TW538320B - Method and device for treating substrates - Google Patents

Description

538320 A7 B7 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（1 本發明係關於一種用於基板塗層之方法及裝置，其中 羞板係如此地固定在基板固持件上，使要加塗層之基板表 面自由向下’且基板與基板固持件一起轉動。 此類之裝置習知於例如EP-A 0 711 108，其裝置係包 括一預塗漆站，在此，一面向下要加塗層之基板表面係通 過一流有漆液之毛細缝，在基板表面上塗漆。之後基板運 動至-離心抱離站，並在一保護環内轉動或離心旋轉，其 保濩環係用來排出從基板離心掘出之殘餘漆液。 DE-A-195 45 573係顯示一將漆層均勾塗佈在基板上之 裝置，其中，基板係以要加塗層之侧面向上放置於一轉盤 上。在離心挺離過程中，基板至少係部份地由一罩所遮住， 其罩係從上運動至基板上一微小距離處或直接定位在基板 上。 kDE-A_92 18 974係同樣習知一藉離心旋轉裝置，在 基板上塗覆薄層，例如漆之裝置。其裝置具一轉盤，其要 咖塗層之基板係以其要加塗層之表面向上放置於轉盤上。 罩係了k上定位至轉盤上，用以形成基板存放件之空間。 1轉盤及罩間所形成之空間，係藉在轉盤内之穿孔與周圍 稽境相接。除此之外，在罩上設有彈性蓋板條，其與基板 向上之緣接觸，用以形成遮蓋與基板間之空間。 一 US_A-5 042 421係顯示一用以塗層在半導體上之轉動 頭设置，其中具一置放晶圓之轉盤，及一包圍晶圓之、可 固定在轉盤上之晶圓。 DE_A-40 24 642係另外顯示一用以置放基板之轉盤， I X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂--------- 6 538320 消 費 合 作 社 印 製 A7 Β7 五、發明說明（2.) 其基板係藉真空固定在轉盤上。 上述各裝置之問題係由離心据離過程所獲致均勻厚廑 薄層，並非在所有情形均足夠。 本發明之任務因而係找出或創作一上述種類處理基板 之方法及裝置，而使受處理之基板表面達到均勻之塗層。 根據本發明所提出之任務係以下述方法加以解決，設 置一可固走在基板固持件上之遮蓋，其與基板固持件共同 弗成一置放基板之密封室。藉其可固定在基板固持件上之 遮蓋，係在基板固持件及遮蓋間對基板達成一定之環境條 件，尤指在此室内所形成一靜止之範圍，在其内之氣體， 例如2氣，係輿基板固持件及固定在其上之遮蓋一起轉動。 此外遮盘向基板方向之距離，係在轉動過程中轉一固定 值如此基板與▲内氣體間之相對運動及渦流係降至最 祗:致使基板之塗層非常均勻。其中，要加塗層之基板表 面是^先加以預塗層，或只有部份範圍，例如基板表面之 中央範圍先加以預塗層，其係皆不重要，且其完全之塗層 傭轉動過程所獲致。另外，為基板所定義之環境條件: 你允許在塗層内所包含之_具較钟及逐步之脫乾。因 此要加塗層4表面係指向下，可確保從基板滴下之塗 料不會與基板之侧緣或背面接觸。 3 為確保基板可良好固定在基板固持件上，而 加塗層（基板表面，其基板固持件係具一 ： 空將基板固定。 罝以具 根據-較佳之發明實卿式，其基㈣持相此具— ^紙張尺复刺_家標準（CNS^Ti^721() x挪^

538320 A7 五、發明說明（ 真朗持遮蓋。用於基板及遮蓋之固持 =二—相真空源相連接，為使只需設置—真空源， 泵;。祕此基板及遮蓋用之固持裝置較佳係可相 蜀1加以#空制’例如藉—閥單元， 程中嶋基板固持件上，而基板卿^或 私在有預塗層時，固定在基板固持件上。 為在基板固持件及遮蓋間具一良好 卫因此獲得—免好乏固姓^ 、乾国 又于眺持，係在基板固持件及it蓋間設 一密封。 、依-發明實施形式，係在練固持件内設置一沈面， 用^土/你置放基板之存放件，使基板藉其可相對固持 件定。此夕卜，其沈面係提供基板在轉動或離心抱離過程 之側向支持。 此裝置最好設置一定心裝置，用以互相定心於遮蓋及 基板固持件之間，以確保遮蓋用於基板固持件及基板之明 確位置。為達到便宜又簡單之定心，其定心裝置最好係在 延蓋及/或基板固持件上至少具一定心斜面。為避免基板固 持件轉動時，遮蓋㈣基板騎件發生不平衡及側向移動， 其遮蓋最好係對中心軸對稱。 ^在一特別佳之發明實施形式中，係由遮蓋所構成室之 4份《外邵範圍設計一凹槽，其為離心据離出之殘餘漆料 保留足夠之空間。此在外部範圍之凹槽設計，係確保殘餘 4料能藉旋轉產生之離心力而從基板及基板固持件範圍導 出，用以保護其免於污染。此凹槽最好如此向外縮小，使

各紙張家標準（CNS)A4規格（210 X 297公iT (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁} --------訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538320 A7 五、發明說明（ 面向基板固持件之側傾斜。則更可改善漆料從基板及基板 固持件中^推出。 在另一特別佳之發明實施形式中，遮蓋對其水平中央 稱，並設置一用以翻轉遮蓋之裝置，致使遮蓋可置於 第位置及另-翻轉180。之位置。較佳係設置一可調整高 度之存放件’用以固定遮蓋。在二旋轉過程間，固定在基 叔固持件上之遮蓋係被#放件固定。為使遮蓋在各離心拋 _程期間或過程之間可進行清洗，則設置一用於遮蓋之 清洗-及/或脫乾裝置。其清洗及/或脫乾係防止下 一個加以 處理之基板受到附在遮蓋上不潔物之污染。在一特別有利 之發明設計中，其清洗·及/或脫乾裝置係存放件之一部份， 卫其，土少一指向遮蓋及/或凹槽之喷嘴。將噴嘴指向凹槽 別有利因如上述，殘餘漆料最好… 卫若=加以清潔則會隨時間而增加。最好至少具一可驅動 H背，，包含落劑之清洗流1豊，用以去除殘餘漆料。在 二洗後，取好朗—噴嘴或另—噴嘴，噴人乾燥流體至遮 盖，用以將之脫乾。 、此發明任務亦藉一處理基板之方法加以解決，係在其 万法中，基板係如此地固定在基板固持架上，使要加理 《墓板表面自由向下，且基板與基板固持件—起轉動。其 中2在基板固持件上係固定一遮蓋，其與基板固持件一起 开用於基板之密閉室。藉將遮蓋固定在基板 及形成一密閉室，係產生上述之優點。 在一特別有利之發明實施形式卜遮蓋與基板相背之 ▲紙張尺度速财關家標準⑵〇 x 297公髮了

▼裝--------訂--------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 538320 A7

2面，係在轉動過程中清洗及域脫乾。藉其與轉動同時之 清洗及/或脫勸'可節省_，因為清献/或聽不需在中 間步驟進行。除此之外’由轉動過程所產生之離心力亦有 坳於清洗及/或脫乾。 遮蓋最好係在二相互轉動程序之間翻轉，使其一直指 向要加處理基板遮蓋欲清潔之侧面。而在前一轉動過程^ 間所受到污染之侧面則與基板相背，並可被清潔。 本發明係特別適用於薄膜技術5尤指製造液晶顯示 (LCD)銀幕，半導體製造用之光罩，半導體_或陶瓷基板， =在其長方形或圓形板上均勻塗上由漆料或其他原先為液 體媒質組成之薄膜，例如顏色瀘光膜或其他特別之保護膜。 以下藉一些較佳之實施例，以圖示說明本發明。各圖 所示之内容如下所述： 圖一本發明裝置之示意圖，其中，承載基板之基板 固持件與遮蓋相互分離。 圖二根據圖一發明裝置之另一示意圖，其中，遮蓋 與基板固持件與相互接觸。 圖三根據圖一發明裝置之另一示意圖，其中，遮蓋 伯固定在基板固持件上，並與其轉動。 圖四根據圖一發明裝置之另一示意圖，其中，遮蓋 又再與基板固持件分離，且基板固持件運動離開遮蓋。 圖五根據本發明之遮蓋及遮蓋用之存放件示意圖， 其中遮蓋係_示在翻轉運程中。 圖六遮蓋及存放件之示意圖，此時，遮蓋係置於存 本紙張尺复潮中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公蓳） 一 10 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I1 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538320 A7 五、發明說明（6·) 放件上。 圖七另-發明實施例之放大剖面圖 固持件及遮蓋之示意圖。 八系基板 圖八根據圖七本發明遮蓋之上视圖。 圖-至圖六顯示本發明塗層裝置1之功能順序。裝置 1王要係由基板存放-及輸送單元2及遮蓋 存放-及輪送單元2係具一未進—步顯示之輸 =裝成置及 一=固=’其基板固持件經一轉動轴6係與-未進 二=4轉動裝置她合。其轉動裝置與觀裝置相連 以？輸送裝置、轉動裝置及基板固 =件《存放-及輸料讀、已習知例如參見前述之Ep_A_〇 ⑽’為避免重複，此處只引述作為參考。 基=固=件5由—底板8组成，其顧在其指向輸送 具一沈孔1〇，以置放轉動軸6。基板固持件 ΐ» s 於與轉動輛6之轉轴Α之轉動對稱。在底板 灿輸2置背向之底面u中設置一沈孔12，用以置放基 伯盥其4土、Η置放在沈孔12内，基板要加塗膜之表面15 羞相背’並自由向外。沈孔12之深度與置放之 當’㈣底板8之底面11，在裝人基板13後， 板表面15對齊。其底面15村與由底 向* 所疋義《平面有一段距離，尤指超過底面11 及未板13藉未顯示之設計在底板8内之真空開口 起i固：Γ:真空源，例如真空泵相連接，且係固定

本紙張尺I 538320 A7 五、發明說明（7· 底板8具輕极錐形、向下縮小之 ％， 後所描述係用為定心斜面。 八 基板固持件5除了用以固持基板13之真空開口外，係 /、另真=固持裝置17，其具盤形之真空爪手Μ，係藉一 未進；/ 員示之g路與一真芝源相接。其真空源係同樣與 固足基板13之真空開口相通。然而真空爪手18過一闕， 係與固足基板13之真空開口互不相關而施加真空。真空爪 手18位於徑向，與基板固持件5之底板8相鄰，並相對底 面11向後设置。雖然在圖一中只顯示兩個真空爪手18， I貝際上係有夠真空爪手18，其以轉麟稱方式分佈設 置在基板固持件5之周邊。除了為真空固持件18及基板之 真芝開口使用-共同之真空源，其亦可使用二獨立之真空 源。 遮蓋單元3主要係由一遮蓋元件，簡稱為遮蓋20，及 —置放遮盍之存放元件或一存放件22。其存放件22係具 —如圖一所示之槽形截面，其具一底板24及一與其垂直伸 出之侧壁25。 遮蓋20擁有-具水平中央面B之中央壁28。因遮蓋 20對水平中央面B對稱，故只描述其遮蓋上部。從令央^ 28起，與遮蓋20申央軸C轉動對稱，凸緣3〇向上伸出: 凸緣30形成一平面31，其以下再描述，此平面與真空爪 手相接觸，以在其間產生連接。凸緣3〇與中央壁％相鄰 處一對中央軸c轉動對稱所設計之槽32。槽32係與中心 登28形成同心。藉其槽32係在凸緣30上形成一在槽％ 本紙張尺度潮中關家標準CCNSM4規各⑽X 297公f ^-------It--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

n n n I 538320 A7 B7

上’轉動對稱之徑向突出部34,其為平面31、、八 突出部34之内周面伤相、』/、為千面31您一邵份。 置於凸緣30》、底板8之外周面配合，致使底板8 、 ' 大出邯34間，而逐漸縮小之外巧面# 柢固持件5與遮蓋2〇之定心。 〈外周面係^ 當基板固持件5之底板8置放於遮蓋内時 18係與凸緣30之平面31垃奋 ”工爪手 5及遮蓋20她蛾面一室==置，固持件 _’使得遮蓋2G穩翻定在基板固持 蝴三所示，在存放件22内設有—指 之料4G，峨嘴，清以/或脫乾= 心顯。噴嘴40可在存放件22内勒，如射 ϋ所示此單—嘴嘴外，亦可設置多個嘴嘴。 勒ί盍早71:3另具—未顯示之翻轉裝置，用以將遮蓋20 對申央面Β翻轉，如圖五所示。 在圖七^圖八中顯示基板固持件5之另一實施 喺具另-遮羞20之實施形式。只要類似或相同之元件 圖七及圖八中，係使用與圖_至圖六相同之圖號。 基板固持件5在赫具—底板8，其底板之頂面係1 -沈孔1G用以置放轉_。將圖_至圖六之實施例相比” 立體8面向羞板之底面u錢有置放基板】3之沈孔。 面11係設计成平面’且基板13係藉在主體η内之真^ 口 50蚊在纽8上。真空開口 5()，如圖—至圖 幺實施例係與真空源接通。在本體8之底面u内係且二 ^紙張又過用十國S豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公愛一) *" 13 - _裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 538320 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（9·) 圍真工開口 50之槽，用以置放例如設計成〇_環之密 元件。 在基板固持件5本體8之外部範園係設計與直空源接 通之真空開口 54，其孔取代圖一至圖六之真空爪手18。雖 然在圖七中只顯示二真空開口 54,實際上係具多個真空間 口 54與基板固持件5之轉動軸A呈轉鱗稱設計。在底 面11内’與真空開口 54 _係設二圍繞之槽，用以置放 例如0-環之密封元件56。 遮蓋2〇亦有一具中央面B之中央壁2S，遮蓋2〇之頂 面及底面係與其對稱，因此下列只說明此遮蓋20之上半部 份。在中央壁28之外部範圍，有一具平面頂面31之圍繞 凸緣3〇向上伸出。其凸緣係對中央軸c轉麟稱，中央 軸c在圖七中係與基板固持件5之轉動轴a重疊。凸緣％ 具-與中央壁相鄰，並與之同心之凹槽32。藉其凹槽幻， 凸緣30形成向内伸出之突出34。其突出之内周面幻之尺 寸在要塗膜之基板B置入後，不會與突出接觸。凹槽S2 具一傾斜之頂面60,因而凹槽32在徑向向外縮小。 凸緣30另具一軸向從平面頂面31伸出之突出64，其 係定義-向下縮小之内周面平面66。其向下縮小之内周面 平面66，係與基板固持件5本體8之外周面形式相配合， 並形成一定心斜面，致使主體5延内周面平面的滑動，直 到基板固持件5本體8之底面11位於遮蓋2〇凸緣3〇之平 面頂面31上為止。藉其縮小之内周面形式，係保證基板固 持件5〈疋心係對遮蓋20，也就是基板13之定心對基板 :紙張尺國國規袼⑵〇 X 29ϋ —14 — ί裝---- C請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) ·111111 538320 A7 -* ~---------—____ — 五、發明說明（10·) 固持件5定，心。 雖然在圖七中搶封56係設計在本體S内，其密封亦可 以同樣方式設計在遮蓋20之平面頂面31内。 圖八顯示遮蓋20之上視圖，係可看出凸緣3〇平面頂 面31之B1形形式及位置，其平面頂猶彡成真錄圍，保證 遮蓋固定在基板固持件上。此範圍由於其位置之故，係= 乎不會發生污染。 ' 現在藉圖-至圖六說明本發膜方法之功能順序， 其順序亦以相同方式對圖七之元件有效。 在圖一中，基板存放-及輸送單元2運動至遮蓋單元3 上万，其遮蓋單元係由-未顯示之升降裝置，指向其基板 存放·及輸送單元方向舉升，如圖中以二箭頭顯示。在此時， 基板表面15係由一例如在EP_A_〇m 1〇8所述之蓋塗膜程 岸加以預塗膜。藉其盖塗膜程序，如在要塗層之基板表面 上例如塗覆了約Ιμιη至2μηι厚度之薄層。 基板固持件5與遮蓋20相接觸，如圖二所示，並藉基 叔固持件之定心斜面16或遮蓋上之定心斜面66完成定二, 致使基板固持件之轉動軸Α與遮蓋之中心軸c重合。然後 遮蓋20藉真空，一經真空爪手18或真空開口 54_吸住，並 固定在基板固持件5上。如此，在基板固持件5及遮蓋2〇 間形成一密閉室36，在圖七中清楚顯示出。 隨後，4α圖三所示，存放件22稍微提升，致使遮蓋2〇 不再與存放件22接觸。然後基板固持件藉未顯示之轉&裝 置，係與固定在其上之基板13及遮蓋2〇 一起轉動，此時 本紙張尺度適用令國國冢標準（CNS)A4規格⑽χ 297公爱) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·11111111 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538320 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（11·) ί板Γ、預先塗層之表面15上多餘之材料係離心拋離，其 tT枓由於離心力之故，係收集麵蓋2G之凹槽 、土因基板13在離心拋離過程期間係在密閉室％ 面、*層具塗層之厚度偏差，係在整個基板表 /四:薄轉度在。.2_至細間。尤指 範圍之塗柄勻性會有改善。只有在很 靜。；邊緣糊巾，其塗層均勻性不能完全保 、、同時’一包含溶劑之清洗液體，藉噴嘴40嘴向遮蓋20 之辰面，用以將其清潔。其清 。在嗜完清洗、㈣/ 雜遮錢《轉動而 用以將其脫乾。—脫乾流義導人遮蓋之底部， 如圖四所示，在旋轉過程後，遮蓋20又置於存故件22 3 1圍運動離 遮盍20藉一未進一步顯示之翻轉裝 ，相對水平中央面轉動則。，在存放件22降 用以配合其翻轉。 如圖，、所TF，存放件22在翻轉過程後係又舉 置於存放^ 22上。在轉過程後，遮蓋2〇已清= 雨向上，而在前離心抱離過程被污染之面指向下期間 此’遮盖2G伯已準備進行下—離心麟過程。 由上述疋說明可知，遮蓋2〇不具備轉動軸，亦即 不係由自己之轉動裝置，而係被動地藉驅動之基板固梏： 所轉動。若遮蓋由自己之轉動裝置主動轉動，則在二轉軸 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I裝------- —訂--------- 16 538320 五、發明說明（12 ·) 間為要有冷复離之配合及校準。 雖然上述藉較佳之實施例說明本發明，要聲明地係本 發明並不限制於此。例如離心拋離過程所用之遮蓋20 ’亦 可以電磁或其他方法，例如機械夾緊裝置固定在基板固持 件上。另外，不必在離心拋離過程中同時進行清洗，且此 巧洗亦可藉刷子在離心掘離過程之前或期間同時進行清 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _ I I I___I ^ · I I__I I . 準 標 家 國 國 中 用 Μ 度 尺 張 紙 ___ 一本 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

538320 A7 _B7 五、發明說明（14·) 34 徑向突出部 36室 40 喷嘴 50 真空開口 52 〇-琢 54 真空開口 56 密封元件 60 頂面 62内周面 64 突出部 66 内周面平面 5--^-----------3---. ---^----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -19 -

Claims (1)

1. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ϋ專利範圍 第89101297號專利案申請專利範圚修正本 !· 一種用於處理基板之裝置，其係用於基板(13)塗屬之裝 置(1)，其具一基板固持件(5)，基板以要加塗層之基板表 面(15)自由向下，固定在此基板固持件上，另一用以轉 «板固持件(5)之裝置，其特徵為，藉—可固定在基板 固持件(5)上之遮蓋⑽，其與基板固持件⑶一起形成一 具基板（13)之密閉室(36)。 2·根據申請專利範圍第1項所述之裝置(1)，其特徵為，在 基板固持件⑶上具-固持裝置(5)，以真空固持基板 (13) 〇 •根據申請專利範圍第1項所述之裝置(1)，其特徵為，在 基板固持件(5)上具一固持裝置(18 ; 54)，以真空固持遮 蓋(20) 〇 4·根據申請專利範圍第i項所述之裝置(1)，其特徵為，用 於基板（13)及遮蓋(20)用之固持裝置(5〇 ; 18，54)係與一 共同之真空源相連接。 根據申蜻專利範圍第1項所述之裝置(1)，其特徵為，用 於基板(13)及遮蓋(20)之固持裝置(50 ; 18，54)係相互獨 立加以驅動。 6·根據申請專利範圍第3項所述之裝置(1)，其特徵為，至 少具一在基板固持件⑶及遮蓋(20)間，構成真空範圍之 金封。 7·根據申請專利範圍第1項所述之裝置⑴，其特徵為 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑽X挪公爱） -20-

   丨 — I 11 ! t !11! I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) α幻20 α幻20 申請專利範圍 基板固持件(5)内之沈面（12)，係以至少部份存放基板 (13) 〇 03) 8·根據申請專利範圍第1項所述之裝置(1)，其特徵為，一 疋心震置(16 ; 66)係將遮蓋(20)及基板固持件(5)相互定 心。 9·根據申請專利範圍第8項所述之裝置(1)，其特徵為，在 基板固持件及/或遮蓋上至少具一定心斜面(16 ; 66)。 10·根據申請專利範圍第！項所述之裝置⑴，其特徵為，遮 ▲(20)與一中央軸⑹對稱。 U·根據申請專利範圍第丨項所述之裝置⑴，其特徵為，在 遮蓋(20)外部範圍決定室之部份有一凹槽(32)。 12·根據中請專利範圍第11項所述之裝置⑴，其特徵為， 凹槽(32)係向外縮小。 、、、 U根據中請專利範圍第11項所述之裝置(1)，其特徵為， 凹槽(32)在其向基板固持件之侧(6〇)係為傾斜。 14.=申請專利範圍第i項所述之裝置⑴，其特徵為，遮 盍(20)係與中央面⑻對稱。 &根據中鞠_第丨項所述之裝则，其特徵為，且 一用以翻轉遮蓋(20)之裝置。 、 16·根據申請專利範園第1項所述之裝置⑴，其特徵為，且 —用以固定遮蓋(20)之存放件(22)。 '' 汉根據中請專利範圍第10項所述之震置⑴，其特 具一用以舉升及降下存放件卩2)之裝置。 、、’ 18·根據申讀專利範圍第！項所述之裝置⑴，錄徵為，有 標準⑽ x 297 公幻· -21 ^ --------1T----------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 538320 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、中請專利範圍 一遮盍(20)用之清洗-及/或脫乾裝置(4〇)。 19. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置(丨），其特徵為， 清洗-及/或脫乾裝置(40)係存放件(22)之一部份，且至少 具一指向遮蓋(2〇)及/或凹槽(犯)之噴嘴(4〇)。 20. 根據申請專利範圍第19項所述之裝置(1)，其特徵為， 土少具一可施加清洗及/或脫乾流體之噴嘴(40)。 21·根據申讀專利範圍第2〇項所述之裝置(丨），其特徵為， 清洗流體係包含溶劑。 22·:種用基板之方法，其係用基板(13)塗層之方法，在此 方法中，基板(13)係如此地固定在基板固持件(5)上，使 要加塗層之基板表面(15)自由向下，且基板(13)與基板固 持件(5) —起轉動，其特徵為，一遮蓋(2〇)係固定在基板 固持件(5)上，其遮蓋係與基板固持件形成一基板(5)用之 密閉室(36)。 23. 根據申請專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，基 板(13)係以真空固定在基板固持件⑶上。 24. 根據申請專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，遮 蓋(20)係以真空固定在基板固持件⑶上。 25·根據申請專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，遮 盖(20)及基板固持件在固定前係相互定心。 26·根據申請專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，在 轉動處理後，遮蓋(20)之固定鬆開，與基板(13)之固定無 關連。 27·根據申讀專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，遮 氏張尺夜適用中_家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） -22 - ；-I------------------^---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 538320 Α8 Β8 C8 D8 、申請專利範圍 盍(20)輿基板(13)背向之侧，在轉動過程時係被清洗及/ 或被脫乾。 28·根據申請專利範圍第27項所述之方法，其特徵為，清 洗"或脫乾流體係經過至少一喷嘴(40)，而導引至遮蓋 上。 29.根據申請專利範圍第22項所述之方法，其特徵為，遮 蓋(20)係在連續之轉動過程間翻轉。 -hlil· — !—----------11^---------^ Aw (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員K消費合作社印製 國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -23-