特丁氧羰氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-異戊氧羰氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(間-異戊氧羰氧基苯乙烯/間-羥基苯乙烯), 聚(對-特戊氧羰氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-乙醯氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-異丁醯氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-特戊醯氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-環己烷羰氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-第二丁氧羰氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-四氫呋喃氧基苯乙烯/對_羥基苯乙烯), 聚(對-四氫吡喃氧基苯乙烯/對-羥基笨乙烯), 聚(間-四氫吡喃氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-乙烯基苯氧乙酸特丁酯/對-羥基苯乙烯), 聚(對-乙烯基苯氧乙酸1-甲基環己酯/對-羥基苯乙烯 ), 聚(苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-甲氧乙氧基苯乙烯) > 經满部中决標卑局員T-消贽合作社印f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 聚(對-甲基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-甲氧乙氧基 苯乙烯), 聚(對-甲氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-甲氧乙氧 基苯乙烯), 聚(對-甲基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-乙氧乙氧基 苯乙烯), 聚(間-甲基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-乙氧乙氧基 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 23 3 9 6 5 1 經肩部屮次標準局員工消費合作社印f 546540 A7 B7 五、發明説明(24) 苯乙烯), 聚(對-甲氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-乙氧乙氧 基苯乙烯), 聚(對-特丁基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-乙氧乙氧 基苯乙烯), 聚(對-特丁氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-乙氧乙 氧基苯乙烯), 聚(苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-卜甲氧基_卜甲基乙氧 基苯乙烯), 聚(對-甲基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-卜甲氧基-1 -甲基乙氧基苯乙烯), 聚(對-甲氧基苯乙烯/對-羥基乙烯/對-甲氧基-1-甲 基乙氧基苯乙烯), 聚(對-特丁基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-甲氧基-1-甲基乙氧基苯乙烯), 聚(對-第三丁氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-甲氧 基-1-甲基乙氧基苯乙烯), 聚(苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-苯甲氧基乙氧基苯 乙烯), 聚(-甲基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-卜苯甲氧基乙氧 基苯乙婦), 聚(對-甲氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-苯甲氧基 乙氧基苯乙烯), 聚(對-特丁基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-苯甲氧基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 2 4 3 9 6 5 1 -------I— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
546540 A7 B7五、發明説明(2 5 ) 乙氧基笨乙烯), 聚(對-特丁氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯/對-1-苯甲氧 經鴻部中决標準局員,τ-消费合作社印f 氧 甲 - 1X 嫌 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 苯 基 氧 )0 氧 乙乙 苯- 基 氧聚 乙 基 對 氧 乙 雄 11- 對 / 烯 乙 苯 基 羥 對 / 烯 乙 苯 基 氧 ),羰 烯氧 乙乙 苯-基 氧聚 乙 基 對 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 苯 基 ),氧 烯羰 乙乙 苯¥ 基 < 氧聚 乙 基 烯 乙 苯 基 氧 乙對 基 ί pa聚 甲 特 基 氧 甲 對 / 烯 乙 苯 基 羥- 對 / 烯 乙 苯 基 氧 羰 氧 甲 乙- 1 - 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 苯 基 氧 ),羰 烯氧 乙丁 笨特基卜 I 對 氧 ί 乙聚 基 氧 對 / 烯 乙 苯 基 羥 _ 對 / 烯 乙 苯 基 ),氧 烯羰 乙氧 苯 丁 » ^ Ϊ 對 氧 -W 乙聚 基 氧 氧 甲 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 基 甲 烯 乙 苯 基 氧 乙 基對 /IV 聚 特 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 苯 基 氧 0 氧 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 ),苯 烯基 乙氧 苯醯 基乙 氧I J 對 乙 ί 基聚 氧 甲 苯 基 氧 乙 對 / 烯 乙 苯 基 羥 释 對 / 烯 乙 苯 基 氧 喃 Btt } 氫 烯四 长對 基聚 氧 乙 甲 乙- 1 I 對 / 烯 乙 苯 基 羥 響 對 / 烯 乙 苯 基 氧 ),喃 烯吡 乙氫 苯 四 *!- I 對 氧 一 乙聚 基 氧 甲- 11 I 對 / 烯 乙 苯 基 羥 I 對 / 烯 乙 苯 基 氧 ),喃 烯吡 乙氫 苯 四 基 -— 對 氧丨 乙聚 基 氧 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 25 3 9 6 5 1
546540 kl B7 五、發明説明(26 ) 氧基-1-甲基乙氧基苯乙烯), 聚(對-乙烯基苯氧基乙酸1-甲基環己酯/對-羥基苯乙 烯/對-1-甲氧基乙氧基苯乙烯), 聚(對-乙烯基苯氧基乙酸甲基環己酯/對-羥基笨 乙烯/對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯), 聚(對-乙烯基苯氧基乙酸1-甲基環己酯/對-羥基苯乙 烯/對-1-甲氧基-1-甲基乙氧基苯乙烯),等。 本發明中所用之鹼可流性聚合物包含例如,聚(對-羥 基苯乙烯),聚(間-羥基苯乙烯),聚(3 -甲基-4-羥基苯乙 烯),聚(對-特丁氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯)[對-特丁氧 基苯乙烯單元與對-羥基乙烯單元之比值限制於2或更低: 經漓部中决標準局員,τ消費合作社印f (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 8或更高(此比率下文Μ2Φ: 8个表示)],聚(對-1-乙氧基 乙氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯)[對-1-乙氧基乙氧基苯乙 烯單元與對羥基苯乙烯單元之比值限制為24:8个],聚( 對-特-丁氧基羰基氧基-笨乙烯/對-羥基苯乙烯)[對-特丁 氧基羰基氧基苯乙烯單元與對-羥基笨乙烯單元之比值限 制為2Φ:8个],聚(對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對-特丁氧 基苯乙烯/對-羥基苯乙烯)[對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯單 元及對-特-丁氧基苯乙烯單元二者與對羥基苯乙烯單元之 比值之和限制為2小:8个],聚(-1-乙氧棊乙氧基乙烯/苯 乙烯/對-羥基苯乙烯)[對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯單元及 苯乙烯單元二者與對-羥基苯乙烯單元之比值之和為21 : 8个],等等。 本發明中所用之經由酸之作用可變成鹼可溶之化合物 本紙張尺度適用中國國家標準(^^8)/\4規格(210'乂 297公釐) 26 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(27) 包含例如,藉由K 一個或多個特丁氧基羰基,特丁基,1-甲氧基乙基,1-乙氧基乙基,四氫吡喃基,1-甲基環己基 氧基羰基甲基,等等對鹼溶性化合物之酚羥基之至少一部 份或全部加Μ保護而制得之鹼不可溶化合物。其特定實例 為2,2 -雙(4 -特丁氧基羰基氧基苯基)丙烷,2,2 -雙(4 -特 丁氧基苯基)丙烷,2,2 -雙(四氫吡喃氧基苯基)丙烷,2, 2-雙[4-(1-甲氧基乙氧基)苯基]丙烷,2,2-雙[4-(1-乙氧 基乙基氧基)苯基]丙烷,2,2-雙[4-(1_甲基環己基氧基羰 基甲基氧基)苯基丙烷],1,1,2-# (4-特丁氧基苯基)-2-甲基丙烷),1,1,2-¾ [4-(1-乙氧基乙氧基)苯基]-2-甲基 丙烷,1,1,2-叁(特-丁氧基羰基氧基苯基)-2-甲基丙烷, 等等。 至於可藉由本發明中所用之酸之作用,進行交聯成為 鹼幾乎不溶之聚合物之化合物,可列舉者為式[7]所示之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) >裝·
、1T 化合物: 〇CH2〇R36
^37
[7] 〇ch2〇r36 經漓部中决標準局員-X消费合作社印製 其中R36為烷基;且R37為氫原子或式[8]所示之基: -0CH20R36 [8] 其中R:36如上述定義,及式[9]所示之化合物: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 27 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(28
N — C H2O R38 \ CH2OR38 CH20R38 [9] XCH2〇R38 其中R38為氫原子或烷基;且R39為氫原子或式[10]所示之 基: -N 一C H 2〇 R 38 IC Η 2〇 ^38 [10] (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁 _裝· 其中R38如上述之定義。 各式[7]及[8]中M R36表示之烷基及各式[9]及[10]中 KR38所示之烷基可為線性,分枝或環狀。各烷基之較佳 實例為1至6個碳原子之烷基,如甲基、乙基、正丙基、異 丙基、環丙基、正丁基、異丁基、特丁基、第二丁基、正 戊基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環戊基、正己基、 異己基、及環己基。 可以經由酸之作用,與其交聯而成幾乎鹼不可溶之聚 合物之化合物其特定實例為: 1,2,4-蓥(環己基氧基甲氧基)苯,1,2,4-#(異丁氧 基甲氧基)苯,1,2,4-¾ (異丙氧基甲氧基)苯,1,3,5-叁( 環己基氧基甲氧基)苯,1,3,5-# (異丁氧基甲氧基)苯, 1,3,5-¾ (異丙氧基甲氧基)苯,1,3-雙(環己基氧基甲氧 基)苯,1,3-雙(異丁氧基甲氧基)苯,1,3-雙(異丙氧基甲 氧基)苯,1,4-雙(環己基氧基甲氧基)苯,1,4-雙(異丁氧 、11
經消部中决摞準局員二消費合作社印f 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 28 3 9 65 1 546540 A7 B7 五、發明説明(29 ) 基甲氧基)苯,1,4-雙(異丙氧基甲氧基)苯,2,4,6-S(N, N-二甲氧基甲基胺基)-1,3,5 -三嗪,2,4 -雙(Ν,Ν -二甲氧 基甲基胺基)-1,3,5 -三Β秦,等等。 本發明中所用之經由酸之作用可變成鹼溶性之聚合物 ,或鹼溶性聚合物可藉由使用有機過氧化物或偶氮化合物 當作聚合起始劑,進行自由基聚合反應,或使用正丁基鋰 或萘基鉀進行聚合,而製備聚合物,必要時尚可使製備之 聚合物進行化學反應。可變成鹼可溶之聚合物或鹼溶性聚 合物可由例如JP-A 4 - 2 1 1 2 5 8, JP-A 5 - 1 9 447 2等中揭示之 任一製程輕易地製得。 本發明中所用之可經由酸之作用變成鹼可溶之聚合物 ,或鹼溶性聚合物之重量平均分子量(Mw)通常為3 0 0 0至 50000,且較好為5000至30000( MGPC法,使用聚苯乙烯當 作標準)。聚合物之分散度(重量平均分子量對數且平均分 子量之比率)通常1.00至3,00,且較好為1.02至2.00。 本發明中所用之可經由酸之作用變成鹼溶性之聚合物 可輕易地藉由JP-A 4-88348等中揭示之方法製得。 經消部中决標準局貝工消費合作社印f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明中所用之可經由酸之作用,藉由與其交聯,製 成幾乎為鹼不可溶之聚合物之化合物可輕易地MJP-A 6-83055等等中揭示之製程製得。 至於本發明中所用之酸產生劑,任何酸產生劑均可使 用,只要在光化輻射照射可產生酸,且在光阻劑圖案形成 時不會產生不良影響者即可。其特別好之實例為在接近 2 4 8 . 4 n m之光透射高至足夠維持光阻劑物質之高透射,或 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 29 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(31 ) 其中R16為烷基,未經取代之苯基,經取代之苯基或芳烷 基;R17及Ri8分別為氫原子、烷基、未經取代之苯基,經 取代之苯基或芳烷基;且R19為氟烷基,三氟甲基苯基, 甲基或甲苯基
〇一Q ·—R29 C-CH2—R32 〇 R30 [16]
Rai 其中R29為烷基,氟烷基,未經取代之苯基,經取代之苯 基或芳烷基;Q’為磺醯基或羰基;R3〇及R31分別為氫原子 ,甲基,甲氧基,硝基,氰基,羥基,或式[17]所示之基 R 3 3 -Q f - 0 [17] 其中R33為烷基,氟烷基,未經取代之苯基,經取代之苯 基或芳烷基,Q’為磺醯基或羰基;且R22為氫原子,甲基 或乙基
[18] (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 0S02R34 0S02R34 35 經漓部中决標準局員工消費合作社印f 基 烷 為 4 3 R 中 其 且 基 烷 芳 或 基 苯, 之基 代氧 取甲 經, , 基 基烷 苯氟 之 , 代基 取甲 經 , 未子 , 原 基氫 烷為 0 3 之 示 表 ο 1 R 或 9 R K 或 基 17燒 t之 式示 上 ο MR1 或或 9 > R 基 K 羥 , , 中 基11 氰[1 , 式 基 硝 性 線 為 可 基 烷 之 基 烷 鹵為 至 基 烷 之 子 原 碳 個 基 之 示 表 例 實 佳 較 之 基 烷 各 ο 狀 環 或 枝 分 丙 異 r 基 丙 正 Λ 基 乙 基 甲 如 戊 正 基 丁 二 第、 基 丁 特、 基 丁 異 \ 基 丁 正 基 丙 環 r 基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 31 3 9 6 5 1 546540 A7 經满部中决標準局舅工消費合作社印f B7五、發明説明(32 ) 基、異戊基、特戊基、1-甲基戊基、環戊基、正己基、異 己基、環己基、庚基、辛基、壬基及癸基。 鹵烷基之鹵素包含氯,溴,氟,碘,等等。 式[12]中,MRii表示之烷基或KRii表示之鹵烷基之 烷基可為線性或分枝。各烷基之較佳實例為1至5個碳原子 之烷基,如甲基,乙基,正丙基,異丙基,正丁基,異丁 基,特丁基,第二丁基,正戊基,異戊基,特戊基及1-甲 基戊基。MRii表示之鹵素原子或KRii表示之鹵烷基之鹵 素包含氯,溴,氟,碘等等。以Rii表示之烷氧基可高線 性或分枝。其較佳之實例為1至5個碳原之烷氧基,如甲氧 基,乙氧基,正丙氧基,異丙氧基,正丁氧基,異丁氧基 ,特丁氧基,第二丁氧基,正戊氧基及異戊氧基。M Ri2 表示之烷基或MRi2表示之鹵烷基之烷基可為線性,分枝 或環狀。各烷基之較佳實例為1至10個碳原子之烷基,如 甲基、乙基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基 、特丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、特戊基、1-甲基 戊基、環戊基、正己基、異己基、環己基、庚基、辛基、 壬基及癸基。鹵烷基之鹵素包含氯、溴、氟碘,等等。 式[13]中,MRi3表示之烷基或KRi3表示之鹵烷基之 烷基可為線性或分枝。各烷基之較佳實例為1至6個碳原子 之烷基,如甲基,乙基,正丙基,異丙基,正丁基,異丁 基,特丁基,第二丁基,正戊基,異戊基,特戊基及1-甲 基戊基,正己基及異己基。MRm表示之1至6個碳原子之 烷氧基可為線性或分枝。具較佳之實例為1至5個碳原子之 本紙張尺度適用中國國家標举(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 2 3 9 6 5 1 dw^丨丨 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) __. 546540 經#部中决標準局員-T-消費合作社印f A7 B7 五、發明説明(33 ) 烷氧基,如甲氧基,乙氧基,正丙氧基,異丙氧基,正丁 氧基,異丁氧基,特丁氧基,第二丁氧基,正戊氧基及異 戊氧基,正己氧基及異己氧基。KR13表示之鹵素原子或 MRis表示之鹵烷基之鹵素原子包含氯,溴,氟,碘,等 等。 式[1 4 ]中,M R ^ 4表示之烷基可為線性或分枝。其較 佳之實例為1至5個碳原子之烷基,如甲基,乙基,正丙基 ,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基,正戊基 ,異戊基,特戊基及1-甲基戊基。R14所示之鹵素原子包 含氯,溴,氟,碘,等等。KRi5表示之烷基可為線性, 分枝或環狀。其較佳之實例為1至10個碳原子之烷基,如 甲基,乙基,正丙基,異丙基,環丙基,正丁基,異丁基 ,特丁基,第二丁基,正戊基,異戊基,特戊基,1-甲基 戊基,環戊基,正己基,異己基,環己基,庚基,辛基, 壬基及癸基。 以1^15表示之芳烷基包含例如,苄基,苯乙基,苯基 丙基,甲基苄基,甲基苯乙基,乙基苄基,等等。M Ri5 表示之烷氧基可為線性或分枝,且包含例如,1至6個碳原 子之烷氧基,如甲氧基,乙氧基,正丙氧基,異丙氧基, 正丁氧基,異丁氧基,特丁氧基,第二丁氧基,正戊氧基 ,異戊氧基,正己氧基,及異己氧基。 式[15]中,各MRl6, Rl7及Rl8表示之烷基可為線性, 分枝或環狀。其較佳之實例為1至8個碳原子之烷基,如甲 基,乙基,正丙基,異丙基,環丙基,正丁基,異丁基, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 3 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
546540 A7 B7 五、發明説明(34 ) 特丁基,第二丁基,正戊基,異戊基,特戊基,1-甲基戊 基,環戊基,正己基,異己基,環己基,庚基及辛基。各 及R18表示之經取代苯基包含例如,甲苯基, 乙基苯基,特丁基苯基,氯苯基,等等。以各個R16,
Ri7及Rl8表示之芳烷基包含例如,苄基,苯乙基,苯基丙 基,甲基苄基,甲基苯乙基,乙基苄基,等等。MR19表 示之氟烷基之烷基可為線性或分枝。較佳之實例為1至8個 碳原子之烷基,如甲基,乙基,正丙基,異丙基,正丁基 ,異丁基,特丁基,第二丁基,正戊基,異戊基,特戊基 ,1-甲基戊基,正己基,異己基,庚基及辛基。當作氟烷 基取代基之氟原子之總數較好為1至17。 經Μ部中次標準局員,τ消費合作社印f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 式[16]中,KR29表示之烷基可為線性,分枝或環狀 。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷基,如甲基,乙基, 正丙基,異丙基,環丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第 二丁基,正戊基,異戊基,環戊基,正己基及環己基。Μ R29表示之經取代苯基包含例如,甲苯基,乙基苯基,特 丁基苯基,氯苯基,等等。M R29表示之芳烷基包含例如, 苄基,苯乙基,苯基丙基,甲基苄基,甲基苯乙基,乙基 苄基,等等。MR29表示之氟烷基之烷基可為線性或分枝 。其較佳之實例為1至8個碳原子之烷基,如甲基,乙基, 正丙基,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基, 正戊基,異戊基,正己基,庚基及辛基。當作氟烷基之取 代基之氟原子總數目較好為1至17。 式[1 7 ]中,M R 3 3表示之烷基可為線性,分枝或環狀 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 34 3 9 6 5 1 546540 經消部中决標準局員JT-消費合作社印f A7 B7 五、發明説明(35 ) 。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷基,如甲基,乙基, 正丙基,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基, 正戊基,異戊基,環戊基,正己基及環己基。KR33表示 之經取代苯基包含例如,甲苯基,乙基苯基,特丁基苯基 ,氯苯基,等等。以r33表示之芳烷基包含例如,苄基, 苯乙基,苯基丙基,甲基苄基,甲基苯乙基,及乙基苄基 ,等等。M R33表示之氟基之烷基可為線性或分枝。其較 佳之實例為1至8個碳原子之烷基,如甲基,乙基,正丙基 ,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基,正戊基 ,異戊基,正己基,庚基及辛基。當作氟烷基取代基之氟 原子總數較好為1至1 7。 式[18]中,M R34表示之烷基可為線性,分枝或環狀 。其較佳之實例為1至6個碳原子之烷基,如,甲基,乙基 ,正丙基,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基 ,正戊基,異戊基,環戊基,正己基及環己基。KR34表 示之經取代苯基包含例如,甲苯基,乙基苯基,特丁基苯 基,氯苯基,等等。KR34表示之芳烷基包含例如,苄基, 苯乙基,苯基丙基,甲基苄基,甲基苯乙基,乙基苄基, 等等。分別KR34及R35表示氟烷基之烷基可為線性或分枝 。其較佳之實例為1至8個碳原子之烷基,如甲基,乙基, 正丙基,異丙基,正丁基,異丁基,特丁基,第二丁基, 正戊異,異戊基,正己基,庚基及辛基。當作氟烷基之取 代基之氟原子總數較好為1至17。 本發明中所用之酸產生劑之特別好之實例如下: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 5 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經滴部中次標準局員T-消費合作社印f 546540 A7 B7 五、發明説明(36) 式[11]之酸產生劑包含,例如, 1 -環己基磺醜基-1-(1,1-二甲基乙基磺醯基)重氮甲烷, 雙(1,1-二甲基乙基磺醯基)重氮甲烷,雙(1-甲基乙基磺 醯基)重氮甲烷,雙(環己基磺醯基)重氮甲烷,1-環己基 磺醯基-卜環己基羰基-卜重氮甲烷,1-重氮-卜環己基磺 醯基-3,3 -二甲基丁 - 2-嗣,1-重氮-1-甲基確醯基-4-苯基 丁 - 2-酮,1-重氮-1-(1,1-二甲基乙基磺醯基)-3,3-二甲 基-2-丁麵,1-乙醯基-1-(1-甲基乙基磺醯基)重氮甲烷, 等。 式[12]之酸產生劑包含,例如, 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲,雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重 氮甲烷,甲基磺醯基-對-甲苯磺醯基重氮甲烷,雙(對-特 -丁基苯基磺醯基)重氮甲烷,雙(對-氯苯磺醯基)重氮甲 烷,環己基磺醯基-對-甲苯磺醯基重氮甲烷,等等。 式[14]之酸產生劑包含例如, 1-對甲苯磺醯基-1-環己基羰基重氮甲烷,1-重氮-1-(對-甲苯磺醯基)-3,3 -二甲基丁 - 2-麵,1-重氮-1-苯磺醯-3, 3-二甲基丁 - 2-酮,1-重氮-1-(對-甲苯磺醯基)-3-甲基丁 - 2-酮,等等。 式[15]之酸產生劑包含,例如三苯棊銃♦三氟甲烷磺 酸塩,三苯基銃•全氟辛烷磺酸塩,二苯基-對-甲苯基銃 •全氟辛烷磺酸塩,鏊(對-甲苯基)銃♦全氟辛烷磺酸塩, S (對-氯苯)銃♦三氟甲烷磺酸塩,鏊(對-甲苯基)銃♦三 氟甲烷磺酸塩,三甲基硫•三氟甲烷磺酸塩,二甲基苯基 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 36 3 9 6 5 1 546540 經消部中次標準局员Η消費合作社印來 A7 B7 五、發明説明(37 ) 硫♦三氟甲烷磺酸塩,二甲基-對-甲苯基銃-三氟甲烷磺 酸塩,二甲基-對-苯基銃-全氟辛烷酸塩,等等。 [式1 6 ]之酸產生劑包含,例如, 2,6-二-三氟甲磺醯氧基苯乙酮,2,6-二-三氟甲烷磺醯氧 基苯丙酮,2,3,4 - -三氟甲烷磺醯氧基苯乙酮,2,6 -二- 甲烷醯氧基苯乙酮,2,6-二-甲烷磺醯氧基苯丙詷,2,3, 4-鑫-甲烷磺醯氧基苯乙酮,2-三氟甲烷磺醯氧基苯乙酮, 2 -甲烷磺醯氧基苯乙嗣,2-正丁烷磺醯氧基苯乙嗣,2,6-二-正丁烷磺醯氧基苯乙2,3,4-#-正丁磺醯氧基苯乙 2,6-二-全氟丙烷羧基苯乙嗣,2,3,4-S-全氟丙烷羧 基苯乙酮,2,6-二-對甲苯磺醯氧基苯乙酮,2,6-二-對-甲苯磺醯基苯丙酮,2,6-二-三氟乙醯氧基苯乙嗣,2-三 氟乙醯氧基-6-甲氧基苯乙酮,6-羥基-2-全氟丁烷磺醯氧 基苯乙2-三氟乙醯氧基-6-硝基苯乙酮,2,3, 4-¾ -三 氟乙醯氧基苯乙嗣,2,6-二-全氟丙醢氧基苯乙酮,等等 0 式[18]之酸產生劑包含,例如, 1,2,3-銮-甲磺醯氧基苯,1,2,3-S-對-甲苯磺醯氧基笨, 1,2,3-鑫-三氟甲烷磺醯氧基笨,1,2,3-叁-全氟丁烷磺 醯氧基笨,1,2,3-¾ -環己基磺醯氧基笨,1,2-二-甲烷磺 醯氧基-3-硝基苯,2,3 -二-甲烷磺醢氧基酚,1,2,4-# -對甲苯磺醯氧基苯,1,2,4-雲-甲烷磺醯氧基苯,1,2,4-蓥-三氟甲烷磺醯氧基苯,1,2,4-# -環己基磺醯氧基苯, 1,2-二-正丁烷磺醯氧基-3-硝基苯,1,2,3-S-全氟辛烷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 7 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
546540 A7 B7 五、發明説明(38 ) 磺醯氧基苯,1,2-二-全氟丁烷磺醯氧基酚,等等。 本發明中所用之酸產生劑可藉由例如JP-A 4-210960, JP-A 4-211258, JP-A 5-2496682,等等中所揭示之任一 種方法製得。 本發明之光阻劑組成物中,所使用之本發明化合物之 量通常為0.01至10重量份,較好為0.1至1.0重量份(相對 於100重量份之(a)經由酸之作用可變成鹼可溶之聚合物( 此項簡稱為聚合物成份(i)), (b)鹼溶性聚合物及經由酸 之作用可變成鹼溶性之聚合物之總量(此總量此項簡稱為 聚合物成份(ii),或(c)鹼溶性聚合物及經由酸之作用, 可經由使聚合物交聯成幾乎鹼不可溶之化合物之總量(此 總量此後簡稱之為聚合物成份(iii))。 當經由酸之作用可變成鹼可溶之化合物,或經由酸之 作用,可使聚合物與其交聯成為幾乎鹼不溶之化合物與鹼 溶性聚合物共同使用於本發明中時,所使用之化合物之量 相對於100重量份之鹼可溶聚合物,一般為10至50重量份, 較好為1 5至4 0重量份。 經滴部中决標準局員,τ消贽合作社印f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之光阻劑組成物中所使用之酸產生劑之量相對 於100重量份之聚合物成份(i),聚合物成份(ii),或聚合 物成份(iii), 一般為1至30重量份,較好為1至20重量份 〇 本發明中,可使用任何溶劑,只要可溶解上述之聚合 物成份(i)至(iii),酸產生器及本發明之化合物之任一種 者即可。通常,較好使用具有良好成膜性質之溶劑。溶劑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX 297公釐) 38 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(39 ) 之特別好之實例為甲基溶纖素乙酸酯,乙基溶纖素乙酸酯 ,丙二醇單甲基醚乙酸酯,丙二醇單乙基醚乙酸酯,乳酸 乙酯,丙酸_甲酯,丙酬酸乙酯,3 -甲氧基丙酸甲酯,N-甲基- 咯烷酮,2 -庚環己酮,二乙二醇簞乙基醚, 二乙二醇二甲基醚,等等。 本發明中所用溶劑之量較好比任何一種聚合物成份( i )至(i i i )之總量量多2至2 0倍,更好為3至1 0倍。 通常,本發明之光阻劑組成物主要係由四種成份組成 ,即上述之聚合物成份(i)至(iii)之任一種,酸產生劑, 本發明之化合物及溶劑。必要時,該光阻劑組成物除了此 四種成份外亦可包含敏感性調整劑,界面活性劑,紫外線 吸收劑,可塑劑,助溶劑,等等。 經部中决標準局員,τ消費合作社印f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 至於必要時在本發明之光組劑組成物中所用之敏慼性 調整劑,可列舉者為聚(乙烯吡啶,聚-(乙烯吡啶/甲基丙 烯酸甲酯),吡啶,Ν,Ν -雙(2 -羥基乙基)苯胺,單烷基胺( 此烷基包含1至12個碳原子之線性,分枝或環狀烷基,其 特定之實例為2 -甲基環己基胺,4 -特-丁基環己基胺,等 等),二烷基胺(此烷基包含1至12個碳原子之線性,分枝 或環狀烷基,其特別好之實例為二環己基胺,二-正-辛基 胺,等等),三烷基胺(此烷基包含1至12個碳原子之線性 、分枝或環狀烷基,其特別好之實例為三乙基胺,三-正-丙基胺,三-正-丁基胺,三己基胺,三辛基胺,二環己基 甲基胺,二辛基甲基胺,二甲基辛基胺,等等),單-,二 -或三-烷醇胺,其特別好之實例為三乙醇胺,三異丙醇胺 本紙張尺度適用中國國家標準(cns ) Α4規格(2ΐ〇χ 297公釐) 7^ 3 9 6 5 1 546540 經肩部中次標準局貝Η消費合作社印f A7 B7 五、發明説明(40 ) ,等等),四烷基銨氫氧化物(此烷基包含1至12個碳原子 之線性,分枝或環狀烷基,其特別好之實例為四甲基銨氫 氧化物,四-正-丁基銨氫氧化物,等等)。敏感性調整劑 並不限於此等化合物。 必要時所使用之敏感性調整劑之量,對每100重量份 之聚合物成份(i)至UU)之任一種較好為0.001至10重量 份,更好為0.01至5重量份。 至於本發明之光阻劑組成物中於必要時所使用之界面 活性劑,可列舉者為非離子性界面活性劑,例如聚乙二醇 二硬脂酸酯,聚乙二醇二月桂酸酯,聚(乙二醇),聚(丙 二酵),聚氧乙烯硬脂醮醚,聚氧乙烯基醚,等等,陽雛 子界面活性劑及陰離子界面活性劑。 此等界面活性劑之中,由形成光阻劑薄膜之觀點言之 ,較適用之界面活性劑之特定實例為含氟之非離子性界面 活性劑,如Fluorad(商標名,SUMITOMO 3M股份有限公司) ,S ϋ R F L 0 N (商標名,旭玻璃股份有限公司),U N I D Y N E (商 標名,DAIKIN工業股份有限公司),MEGAPAC(商標名,大 日本油墨及化學工業股份有限公司),EFT0N (商標名, T0HKEMPR0DUCTS股份有限公司)。 必要時所用界面活性劑之量,對每100重量份之聚合 物成份(i)至(iii)之任一種較好為〇·〇〇1至10重量份,且 更好為0.01至5重量份。 至於本發明中之光阻劑組成物中,必要時使用之紫外 線吸收劑,可列舉者為9重氮芴,9-(2 -甲氧基乙氧基甲基 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標绛((:NS ) A4規格(210X 297公釐) 40 3 9 6 5 1 546540 經满部中次#準局員Τ,消费合作社印繁 Α7 Β7 五、發明説明(41) )憩,9-(2 -乙氧基乙氧基甲基)憩,9 -芴酮,2-羥基咔唑, 鄰萘醌叠氮化物,4 -重氮-1,7 -二苯基戊烷-3,5 -二酮,等 等。 必要時所用紫外線吸收劑之量較好為0.001至10重量 份,更好為(K01至5重量份(對每100重量份之聚合物成份( i)至(iii)之任一種而言)。 至於本發明之充阻劑組成物中,必要時所用之可塑劑 ,可列舉者為二-正-丁基苯二酸酯,雙(2 -乙基己基)苯二 酸酯,己二酸二丁酯,二乙二醇二苯甲酸酯,油酸丁酯 ,乙醯基蓖麻甲酯,氯化鏈烷,環氧硬脂酸烷酯,等等。 必要時所用之可塑劑之量較好為0.001至10重量份, 更好為0.01至5重量份(為每100重量份之聚合物成份(i)至 (iii)之任一種而言)。 至於本發明之光阻劑組成物中必要時所用之助溶劑, 可列舉者為N, N0二甲基甲醯胺,Ν,Ν -二甲基乙醯胺,等等 Ο 必要時使用之助溶劑之量較好為0.01至20重量份,更 好為0.1至10重量份(對每100重量份之聚合物成份(i)至( iii)之任一種而言)。 圖案係藉由使用本發明之光阻劑組成物形成,例如如 下列般。 本發明之光阻劑組成物係旋轉塗佈在S i 0 2 ,多結晶矽 ,BPSG, TEOS , TiN, SiN等等半導體基材上,接着50°C 至120¾之熱板上烤焙0.5至2分鐘,得到0,5至2微米厚之 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 41 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(42 ) 光阻劑薄膜。接着,光阻劑到薄膜選擇性地曝曬於經過光 罩之輻射(例如,KrF準分子雷射光束(248·4ηπι), 300nm或 更低之深紫外光,電子束,軟X -射線,等等)下,且接着 必要時,可在50至130 °C之熱板上酸後烤焙0.5至2分鐘。 隨後,光阻劑膜藉由混拌法、浸漬法,噴灑法,等等,Μ 鹼性顯像溶液顯像,將曝曬之部份溶解,而形成正圖案。 上述各種顯像法之任一種中所用之鹼性顯像溶液之鹼 包含例如,四甲基銨氫氧化物,膽鹼一四乙醇胺,Κ0Η, Ha〇H,等等。其濃度較好為0」至10重量%,更好為0.5至 5重量谇,界面活性劑等可加於鹼性顯像液中。 經漓部中决標準局員_τ消費合作社印f 裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
當含有本發明化合物之化學倍增光阻劑材料用在特殊 之基材(其上由於存有大量鹼性化合物於基材中因此會得 到不能令人滿意之圖案輪廊),上時,由於鹼性化合物之 作用受到抑制,因此可得到安定且良好之圖案輪廓。以往 有使用抑制鹼性化合物作用之有機羧酸或磺酸化合物之方 法。然而,此等方法包含下列問題:為了維持光組劑組成 物之儲存安定性,鹼性化合物之用量應大於中和該酸所需 之量,因此光阻劑之敏感性降低,且因此損害實際上之利 用性。 上述之問題亦可使用本發明之化合物充份地解決。 本發明參考下列之實例及比較例更詳细地說明,其並 非用於限制、只作為說明作用。 實例及比較例中所用之某些聚合物及酸產生劑已可藉 由例如 JPH210960(USP.5216135) ; JP-A4-211258(USP· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 42 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(44 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將依據上述配方之光阻劑組成物旋轉塗佈在Μ硼及磷 摻雜在矽晶圓上形成之氧化矽藻膜製得之半導體基材( BPSG基材)上,且在90°C之煎板上烤焙90秒,得到1微米厚 之光阻劑薄膜。接著,光阻劑藻膜選擇性地曝曬於經過光 罩之248.4nm之KrF準分子雷射光束(NA:0,55)下再於105°C 之熱板上後烤培9 0秒。隨後,光阻劑薄膜藉由混拌法,K 鹼性顯相溶液(2.38¾之四甲基銨氫氧化物水溶液)顯相60 秒,只溶解光阻劑薄膜曝曬部份,因此得到正圖案。如第 1圖中所示,所得之正圖案具有良好輪廓,其接觸孔之解 析度為0.25/im。此例中,曝曬劑量為38fflj/cm2。 當依上述配方之光阻劑組成物在23 °C下儲存3個月後 ,再依上述之相同方式形成圖案,在曝曬劑量為38inJ/Cin2 下形成具有良好輪廓之〇.25/iin接觸孔。因此,可確認光 阻劑組成物之儲存安定性。 g例2至29 依表1至1 2中所示之各則配方製備光阻劑組成物。 經螭部中次標準局员工消費合作社印f 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規枱(210X 297公釐) 44 3 9 6 5 1 546540 7 Β 明説 明 發五 2 表 經螭部中次標準局負JT消贽合作社印製 實例5 聚(對-特-丁氧基羧基苯乙烯/對羥基苯乙烯) (Mw: 8000,分散度:1.10) 4 ♦ 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 對(對-甲苯磺醯)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0· 03g 三辛基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 酞醯亞胺 0.03g 實例6 聚(特-丁基對-乙烯基苯氧基苯乙烯/對 -羥基笨乙 烯)(Mw:15000,分散度:1·05) 4· 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 雙(2,4_二甲基苯磺醯基)重氮甲烷 0 · lg 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0· 03g 三辛基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 馬來醯亞胺 0 · Olg 實例7 聚[對- (1-甲基-1-甲氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙稀](Mw:20000,分散度:1·05) 4 · 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.03g 四丁基銨氫氧化物 (K 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 酞醯亞胺 ——.--- . .. -......... 0 · 02g 本紙張尺度述用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) ▼裝! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T Λ 46 39651 546540 A7 B7 五、發明説明(47) 表3 經漓部中决標準局員Η消贽合作社印粼 實例8 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基笨乙烯] (Mw: 20000,分散度:1,05) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 * 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.03g 二環己基甲基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 實例9 聚[對_(1_乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw:15000,分散度:1.10) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0♦ 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 9-重氮結 0.018g 二辛基甲基胺 0,05g 2-庚画 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 實例10 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw:8000,分散度:1.05) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 . 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0· 03g 四丁基胺氫氧化物 0 ♦ 05g 9- (2-甲氧基乙氧基甲基)蔥 O.Olg 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 酞醯亞胺 0· 02g 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) _裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) *11 47 39651 546540 經部中次標準局員h消费合作社印繁 五、發明説咬 A7 B7 48) 表4 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-特-丁氧基羰 基氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 8000,分散度:1.85) 4.5g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 〇.3g 正-己烷磺醯氧基琥珀醯亞胺 O.lg 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產品) 0.03g 四丁基銨氫氧化物 0,05g 2 -庚酮 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 實例12 聚[對-(卜乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-特-丁氧基苯 乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw:20000,分散度:1.80) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.25g 三苯基銃-三氟甲烷磺酸酯 0,03g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.05g 四丁基銨氫氧化物 0.05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X297公釐) 48 39651 54654〇 五 A7 —___________發明説明(49) 表5 經鴻部中决標準局員Η消費合作社印則水 —S_ 寶例13 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-特 -丁氧基苯 乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1,85) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 . 3g 含氧之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 四丁基銨氫氧化物 0.03g 2-庚酮 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 實例14 聚[對-(1-甲氧基乙氧基)苯乙烯/對-特 -丁氧基苯 乙烯/對-羥基笨乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.90) 4,5g 雙(1,卜二甲基乙基磺醸基)重氮甲烷 0 · 25g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0· 03g 三辛基胺 0 ♦ 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 酞醯亞胺 (K02g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐) 49 39651 546540 A7 B7 五、發明説明(5G) 表6 經漓部中决標準局員X消费合作社印?木 實例15 聚-[對乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-1 -四氫吡喃 基氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.85) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 ♦ 25g 雙(苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.03g 三辛基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 琥泊醯亞胺 O.Olg 實例16 聚[對- (1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-特- 丁氧基苯 乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1·95) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 ♦ 25g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非雛子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 05g 二辛基甲基胺 0 ♦ 05g 二乙二醇二甲基醚 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 50 39651 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 546540 i五 A7 B7 經滴部中次標準局员X消贽合作社印^ 發明説明(5]) 表7 實例17 聚[對-(1-四氫吡喃基氧基)/苯乙烯/對-特-丁氧基 乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.05) 4.5g 三苯基銃-三氟甲烷磺酸塩 O.lg 雙(苯磺醯基)重氮甲烷 O.lg 含氟之非雛子性界面活性劑 (市售產物) 0.03g 三辛基胺 0. 05g 2-庚酮 23g 酞醯亞胺 O.Olg 實例18 聚[對_(1_乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.10) 4,5g 聚(對-特-丁氧基羰基氧基笨乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mv: 15000,分散度:1·05) 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 三辛基胺 丙二醇單甲基醚乙酸酯 馬來醯亞胺 1.5g 丨· 25g 、05g •. 03g L 05g 30g ).01 g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準((:NS ) A4規格(210X 297公釐) 51 39651 54654〇 A7 B7 五 '發明説明(52 經淖部中决標準局員,τ消贽合作社印來 表8 '--- 寶例19 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對一 羥基笨乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.80) 4 · 5g 聚(對-特-丁氧基苯乙烯/對-羥基苯乙烯) (Mw: 8000,分散度:1.95) 1 · 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g 辛烷磺釀氧基琥珀醯亞胺 0.3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產品) 0 · 03g 三辛基胺 0 ♦ 05g 2-庚酮 30g 酞醯亞胺 0 ♦ 01 g 實例20 聚[對-1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.85) 4 · 5g 聚(對-特-丁氧基羰基氧基苯乙烯/對 -羥基苯乙烯) (Mv: 8000,分散度:1.85) 1 · 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 25g 雙(2,4-二甲苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 三辛基胺 0 · 05g 二乙二醇二甲基醚 30g 馬來醯亞胺 0 · 01 g 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 52 39651 ▼裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 40 5 46 5 Β7 明 説明發 、 五 9 表 經鴻部屮决標準局員工消贽合作社印f 實例21 聚[對-(卜乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.05) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) (K05g 四丁基銨氫氧化物 0.05g 環己酮 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 實例22 聚(對_羥基苯乙烯) (Mw: 8000,分散度:1.85) 4,5g 2,2-雙[4-(1-乙氧基乙氧基)苯基]丙烷 l,5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 (K3g 非離子性界面活性劑(市售產物) 0.03g 二環己基甲基胺 0.05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 30g 琥珀醢亞胺 O.Olg 實例23 聚[對-(卜乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1·90) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 〇.3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 〇.15g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.05g 三-正-丙基胺 〇.〇5g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 二乙醯胺 0.02g 本紙張尺度適用中國國家標举(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 53 39651 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
546540 A7 B7 表 經满部中次標準局員,τ-消费合作社印f 實例24 聚[對_(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.95) 4 · 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 ♦ 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 ♦ 03g 四丁基銨氫氧化物 0 ♦ 05g 丙二酵單甲基醚乙酸酯 23g 二乙醯脲 0 ♦ 02g 實例25 聚[對- (1-甲基-1-甲氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基 苯乙烯](Mw: 20000,分散度:1·25) 4-5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0.05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0,03g 四丁基銨氫氧化物 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 二苯甲醯脲素 0 ♦ 02g 實例26 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1,05) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 二環己基甲基胺 0 * 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 甲烷磺醯胺 0 · 01 g 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 54 39651 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
546540 A7 B7 五、發明説明(55 ) 經碘部中次標準局員二消费合作社印f 表11 實例27 聚[對-四氫吡喃基氧基苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.10) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0.03g 二辛基甲基胺 0 · 05g 9-重氮芴 O.Olg 2-庚晒 23g 對甲苯磺醜胺 O.Olg 實例28 聚[對乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -特-丁氧基苯乙 烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.85) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 . 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 ♦ 03g 四丁基銨氫氧化物 0 · 03g 2-庚嗣 23g 苯磺醯胺 O.Olg |裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
11T 本紙張尺度過用中國國家標準(CNS ) A4規格(2】0X297公釐) 55 39651 546540 A7 B7 五、發明説明(56 ) 表12 實例29 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對- 羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1 .05) 4 · 5g 聚(對-特-丁氧基羰基氧基苯乙烯/對 -羥基苯乙烯) (Mw: 8000,分散度:1.85) 1. 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0· 25g 雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 三辛基胺 0 ♦ 05g ^ -ττΑ 一乙一酵 30g N-苯甲醯苯醯胺 0-01g II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 圖案之形成Μ與實例1相同之方式進行,但係分別使 用依表1至1 2所示之各別配方製備之光阻劑組成物。所得 之結果列於表13及14中。 ▲ 經肩部中决摞率局员T-消費合作社印來 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 5 6 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(57 ) 表1 3 經肩部中决標準局員,τ消费合作社印f 實例 編號 曝曬 (m J / c m 2 ) 解析度 (u inC/H) 圖案之 輪廓 儲存 安定性 2 54 0.35 良 良 3 46 0,35 良 良 4 33 0.25 良 良 5 52 0 . 45 良 良 6 50 0 . 40 良 良 7 35 0 · 25 良 良 8 38 1 0*25 良 良 9 38 0.25 良 良 10 36 '0.25 良 良 11 40 0.30 良 良 12 40 0,30 良 良 13 40 0.30 良 良 14 40 0.30 良 良 15 38 0.30 良 良 16 36 0.25 良 良 17 38 0.35 良 良 18 38 0.30 良 良 19 38 0.25 良 良 20 38 0.25 良 良 21 38 0.25 良 良 22 44 0.35 良 良 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
546540 A7 B7 五、發明説明(58 ) 表1 4 實例 編號 曝曬 (m J / c in 2 ) 解析度 (u inC/H ) 圖案之 輪廓 儲存 安定性 23 38 0.25 良 良 24 38 0.25 良 良 25 35 0.25 良 良 26 38 0.25 良 良 27 38 0.25 良 良 28 40 0.30 良 良 29 35 0.30 良 良 -------裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
1T 比_.較…胤丄 經漓部中次標準局員,τ消贽合作社印f 光阻劑組成物係依照下列配方(其與實例1之光阻劑組 成物之配方相同,但刪掉本發明之化合物)製備。除了使 用如此製備之光阻劑組成物外,依實例1中所述之相同方 式形成圖案: 聚[對- (1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000 ,分散度:1,90) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0.15g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 05g 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 58 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(59 ) 三-正-丙基胺 0 , 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 結果,0.25α in之接觸孔可在38mJ/Cm2之曝曬劑量下 解析,但如第2圖所示,在光阻劑薄膜底部之圖案具有地 腳其輪廓不能令人滿意。 比較例2 使用已知之技術,依照下列配方製備光阻劑組成物, 且依實例1中所述相同之方式形成圖案,但係使用此光阻 劑: 聚[對- (1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw:20000,分散度:1.90) 4 . 5g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 磺 基 己 環 /IV 雙 烧 甲 氮 fi S \1/ 基 烷 1 3 劑 甲 性 氮 重活 > 面 基界 醯性 磺子 苯離 甲非0 ^ 雙含 物 產 售 市 胺 基 丙 I 正 -三 酯 酸 乙 醚 基 甲 單 醇 經漓部中决標準局負_τ.消費合作社印繁 酸果 楊结 水 之 廓 輪 週 2 存 儲 瓜 8 3 在 好 良 有 具 到 得 析 解 可 下 量 劑 曬 曝 之 下 OC 3 2 在 物 成 組 劑 阻 光 當 而 然 顯 在 時 案 圖 成 形 式 方 同 相 之 述 所 〇 中 孔 1 觸例 接實 丨依 再 之 望 期 到 得 法 無 此 因 解 溶 遭 亦 份 之 所 曬 中 曝 圖 經 3 未第 中如 程 ’ 過案 像圖 良 不 性 定 安 存 儲 其 此 因 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 9 5 3 9 6 5 1 經漓部中决標準局员T,消贽合作社印來 546540 A7 B7 五、發明説明(6G) 依照與比較例2相同之配方製備光阻劑組成物,但增 加三-正-丙基胺之量至O.lg。除使用該光阻劑組成物外, 餘均依實例3中所述相同之方式形成圖案。 當光阻劑組成物於剛製備後,或在2 3 °C下儲存一個月 後用於形成圖案,此光阻劑組成物可提供具有良好輪廓之 0.25/ini接觸孔,但其敏感度低,因此曝曬劑量為 llOmJ/cin2 ° 卜上較例4 依比較例3相同之配方製備光阻劑組成物,但使用苯 二酸取代水楊酸。圖案係依實例3中所述相同之方式形成 ,但使用該光阻劑組成物。 即使在2 3 °C下儲存1個月後使用,光阻劑組成物亦可 提供0.25/iin之接觸孔,但其敏感度低,因此曝曬劑量為 llOmJ/cm2,如同比較例3之光阻劑組成物。 g例30 依照下列配方製備光阻劑組成物 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw : 2 0 0 0 0,分散度:1 . 90) 4·5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 〇.3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0.15g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 05g 三-正-丙基胺 0,05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規枱(210X 297公釐) 60 3 9 6 5 1 546540 經鴻部屮次標準局員,τ消費合作私印來 Α7 Β7 五、發明説明(61) 酞醯亞胺 0 . 02g 上述之成份經混合溶解,且所得之溶液經過具有0 . 2 微米孔隙之過滤器過濾。使用如此製得之光阻劑組成物, 依下列之方式形成圖案。 將依據上述配方之光阻劑組成物旋轉塗佈在氮化鈦基 材(T i N基材)上,且在9 Ο Ί0之熱板上烤焙9 0秒,得到1微米 厚之光阻劑薄膜。接著,光阻劑薄膜選擇性地曝曬於經過 光罩之248.4nm之KrF準分子雷射光束(NA: 0.55)下,再於 1 0 5 1C之熱板上後烤焙9 0秒。隨後,光阻劑薄膜藉由混拌 法,Μ鹼性顯相溶液(2.38¾之四甲基銨氫氧化物水溶液) 顯相6 0秒,只溶解出光阻劑薄膜之曝曬部份,因此得到正 圖案。如第1圖中所示,所得之正圖案呈現0.2/im線空間 之解析度並具有良好輪廊。此例中,曝曬劑量為 30mJ/cin2 ° 當依上述配方之光阻劑組成物在2 3 °C下儲存3個月後 ,再依上述之相同方式形成圖案,在曝曬劑最為 30mJ/cm2下形成0.20/iin之線空間之解析度。且具有良好 輪廓之圖案。因此確認該光阻劑組成物之儲存安定性。 窨例3 ΐ革4 3 依據表1 5至2 0中所示之各別配方製得光阻劑組成物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 6 1 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(62) 表15 經邊部中决#率局員h消费合作社印如卞 實例31 聚[對-(卜乙氧基乙氧基)苯乙烯/對- -羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.95) 4 * 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 四丁基銨氫氧化物 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 琥珀醯亞胺 0.02g 實例32 聚[對- (1-甲基-1-甲氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥 基苯乙烯](Mw: 20000,分散度:1·05) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g ;雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 四丁基銨氫氧化物 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 酞醯亞胺 0.02g 實例33 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1·05) 4 ♦ 5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0 · 3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 二環己基甲基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 琥珀醯亞胺 O.Olg 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X297公釐) 62 39651 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 546540 Α7 Β7 五、發明説明(63) 經肩部屮决標绛局舅Jr消贽合作社印來 表16 實例34 聚[對-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 15000,分散度:1.95) 4.5g 雙(環己基磺醯基)重氮甲烷 0.3g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 二辛基甲基胺 0 · 05g 9-重氮芴 0-01g 2-庚酮 23g 酞醯亞胺 O.Olg 實例35 聚[對- (1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-特 -丁氧基苯 乙烯/對-羥基笨2烯] (Mw: 15000,分散度 1.85) 4.5g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 四丁基銨氫氧化物 0 · 03g 2-庚酮 23g 琥珀醯亞胺 0 · 02g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規枱(2i〇x 297公釐) 39651 546540 A7 B7 經肩部中次標卑局貞_τ消費合作社印來 五、發明説明(64 ) 表17 實例36 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基 苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.85) 4.5g 聚(對•特-丁氧基羰基氧基苯乙特/對-羥 基苯乙烯] (Mw: 8000,分散度:1.85) 1. 5g 雙(環已基磺醯基)重氮甲烷 0 · 25g 雙(2· 4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷 0 · 05g 含氟之非麗子性界面活性劑 (市售產物) 0 · 03g 三辛基胺 0 · 05g 二乙二醇二甲基醚 30g 酞醯亞胺 0 ♦ 01 g 實例37 聚[對-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯/對 -羥基 苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:190) 4.5g 雙(環已基磺醯基)重氮甲烷 0 . 3g 雙(對-甲苯磺醯基)重氮甲烷 0· 15g 含氟之非離子性界而活性劑 (市售產物) 0.05 三-正-丙基胺 0 · 05g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 二乙醯胺 0.02g (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11
本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規枱(210Χ 297公釐)64 39651 546540 經滅部中次標準局員JT.消費合作私印來 A7 B7 五、發明説明(65) 表18 實 例 38 聚 [對- ()-乙氧基乙氧基) 苯乙 烯 /對 -羥 基 苯 乙烯 ] (M w : 1 5000 ,分 散 度 1 . 95) 4 . 5g 雙 (環已基磺醯基) 重 氮 0 . 3 g 含 氟之 非離子性 界 而 活 性 劑 (市售產物) 0 . 03g 四 丁基 銨氫氧化 物 (K 05g 丙 二醇 單甲基醚 乙 酸 酯 23 g 二 乙醯 脲 0 . 02g 實 例 39 聚 [對- ()-甲基- 1 - 甲 氧 基 乙氧 基 )苯 乙烯[ (M W: 20000 ,分 散 度 : 1 . 05) 4 . 5 g 雙 (環已基磺醯基) 重 氮 甲 烷 0 . 3 g 雙 (對- 甲苯磺醯 基 )重氮甲烷 0 . 05g 含 氟之 非離子性 界 面 活 性 劑 (市售產物) 0 . 03g 四 丁基 銨氫氧化 物 0 . 05g 丙 二醇 單甲基醚 乙 酸 酯 23 g 二 苯甲 醯脲 0 . 02g 實 例 40 聚 [對- ()-乙氧基乙氧基) 苯乙 烯 /對 -羥 基 苯 乙烯 ] (M w * 2 0 0 0 0,分 散 度 :1 .05) 4 . 5 g 雙 (環已基磺醯基) 重 氮 甲 燒 0 . 3 g 含 氟之 非離子性 界 面 活 性 劑 (市售產物) 0 . 03g 二 環已 基甲基胺 0 . 05g 丙 二醇 單甲基醚 乙 酸 酯 23 1 g 甲 烷磺 醯胺 0 . Olg 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 65 39651 546540 A7 B7 五、發明説明(66 ) 表19 經泌部屮决標準局負,τ消費合作私印f 實 例 41 聚 [對四氫吡喃基氧基笨乙烯/對 -羥 基苯] 乙 烯] (M w: 15000,分 散 度 :1 .1 0) 4 , 5g 雙 (環已基磺醢基) 重 氮 甲 燒 0 . 3 g 含 氟之非離子性 界 面 活 性 劑 (市售產物) 0 . 03g 二 辛基甲基胺 0 . 05g 9- 重氮結 0 . Olg 2- 庚詷 23 g 對 -甲苯磺醯胺 0 . Olg 實 例 42 聚 [對- ()-乙氧基乙氧基) 笨乙烯 /對 -特 丁 氧 基苯乙烯/對- 羥 基 苯 乙 烯] (M w· 15000,分 散 度 1 . 85 4 . 5g 雙 (環已基磺醯基)重 氮 甲 烷 0 . 3 g 含 氟之非離子性 界 面 活 性 劑 (市售產物) 0 . 03g 四 丁基銨氫氧化 物 0 . 03g 2- 庚酮 23 g 苯 磺醯胺 0 . Olg (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標绛(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 66 3 9 6 5 1 546540 A7 B7 五、發明説明(67 表2 0 實例43 聚 [對-()- 乙 氧基 乙氧 基)笨 乙 烯 /對 -羥 基 苯 乙烯] (M w : 2 0 0 0 0 > ,分散之1 .05) 4 . 5g 聚 (對-特- 丁 氧基 羰基 氧基) 苯 乙 烯/ 對_ 羥 基 苯乙烯 (M w : 8 0 0 0 分散 度: 1.85) 1 . 5g 雙 (環已基 碌 釀基 )重氮甲烷 0 . 25g 雙 (2 · 4-二 甲 基苯 磺醯 基)重 氮 甲 燒 0 . 0 5 g 含 氟之非離子性界面活性劑 (市售產 物 ) 0 . 03g 三 辛基胺 0 . 05g 二 乙二醇 30 g N - 苯甲醯苯醯胺 0 . Olg (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 钞滅部中决標準局员_τ消費合作社印f 使可 別。 分物 但成 , 組 行劑 進阻 式光 方之 同備 相 自 之 方 中配 o y 3 另 例個 實之。 依示中 係所21 成中表 形20於 之 至 示 案15果 圖表結 依之 用 得 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(21 OX 297公釐) 3 9 6 5 1 546540 A7 B7五、發明説明(69 ) 聚[對- () -乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] 經鴻部中次摞率局舄,τ消费合作社印f (Mw: 20000,分散度:1.90 4.5g 雙(環已基磺醯基)重氮甲烷 〇,3g 雙(對-甲苯磺釀基)重氮甲烷 0.15g 含氟之非離子性界面活性劑 (市售產物) 0· 05g 三-乙-丙基胺 0·0 5 g 丙二醇單甲基醚乙酸酯 23g 編號,(K20w«i之直線空間可在30mJ/cm2之曝曬劑量 下解析,但圖案如第5圖中可示,在光阻劑薄膜之府部具 有地腳,不能令人滿意輪靡。 fch較例6 光阻劑組成物係使用已知之技術,依照下列之配方制 備,且依實例30中所述相同之方式形成圖案,但係使用該 光阻劑: 聚[對- () -乙氧基乙氧基)苯乙烯/對-羥基苯乙烯] (Mw: 20000,分散度:1.90) 4,5g 雙 之 氟 雙含 烷劑 甲烷性 氮甲活 重氮面 V) 基}生 醯基?1 磺醯 S 基® Ϊ 已甲 環對 物 產 售 市 酯 酸 乙 醚 胺基 基甲 丙單 醇 乙二 三 丙 酸 楊 水 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 3 9 6 5 1 (請先閱讀背面之注意事項㈣填寫本頁) 546540 A7 五、發明説明(7〇 ) 結果、在32fflJ/cin2之曝曬劑量下可解析得到具有良好 輪廓之0 . 2 0直線空間。然而、當光阻劑組成物在2 3 °C下儲 存2週,再以實例30中所述之相同方式形成圖案時,顯像 之過程中未經曝曬之部份亦遭溶解,因此無法得到期望之 圖案、如第6圖中所示。因此其儲存安定性不良。
-MJL 依照此比較例6中相同之配方制備光阻劑組成物、但 增加三-乙-丙基胺之量至O.lg。除使用該光阻劑組成物外 、餘均依實例30中所述相同之方式形成圖案。 當光阻組成物於剛製備說後,或在2 3 υ下儲存一個月 後用於形成圖案,此光阻劑組成物可提供具有良好輪廊 0.20/uiu線空間,但其敏感度低,因此曝曬劑量為72mJ/ cm 2 〇 經4部中决標準局員T-消費合作社印餐 卜上較例8 依此較例6相同之配方製備光阻劑組成物,但使用苯 二酸取代水楊酸。圖案僅依實例30中所述相同之方式形成 ,但使用該光阻劑組成物。 即使在2 3 °C下儲存1個月後使用,光阻劑組成物亦可 提供具良好輪廓之0.20mJ/ii«直線空間,但其敏感度低, 因此曝曬劑量為72niJ/cin2如同比較例7之光阻劑組成物。 由以上各點可清楚地看出,當本發明之光阻劑組成物 用在特殊材上(如T i N基材或B P S G基材),當作曝曬於深紫 外線(300ιηπι或更低)或KrF準分子雷射光束(248.4mm)之光 阻劑物質時,該光阻劑組成物可提供四分之一微米圖案之 本紙張尺度適州中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 70 3 9 6 5 1 546540 ΑΊ Β7 五、發明説明(U ) 良好輪廓,而不會造成地腳,同封維持高解析度之高敏感 度因此,本發明在半導體工業等等,形成極組圖案方面極 有價值。 本發明之化合物可有效的作為基材依存性改善劑,特 別是在使用曝紫外線或KrF準分子雷射光束形成圖案時。 其對於使用電子束,X-射線,ArF準分子電射光束之形成 圖案時亦足以使用。 經滅部中次標準局員,τ消費合作社印繁 ΊΧ 7 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規枱(210Χ 297公釐) 3 9 6 5 1

Claims (1)

  1. 546540 ____ , Η3 經濟部中央標準局員工福利委員會印制衣 灣丨 I " <到8710 5 77 8:號專利申請案 申請專利範圍修正本 (91年3月6曰) 一種降低光阻劑基材依存性之改善劑,包括在分子中含 有一至四種其- NH-直接鍵之一或二個鍵係直接鍵結於 一至三種選自-C( = 0)-,-C( = S)-,及-so2-基之構造之化 合物; 其中該化合物包括一至七種選自下列(1)至(7)之化 合物: (1> 一種由脂肪系二元酸所衍生之醯亞胺化合物,該 醯亞胺化合物爲琥珀醯亞胺、馬來醯亞胺、戊二醯亞胺、 二甲雙酮、二乙雙酮、繞丹寧、海因、尿嘧啶、二氫尿 嘧啶、2,4-二氧代六氫- I,3,5-三嗪、乙二醯脲、丙二醯 脲、四氧嘧啶、紫尿酸等等; (2)—種以下式[2】表示由芳香系二元酸所衍生之醯 亞胺化合物: Η 人 ^ DXQ=X [2]ί Ε 、、一/ 其中X爲氧原子或硫原子;D爲可含有氧原子、氮原子 或硫原子當作構成原子之飽和或不飽和5_或6 -員環,且 構成環之碳原子可具有取代基,而硫原子可具有一或二 個氧基,且E爲含有碳原子當作構成原子之飽和或不飽 和6-員環或稠環,且環E與環D形成稠環; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格( 210 X 297公釐) 1 39651 546540 H3 (3>—種以下式[3】表示之化合物: Η •人 [3] G、C = 0 / * j \ J ;〉一〆S · 、〜Λ t ; χ y 其中G爲可含有氧原子當作構成原子之飽和或不飽和 6-至8-員環;J及L二者分別爲苯環,且環J及環L分 別與環G形成稠環; (4) 苯均四酸二醯亞胺; (5) 本達隆(bentazone); (6) 磺醯胺衍生物;及 (7) —種以下式[21】表示之化合物:
    [21] 其中乂1及X2分別爲經取代或未經取代之烷基或苯基; η爲1至3之整數;且在數個η中之X分別爲氧原子或 硫原子。 經濟部中央標准 員工福利委員會印制π 2·如申請專利範圍第〖項之改善劑,其中由芳香系二元酸 衍生之醯亞胺化合物爲酞醯亞胺、四氫酞醯亞 胺、1,8_萘醯亞胺、或2,3 -萘二醯亞胺者。 3·如申請專利範圍第i項之改善劑,其中磺醯胺衍生物爲 r〇so2nhr’所示之化合物,其中R()爲經取代或未經取 代之院基' 或經取代或未經取代之芳基;且R,爲氫原子 或烷基者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格⑺()χ撕公餐) 2 39651 546540 H3 4·如申請專利範圍第3項之改善劑,其中磺酸胺衍生物爲 甲苯磺醯胺、苯磺醯胺、或甲烷磺醯胺者。 5·如申請專利範圍第1項之改善劑,其中以式【21】表示之 化合物爲Ν-苯醯基苯醯胺或二乙醯胺者。 6· —種光阻劑組成物,包括:U)經由酸之作用可變成鹼可 溶之聚合物,(b)以光化幅射照射可以產生酸之化合物, (c)如申請專利範圍第1項所述分子中含有一至四種其-N H-直接鍵之一或二個鍵係直接鏈結於一至三種選自-c( = o)-,-C( = S)-,及-so2-基之構造之化合物,及(d)可 溶解此三種成份之溶劑;其中相對於重量份聚合物 (a),化合物(c)之量爲0.01至10重量份。 經濟部中央標準局員工福利委員會印制衣 7. —種光阻劑組成物,包括:(a)鹼可溶之聚合物,(b)經 由酸之作用可變成鹼可溶之化合物,(c)可以光化輻射照 射時產生酸之化合物,(d)如申請專利範圍第1項所述分 子中含有一至四種其-NH-直接鍵之一或二個鍵係直接 鍵結於一至三種選自-c( = o)·,-C( = S)-,及-so2•基之構 造之化合物,及(e)可溶解此四種成份之溶劑;其中相對 於1〇〇重量份聚合物(a)及化合物(b)之總量,化合物(d> 之量爲0.01至10重量份。 8. —種光阻劑組成物,包括:U)鹼可溶之聚合物,(b>可 經由與酸之作用,與其交聯使該聚合物難溶於鹼之化合 物,(〇可以在光化輻射照射時產生酸之化合物,(d>如 申請專利範圍第1項所述分子中含有一至四種其-NH-直 接鍵之一或二個鍵係直接鍵結於一至三種選自-c( = o>-, -C( = S)-,及-S02-基之構造之化合物,及(〇可溶解此四 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公f 3 39651 546540 ___ H3 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 . 種成份之溶劑;其中相對於100重量份聚合物(a>及化合 物(b>之總量,化合物(d)之量爲0.01至10重量份。 9·如申請專利範圍第6至8項任一項之光阻劑組成物,其 中如申請專利範圍第1項之化合物包括由脂肪系二元酸 所衍生之醯亞胺化合物者。 10·如申請專利範圍第6至8項任一項之光阻劑組成物,其 中如申請專利範圍第1項之化合物包括由芳香系二元酸 所衍生之醯亞胺化合物者。 11·如申請專利範圍第9項之光阻劑組成物,其中由脂肪系 二元酸衍生之醯亞胺化合物爲琥珀醯亞胺、馬來醯亞胺 或戊二醯亞胺者。 I2·如申請專利範谓第10項之光阻劑組成物,其中由芳香 系二元酸衍生之醯亞胺化合物爲酞醯亞胺、1,2,3,6-四氫 酞醯亞胺、1,8-萘醯亞胺、或2,3-萘二醯亞胺者。 13·如申請專利範圍第6至8項任一項之光阻劑組成物,其 中磺醯胺衍生物爲r〇so2nhr’所示之化合物,其中R〇 爲經取代或未經取代之烷基、或經取代或未經取代之芳 基;且R’爲氫原子或烷基者。 I4·如申請專利範圍第I3項之光阻劑組成物,其中磺酸胺 衍生物爲甲苯磺醯胺、苯磺醯胺、或甲烷磺醯胺者。 15·如申請專利範圍第6至8項任一項之光阻劑組成物,其 中以式【21】表示之化合物爲N-苯醯基苯醯胺或二乙醯胺 者0 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格( 210 X 297公釐) 39651
TW087105778A 1997-04-30 1998-04-16 An agent for reducing the substrate dependence of resist and a resist composition TW546540B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12628397 1997-04-30
JP15157097 1997-05-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW546540B true TW546540B (en) 2003-08-11

Family

ID=26462502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087105778A TW546540B (en) 1997-04-30 1998-04-16 An agent for reducing the substrate dependence of resist and a resist composition

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6303264B1 (zh)
EP (1) EP0875787B1 (zh)
KR (2) KR19980081863A (zh)
DE (1) DE69832751T2 (zh)
SG (1) SG71778A1 (zh)
TW (1) TW546540B (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3955384B2 (ja) * 1998-04-08 2007-08-08 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 化学増幅型レジスト組成物
TW502133B (en) * 1999-06-10 2002-09-11 Wako Pure Chem Ind Ltd Resist composition, agent and method for reducing substrate dependence thereof
US6531259B1 (en) * 1999-06-21 2003-03-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Pattern formation method and pattern formation material
JP2001264968A (ja) 2000-03-23 2001-09-28 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型レジスト組成物
US6514664B1 (en) 2000-07-20 2003-02-04 Arch Specialty Chemicals, Inc. Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives
JP2002091003A (ja) * 2000-09-19 2002-03-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 薄膜形成用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いた感光材料
JP3509760B2 (ja) * 2001-02-08 2004-03-22 株式会社半導体先端テクノロジーズ 半導体装置の製造方法
JP4514978B2 (ja) * 2001-03-28 2010-07-28 國宏 市村 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
EP1324134B1 (en) * 2001-12-27 2010-10-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist composition and patterning process
KR100764375B1 (ko) * 2005-12-15 2007-10-08 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 하드마스크용 고분자 및 이를 함유하는조성물
JP4703674B2 (ja) * 2008-03-14 2011-06-15 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5286236B2 (ja) * 2009-11-30 2013-09-11 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法
US9698014B2 (en) * 2014-07-30 2017-07-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Photoresist composition to reduce photoresist pattern collapse

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58149042A (ja) * 1982-03-02 1983-09-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型感光性組成物
DE3331691A1 (de) * 1983-09-02 1985-03-21 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Als positiv arbeitendes aufzeichnungsmaterial geeignetes lichtempfindliches, haertbares gemisch
JPS61219951A (ja) * 1985-03-27 1986-09-30 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポジ型感放射線性組成物
DE3637717A1 (de) * 1986-11-05 1988-05-11 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von positiven oder negativen reliefkopien unter verwendung dieses materials
EP0537524A1 (en) * 1991-10-17 1993-04-21 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions and methods
DE69324942T2 (de) * 1992-02-14 1999-10-07 Shipley Co Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und Verfahren
DE4222968A1 (de) * 1992-07-13 1994-01-20 Hoechst Ag Positiv-arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE4302681A1 (de) * 1993-02-01 1994-08-04 Hoechst Ag Sulfonsäureester, damit hergestellte strahlungsempfindliche Gemische und deren Verwendung
US5314782A (en) * 1993-03-05 1994-05-24 Morton International, Inc. Deep UV sensitive resistant to latent image decay comprising a diazonaphthoquinone sulfonate of a nitrobenzyl derivative
JPH07140666A (ja) * 1993-06-04 1995-06-02 Internatl Business Mach Corp <Ibm> マイクロリトグラフィックレジスト組成物、酸不安定化合物、マイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法及び酸感知性ポリマー組成物
JP3203995B2 (ja) * 1993-12-24 2001-09-04 ジェイエスアール株式会社 感放射線性樹脂組成物
EP0675410B1 (en) * 1994-03-28 1999-08-04 Wako Pure Chemical Industries Ltd Resist composition for deep ultraviolet light
TW394861B (en) 1994-04-25 2000-06-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Positive resist composition
US5558971A (en) * 1994-09-02 1996-09-24 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Resist material
JP3449664B2 (ja) * 1995-04-19 2003-09-22 東京応化工業株式会社 ネガ型レジスト組成物
JP3046225B2 (ja) * 1995-06-15 2000-05-29 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト膜形成用塗布液
US5585220A (en) * 1995-12-01 1996-12-17 International Business Machines Corporation Resist composition with radiation sensitive acid generator
DE69628996T2 (de) * 1995-12-21 2004-04-22 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Polymerzusammensetzung und Rezistmaterial
JP3198915B2 (ja) * 1996-04-02 2001-08-13 信越化学工業株式会社 化学増幅ポジ型レジスト材料
TW388895B (en) * 1996-09-12 2000-05-01 Alpha Techno Co Ltd Keypad and its manufacturing processes
US5789612A (en) * 1997-09-29 1998-08-04 Dow Corning Corporation Neutralization method for polyorganosiloxanes
TW502133B (en) * 1999-06-10 2002-09-11 Wako Pure Chem Ind Ltd Resist composition, agent and method for reducing substrate dependence thereof

Also Published As

Publication number Publication date
EP0875787A1 (en) 1998-11-04
KR19980081863A (ko) 1998-11-25
EP0875787B1 (en) 2005-12-14
DE69832751T2 (de) 2006-08-31
KR100592200B1 (ko) 2006-06-23
US6303264B1 (en) 2001-10-16
DE69832751D1 (de) 2006-01-19
SG71778A1 (en) 2000-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI269939B (en) Photoresist compositions comprising blends of photoacid generators
TWI236577B (en) Positive resist composition
TWI224713B (en) Positive photoresist composition
TW546540B (en) An agent for reducing the substrate dependence of resist and a resist composition
JP4161497B2 (ja) ネガ型感放射線性樹脂組成物
TW588217B (en) Positive resist composition
JP3627465B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JPH1048814A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP2002278053A (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JPH10254135A (ja) ネガ型感放射線性樹脂組成物
JPH11143079A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JPH09166870A (ja) ネガ型感放射線性樹脂組成物
JP4040392B2 (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
US6171749B1 (en) Negative-working chemical-amplification photoresist composition
JP4048600B2 (ja) レジストの基板依存性改善剤
JPH1130865A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP3731328B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
TWI254192B (en) Hydroxyphenyl copolymers and photoresists comprising same
JP2003307840A (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JP4132355B2 (ja) 感放射線組成物
JP4466113B2 (ja) 共重合体およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物
JPH1195434A (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JPH1020501A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP4177970B2 (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JP2000066404A (ja) 感放射線性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent