TW528880B - Projection exposure lens with aspheric elements - Google Patents

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TW528880B TW089128337A TW89128337A TW528880B TW 528880 B TW528880 B TW 528880B TW 089128337 A TW089128337 A TW 089128337A TW 89128337 A TW89128337 A TW 89128337A TW 528880 B TW528880 B TW 528880B
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David R Shafer
Wilhelm Ulrich
Helmut Beierl
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Zeiss Stiftung
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Description

528880 五、發明說明（1) •LiLjg之領域 本發明係關於一種在一投影曝光裝置，諸如一用以藉照 相平版印刷製造半導體元件或其他微型結構裝置之晶圓掃 描器或晶圓步進器之投影曝光透鏡，尤指一種有一物鏡侧 折反射系統及一折射系統，供在此種投影曝光裝置使用之 折反射投影光學透鏡。 景技藝 授予Friedman之美國專利4，779，966號，指出此種透鏡 之一早期實例，然而折反射系統係予以設置在影像側。該 專利說明其自Schupmann消色差透鏡之原理所開始之發 展。此專利之一項問題，為避免一第二透鏡材料，從而所 有透鏡均為熔合之二氧化矽。光源不予以規定，帶寬限於 1毫微米。 授予Singh之美國專利5,052,763號（EP 0 4 75 0 20號）為 另一貫例。此處奇像差恰當為藉每一子系統實際予以單獨 枚正’因此折反射系統較佳為一種1 : 1系統，並且無透鏡 没置在物體與第一偏轉鏡之間。所有實例均僅提供熔合之 二氧化矽透鏡。NA予以延伸至〇· 7，並建議一248毫微米激 元雷射或其他裝置。建議雷射之線變窄足夠避免藉使用不 同透鏡材料之色度校正。 授予Takahashi之美國專利5, 691，80 2號為另一實例，其 中要求在第一偏轉鏡與凹面鏡之間，一第一光學元件群具 ^正折射率。此為減少鏡之直徑.，並且此正透鏡因此位於 靠近第一偏轉鏡。所有實例均示大量之以乙透鏡。
第5頁 528880 五、發明說明（2) 授予Takahashi之EP 0 73 6 78 9 A號為一實例，其中要 求將三透鏡群設置在第一偏轉鏡與凹面鏡之間，利用+ _ +折射率，也為了減少凹面鏡之直徑。因此，第一正透鏡 位於頗靠近第一反射鏡。也使用很多供消色差之CaF2透 鏡。 授予Omura之DE 1 97 2 6 0 5 8 A號，說明一種系統，其中 折反射系統有一減縮比〇 · 7 5 $ Bi S 0 · 9 5，並且也滿足供此 系統之幾何結構之一定關係。也使用很多供消色差之CaF2 透鏡。
供縮微平版印刷投影曝光系統之純折射透鏡，一種光束 予以兩倍強力加寬之透鏡設計係廣為人知，例如請見
Glatzel, E·， Zeiss-Information 26(1981 年），Νο· 92, 8-13 頁。在授予Matsuzawa 及 Suenaga 之 EP 0 770 895 號， 指出具有+ ~ +透鏡群之此種投影透鏡之一最近實 例。 然而’本發明之一般類型之已知折反射透鏡，其折射部 份物鏡，顯示出遠較簡單之構造。 自JP 1〇〜1 0429號及EP 0 8 6 9 38 3號，已知一種包含非 球面透鏡或鏡之折反射投影曝光透鏡。
根據JP 1 0 - 1 0 429號，非球面表面予以置於一反射鏡之 附近。 將非球面表面置於反射鏡之附近，藉以達成扭曲失真之 良好校正。再者根據JP 10 —1〇42 9號之系統包含一中間影 像0
89128337.ptd 第6頁 528880
五、發明說明（3) 自EP 0 869 383號已知一種 反射系統。為供校正離軸像差 條件 包含至少二非球面表面之折 非球面表面之 >一滿足下歹 h/ 0 <0. 85 並且為供校正同軸像差，非球面表面之另一滿足下列條 件 、 〇· 85<h/ 0 <1 _ 2
從而h為在假設將行自光軸及物鏡平面之交點發出，並 通1具有最大數值孔徑（numerical aperture，簡稱NA)之 透鏡表面之光束之每一透鏡表面之高度，及0為孔徑光 之光圈之半徑。EP 〇 86 9 383號之主旨因此為使用非球 表面，藉以保證高影像品質。 除別項外，僅作為其中一點，Ep 〇 86 9 38 3號述及 用非球面表面，藉以可減少在折反射系統之透鏡數。2 EP 0 869 383號僅係關於有一中間影像之系統。作 實施例，EP 〇 8 6 9 383號揭示有第一非球面表面置"於1殊 近中間影像，同時第二非球面表面置於靠近折反射、# 凹面鏡，或靠近孔徑光闌之系統。 ’、、、、之 W0 9 9/5 2 0 0 4號揭示具有少數透鏡，其有些為非球
折反射物鏡之實施例。自W〇 9 9/52 0 04號，已知一種之 透鏡，至少其中四個為非球面透鏡及一數值孔 11 6 系統。 马〇· 65之 自 E.Heynacher， Zeiss-Information 24， 19—25 百 (1978/79年），Heft 88，已知利用複雜之光學李、 尔‘，較不
528880 五、發明說明（4) 適合藉非球面單獨虚 校正。 成仏誤差，但整體影響成像誤差之 3.潑^明之fe 本發明之一項目的，氧；^ π 學系統，允許大數值孔徑υ:構造原理之折反射光 態及穩定構造，复老唐w j如彳〜％，足夠雷射帶寬，固 到的限制。因此：發；之：：caF二在5量及品質上會遭遇 微米）及m(157毫微米）系统要目：V在^吏—供刪（193毫 少。再者該系統應該不限w ；v；曝/透鏡的透鏡數最 為達成以上…根據本 。 圍第1項之投影曝光透鏡。毛月楗供一種如申請專利範 = 另外目的’為使透鏡數最少，以減少整個r 衫曝光透鏡之吸收及反射損失 娜乂正個才又 少= 藉之第二雙程透鏡系統減 收…射損失之不算:；鏡材料之吸 或三透鏡。 处鏡苹乂佳為二 在本發明之一種較佳實施例，負折射率 束之光學元件與凹面鏡之間的第- σ又置在供分 宜於分開至二負透鏡。 —透、兄糸統。該負折射率 一匕另外較佳實施例’為供校正色度*度像細 ^一透在兄糸統提供過度校正，而楚 墙 弟 足校正。 而弟—及弟三透鏡系統提供不
528880 五、發明說明（5) 在根據本發明 點： 安裝在第二 之物鏡不複雜。 ''-第二透鏡系 之透鏡群，在供 鏡之間，不需要 在包括申請專 特色時，便獲得 將一根據申請 投影曝光透鏡併 6 2項之一種有利 一種根據本發 法，其特徵為， 影曝光裝置。申 模式。 由下文及僅意 圖之詳細說明， 詳細說明，將會 瞭解，詳細說明 例，但由於精於 發明之精神及範 例證。 較佳實施例之詳^ 之第二透鏡系統之長偏移區段提供若干優 透鏡系統之透鏡纟且件較之先前技藝所已知 統之透鏡及 分束之光學 金屬管。 利範圍附屬 另外諸多有 凹面鏡可予以安裝作為一單獨 元件與第二透鏡系統之第一透 項，4至61項之一項或多項之 利貫施例。 ^項第1至61項之至少一項之 衣置，便獲得申請專利範圍第 投影曝光裝置。 了：產生微型結構裝置之方 第6’;：:!專利範圍第62項之投 弟63項指出此方法之一種有利 專利範圍附 入至一已知 明，藉平版 使用一根據 睛專利範圍 在作為例證 將會更完全 明白本發明 及特定實例 此項技藝者 圍内之各種 ’並且不視為限 瞭解本發明。::本發明之附 夕兄从底 由下文所指出之 之另夕應用範圍 '然而，請予 ，雖然指示本#，自此詳細說心i較佳實施 變化及修改，&】：明白在本 故其僅意在作為
528880 五、發明說明（6) 百先祝明一種可在其使用一根據本發明之投影曝光 ”影曝光裝4，而不示其圖式。一投影曝光裝置包括： ° 一激兀雷射光源，具有一種適度縮窄帶寬之配置。一炉 明系統產生一明確限制並且很均勻照明之大場，1 二 影透鏡之遠心需要，並具有一種選擇之照明模式了槿又 可為可k連貝度，環形或四極照明之習知照明。 、 藉一光罩或更確切為標線光罩固持及處理系統， 軍或一標線光罩在照明區移位，在晶圓掃描器投影曝 置之情形，其包括掃描驅動裝置。隨後接著為隨後 : 以詳細說明之根據本發明之投影曝光透鏡。 、丁予 投影曝光透鏡在晶圓產生光罩之縮小比例影曰 以固持，處理，並且最終藉一掃描單元予以掃描。曰曰 、所有系統藉控制單元予以控制。此種單元及^使 法’在縮微平版印刷投影曝光之技蓺為 、然而，供結構在約〇.2微米及較低^析1知之者體李，^ 通過量之曝光，需要能在丨93毫微米，最故^回 在0 · 6 5至0. 8或更大之高影像側數值孔徑， 之帶寬（例如在1 93毫微米為15微微米）， :王可利用 至10 X 30平方厘米之合理大矩形或圓形掃亚^有例20 此没計概念可容易利用適當透鏡材料，:广: 修改供126毫微米波長。 例如UF，予以 =上她兄之系統在原則上適合如此。 據本發明，已發現若干措施及特色以改進此等
89128337.ptd 第10頁 528880 五、發明說明 糸統。
在圖1之剖面圖中所示之實例，直有在表1中以碼-V〜柊 附錄所列示之透鏡資料，並且僅利用熔合之二氧化石夕 透叙。因為僅使用一種透鏡材料，此設計可容易適合其他 波長如2 4 8耄微米或1 5 7毫微米。在表i中之物鏡號碼為與 圖1中之元件編號完全相同。 ^ 中間影像IΜ I為可自由通達，因而容易可能插入一視場 光闌。孔徑光闌ST0也完全可通達。 在圖卜7中所示之實施例，未示在折反射系統之分束。 分束可例如藉一物理分束器，例如一種在美國專利 5,74 2, 436號所揭示之分束器稜鏡達成。此文件之内容細 予全部内附於本案。 二 一種替代為使用偏轉鏡。在此種實施例，在折反射系^ 之偏轉鏡，在其幾何結構係由自凹面鏡丨2往返之光束分 及自透鏡之間隙的需要所界定。 二偏轉鏡之配置允許一平直光軸，以及原點平面〇及
ΐ平面f之平行情況’亦即光罩或更確㈣標線光罩I ;曰偏Π!:並可容易掃描。然而，可捨棄偏轉鏡之- 或取終在弟二透鏡系統TLS由一偏轉鏡予以苴
折射透鏡。偏轉鏡也顯然可由其他 / 鏡替代。 偏轉先學兀件’例如_ 第一透鏡系統FLS置 其焦距約略等於其 將一包含表面2，3之適度正透鏡在 於靠近原點平面1，其為一單一束區 距凹面鏡1 3之距離。
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這使彳于凹面鏡1 3位於一光瞳平 、， 小。 ，並因此要求使直徑最 一另外正透鏡作為一有表面6，7 表’9，10…之三透鏡位於由有 系統S L S。當2 0 0毫米至3 〇 〇毫米直 之弟一雙程透鏡 強烈偏愛較小單元時_不同於賦面鏡之生產條件不 透鏡，亦即自CaF所作：ΛΓ:不均句性等強烈限制之 正透鏡，以供減少凹面鏡丨〇 〇之半徑。 之此 以：=透鏡系統SLS之有表面8,9，10,11之二負透鏡， 強：m馳面鏡13合作，賦予增加之入射角及較 强 < 曲率，因此凹面鏡丨3之校正影響較強。 低Ϊ〆主意的是’在折反射系統之雙程區，透鏡數限於一 所有、秀如在此實施例例如為三，由於在光學系統之此部份 透鏡計數相對於系統能量傳輸及波前品質降低而加倍 -而不^予供校正之較大自由度。 、 f k影曝光透鏡之雙程第二透鏡系統SLS，根據圖1之實 施例僅、 、 含該夺=含一非球面表面9 ’16 °非球面表面9 ’16位於包 衣面之透鏡之晶圓或影像I M-側。 、在中間影像平面IΜI，較佳為插入一合適減少雜散光之 視場光闌。 在中間影像I Μ I後之第三透鏡系統TLS，為原則上自此項 技藝所已知。在所示之實施例，第三透鏡系統不包含任何 非球面表面。在本案之表1中，以碼-V -格式在附錄列示設 計之細節。
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第12頁 528880 五、發明說明（9)
本發明之根據圖1有一影像側ΝΑ=〇· 7〇之實例，適入 - 〇·〇15毫微米帶寬之激^雷射源，以少於Q.2微米二解析 度，在-30X 7平方厘米矩形之影像場，在 刷微型結構。 ΐ P 圖2及表2顯示-種設計變型。第二透鏡系統似包含總 具有被通過=次之表面σ不同於根據圖工之實 施例，非球面表面16〇位於第三透鏡系統TLS，面向$ 、 IMG或更確切為晶圓。在表2中以碼—v—格式，在附°錄7'列^、 此實施例之細節。表2中供物鏡之號碼，為與 ”夕—τ 編號完全相同。 ^ 70 圖3及4以及表3及4在附錄係根據本發明之投 之其他實例。如在先前實例，全部均具有—影^ % ΝΑ = 0.70，再者表3及4中物鏡號碼對應於圖3及> _ 編號。 *甲之兀仵 現在，包含第二透鏡系統及凹面鏡之折反射 一種主要修改，由於非球面表面位於凹面鏡？ 1 /、。、、* ’ ’、 減少在折反射系統之透鏡數至總數三個。 ^ 須通過二次之表面2 0 6，2〇7，2〇8，2〇9。 一負透鏡有必 在根據圖3之實施例，投影曝光透鏡僅包含一 面：而在根據圖4之實施例，一另外非球面表面位上2 透鐃糸統TLS。在第三透鏡系統之另外非面二 像―或更確切為晶圓。在表3及‘中以碼.格表面面向景: 列示此等實施例之細節。 式’在附錄 圖5及表5中列示一第五實施例。
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528880 五、發明說明（11) __ 表面，以及在凹面鏡甚至顯示0.85NA。 在物知平©與作為第—透鏡系統之雙程 於插入至少-個透鏡，較佳為確切一個。之間，宜 ，，其使物鏡側遠心最佳。此透鏡之 為 至一彎月面，並使凹面表面化，使其穹曲 其物鏡側表面也較佳為具有較小曲率半徑Y別較佳措施。 面第：ΐΪί :FLS之此透鏡，也預定用：實施校正表 面，其可為自由形式非球面表面，0為其 才又正表 裝後也容易可通達。 成透鏡之.，且 可使此第一透鏡系統離軸移位，而其 方視場之中心與光轴之間，嫩明人等=物 ΐ统如統所習知，這允許一種頗為對稱=明 捭彳 f此種透鏡設計，人們致力使物鏡側遠心保 持很好。因而即使折反射設計必要離軸物方視場， 照明系統對稱於物方視場之中心旋轉，其允許顯著減 系統之直徑及從而大為減低成本。 /也可使在此第一透鏡系統部位之光軸，相對於折射部份 系統之平行光轴移位，離開凹面鏡。在本發明之較佳變77 化’這允許在附近設置之二折疊鏡的照明區較佳劃分。在 圖5 ’ 6及7之實例，此偏置為2.95毫米，以及在圖8之 ΝΑ = 0· 85實例為17· 5毫米，及在圖9之ΝΑ = 〇· 75實例為ΐ2· 5 毫米。在表8及9中以碼—V—格式，在附錄列示系統之細· 節。表8及9中之物鏡號碼對應於圖8及9中之元件編號。 圖1 0顯示第十實施例。在表丨〇中以碼-V_格式，在附錄
89128337.ptd 528880 五、發明說明（12) 歹】示第十貫施例之細節。表1 〇中之物鏡號碼對應於圖1 〇中 之元件編號。第十實施例為一 5 χ縮小系統，有一放大比 02。影像側孔徑為ΝΑ = 〇· 80。投影透鏡包含1 7個透鏡，一 ^面鏡1 0 1 2及一平面保護板丨〇 5 〇 /丨〇 5 1。所有透鏡均係以 氟化鈣（CaF2)作成。在第三透鏡系統之八個透鏡包含一非 球面表面，而在第二透鏡系統之所有透鏡及凹面鏡均為破 面^鏡。矩形場在影像平面IMG有尺寸22毫米至7毫米，复 中場^中心自第三透鏡系統TLS之光軸〇A3予以設置離、
• 62毫米。投影透鏡予以使為最佳供波長157· 63毫 γ — Ο · 6微微米。多色波前像差顯示在所有場高度之最= ，早色波丽像差示最大4毫波。在有透鏡有表面 〇 ，1()〇7，1 0 0 8，1〇〇9，1〇1〇，1〇11 之雙程群之 〇Α2與—第一透鏡群之光軸〇A1間之折疊角為1〇4。。因由 雙程第二透鏡系統之透鏡及凹面鏡1〇12之所有光 在 鏡平面0距離為遠於第一透鏡群之第一透鏡距 平歧物 離。 7工兄十面姖 圖11顯示折疊鏡Ml，及M2’之一種替代性配置， 共用一共同之脊。此處需要甚至較強之轴線移位了其不 與影咎間之構造長度’可以此方式予以縮減，^:體 在折豐鏡通過之新折衷可能性。 光束
板其他所示實例之折疊鏡，方便建立在一共同之稜鏡基 要不然，折疊鏡可為光束 材料，亦即氟化鈣，其他晶 所 體 通過之棱鏡之内表面。 ’石英玻璃或其他光學 棱鏡 坡ί离
89128337.ptd 第16頁 528880 五、發明說明（13) 之較高折射率，於是 其有利予以塗：布& 4 ^^徑束之較密實轉移。 之厚度校正在不同角^增強薄膜’其可甚至更有利藉適合 而且，折疊鏡可度下’、反射所導致相移之變化。 稱，自由形式表面）以形成具有輕微非球面-非旋轉對 之成像或生居交服形成以供校正此等相位效應，以及系統 本發明之較佺構=微小誤差。 第二透鏡系統及凹面=同於所引述之技藝，因為雙程透鏡 疊鏡在該部位，其中、兄予以沿一展開光軸設置，而有二折 部份物鏡者交又了 =子，統之光軸與第一透鏡群及折射 間之折疊角，宜於偏第二透鏡系統之光軸與其他軸線 距物鏡平面均棱 、 ，致使在透鏡及鏡，所有光束 而，掃描所需要至物鏡透鏡表面更遠。從 光學元件所需要之空間^面之必要自由進入，不妨礙安裝 透為雙程透鏡群之設計具有最少之 具有兩倍於：透校正之每-自由度， 宜效應。從而僅提供為供之：射損失之不合 鏡及供使雙程群所建立側f之長度保持 間會窄小，但“可適當.導與中間影像間之空 -置在中間彩像m後並靠近其之透鏡，藉位於強力離
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五、發明說明（14) 轴之光束予以照明，因而光吸收所導致之鏡加熱，導致強 烈不對稱干擾效應。從而，使透鏡數在此空間保持低，而 有正常之形式及厚度，以使此等透鏡加熱影響保持低。 E P 〇 8 6 9 3 8 3號強力建議鄰近中間影像之透鏡之非球面 化。然而，除了以上所指名之不對稱效應外，有另外諸夕 方面使此情形為較不可取。中間影像按其功能在物鏡二= 校正不良，因而破壞所指名之場特定影像誤差之分=y旦 然後，例如自E· Heynacher， Zeiss-Inform 幵0 24，19-25(1978/ 79)Heft 88，久已知道利用複雜之/
統，較不合適藉非球面單獨處理成像誤差，但 J予糸 有成像誤差之校正。從而較佳為將在不同相對響所 表面上之非球面分配至相關成像誤差。 ^曰之透鏡 特別是’在物鏡側之第一透鏡， 示在扭曲失真上較強於一很靠近中 有之影響。 之欵應，顯 鏡所可能具 其非球面化 間影像之透 [Γ U ΟΌυ ύ Ο ύ ？目出供非T七工士 山1、非球面表面之另一体 0. 85<h/ 0<1. 2，其為較不恰當，如圖9及表/ ，亦即 示。此處此參數為供非球面表面8 =貫例所 813-1.23 ^834= 0. 84，844 = 〇-7〇 >849： 8ΐ1^·22，
一個或多個非球面表面以& & · 從而，^ I A此參數h/ 0 > 1 2 A甘“ 如果 於此種高NA物鏡之校正。 Ψ 兩其特色，有助 在此處也在非球面凹面鏡813 面8 1 1 ，導入使用非球面表而^ 丨貝弓月面之相斟本 田表面位於相對 邗對表 間分開之新穎概念。此為相g 置 破—窄f * __ _ 球面之概
马相反於按誤差校正—乍小空 528880 五、發明說明（15) 念，並且也在其他光學概念允許更精確影 態。 μ規之杈正狀 在折射部份物鏡，在影像ΙΜΙ與孔徑光闌st〇 移空間為-般情％，同時在孔徑光闌,長偏 之空間予以密實填塞透鏡。一弯月面凹面、二‘千面w間 ST0，與相鄰透鏡建立一正空氣透鏡，為一+孔！光闌 先前諸申請案所引用之代表性校正件”、。^明人等之 中之844)也為一非球面表面之—後有：位=凹m(圖9 SM及影像平面IMG間之空間之此種或其他非孑，二巧 猎一約略對稱設置在孔徑光闌ST0 知仫為 中之834)予以配對。 側之非球面（圖9 非itr月ΐ高數值孔徑應1，最向影像側透鏡也宜予以 8 ^ ί ί ^ ^ . ^δ49 , Λ ^ 生非上處出現光線之最大入射角，並且此處產 生非球面之特殊影響。 心座 $導體的快速發展，強迫業界擴充光學平版印刷術遠為 / = ^期。包括1 5 7宅微米波長輕射，現今據信光學平版、 l ^至可使能在解析度70毫微米節點，在商業性條件下 。^50¾微米節點將需要具有極高數值孔徑（>〇·8)之至 ^ 7 ^微米光學裝置。唯有光學裝置（鏡及少數透射，折 于、，鏡元件，較佳為L i F透鏡元件）可達成數值孔徑頗高於 ’ 使波長進一步向下延伸至126毫微米（Ar2-雷射），才 曰g ^幫助。將半導體的發展轉換成為曝光工具的發展， 不需要新波長，而且也將導入極高NA光學裝置。為保證
第19頁 528880 五、發明說明（16) f夠向過程容度，在大量製造將會實施解析度增強方法 -人於先進光罩技術，將會使用層定製式照明方案。 如此宜於利用線性偏振光，及在孔徑光闌平面利用〜 分之一波板供影像側圓形偏振光之照明。一種替代可=四 在同一受讓人之DE 1 95 3 5 3 9 2 A號（美國專利申請案·、、、如 0 8/7 1 7 902號）中所說明之徑向偏振光。 、
—本發明提供此等高數值孔徑物鏡，而圖8及表8列示在 縮小之極端影像側數值孔徑ΝΑ = 〇· 85，而有一22毫米x 7 = 米狹縫掃描影像場，在丨5 7. i毫微米激元雷射線為土 〇 = U米雷射帶寬’而所有透鏡均係自氟化鈣晶體作成。自 然，在此提升之校正需要，超過在？〇 9 9/ 52 〇〇4號中，適 度ΝΑ = 〇·#65之實例所列示15個透鏡之極限，但在9個非球、面 表面^藉一另外透鏡。多色波前像差顯示一在所有場高度 之20毫波之最大值—在此等條件之一種合理良好成像品又 質。 、，圖9及表9 ^實施例之特色為在157·丨毫微米± 〇· 6微微 米利用2 2毛米χ 7宅米影像場，而高影像側Ν Α = 〇 · 7 5之5 χ 縮小成像。如以上所說明，16個透鏡及}個凹面鏡在僅有5
個非球面表面之21毫波之最大均方根之波前誤差獲得此結 果。 如果為供在標線光罩或晶圓氣體清洗之原因而為較佳， 此等物鏡之物鏡侧以及影像側可為一平面表面，如在廣泛 使用情形，例如在㈣9 9/52 〇〇4號，導入一平面保護板， 或在一平面表面之限制下改變設計。
528880 五、發明說明（17) 本發明涵蓋在此專利說明書以及申請專利範圍，圖式及 表中所列示諸特色之所有組合及次組合。 雖然舉出實例供曝光之掃描方案，但本發明也可配合分 步重複或綴合使用。綴合允許特別較小之光學裝置。 元件編號說明 0 原點平面 2，3 表面 6，7 ，8 表面 9，1 0 ^ 11 表面 12 凹面鏡 13 凹面鏡 16 非球面表面 2 0 6， 207 表面 2 0 8， 209 表面 211 凹面鏡 513 凹面鏡 5 3 3， 539 表面 603 表面 631， 6 37，648 表面 749 表面 834 非球面 849 表面 1006 ，1007 表面 1008 ^ 1009 表面
89128337.ptd 第21頁 528880 五、發明說明（18) 1010 ， 1011 表 面 1012 凹 面 鏡 FLS 第 一 透 鏡 系 統 IMG 影 像 平 面 IMI 中 間 影 像 ΜΓ 及M2’ 折 疊 鏡 OA1 光 軸 OA2 光 軸 OA3 光 軸 SLS 第 二 透 鏡 系 統 STO 子L 徑 光 闌 TLS 第 三 透 鏡 系 統
89128337.ptd 第22頁 528880 五、發明說明（19) 附錄：圖1 - 1 0中所示物鏡之碼-V -表 表1 :波長=1 9 3 . 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 J1 2 3 4 LJ 6 7 8 9 D ο > 娜艮 無右艮！ 534.41573 -2605.52657 雛 .娜艮 524.08780 903.64667 -263.10576 -1376.18978 ASP : K : 0.000000 1C : 是 A ：0.983295E-10 0.000000 35.000000 16.000000 82.000000 423.377560 0,000000 50.000000 44.861212 15.000000 33.775444 CUF： Ο .ΟΟΟΟΌΟ Β :0.156925Ε-14 7 SI02HL, ^ SI02HL, ,SI02HL, C ：0.660351E-20
D : 0 . OOOOOOEh-OO 10: -209.43665 1丄： 一400.74813 12: INFINITY 13 ： 27 8.05481 14： 400.74819 15： 209.43665 16 : 1376.1897 8 ASP : K ： 0.000000 工c ： 是 A ：-.983295E-10 15.000000 12.442047 0.000010 12.442047 15.000000 33.775444 15.000000 CUF: 0.000000 B ：- .156925E-14 ,SI02HLf REFL REFL 'S]:〇2HL' # SI02HL, C : - .660351E-20
D : 0.OOOOOOE+OO 17 263.10576 44.861212 18 -903.64667 50.000000 ,SI〇2HL, 19 -524.08780 449.719482 20 雛‘ 0.000000 21 _艮 63.778860 22 367.04203 39.38189.8 23 -813.93537 12.355245 24 862.20789 26.902539 /SI02HL/ 25 ^2189.11598 19.271290 26 -280.32916 23.514083 27 551.01352 7.025237 28 1073.23821 46.193223 /SI02HL,
89128337.ptd 第23頁 528880 五、發明說明（20) 附錄：圖1_1〇中所示物鏡之瑪-V -表
表1 :波長=1 9 3 . 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃、 29 丄.000000 30 342.86330 31.83 77,0：3 ： 'SI〇2HL7 31 -734.28385 17.595477 32 471.84849 34.925052 3 3 223.32640 54.276947 34 -238.14826 16.480387 ,SI02HL, 35 -432.42551 1.000000 36 846.35305 33.186692 37 -382.59164 135.289717 3 3 431.86893 43.207971 ^ SI〇2HL^ 39 14250.66524 1.000000 4 0 290.44991 15.459700 * SIOSHL/ 41 183.43506 56.245505 42 -238.71906 28.322086 '5Ι〇2ΗΙ/ 43 -689.33370 114.792439 44 -429.48801 28.350285 'SI〇2HJ? 45 -258.98856 1.000000： 46 398.85931 33.841410 ^ SI〇2HL' 4 7 230.04262 11.000000 48 324.81640 49.875208 rSI〇2HLr 49 -854.01841 1.000000 50 221.87147 18.942210 51 167.65528 16.891234 52 253.72485 28.225022 3Ι02ΗΙ^ 53 7134.26986 0.790361 STO _艮 5.370968 55 156.41574 37.458696 fSI〇2HL# 5 6 425.02539 13.790057 5 7 2532.66232 21.354413 ;SI02HL^ 58 一487·11572 0.100000 59 -754.17801 35.849436 ^ SI02HL/ 60 117.83998 10.996190 61 174.62750 35.656142 6 2 -1054.34644 0.100000 6 3 110.05260 64.820400 /CAF2HL/ 64 4815.31686 0.100000 65 241.11586 26.846900 fCAF2HL, 66 -465.81838 14.164338 IMG 鮮艮 一0 · 000247 89128337.ptd 第24頁 528880 五、發明說明（21) 表2 :波長=1 9 3. 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃采 > OBJ 嫌 〇.〇〇〇〇〇〇 鮮艮： 35.000000 Λ〇2 443.12451 16.000000 # SI02HL, Λ〇3 -18962.23411 82.000000 404 嫌 408.713716 Λ〇5 嫌 〇.〇〇〇〇〇〇 ^0 6 513.10831 35.000000 ,SI02HL, ^07 一789.13840 7.953704 >t〇B -431.08447 15.000000 ,SI02HL, AO 9 2470.39244 39.539157 Λιο -305·22015 15.000000 #SI02HLf All -2422.57208 38.046226 Α12 -202.24219 15.000000 413 -372.89974 12.390873 414 雛 0.0000.10 REFL Ais 277.58610 12.390873 REFL >(丄6 372.89974 15.000000 All 202.24219 38.046226 Ais 2422.57208 : 15.000000 Λ13 305.22015 39.539157 A 20 -2470.39244 15.000000 31021 \ 21 431.08447 7.958704 4 22 789.13840 35.000000 ^1021^ ; λ 23 -513.10831 444.481741 /24 瓣艮 〇.〇〇〇〇〇〇 425 嫌| 63.778860 Α2β 390.52726 31.324696 j27 -683.31437 6.752019 42 8 1069.12804 24.466364 Ή02ΗΙ/ A23 -1717.09522 19.648878 1 lilii 89128337.ptd 第25頁 528880 五、發明說明（22) 表2 :波長=1 9 3 物鏡 半徑
3 1毫微米 厚度RMD 玻璃種類 J3 0 A31 M2 A3 3 -^3 4 -^35 』36 ><37 8SO 丄 2345678901234567 09 0 33444444444455 555s- 55T56
1-CN345678G 6 6 6 6 6 6 6 6 M J ^z^^T I -271 585 103 7 -299 1517 -1667 .374 215 .40065 .28487 .54513 .20504 .35976 •38733 .98529 .15028 -244.39173 -481.53968 685,96658 -466.91597 337.88037 60685.02516 307.00084 173.62675 -283.94563 -1327·60130 -457.68711 -280.72637 350.95083 233.87449 316.35603 -1117.42550 218.72076 170-60053 248.49595 28(57,70932 獅艮 159.10817 450.28461 ASP: K ： 0.000000 •工c : 是 Λ :0.284543Ε-09 Ε ：0.107208Ε-26 α ：o.ooooooe+oo 4993.99819 125.35419 178.76516 -544.56516 1丄1-13737 633.24492 218.73155 -335.35055 瓣艮！ 24.662421 4.258045 47.522078 1.000000 14.493847 29.793625 38.496191 58.056542 20.364713 1.000000 50.000000 124.805511 26.730825 1.000000 25.717686 54.501370 28.052025 127.853517 32.289214 1.000000 33.551443 11.000000 44.382117 1.000000 22.816384 13.066780 27.215517 -0.636677 5.190673 37.337945 13.813926 fSIQ2Ub, rSI〇2HLf <SI〇2HL/ # SI02HL, /SI02HL/ ^ SI02iILr /SI02HL7 # SI02HL, 7 SI02HL, ^ SI02HL7 J SI02HL/ ;SI02HL/ 7 SlO2HLf 'SI〇2HLf
CUF B F
0.000000 -.121419E-12 C 0.606134E-30 G 56.358019 8.227596 35.546249 0.100000 65.000000 0.100000 30.206802 12.082469 -0.000503
：-.294548E-17 D : - .112803E-21 :〇.OOOOOOE+OO H : 0.OOOOOOE + OO ，SIC^HL/ r SI02HL# rCAF2HL, ’CAF2HL'
89128337.ptd 第26頁 528880 五、發明說明（23) 表3 :波長=1 9 3 · 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 J1 2 3 4 6 7 CC 9 ο 1^¾¾¾¾¾
23456789 1 1 1 TH-rH 1 丄 1* ZZZZZZZZ
412.00283 13807.40229瓣艮嫌 -253.51555 一544.16517 一205.78974 -424.01744 娜艮 ASP 282.11038 K 0.000000 1C 是 A 0.102286Ε-09 E 0，130171Ε-27 α 〇.〇〇〇〇〇〇Ε十00 〇.〇〇〇〇〇〇 35.000000 21.000000 82.000000' 473.169978 0.000000 16.000000 27.805541 16.000000 13.131367 0.000010 13.131367
,S102HLr /SI02HL, 'SI02HL' REFL· REFL 424.01744 205.78974 544.16517 253.51555娜艮’ 瓣艮 636.23394 CUF 0.000000 Β 0.163583Ε-14 F -.388631Ε-32 -16.000000 27.805541 16.000000 530,616842 0.000000 63,778860 27.336162 0.100000 C :0.222395E-19 G :0.ΟϋΟΟΟΟΕ+ΟΟ 〃SI〇2HI/ /SI02HL, ,SI02HL,
D ：-.127469E-23 H :0.OOOOOOE+OO
89128337.ptd 第27頁 528880
五、發明說明（24)表3 :波長=1 9 3 . 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 012345678 9 ol2、h 2 2 2 2 2 29} 2 2 2-33 3 · 1-3 zro 2rv;zz22zzz.zz zz
Z3 5 23 6 Z3 7 238 23 9 Z40 2L4 1 2.42 3 34 4 ^245 ^4 6 *5 47 ^48 >49 STO 之51 2.52 Z-5 3 54 2.55 &56 £57 5.5 8 Q 59 H60 Σίβ L IMG 638.45165 一950.10950 -332.85587 866.08021 -1525.57443 -390.53318 1733.78965 -524.35781 835.74339 298.64601 一259.59279 一411.70682 1128.90538 一477.136774 435.03169 -2559.42430 275.15076 187.82645 -296.62496 -690.62720 4019.70777 -800.90710 853.98857 254.20904 408.20829 -643.03332 228.71372 175.28033 269.82502 20733.22818 -瓣艮 160.50399 457.13661 1597.64988 -728.43646 -2709.38689 120.00817 171.3 8842 -2029.55473 116·· 83775 1815.17026 212.15910 一501.97805 瓣艮 27.867198 26.668510 38.386102 18.442845 47.039609 1.000000 28.403565 0.100000 16.000000 57.500000 16.000000 1.000000 36.253267 253.556594 32.866003 1.000000 16.000000 66.000000 44.201058 135.986515 21.709054 .丄·000000 '50.000000 12.399910 38.016254 1.000000 16.000000 14.986197 31.500000 -7.061102 8.061102 37.926522 12.706908 23.273549 0.100000 37.761809 10.277526 38.220630 0.100000 64.846281 0.100000 28.928425 15.000534 -0.000523 玻璃種類 /SI02HL * 7 SI02HLi 'SIC^HL·1 J ，5Ι〇2ΗΓ^ I ’ SI〇2HL' 'SIOSHL' /SI02HL/ ,SI02HL, ;SI02HL, /SI02HL, ,SI02HL, # SI021JL r ,SI02HL# 'SI02HL' fSl'02HL/ ^102111,, /SI02HL, /SI02HL/ ,CAF2HL/ /CAF2HL, Φ
89128337.ptd 第28頁 528880 五、發明說明（25) 表4 :波長=1 9 3. 3 1毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 瓣艮 ο. υϋϋϋοο J123456700 9 O 丄 234LH678901CN3 §5§3030芸芸茺31313131^313131¾^¾
A 嫌 35.000000 434.57513 22.000000 36267.41000 32.000000 雛 477.044163 瓣艮！ 0.000000 -254.30195 16.000000 -532.25303 29.144125 -204.79768 16.000000 ，SIOSHL' —421.29373 13.32332.5 _艮 0.000010 REFL· 285.25831 13.323325 REFL ASP K 0.000000 1C 是 CUF: 0.000000 A 0.116419E-09 B :0.112957E-14 C :·937828E-2〇 E 0.506427E-28 F :-.185566E-32 G :0.OOOOOOE+00 〇Γ 〇.〇〇〇〇〇〇E-+-00 ;: 421.29373 16.000000 ，3Ι〇2ΗΙ^ 204.79768 29.144125 532.25303 16.000000 # SI02HL/ 254.30195 537.666508 娜艮 〇.〇〇〇〇〇〇 赫艮i 63.778860 801.47063 30.675310 # SI02HL, -741.91592 0.100000 852.20028 21.124661 -1040.41670 31.707289 -270.54645 26.187590 'SI02HL/ 600.48250 18.319696 D 466752Ε-24 Η : Ο . ΟΟΟΟΟΟΕ·卜00
(I
89128337.ptd 第29頁 528880 五、發明說明（26) 表4 ·波長=193.31¾微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃 >324 774.95053 41.436216. ^ <5Ι〇2ΗΙ/ 325 -355*71105 1.000000 326 1531.83158 29.490290 ^ SI02HL7 327 -556.23481 53.458289 328 854,87463 16.000000 # SI02HL, 32 9 282.30181 54,422763 .· 33 0 -261.43332 24.488537 f SI02HL, 331 -411.65692 1.000000 33 2 1107.48205 37.032421 r SI02HL’ 33 3 -513.59706 246.562860 334 423.57328 28.982815 # SI02HL/ 33 5 76613.31446 1.000000 33 6 237.50869 16.000000 ^ SI02HL7 337 171.60021 63.162192 33 3 -285.36403 50.000000 fSI02HL/ •339 -902.91449 95.050310 34 0 -733.54713 21.388284 ，SI〇2HL， 341 -375.20521 1.000000 342 436.34842 50.000000 * SI〇2HL/ 343 264.04939 12.000000 344 395.02148 37.208539 ； r SI02HL/ S>45 -792.61152 1.000000 34 6 215.61815 2¾.499145 1SI02HL# 347 165.98868 14.685149 34 8 248.36356 31.000000 1SI02HL* 343 3136.09812 -8.174425 STO 瓣艮· 9.174425 351 149.01853 41.331450 f SI02HL# 35 2 363.61783 14.435195 ASP K 0.000000 xc 是 CUF: 0.000000 A ΰ .106229E-08 B :-.233769E-12 C :-.128409E- E 0.577731Ε-25 F :-.147820E-29 G :0.OOOOOOE+ vJ ΰ .QOOOOQE+OO 353 • 881.72413 29.308297 /SI02HL, 65 4 121.03439 14.172084 355 207.65180 41.413236 ,SI02HL, fCAF2HL, 35 6 35 7 3 53 v359 36 0 IMG CODE V> CODE V> -639.91052 123 . 89834 609.59778 186.60911 -313.58998 瓣艮' 0.100000 65.000000 0.100000 35.732940 15.000087 -0.000089 m wav wav fCAF2HL# il
89128337.ptd 第30頁 528880 五、發明說明（27)表5 :波長=1 5 7. 1 3毫微米物鏡 半徑 厚度R M D 玻璃種類 j12 3^567890 BDoo'cDoooolrHllr-llllr-il-{9JOJ222 ^ H Hui 4 V U>L·. w u· u- un 12 345678 0.- 01234
326.89134 . 7134.75200
386.39605 3173.10800 -263.73446 1274.99700 -173.05552 -398.57456 瓣艮 246.26462 398.57456 173.05552 一1274.93700 263.73446 -3173.10800 -386.39605
ASP 305.29233 K 0.000000 IC 是 A -.983943E-〇a E 0.476298E—25 J 0.OOOOOOE十00 CUF： 0.000000 Β :0.197982Ε-13 F :一.165982Ε—29 〇.〇〇〇〇〇〇 34.000000 18.000000 91.000000 438_917225. 〇.〇〇〇〇〇〇 22.000000 23.000000 13 .-000000 36-757233 14.000000 12.325630 0.000010 12.325630 14.000000 36·757293 13.000000 23.000000 22.000000 ϋ. 000000' 435.917225 "78.197752 60.000000 -(Κ 037541 35.000000 ,CAF2HL/ /CAF2HL/ # CAF2HL * ^ CAF2HL ^ REFL REFL ,CAF2HL/ /CAF2HL/ fCAF2HLf ;CAF2HL 7 C :0.331141E-17 G :(KOOOOOOE 十 00 D ：-.546921E-21 H :〇.〇〇〇〇〇〇E十00 25 -609.90977 175.000000 ^2 6- -211.27437 20.000000 ,CAF2HL, 4-27 -296.93430 1.000000 ^+28 918.04784 32.000000 # CAF2HL ^ M29 -450.01625 10.220682 43 0· 211.00994 35.000041 /CAF2HLf H31 147 _ 86638 291.880529
89128337.ptd 第31頁 528880 五、發明說明（28) 表5 :波長=1 5 7. 1 3毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 ASP K ：·* 〇.〇〇〇〇〇〇 1C : 是 CUF: 〇.〇〇〇〇〇〇 A :0·102239Ε~07 B : 0.375361E-12 C :0.202452E-16 D :-.158059E_22 E ：0.105932£-24 F :-.746588^1-30 G :0 . OOOOOOE+OO H rO.OOOOOOE+OO J :0.000000ε十00 ^3 2 ： 302.52916 14.999813 /CAF2HLi ^33 ： 182.15262 32-488787 ^34 ： 325.54311 32.000000 /CAF2HL/ ^35 ： -472.69366 3.402424 h3 6 ： 132.72874 19.621815 OAF2HL^ 437 ： 197.27963 19.825000 ASP • K 〇.〇〇〇〇〇〇 xc 是 CUF: 0.000000 A 0.132547E-O7 B :196227E-12 C ：0,495156E-17 D ：0.179425E-21 E CK68；I67 9E-25 F : 0.43S118E-23. G :0 - OOOOOOE十00 H :0,OOOOOOE十00 a 〇.〇〇〇〇〇〇E+00 STO ： 嫌 30.976200 H3 9 ： 1247.88900 2Ϊ.000000 ,CAF2HLJ M40 ： -441.06952 1.00.0000 441 ： 106.43847 30.279452 ,CAF2HL, «442 ： 390.31325 17-376730 M43 : -262.38753 10.000000 ,CAF2HL, C^44 ： 8245.04000 1.000000 ^45 ： 105.22412 35.374148 OAFSHL1 M4 6' ： 380.86930 1.000000 447 ： 131.60165 36.324916 ,CAF2HL# M48 ： -9747·89700 12.069889 ASP: K : 0.000000 XC : 是 CUF： 0.000000 A : 0.179402E-06 B :-.398734E-10 C :一.217607£—13 D ：0.684630E-16 E : -.703555E-19 F ：0.266200E-22 G :0.000000£+00 H rO.OOOOOOE+OO a'： 0.OOOOOOE+OO IMG ： 無限 一0.000356
89128337.ptd 第32頁 528880 五、發明說明（29)
表6 : 波長=1 5 7. 1 3毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種 〇Βα： 細： 0.000000 SOI ： 瓣艮 34.000000 ^〇2 ： 340.25194 18.000000 7 CAF2HL 7 S〇3 ： -23456.66512 91.000000 · S〇4 * 細 ， 427.039664 · ^)5: 娜: 〇.〇〇〇〇〇〇 S〇6 ： 339.11803 22.000000 f CAF2HL, S〇7 ： 67 7 >32271 23.000000 •S〇8 ： -270.98695 13.000000 ^ CAF2HL ^ ^5〇θ： -16554.24766 44.216394 Sio ： -179-26036 14.000000 # CAF2HL/ 511: -499.04921 16.743922 S12 ： 娜艮 0.000010 REFL 513 ： 244.48659 16.74332-2 REFL ASP K 0 . 〇〇〇〇〇〇 JC 是 CUF: 0.000000 A -.837113E-10 B : - .251110E-13 C ••-.130822E-17 E -.129779E-26 F :- . 646050E-31. G :0.OOOOOOE-fOO J 〇.〇〇〇〇〇〇B-hOO 5l4 ： 499.04921 14.000000 ,CAF2HL/ Sl5 : 173.26036 44.216394 Sl6 : 16554.24766 13.000000 # CAF2HL ^ 517： 270.98635 23.000000 518 : 一677，92271 22.000000 yCAF2HL, Si9： -339-11803 0.000000 D ：~.680466E-22 Η : 0 . OOOOOOE-fOO S20 ^521 ^>22 523· S2 4 52 5 S"2 6 5*27 S2Q 529 5*3 0 531 7 09 . -405 . 232 . 3 83 . -339 . -455 . -581. — 449. 73 646 70150 80755 54136 49382 76820 98648 85046 424.039664 48.414185 60.000000 〇.〇〇〇〇〇〇 35.000000 1.000000 20.000000 54.440692 20.000000 1.000000 32.000000 13.336275 ,CAF2HL·, #ΟΑΡ2ΗΙ>; # CAF2HL ^ ,CAF2HL,
89128337.ptd 第33頁 528880 五、發明說明（30)表6 :波長=1 5 7. 1 3毫微米
物鏡 半徑 厚度RMD E32 ： 834.67326 35.000041 S33 : •504.57916 338.825443 . ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 XC 是 CUF : 〇.〇〇〇〇〇〇 A 0.201537E—07 B :0·255796E-12 E -.110440E-24 F :0.456621E-29 J 〇.〇〇〇〇〇〇E+00 C G 玻璃種類 ,CAF2HL/ 一.123108E-17 〇.〇〇〇〇〇〇E+00
D :0.115629E-20 H :0.OOOOOOE+OO 4 5 6 7 3 3 3 3 SL/?S5 ST〇 538 539
ASP K IC A AC E EC σ iJC 295.36006 178-17958 304.23731 -637.25902 160.25766 250.37700 0.000000 是 0.192340E-07 100 0.523462E-25 100 〇.〇〇〇〇〇〇E+00 100
KC CUF B BC F FC 14.999813 32.488787 32.000000 81.513603 -10.161100 19.621815 43.823508 100 . 〇.〇〇〇〇〇〇 -.348224E-12 100 0.264881E-29 100 rCAF2HL, rCAF2HLf ,CAF2HLi
CCF C CC G GC 100 -.223569E-16 100 0.OOOOOOE+OO 100 ο ο ο ο ο ο ο ο Η 1 Η Η ο ο ο ο :ο ο ο ο 1 1 1 Ι D :-.380011E-21 DC : 100 H :0.OOOOOOE+OO HC : 100 541 ： 369.18529 21.000000 /CAF2HL, 100 100 542 -739.90155 1.000000 5 43 137.71809 39.719231 ^CAF2HLf S44 762.01416 15.339626 S45 -233.76287 10.000000 ^ CAF2HL; ^46' -1034.38004 1.000000 芭47 151.43369 35.374148 /CAF2HL, S4Q -21273.43749 3.512053 S4 9 127.02508 44.121911 1CAF2HL f Sso -4741.44116 12.070337 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 IC 是 CUF : 0.000000 A 0.948304E-07 B :-.322641E-10 C ·281077Ε—13 D :0.844010E-16 E _.778064E—19 F ·· 0.2773 02：E—22 G :0.000000E+00 H :0.OOOOOOE+OO G* 〇.〇〇〇〇〇〇E十00 IMG : 瓣艮 ， 一0.000337
89128337.ptd 第34頁 528880 五'、發明說明（31) 表7 :波長=1 5 7. 1 3毫微米 456 7 890123 456789012345678901 D000D.011111111112222222 22233 fcfe fo 瓣艮 372-485723 瓣艮ί 〇.〇〇〇〇〇〇 329.24390 22.000000 ,CAF2HL/ 710.76399 19.233465 -293.87906 13.000000 ,CAF2HL, -968.05522 32.145450 -127.26575 14.000000 ;CAF2HLJ -404.63828 12.341473 . 瓣艮 0.000010 · REFL 219.31121 12.941473 REFL 404.63828 14.000000 1CAF2HL/ 127·26575 -32.145450 968.05522 13.000000 ,CAF2HL 1 293.87906 19.293465 一710.76999 22.000000 /CAF2HL/ -329.24390 〇.〇〇〇〇〇〇 娜艮 369.485723 嫌 95.013130 娜艮： 60.000000 瓣艮 -0.037541 1056.88268 35.000000 iCAF2HL/ -406.34822 175.000000 一271.71671 20.000.000 /CAF2HL/ -344.24640 1.000000 766.12486 32.000000 /CAF2HL/ -1402.78472 10.220682 385-79357 35.000041 #CAF2HL/ 559.31200 341.919072
物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 OBor 雛 〇.〇〇〇〇〇〇 <b〇l ·· 雛 34.000000 fc〇2 &〇3 ： 301.23036 18.000000 7 CAF2HL1 ： 9024_ 85717 91.000000 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 IC 是 CUF: 0.000000 A —.77917 4E—08 B :0.228326E-12 C :0.66207:^5-17 D :一. 2782 67E—20 E 0.321230E-24 F ：-.133467E~28 G :0.OOOOOOE+OO H :0.OOOOOOE+OO uT 0 . OOOOOOE-fOO mmm 89128337.ptd 第35頁 528880 五、發明說明（32) 表7 :波長=1 5 7. 1 3毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類
AS? K JC A E vJ ¢,32: g33 ： C34 : 635 : ST〇： 636 : 637: -〇.〇〇〇〇〇〇是 0.430988E-08 0.362692E-26 〇.〇〇〇〇〇〇E十OO 232.53878 151.97593 240.71208 2495.46807嫌 153.92754 131.56320 CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 B 0.579328E-14 F 一.705924E—31 14-999813·. 32.488787 32 - 000000 115-57964¾ -10.161100 13.621815 5.507542 C ：0.860442E-18 G :0·OOOOOOE+OO ^ CAF2HL f 'CAF2HL1 /CAF2HL, D ：-.644328E-22 H ：0.000000E+00 100 100 100 100 100 100 100 100 ASP Κ 〇.〇〇〇〇〇〇 1C 是 A ◦ .298130E-07 AC 100 Ε -.519344E-24 EC 100 σ 〇.〇〇〇〇〇〇E+00 vJC 100 132.44534 KC : 100 CUF: 0.00.0000 B ：0.555237E-12 BC : 100 F ：0.690328E-28 FC : 100
F c c C c c c G G 100 0.829224E-17 100 0.000000E+00 100 D :0.102908E-20 DC : 100 H : 0 . OOOOOOE-fOO HC : 100 639 : 3-1).3 78652 ,CAF2HL, 100 100 0 12 3 4 5 6 7 8 444444444 1119.94416 120.32786 一7 09 · 6734：2 一214 - 7 47 68 3292.43700 108.37386 453.20106 118.78841 -564.84518
ASP K 0.000000 1C 是 A 0.192521Ε—06 E -·1：27297Ε-：Ι8 σ 0.OOOOOOE+OO 瓣艮 20.794473 33.748154 11.965434 7·500000 1.000000 35.374148 1.000000 36.324916 12.070427 CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 Β -.249999Ε-10 F 0.406332Ε-22 /CAF2HL, /CAF2HL/ ,CAF2HL, ^ CAF2HL/ C :-.634108E-13 G :0.000000E+00
D :0.147998E-15 H : 0.OOOOOOE+OO IMG： 一（K 000427
89128337.ptd 第36頁 528880 五、發明說明（33) 表8 :波長=157. 13毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類
Radius Thickness RMD Glass sort CCY . OBvT * _ 良… 〇.〇〇〇〇〇〇 100 雛 34.000000 100 ^02 276.26597 35.000000 '*CAF2HL, 0 J.021.75438 95.000000 0 ASP K ϋ.OOOOOO KC 100 JC 是 CUF 0.000000 CCF: 100 A -.148017E-07 B 0.447070E-12 C :0.503629E-18 D :- AC 0 BC 0 CC : 〇 DC ： E 0.232813E-24 F -.764889F，29 G ;0.OOOOOOE+OO H : 0 E*C 0 FC 0 GC : 100 HC : J 0.OOOOOOE+OO JC 100 .232159E-20 0 .OOOOOOE+OO 100 C ο ο ο ο Η ο ο ο ο ^—ί I—ί 1 _—一 1
C GL
飞Ο 4 =ϊ〇5 ί〇· >Β >9 Τι° >13 ^15 孚16 137 4ι a ^20 32J· t 2mZ >23 A 372.37592 668.85257 一230.27740 -2918.43592 ,07315 ,1613丄 I ITY .15084 .16131 184.07315 2918.43592 230-27740 ^668.85257 -372.37592 -X 8 4 . -413， 248 . <113 ,
434 .25844 -397 ..822 LI 423.855Θ36 0.000000 22.000000 37.501319 13.000000 38'. 093680 14.000000 19.545452 0 .-000010 19.545452 14.000000 3 8'. 093-680 13.000000 37.501319 22.000000 0.ΟϋΟΟΟΟ 405.855836 27.000000 10.680475 60.000000 〇.〇〇〇〇〇〇 35.000000 175.000000 1Ό0 0 100 100 0 3 00 0 0 OAF2HL/ 0 100 0 0 <CAF2HLi 0 100 0 0 100 100 0 PIK -CAF2HL1 PIK PIK P1K PIK ,CAF2HL, PIK PIK PIK PIK tCAF2HL, PIK PIK PIK PIK 100 PIK 100 100 • 100 HMY 100 100 100 100 ,CAF2HL>, 0 100 0 100 ;«2 6
89128337.ptd 第37頁 528880 五、發明說明（34) 表8 :波長=157.13毫微米
物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃 >27 -156.64549 20.0000.00 .rCAF2HL * 0 100 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 KC 100 TC 是 CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 CCF 100 A 0.114541E-07 B 0.514029E-12 C -.658251E-17 D : 0.1916Π5Ε-2Ω AC 0 3C 0 CC 0 DC ; 0 ε 0.68375*7Ε-25 F 〇.〇〇〇〇〇〇Ξ^ΟΟ G 0 . OOQOOOE十00 H :0.OOOOOOE+OO EC 0 FC 100 GC 100 HC : 100 vj 0.OOOOOOE+OO ac 100 +23.-· -245.97649 1.000000 0 100 ^29 ： 461.23130 40.000000 iCAF2HL, 0 0 ASP K 0^000000 是 KC 100 IC CUF 0.000000 CCF 100 A -.101414E-07 B 0.li〇548E-12 C 0.1869Θ3Ε-16 D .170111E-20 AC 0 BC 0 CC • 0 DC : 0 E 0.216455E-25 F 0.OOOOOOE+OO . G 0 . OOOOOOE+OO H :0.ΟΟΟΟΟΠΕ+ΟΟ EC 0 FC 100 GC 100 lie : 100 .7 0.000000£·»00 .JC ΙΟΟ >30 4028.48297 10.2206Θ2 0 100 1·〕】 421·79876 35.000041 * CAF2HL* 0 · 100 ^3 2 1133.21969 323.036498 0 0 ASP K 0.000000 KC 1-00 IC 是 CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 CCF 100 A 0.673083E-08 B 0.150516E-12 C 0.722292E-17 D :0.630*7 01E-22 AC 0 BC 0 CC 0 DC : 〇 E -.506831E-25 F 0.126917E-29 G 0 . OOOOOOE+OO H : 0.OOOOOOE+OO EC 0 FC 0 GC 100 HC : 100 J 0 .OOOOQOE+OQ ac 100 1-3 3 ： 195.44558 14.999813 ,CAF2HL, o : on 13 «1 143.55672 24.205Q75 o o 263.40415 39.902984 •CAF2HL* 0 o TJ6 -1526.30319 3.439634 0 0 12Ί 167.78607 29.120237 ,CAF2HL, 0 o 13B 403.43077 13.299521 0 ' 0 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 KC 100· 1C 是 CUF 0.000000 • CCF 100 A 0.2137Q2E-07 B -.256444E-12 C 0.855972E-17 D :-.404743E-20 AC 0 BC 0 CC 0 DC : 〇 ε :0.309335E-24 p .169687E-28 G :0.OOOOOOE+OO H : 0.OOOOOOE+OO EC ：· 0 FC : 0 GC : 100 HC : 100 J :Q.OOOOOOE+OO ac : 100 STQ 瓣艮 29.339697 100 0 >4 0 -259.64858 30.669679 ,CAF2HL* 0 0 斗41 -231.31755 1.374343 ΰ 0 A.SP K : 0 .000000 KC ·· 100 xc : 是 CUF ： 〇.〇〇〇〇〇〇 CCF : 100 A :0.247745E-07 B :-.143625E-11 C :0.149412E-15 D ： - .103761E-19 AC : O' BC 0 CC : 0 DC ： 0 E :0.440575E-24 F :0 . OOOOOOE+OO G :0.QOOOOOE+QO . H : 0.OOOOOOE+OO £C : 0 FC : 100 GC : 10U HC : 100 Kj :0.ΟΟΟΟΟϋΕ十ΩΟ JC : 100 第38頁 89128337.ptd 528880 五、發明說明（35) 表8 : 波長=1 5 7. 1 3毫微米 物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類
ΊΊ2 365.96245 51 .763S16 /CAF2HL, 0 0 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 KC 100 IC 是 CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 .CCF: · 100 A -.233481E-08 ' B -. 114992E-11 'C ：0.787872E-16 D -.317596E-20 AC 0 BC 0 CC : 0 DC 0 ε 0.190478Ξ-24 F 0. OOOOOOE十00 g ：o.oooooos+oo II 0 . OOOOOOE-tOO EC 0 FC 100 GC : 100 HC 100 J 〇.〇〇〇〇〇〇Ξ卞00 JC 100 143 一57S.3S94S 1 .500000 ( 〕 100 134.74913 36 .384686 *CAF2HL, 0 〇 . *34 5 1 163 . 80998 0 .500000 0 J 00 ASP K 0.OOOOOO KC 100 IC 是 CUF 0.000000 CCF; . 100 A -.32232 6E-07 B 0 . 8；19328E-11 C ：0.316811E-15 D 0.370077E-19 AC 0 BC 0 CC .: o DC 0 1£ ϋ.552969E-25 F 0 . OOOOOOE-fOO G； : 0 . OOOOOOE十00 H 0 . OOOOOOE+OO EC 0 FC 100 GC ： 100 ' HC 100 J 0 . OOOOOQE^-OO JC 100 1-4 6 105.20-708 35 .374148 ,CAF2HL, { 3 100 2493,20162 1 .000000 I J 100 i4 a 357 . 29^743 36 .324916 1CAF2HL * 0 100 ^42 -759.96556 12 .063863 1 3 PIM ASP: K 0.OOOOOO KC ：J00 IC •是 0.364257E-07 CUF 0 OOOOOO CCF 100 D :0,6Ή942Ε-1? A 8 G.13S300E-10 C -.141126E-13 AC 0 3C 0 CC 0 DC : 〇 E -.780604E-21 F -.196532E-24 G 0.OOOOOOE+OO H ：0.Q00000E+00 EC 0 FC 0 GC 100 HC : 100 J 0 . OOOOOOE + OO JC 100 IMG: 娜艮 0.000137 100 0
89128337.ptd 第39頁 528880 五、發明說明（36) 表9 :波長=1 5 7. 1 3毫微米 物 半徑
厚度RMD 璃種類
_艮
娜艮 45678902 2 . J H100s 251.38730 603.00415 ASP： κ : 〇.〇〇〇〇〇〇 IC : 是 A : - .124195E-07 AC : 0 £ :〇.5716l4E-25 £C ： 0 J : 0.OOOOOOE+00 JC : 100_艮. 娜艮! >258.59640 -515.99269 -403.63140 -928.08447 -173.01949 -289.04453 ASP： K : 0.000000 I'C ： 是 A :-.4396652-08 AC : 0 〇.〇〇〇〇〇〇 34 · 0·00000 38.497396 90.000000 *CAF2HL/ ϋ ο o Q Ύ ϋ o c 1 1 c u ο ο o c u o o TO 1 1 1
c GL KC 100 CUF 0.000000 CCF B -.201050E-12 C BC 0 CC p -.300137E-29 G FC 0 GC 100 0.136116E-17 0 - 0.ΟΟΟΟΟΟΕ+ΟΟ 100 •460.453734 〇.〇〇〇〇〇〇 22.000000 #CAF2HL- 26.483445 13.000000 37.951900 CAF 2 HL' 14.000000 /CAF2HL< 3.607524 KC 100 CUF 0.000000 CCF: 100 B 0.442003E-13 C :0. BC 0 CC : 0 dchhc -.369989£-21 0 Ο .QOOOOOE+OO 100 . oooooooo- oooooooo ο ϋ ο o
瓣艮I rr H 00 > QO 267.30150 Xr K 〇_〇〇〇〇〇〇 IC A 是 '214071E-08 AC, Q 289.04453 ASP: Q . 000010 REFI. 3.607524
D ：- .1483221^-21 DC : 0 100 100 0 PIK KC ： 100 CUF： 0.00000.2 B ：0.147481E-i3 BC : 0 . 14.000000 CCF: 100 C :0.128674E-17 CC : 0 >CAF2HL, D .843005Ε-22 DC : 0 PIK ΡΙΚ
89128337.ptd 第40頁 528880 五 明說 明發 9表 (37)波長=1 5 7. 1 3毫微米 鏡物
c C κ I A A s 6 7 8 9 Q 1 2 .J45 678 9012-3 4 1 1 1 1 1 2 2 2 2 ^ 2 2 2 3 .J 3 .i - ^'S^&8S&&-2Q0^&&S c 300SOO s CHJa^s 5 6 7 a _ 3 3 3 3 一 socoos 一 845 846 84 7 848 p secA κ ΪΑΑ
ps c A κ I A IMG : 半徑 〇.〇〇〇〇〇〇是 0.429565E-08 ΡΙΚ 173.01S4S 928.08447 403.63140 515.99263 258.59640 無限丨
厚度RMD KC : 100 CUF: 〇.〇〇〇〇〇〇 CCF B :- .442003E-13 C BC ： PIK -· CC 玻璃種類
100 -·181557E-17 PXK
D DC
:0.148322E-21 : PIK 633 -34 7 - 211 -23 7 550 -612 -201 -322 -585 367 .39437 .37162 .26446 .58727 .08434 .80061 .71052 .70560 .62058 .59560 〇.〇〇〇〇〇〇 0.220547E—0^ 0 1167.44840 -274.28444 189.47888 724.1158^細 299.02Ί1Β 1469.50622 161.10860 1679,93121 .-1595.69234 0.000000 .8316〇〇£-07 37.951900 13.000000 /CAF2HL, 26.483445 22.000000 > CAF2HL. 0.000000 447.459734 PIK PIK PIK PIK PX：< 100
PIK PIK PIK PIK PIK PIK xc 0 BC -574.39812 105.01287 447.38323 518.28016
KC CUF B BC 60.000000 100 10 0 15.356414 100 HMY 40.000000 100 100 0.000000 100 100 35.000000 ,CAF2HL, 0 aoo 119,686124 0 0 20.000000 iCAF2HL, 0 100 1.055156 0 0 40.000000 OAF2HL, 0 ΰ . 40.24991*7 0 0 35.000000 _· 0 100 321.354243 0 0 9.084229 * CAF2HL1 0 0 18.890606 0 0 : 100 : 〇.〇〇〇〇〇〇 CCF： 100 :-.169007E-12 ; C :-.334287E-17 D :0. ,420<l22b：-21 : 0 CC : 0 DC : 0 32.000000 * CAF2HLi 0 100 43.654547 0 0 45.000000 ΌΑΓ2ΗΙ^ 0 0 12.838681 0 0 29.998948 100 0 33.232875' 4CAF2HL* 0 0 12.574830 0 0 31.660134 . <CAF2HL/ 0 0 12.291388 0 0 44.999319 CAF2HL* 0 0 ： 100 *: 0.000000 CCF； 100 :0.176877E-12. C ：0.80227ΊΕ-16 D :- .176968E-20 DC CC 0 8 0 6 0 4 0 1 0 10 9 0 4 0 4 0 0 7 0 2 0 3 0 3 ··-· 15 16 3 3 7 CAF2HL， /CAF2HL, 0000 0000 1111 o o o o 0000 1111
PIM ^590.37066 12.0*70070 ASP K 1C A AC 0.000000 KC ； 100 是 CUF： 0 . Q00000 CCF 0.1174S7E—06 B :- .225496E-10 C 0 BC : 0 CC 100 .I11640E-13 0 0
D DC .28Ϊ5686£-1*? 0 娜艮 100
89128337.ptd 第41頁 528880 五、發明說明（38) 表1 波長=1 5 7. 6 3毫微米 鏡 半徑 厚 編號 半徑 厚 ODJ: RDY 娜艮 'ΠΓΙ 34 . QOOOOQ 1; ^002: 娜艮. 312.33717 4.000000 18.000000 ^002: 9632.90099 B3.000000 娜艮 〇.〇〇〇〇〇〇 XD£： ADE.: 玻璃種類 玻璃材料 5 ACCs ΛΟΟί ^〇〇a 400 9 401。 ^Oll ^Q12 13 Id 15 lfi L7 L8 19 A〇 20 (Mi 21 Λ0 22: 0 . 000000 52.000000 娜艮 · -405.55295 -24ff2.67101 203 .79633 1424.67172 176.13502 4SQ . 49454 241.21296 4B0.49454 176.13502 1424.67172 203.79683 -2<J62 . δ7101 -405.55235 無限： 酿 YDE: 〇.〇〇〇〇〇〇 BDE: 0.000000 '414.787259 · -22.000000 -4.1.116913 -.13.000000 -33.321235 -14.000000 -16.561783 16.3^1783 14.000000 33.321295 13.000000 41.115913 22.00C000 ·. 409.78725S 0.0Q0QQQ -70.541305 REFL 2DE: CDE： CLA * CAF21 〇.〇〇〇〇〇〇 0.0QO000 *C^F2 f 7 CAF2 f ,CAF2 * * CAF2 * •CAF2· * CAF2 * Φ W〇23 : 4〇2S ^02 6: Λ02Ί 28 29 XDE ： o.ooaooo YDE 1 0.000000 ZDS ： 0.000000 ADE ： 38.oooooa 3DE ： 〇.〇〇〇〇〇〇 • .CDS : 〇.〇〇〇〇〇〇 娜艮 -59.941156 -1Π0.0ΛΒ78 -20.601459 •CAF2, ASP K Q.αοουοο 是 '：- 1C CUF ο.oooaoo A 0.141974E-07 B 0.103665E-12 C :0.352915E-15 Κ 0.116720Ε-24 F -.2563L30E-29 G ;Q . OOOOOOE-OO J 0 . ΟΟΟΟΟΟΕ+ΟΟ -1*79.90446 -6.322544 -210.09796 •39.346550 •CAF2· ASP K 0.QQOQOO IC 是 CUF . 〇.〇〇〇〇〇〇 A 0.767Θ25Ε-10 B Q .128720E-13 C :-.336ia〇E-lg E -.113676S-24 F 0.1Θ6053Ε-23 G :0 . OOOOOOE-hOO J a. οοοαοοΕ-^οο 473.11548 -103.837418 3696.82552 -15.000000 •CAF2, AS? K 0.000000 IC CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 A U ·25411：2Ε-07 B -.369039E-12 C :-.152523E-16 E 0.393483Ε-25 F ~.220Δ59Ε-21 G :0 . (JOOQQOE-t-OD J a .OQOOOOE+OO -1457.fi2Q6l -116.883653 2Λ5.07294 •15 - 478383 *CA?2· 470.01593 -119.415520 ASP K 〇.〇〇〇〇〇〇 IC 是 COT 0.000000 A 0.24869nE-Qfl a -.133539E-L1 C :~ . 10020QE-16 r '.245630S-25 D.128935Ξ-29 G : :0 . OOOOQQEtOO J Q . QQOQOQE-i-QQ D ：-：7D4951E-2I H ：Q.aOQOOQE^QO D : a.379837E-21 H ;〇.〇〇〇〇〇〇Ξ+00 D : - .2116632-22 H :0.0000002+00 D :- .27Θ441Ε-21 H : 0 . OOOQOQE-*-00
0 12 3 3 3 rrjOP9S -211.14451 290.QB249 214.84940 -152.90981 -46.407461 -41.599722 -15.000000 -22.009325 ,CAf2 * •CAF2 * 0.000000
\\326\2d-\9O-05\89128337.ptd 第42頁 528880 五、發明說明（39)表1 0 :波長=1 5 7. 6 3毫微米物鏡 半徑 厚度RMD 玻璃種類 1〇 34 ΛΟ 35 Η〇36 i〇31 Ετη ^0 4 0 ΛΟ 4ΐ Ί〇Α2
1C 是 A Ε ：··.466β31Ε-25 J :U.Οϋ00ϋ0Ε+0ϋ -456.24753 ：2 3：L.7fi3afc· 3335,79137 798.41^00 _艮 -158.37404 -Ϊ2ΰ7.03268 -174.2^171 -127.11599 A5T Κ 0.000000 IC 是 A -.17136115-07 E 0.949579E-24 J ϋ . ΟϋύϋϋΟΕ-fOO CUP: 0.ΟΩΟΩΟΩ 3 :0.2271472-11 F1 :0.1fi4559E-29 -36.555361 -1 .ΟϋΟΟϋϋ -13.243069 -1.ΟϋΟΟϋϋ -46.69ί54Β7 -ύ.999916 >11.999877 -1?5.76*7825
CUF 〇.〇〇〇〇〇〇 B -.218987E- 11 F -· 111046E-2V C G
C G Λΰ A S 彳Ο
A.SP Κ 1C A Κ J
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5Q 51 IMG :娜艮 -,743735Ε-07 0.5.^339SE-20 〇.〇〇〇〇〇〇»00 CUF 0.0000013 B -.14S540E-1G F -.i49flS3E-23 -6.000000 c G -11 .i)39873 :0.934774E-15 :〇.〇〇〇〇〇〇E+00 CKF2* D Η :-.100734Ε-16 ?0-000〇00!：+00 r
89128337.ptd 第43頁 528880 圖式簡單說明 圖1為第一實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖2為第二實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖3為第三實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖4為第四實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖5為第五實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖6為第六實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖7為第七實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖8為第八實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖9為第九實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖1 0為第十實施例之透鏡配置之剖面圖； 圖1 1為折疊鏡之一種替代性配置之視圖。
89128337.ptd 第44頁

Claims (1)

  1. 528880 六、申請專利範圍 1 · 一種投影曝光透鏡，具有 一物鏡平面； 光學元件’供使束分開； 一凹面鏡； 一影像平面； 一第一透鏡系統 元件之間； 设置在物鏡平面與供使束分開之光學 設置在供使束分開之光學元件與 一第二雙程透鏡系統 凹面鏡之間； 一第三透鏡系統設置在供使束分開之光學元件與 面之間； 其特徵為 第一，第二或第三透鏡系統之透鏡或鏡表面之至少一個 為非球面，及投影曝光透鏡之數值孔徑ΝΑ為〇· 7或更大， 而最大影像高度超過丨〇毫米。 2 ·如申請專利範圍第1項之投影曝光透鏡，其中，數值 孔徑為0· 8或更大。 3 ·如申請專利範圍第1項之投影曝光透鏡，其中，數值 孔控為介於〇 · 7和〇 . 8 5之間。 4 ·如申請專利範圍第1項之投影曝光透鏡，其中，第二 透鏡系統包含最多五個透鏡。 5 · —種投影曝光透鏡，具有 一物鏡平面； 光學元件，供使束分開；
    89128337(替換）-l.ptd 第45頁 1ίΛιζ月答日修正 528880 六 申請專利範圍 一凹面鏡； 一影像平面； 一第一透鏡系統，設置在物鏡平面與供使束分開風 元件之間； 尤予 一第二雙程透鏡系統，設置在供使束分開之光學 四面鏡之間； 予凡件與 一第三透鏡系統設置在供使束分開之本與 土 面之間； 開之先學兀件與影像平 其特徵為 第二透鏡系統包含最多五個透鏡。 第 第 6·如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中 透鏡系統包含二個透鏡。 7.如申明專利範圍弟5項之投影曝光透鏡，其中 透鏡系統包含三個透鏡。 個 個 8 ·如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，其中 透鏡為負、透鏡。 9.如申請專利範圍第7項之投影曝光透鏡，其中 透鏡中之至少二個透鏡為負透鏡。 / 1 0 ·如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，苴中， 透鏡系統之二個透鏡，其頂點間之距離為小於〇·' - 鏡之直徑。 丨p凹面 11.如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，盆中， 透鏡系統之二個透鏡，其頂點間之距離為小於〇 5倍面 鏡之直徑。
    89128337(替換）-l.ptd 528880 年ί乙月厶日修正/委立/構充
    89128337(替換）-1.ptd 第47頁 528880 六、申請專利範圍 2 1 .如申請專利範圍第7項之投影曝光透鏡，其中，二個 透鏡之直徑各為介於1. 1倍孔徑光闌之直徑和1. 2倍孔徑光 闌之直徑之間。 2 2 .如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之二個透鏡之第一透 鏡間之距離，為大於1. 5倍該透鏡之直徑。 2 3 .如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之二個透鏡之第一透 鏡間之距離，為大於1. 8倍該透鏡之直徑。 2 4 .如申請專利範圍第6項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之二個透鏡之第一透 鏡間之距離，為介於1. 5倍該透鏡之直徑和1. 8倍該透鏡之 直徑之間。 2 5 ·如申請專利範圍第7項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之三個透鏡之第一透 鏡間之距離，為大於1. 5倍該透鏡之直徑。 2 6 .如申請專利範圍第7項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之二個透鏡之第一透 鏡間之距離，為大於1. 8倍該透鏡之直徑。 2 7.如申請專利範圍第7項之投影曝光透鏡，其中，在供 使束分開之光學元件與第二透鏡系統之二個透鏡之第一透 鏡間之距離，為介於1 . 5倍該透鏡之直徑和1. 8倍該透鏡之 直徑之間。 2 8 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，供使
    89128337(替換）-1.ptd 第48頁 528880 六、申請專利範圍 束分開之光學元件包含一分束器或一折疊表面。 2 9 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，均方 根波前像差為少於2 0毫波。 3 0 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，均方 根波前像差為少於1 0毫波。 3 1 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，均方 根波前像差為介於2 0毫波和1 0毫波之間。 3 2 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，第一 透鏡系統係由一個透鏡所構成。 3 3 .如申請專利範圍第3 2項之投影曝光透鏡，其中，第 一透鏡系統之一個透鏡為一正透鏡。 3 4 .如申請專利範圍第3 3項之投影曝光透鏡，其中，第 一透鏡系統之一個透鏡有至少一非球面表面。 3 5 .如申請專利範圍第2 8項之投影曝光透鏡，其中，供 折疊一束之表面包含二個折疊鏡。 3 6 .如申請專利範圍第3 5項之投影曝光透鏡，其中，折 疊鏡為一稜鏡之内表面。 3 7 .如申請專利範圍第3 6項之投影曝光透鏡，其中，稜 鏡材料之折射率大於1. 4。 3 8 .如申請專利範圍第3 7項之投影曝光透鏡，其中，稜 鏡材料在溫度部位-2 0 °C至+ 3 0 0 °C之膨脹係數小於1 0_6 K—1。 3 9 .如申請專利範圍第3 5項之投影曝光透鏡，其中，折 疊鏡之表面予以塗布反射增強薄膜。 4 0 .如申請專利範圍第3 5項之投影曝光透鏡，其中，折
    89128337(替換）-l.ptd 第49頁
    52888〇 '、申請專利範圍 叠鏡包含至少一非球面表面。 & μ胃專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，第二 透鏡系統及凹面鏡予以沿一展開之光軸設置。 /2.如申請專利範圍第41項之投影曝光透鏡，其中，折 »鏡予以设置在第—透鏡系統及第二透鏡系統之光軸交叉 之部位。 /3.如申，專利範圍第35項之投影曝光透鏡，其中，折 『角偏離9〇 ，致使在第二雙程透鏡系統之透鏡及凹面鏡 車父之第一透鏡系統之第一透鏡更遠離物鏡平面。 44. 如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，投影 曝光透鏡包含一中間影像。 45. 如申請專利範圍第44項之投影曝光透鏡，其中，中 間影像位於第三透鏡系統。 46·如申請專利範圍第44項之投影曝光透鏡，其中，中 =影像位於供使束分開之光學元件與第三透鏡系統之第一 透鏡之間。 47.如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，第三 透鏡系統包含孔徑光闌。 一 48.如申請專利範圍第47項之投影曝光透鏡，其中，第 二透鏡系統包含一長偏移空間’而無透鏡位於中間影像與鲁 孔控：光闌之間。 49.如申請專利範圍第47項之投影曝光透鏡，其中，在 中間影像與孔徑光闌間無透鏡之偏移區段為大於在供使束 分開之光學元件與影像平面間之距離之2 5%。
    89128337(替換）-】.ptd 第50頁 528880 彳/年月么曰修正/更重 六、申讀專利範圍 5 0 .如申請專利範圍第44項之投影曝光透鏡，其中，最 多4個透鏡在第三透鏡系統位於在中間影像與影像平面之 間，以中間影像開始之距離之5 0 %以内。 5 1 .如申請專利範圍第4 8項之投影曝光透鏡，其中，第 三透鏡系統之透鏡予以密實填塞在孔徑光闌與影像平面之 間。 5 2 .如申請專利範圍第44項之投影曝光透鏡，其中，中 間影像之平面為可自由通達。 5 3 .如申請專利範圍第5 2項之投影曝光透鏡，其中，一 視場光闌位於中間影像之平面。 5 4 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，子系 統係由第二透鏡系統及包含一非球面表面之凹面鏡所構 成。 5 5 .如申請專利範圍第5 4項之投影曝光透鏡，其中，鄰 近凹面鏡之第二透鏡系統之透鏡包含一非球面表面。 5 6 .如申請專利範圍第54項之投影曝光透鏡，其中，凹 面鏡包含一非球面表面。 5 7 .如申請專利範圍第5 5項之投影曝光透鏡，其中，鄰 近凹面鏡之透鏡包含一非球面表面，其位於相反於凹面鏡 之表面。 5 8 .如申請專利範圍第5 7項之投影曝光透鏡，其中，凹 面鏡包含一非球面表面。 5 9 .如申請專利範圍第54項之投影曝光透鏡，其中，一 孔徑光闌位於第三透鏡系統，並且滿足供一個或多個非球
    89128337(替換）-1.ptd 第51頁 528880 充 六 申凊專利範圍 面表面之條件h/ 面之光轴之交％恭φ · 、’ /、中，h為在假設將行自物鏡平 面之光束之每’1丄铲奈f通過具有最大數值孔徑之透鏡表 孔徑之光圈之半i面之高度，及0為在第三透鏡群之 6 0 . 士〇 φ 上 士 ^ τ #專利範圍第 透鏡系統之透鏡 f之杈衫曝先透鏡，其中，第三 61.如申t主直'ϋ :表面為非球面。 二透鏡f 靶圍弟6〇項之投影曝光透鏡，其中，m 一边鏡糸統之透鏡之至 "甲，弟 及至少-在孔徑平面後。#球面表面位於在孔徑平面前 近H W面月專利範圍第6〇項之投影曝光透鏡，其中，邙 ;;如申Λ透鏡之表面之 6 3 ·如申#專利範圍第5項 曝光透鏡之所右、香於在 、 光透、兄’其中’投影 + 筑 < 所有透鏡係以相同材料作成。 〜 6 4 ·如申請專利範圍第5項 係以一第一材料及以一第二=^ =甘Γ，其中，透鏡 鏡係以該第二材料作成。 ”、乍成，/、中不多於四個透 6 5 ·如申請專利範圍第5項 係以一第一材料及以一第二材料=:見其中，透鏡 鏡係以相同材料作成。一材枓作成，其中不多於三個透 66·如申請專利範圍第63至65項 鏡，其中，第一材料及/或第— ^貝=才又衫曝光透 及/或冰及/或BaF2或其他氟化物晶體。央玻离及/或LlF 67.如申請專利範圍第66項之投影；光 行進通過投影曝光透鏡之光之、& ，、中，依 之波長而定使用下列材料··
    89128337(替換）.1.Ptd 第52頁 f (年 iy 6
    k申請專利範圍 528880 180< λ <2 5 0 亳微米： 12〇< ；1<180 毫微 f 、或CaF2 r»丄士士由 卡.CaF2及/或BaF2 〇 β 8 ·如申請專利範圍第 透鏡系統係由一場透鏡弟君項：投影曝光透鏡:,其中，第三 鏡群所構成。 中間杈正透鏡群及一聚焦透 6 9 ·如申請專利範圍篦 場透鏡群為正折射率Λ，之投影曝光透鏡’其中，該 率，該聚焦透鏡：正；：；校正透鏡群為正或負折射 70·如中請專利範圍第5項之投影曝光透鏡， 一自物鏡側依此順序由_ $ ^ & 、甲 至少 二、^ 十 斤田 負功率透鏡及一正功率透锫於w 7正由奎雙合透鏡設置在該第三透鏡系統。 71如申清專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其 ”, 曝光透鏡包含-中間影像，i且在 》； 面間之成像比為大於0.90，但不等於丨.〇。〒間〜像平 72. 如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中 曝光透鏡更包含一中間影卩 u \TL ^ n ^ 又〜 .„ ^ „ , Τ間〜像，及投影曝光透鏡之第三透鏡 糸~充更匕3至^、—對彎月面，中間影像側彎月 面面向中間影像，另一之凸面表面面向相反。 凸面表 73. 如申請專利範圍第72項之投影曝光透鏡，其中，第 三透鏡系統係由場透鏡群，中間校正透鏡群和聚焦透鏡群 所組成’且 S亥至少.#4- r ^ ^ ^ ^ 对弓月面予以设置在該中間校正透鏡 群。 74·如申請專利範圍第68項之投影曝光透鏡，其中，一 由一負功率透鏡及一正功率透鏡所構成之負正功率雙合透
    第53頁 I圆 89]28337(替換）-].Ptd 528880 六、申讀·專利範圍 鏡予以設置在該聚焦透鏡群。 7 5 .如申請專利範圍第7 0項之投影曝光透鏡，其中，該 由一負功率透鏡及一正功率透鏡所構成之負正功率雙合透 鏡之一在第三透鏡群予以設置鄰近孔徑平面。 7 6 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，投影 曝光透鏡係設計成使縱向色度像差在1 9 3毫微米，每1微微 米帶寬為少於0 . 0 1 5微米。 7 7 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，投影 曝光透鏡係設計成使縱向色度像差在1 5 7毫微米，每1微微 米帶寬為少於0 . 0 5微米。 7 8 .如申請專利範圍第5項之投影曝光透鏡，其中，其均 為側面遠心。 7 9 . —種投影曝光裝置，包含 -一 UV-雷射光源； -一照明系統； ——光罩處理及定位系統； _ 一如申請專利範圍第1至7 8項中至少一項之投影曝光透 鏡， -一晶圓處理及定位系統。 8 0 . —種產生微型結構裝置之方法，其藉平版印刷，利 用一如申請專利範圍第7 9項之投影曝光裝置。 8 1 .如申請專利範圍第8 0項之方法，其中，使用分步重 複，掃描或綴合曝光方案。
    89]28337(替換）-l.ptd 第54頁
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7703928B2 (en) 2005-09-29 2010-04-27 Young Optics Inc. Optical projection apparatus
CN110249265A (zh) * 2016-12-07 2019-09-17 卡尔蔡司Smt有限责任公司 反射折射投射镜头和制造其的方法

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6157498A (en) 1996-06-19 2000-12-05 Nikon Corporation Dual-imaging optical system
US7130129B2 (en) 1996-12-21 2006-10-31 Carl Zeiss Smt Ag Reticle-masking objective with aspherical lenses
US6680803B2 (en) * 1996-12-21 2004-01-20 Carl-Zeiss Smt Ag Partial objective in an illuminating systems
EP1293831A1 (en) * 1998-06-08 2003-03-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6995930B2 (en) 1999-12-29 2006-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with geometric beam splitting
JP2002350774A (ja) * 2001-05-29 2002-12-04 Minolta Co Ltd 投影光学系とその光学調整方法
US6683710B2 (en) 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
US20040218271A1 (en) * 2001-07-18 2004-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Retardation element made from cubic crystal and an optical system therewith
TW559885B (en) * 2001-10-19 2003-11-01 Nikon Corp Projection optical system and exposure device having the projection optical system
US6995908B2 (en) 2001-10-30 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing aberration in optical systems
US6844972B2 (en) 2001-10-30 2005-01-18 Mcguire, Jr. James P. Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements
US6970232B2 (en) 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
US7453641B2 (en) 2001-10-30 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in optical systems
JP4292497B2 (ja) * 2002-04-17 2009-07-08 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置および露光方法
US6898025B2 (en) * 2002-06-04 2005-05-24 Pentax Corporation Projection aligner and optical system therefor
US7289277B2 (en) 2002-07-09 2007-10-30 Asml Holding N.V. Relay lens used in an illumination system of a lithography system
AU2003258519A1 (en) * 2002-07-18 2004-02-09 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
US7072102B2 (en) 2002-08-22 2006-07-04 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing polarization aberration in optical systems
US7362508B2 (en) 2002-08-23 2008-04-22 Nikon Corporation Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
US7869121B2 (en) * 2003-02-21 2011-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective using aspheric surfaces
KR101647934B1 (ko) 2003-05-06 2016-08-11 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법
US7348575B2 (en) 2003-05-06 2008-03-25 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
EP1639391A4 (en) * 2003-07-01 2009-04-29 Nikon Corp USE OF FLUIDS SPECIFIED ISOTOPICALLY AS OPTICAL ELEMENTS
US7551361B2 (en) * 2003-09-09 2009-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Lithography lens system and projection exposure system provided with at least one lithography lens system of this type
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US6906866B2 (en) * 2003-10-15 2005-06-14 Carl Zeiss Smt Ag Compact 1½-waist system for sub 100 nm ArF lithography
US7023524B2 (en) * 2003-12-18 2006-04-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101213831B1 (ko) 2004-05-17 2012-12-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US7511798B2 (en) * 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
US7706074B2 (en) * 2004-09-13 2010-04-27 Nikon Corporation Projection optical system, method of manufacturing projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US7184124B2 (en) * 2004-10-28 2007-02-27 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method
US20090314929A1 (en) * 2006-01-19 2009-12-24 The Regents Of The University Of California Biomimetic Microfabricated Compound Eyes
JPWO2007114024A1 (ja) * 2006-04-03 2009-08-13 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102006022958A1 (de) * 2006-05-11 2007-11-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
US7929114B2 (en) 2007-01-17 2011-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for microlithography
DE102008023765A1 (de) 2007-05-15 2008-11-20 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Korrigieren von einwelligen Abbildungsfehlern eines Projektionsobjektivs einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsobjektiv einer solchen Belichtungsanlage sowie Herstellungsverfahren für mikrostrukturierte Bauelemente
DE102008041144A1 (de) 2007-08-21 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optische Anordnung und optisches Abbildungssystem damit, Verfahren zu deren Optimierung und Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements
US7760425B2 (en) * 2007-09-05 2010-07-20 Carl Zeiss Smt Ag Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same
DE102007054731A1 (de) * 2007-11-14 2009-05-20 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element zur Reflexion von UV-Strahlung, Herstellungsverfahren dafür und Projektionsbelichtungsanlage damit
DE102007055567A1 (de) * 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
US20090316256A1 (en) * 2008-06-20 2009-12-24 Carl Zeiss Smt Ag Chromatically corrected objective and projection exposure apparatus including the same
US8345350B2 (en) 2008-06-20 2013-01-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Chromatically corrected objective with specifically structured and arranged dioptric optical elements and projection exposure apparatus including the same
JP5478773B2 (ja) 2010-03-26 2014-04-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学系、露光装置、及び波面補正方法
JP6282742B2 (ja) 2013-09-09 2018-02-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置及びそのような装置における光学波面変形を補正する方法
DE102014204171A1 (de) 2014-03-06 2015-09-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element und optische Anordnung damit
DE102015218328B4 (de) 2015-09-24 2019-01-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System zur Feldabbildung und/oder Pupillenabbildung
DE102017207582A1 (de) * 2017-05-05 2018-11-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
CN112269256B (zh) * 2020-10-21 2022-07-05 麦克奥迪实业集团有限公司 一种显微镜物镜

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
JP2847883B2 (ja) * 1990-03-30 1999-01-20 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系
USRE36740E (en) * 1990-03-30 2000-06-20 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
US5220454A (en) * 1990-03-30 1993-06-15 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
JP3085481B2 (ja) * 1991-09-28 2000-09-11 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系、及び該光学系を備えた露光装置
JP3635684B2 (ja) * 1994-08-23 2005-04-06 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系、反射屈折光学系、並びに投影露光方法及び装置
JPH08203812A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
JPH10284365A (ja) * 1997-04-01 1998-10-23 Nikon Corp 反射屈折光学系
US5969882A (en) * 1997-04-01 1999-10-19 Nikon Corporation Catadioptric optical system
EP1079253A4 (en) * 1998-04-07 2004-09-01 Nikon Corp DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION
JPH11326767A (ja) * 1998-05-07 1999-11-26 Nikon Corp 反射屈折縮小光学系
EP1293831A1 (en) * 1998-06-08 2003-03-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
DE69933973T2 (de) * 1998-07-29 2007-06-28 Carl Zeiss Smt Ag Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7703928B2 (en) 2005-09-29 2010-04-27 Young Optics Inc. Optical projection apparatus
CN110249265A (zh) * 2016-12-07 2019-09-17 卡尔蔡司Smt有限责任公司 反射折射投射镜头和制造其的方法
CN110249265B (zh) * 2016-12-07 2021-11-16 卡尔蔡司Smt有限责任公司 反射折射投射镜头和制造其的方法
US11360293B2 (en) 2016-12-07 2022-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection lens and method for producing same

Also Published As

Publication number Publication date
US6665126B2 (en) 2003-12-16
KR20010062830A (ko) 2001-07-07
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KR100876153B1 (ko) 2008-12-29

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