CN102707414B - 光刻投影物镜 - Google Patents

光刻投影物镜 Download PDF

Info

Publication number
CN102707414B
CN102707414B CN201210195607.0A CN201210195607A CN102707414B CN 102707414 B CN102707414 B CN 102707414B CN 201210195607 A CN201210195607 A CN 201210195607A CN 102707414 B CN102707414 B CN 102707414B
Authority
CN
China
Prior art keywords
lens
combination
lens group
group
projection objective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201210195607.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102707414A (zh
Inventor
武珩
黄玲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN201210195607.0A priority Critical patent/CN102707414B/zh
Publication of CN102707414A publication Critical patent/CN102707414A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102707414B publication Critical patent/CN102707414B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Lenses (AREA)

Abstract

一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始包括沿光轴依次设置的:第一透镜组、第二透镜组、孔径光阑AS、相对于孔径光阑与第二透镜组对称的第三透镜组、相对于孔径光阑与第一透镜组对称的第四透镜组。

Description

光刻投影物镜
技术领域
本发明涉及一种投影物镜光学系统,尤其涉及一种可以应用在步进曝光设备中的光刻投影物镜。
背景技术
光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置,具有不同掩模图案的图形被成像至基底上,如硅片或LCD板,用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板,或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展,满足了更小线条尺寸,更大曝光面积,更高可靠性及产率,更低成本的需求。为了实现这种大曝光面积下高分辨率的图案,曝光装置必须提高物镜高数值孔径,缩短光源波长,及采用更复杂的光刻工艺技术。
提高分辨率方法之一就是使用更短的曝光波长。 从掩模面成像到硅片面的图案包含数层,所以必须校正光学畸变。其次,必须校正场曲,减少焦深范围内的套刻误差。最后,为了增加焦深,减小套刻误差及放大倍率误差,投影物镜必须实现物方、像方双远心。
步进式光刻设备广泛应用于光刻领域。步进式投影光学的主要特征是:
(1)  大的成像范围
(2)  宽光谱光源,如汞灯
(3)  倾向采用1x放大倍率
为了获得高产率,必须使用宽光谱的汞灯或激光光源。光学光刻领域的大视场步进光刻装置通常使用从g线到h线宽光谱光源。掩模面的光刻胶对波长敏感,为了获得曝光光谱区域内的锐利线条,投影物镜必须校正轴向色差和倍率色差。就g-h线光源光谱区域而言,可以使用很多传统光学玻璃材料。
美国专利US 5,159,496 (Oct,27, 1992) ,介绍了一种将掩模图案投影到光刻胶的物镜。物镜可以校正两种或三种波长的色差。物镜包含光阑,位于物方和光阑之间的前部光学系统,位于像面和光阑之间的后部光学系统。前部及后部光学系统各自包含三个透镜组。部分透镜由反常色散玻璃构成,以校正倍率色差。物镜F数较大,相当于较小的数值孔径0.04。该物镜不是远心结构,且有很大的场曲和像散。使用的光谱区域为g-h线波段。
美国专利US5,930,049 (Jul,17, 1999)介绍了另一种g-h线波段,高数值孔径光刻投影物镜。该物镜是一种多透镜结构(29-31个透镜),由五个透镜组实现1/5x放大倍率。物镜应用在扫描类型光刻机中,而不是步进型光刻机。提供的实施例不能实现4纳米带宽内所需的像质,校正色差的玻璃为虚拟玻璃。无玻璃制造商提供。
美国专利US7,158,215 (Jan,2, 2007) 介绍了另一种光刻投影物镜。该投影物镜是Offner类型折反射式1x放大倍率系统。系统包含主镜凹透镜,次镜凹面反射镜,及校正色差的弯月折射透镜。环形狭缝形的视场,一个视场方向很窄,相对宽视场方向的像差尤其是高级像散不能够校正。光阑位于较小的次镜上,如果要改变数值孔径,就不可避免产生渐晕。远心误差由物镜相对光轴的偏移量决定,不能够校正。从视场的形状判断可能是应用于扫描光刻投影装置,而不是步进光刻装置。
美国专利US7,148,953 (Dec,12, 2006)。介绍了另一种光刻投影物镜。该投影物镜采用Wynne-Dyson类型对称式结构。1x放大倍率系统包含一个透镜组,一个凹面反射镜和两个物像方的折转棱镜。视场是离轴的,而且一个方向很窄,这不适合应用在步进光刻中。其次,不能避免上面专利US7,158,215中的所有缺点。而且这个物镜只有很小的工作距离,物面和像面不互相平行,导致掩模和硅片的工作台需要更大的空间。Dyson类型系统需要分光棱镜,分光棱镜会产生镀膜和胶和问题,还会减少掩模和硅片面的工作距离。
综上所述,需要设计一种光刻投影物镜,使之既能满足大视场、平场的需求,也能够校正畸变、场曲、像散,和宽光谱区域内的轴向及倍率色差。还要保证物镜是双远心,掩模和硅片面工作距离较大,以留出安装空间。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始包括沿着光轴依次设置的:
具有正光焦度的第一透镜组;
具有正光焦度的第二透镜组;
孔径光阑AS;
具有正光焦度的第三透镜组,相对于孔径光阑与第二透镜组对称;
具有正光焦度的第四透镜组,相对于孔径光阑与第一透镜组对称;
第一透镜组将来自掩模的光线会聚至第二透镜组,第一透镜组包含四个光焦度依次为负、负、正、正的透镜,第一透镜、第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1-1n;
第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线,准直后出射至第三透镜组,第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜,第一透镜和第二透镜组成具有正光焦度的第一子透镜组G2-1p,第三透镜和第四透镜组成具有负光焦度的第二子透镜组G2-2n;
其中,光刻投影物镜的放大倍率为近似1x。
其中,光刻投影物镜的带宽为400纳米到440纳米。
其中,第一透镜组的第一透镜为双凹透镜,第二透镜为第一面为非球面且凹面面向掩模的弯月式透镜,第三透镜为凹面面向掩模的弯月透镜,第四透镜为双凸透镜;第二透镜组的第一透镜是凹面面向硅片的弯月透镜,第二透镜是双凸透镜,第三透镜为凹面面向硅片的弯月透镜,第四透镜是凹面面向硅片的正光焦度的弯月透镜。
其中,第一透镜组的第一透镜由低色散材料构成,第三透镜由高色散材料构成,第四透镜由高色散材料构成;第二透镜组的第一透镜由高色散材料构成,第二透镜由低色散材料构成,第三透镜由高色散材料构成,第四透镜由低色散材料构成。
其中,所述的光刻投影物镜满足以下关系式:
0.10<f1/ f2<0.30                (3-1)
-0.85< fG1-1n / f1< -1.15          (3-2)
0.10< fG2-1p / f2< 0.25            (3-3)
 1.9< Vel71 / Vel73< 2.55           (3-4)
2.10< Vel71 / Ve74< 2.60            (3-5)
0.30< Vel75 / Ve76< 0.50           (3-6)
0.35< Vel77 / Ve78< 0.45           (3-7)
其中,f1是第一透镜组的焦距,f2是第二透镜组的焦距,fG1-1n是第一透镜组的子透镜组 G1-1n的焦距,fG2-1p是第二透镜组第一子透镜组 G2-1p的焦距,Vel71 和Vel73 是第一透镜组的第一透镜和第三透镜的阿贝数,Vel74是第一透镜组的第四透镜的阿贝数,Vel75和Vel76是第二透镜组的第一透镜和第二透镜的阿贝数,Vel77和Vel78是第二透镜组的第三透镜和第四透镜的阿贝数。
根据本发明的光刻投影物镜,能校正多种像差,特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差,并实现物像空间的双远心。
附图说明
通过本发明实施例并结合其附图的描述,可以进一步理解其发明的目的、具体结构特征和优点。其中,附图为:
图1所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的示意图;
图2所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的波像差曲线;
图3所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的场曲、像散、畸变像差;
图4所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的倍率色差;
图5所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线;
图6所示为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜的远心误差;
图7所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的示意图;
图8所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的波像差曲线;
图9所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的场曲、像散、畸变像差;
图10所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的倍率色差;
图11所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线;
图12所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜的远心误差;
图13所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的示意图;
图14所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的波像差曲线;
图15所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的场曲、像散、畸变像差;
图16所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的倍率色差;
图17所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线;
图18所示为根据本发明第三实施例的光刻投影物镜的远心误差。
具体实施方式
下面,结合附图详细描述根据本发明的优选实施例。
本发明提供一种大数值孔径、大曝光视场的投影物镜,且能够校正宽光谱g-h线波像差。该投影物镜能够良好校正畸变、场曲、像散,轴向及倍率色差,并实现物像方空间双远心的物面和像面分离,整个系统为近似1x放大倍率。
第一实施例:
图1为根据本发明第一实施例的光刻投影物镜30的光学系统示意图。
物镜30包含四个正透镜组G1, G2, G3 和 G4。孔径光阑AS 100位于第二透镜组G2与第三透镜组G3之间。掩模R投影到硅片W的线性放大倍率为近似1x。第一透镜组G1与第四透镜组G4关于光阑对称。第二透镜组G2与第三透镜组G3也关于光阑对称。
第一透镜组G1将来自掩模的光线会聚至第二透镜组。第一透镜组G1包含六个透镜1、2、3、4、5、6,光焦度依次为负、负、正、正、正、负。第一透镜组包含两个子透镜组G1-1n和G1-2n,第一子透镜组G1-1n为负光焦度,包含第一透镜组的第一透镜1、第二透镜2;第二子透镜组G1-2n为负光焦度,包含第一透镜组的第五透镜5、第六透镜6。第一透镜组的第一透镜1为负光焦度,是双凹透镜,第一透镜组G1的第二透镜2为负光焦度弯月式透镜,且凹面103面向掩模R。第一透镜组G1的第三透镜3为正光焦度双凸透镜。第三透镜3第一面105为非球面,用来校正像散和远心误差。第一透镜组G1的第四透镜4为正光焦度双凸透镜。第一透镜组G1的第五透镜5为正光焦度弯月透镜,凹面110面向硅片W。第一透镜组G1的第六透镜6为负光焦度的双凹透镜,由高色散材料构成。以上第一透镜组的透镜结构组合校正了像散,场曲,远心,且压缩了光学系统总长。
第二透镜组G2收集从第一透镜组G1出射的近似平行光,也近似平行地出射至第三透镜组G3。第二透镜组G2包含三个透镜7、8、9,光焦度依次为正、负、正。第二透镜组G2包含一负光焦度的子透镜组G2-1n,子透镜组G2-1n包含第二透镜组G2的第一透镜7和第二透镜8。第二透镜组G2的第一透镜7是正光焦度的双凸透镜。第二透镜组G2的第二透镜8为负光焦度的双凹透镜,由高色散玻璃构成。第二透镜组G2第二透镜8面向硅片W的面130为非球面,用于补偿高级球差。第二透镜组G2的第三透镜9是正光焦度的双凸透镜。以上第二透镜组的透镜结构组合校正了球差,轴向色差和二级光谱。
第三透镜组与第二透镜组相对于光阑AS对称。第三透镜组G3收集从第二透镜组G2出射的近似平行光,也是近似平行地出射至第四透镜组G4。第三透镜组G3包含三个透镜10、11、12,光焦度依次为正、负、正。第三透镜组G3包含一负光焦度的子透镜组G3-1n,子透镜组G3-1n包含第三透镜组G3的第二透镜11,第三透镜12。第三透镜组G3的第一透镜10为双凸正透镜。第三透镜组G3的第二透镜11为双凹的负透镜,由高色散材料构成。第三透镜组G3第二透镜11的面向掩模R的面140为非球面,用于补偿高级球差。第三透镜组G3的第三透镜12是正光焦度的双凸透镜。
第四透镜组与第一透镜组相对光阑对称。第四透镜组会聚第三透镜组的出射光线,并聚焦于硅片W。第四透镜组包含六个透镜13、14、15、16、17、18,光焦度依次为负、正、正、正、负、负。第四透镜组G4包含两个子透镜组G4-1n及G4-2n,第一子透镜组G4-1n为负光焦度,包含第四透镜组的第一透镜13和第二透镜14;第二子透镜组G4-2n为负光焦度,包含第四透镜组的第五透镜17和第六透镜18。第四透镜组的第一透镜13为负光焦度的双凹透镜,由高色散材料构成。第四透镜组的第二透镜14为正光焦度弯月透镜,凹面114面向掩模R。 第四透镜组的第三透镜15为正光焦度双凸透镜。第四透镜组第四透镜16,是双凸透镜,透镜16的面向硅片W的面117为非球面,用于校正像散和远心误差。第四透镜组第五透镜17为负光焦度弯月透镜,透镜17凹面120面向硅片W。第四透镜组的第六透镜18为负光焦度双凹透镜。
第一透镜组G1和第四透镜组G4分别靠近物面和像面,用于校正物镜的远心误差,像散和场曲。第二透镜组G2和第三透镜组G3均靠近光阑AS,用于校正物镜的球差和轴向色差。
投影物镜关于光阑对称,所以不存在慧差,畸变及倍率色差。正光焦度透镜使用低色散材料,负光焦度透镜使用高色散材料,这种组合校正了色差。单个透镜对总色差的贡献量与轴向点近轴光线投射高度的平方、透镜光焦度、材料阿贝数的倒数,三者成正比。第二及第三透镜组的设计校正了轴向色差。第一及第四透镜组校正了像散。第一透镜组透镜3及第四透镜组透镜16的非球面有助于校正子午像散和整个系统的远心。球差由第二及第三透镜组校正。
场曲和弧矢像散的校正通过第一透镜组G1的第一子透镜组G1-1n中的负透镜1及厚弯月式弱负光焦度透镜2组合实现,其中弯月透镜2的凹面103面向掩模R。相同的校正通过第四透镜组G4的第二子透镜组G4-2n中的负透镜18及厚弯月式弱负光焦度透镜17组合实现,其中弯月透镜17的凹面120面向硅片W。
透镜组G1的第三、第四透镜3、4和透镜组G4的第三、第四透镜15、16用于校正子午像散和远心误差。由于这个目的,这些透镜都被设计为正光焦度,透镜3的第一个面105和透镜16的第二个面117为高次非球面。透镜3的非球面105面向掩模R,透镜16的非球面117面向硅片W。
望远式子透镜组G1-2n包含正光焦度低色散透镜5和负光焦度高色散透镜6,G1-2n子透镜组用来压缩透镜总长,同时补偿由子透镜组G1-1n及透镜3、4带来的色球差。类似的望远式子透镜组G4-1n包含负光焦度高色散透镜13和正光焦度低色散透镜14,G4-1n子透镜组用来压缩透镜总长,同时补偿由子透镜组G4-2n及透镜15、16带来的色球差。子透镜组G1-2n的透镜5和子透镜组G4-1n的透镜14由熔融石英构成。子透镜组G1-2n的透镜6和子透镜组G4-1n的透镜13由BSM51Y-OHARA构成。
由于光源具有400到440nm宽带宽,必须校正轴向色差和二级光谱。这是通过以下方法实现的:子透镜组G2–1n的透镜7由低色散反常色散材料构成,透镜8由高色散材料构成。同样的,子透镜组G3–1n的透镜11由高色散材料构成,透镜12由低色散反常色散材料构成。Caf2作为低色散反常色散材料,BSM51Y作为高色散材料。子透镜组G2-1n 与G3-1n的光焦度都是负值,透镜组G2的第三透镜9与透镜组G3的第一透镜10为正光焦度。透镜9、10补偿子透镜组G2-1n 与G3-1n带来的球差。
以下透镜组G1、G2、G3、G4、及其子透镜组透镜间的关系式进一步确立了物镜像质优化的基础。
0.45<f1/ f2<0.75                (1-1)
-0.84< fG1-1n / f1< -0.45          (1-2)
-20< fel2/ f1<-4.5               (1-3)
-1.85< fG1-2n / f1< -1.56          (1-4)
-0.75< fG2-1n / f2< -0.55          (1-5)
1.1< Vel5 / Vel6< 1.35             (1-6)
1.1< Vel7 / Vel8< 1.65             (1-7)
其中:
f1 :透镜组G1的焦距;
f2 :透镜组G2的焦距;
fG1-1n :透镜组G1的子透镜组 G1-1n的焦距;
fel2 :子透镜组 G1-1n中弯月式透镜2的焦距;
fG1-2n:透镜组G1的子透镜组 G1-2n的焦距;
fG2-1n :透镜组G2的子透镜组G2-1n 的焦距;
Vel5 和Vel6 :子透镜组G1-2n中透镜5和透镜6的阿贝数;
Vel7 和Vel8:子透镜组G2-1n中透镜7和透镜8的阿贝数;
由于是近似1x放大倍率系统,透镜组G3、G4及相应子透镜组、透镜也应满足类似的关系式。
关系式(1-1)–(1-7)定义了透镜组G1、G2、G3、G4、及其子透镜组、透镜校正像差的结构关系。
本实施例中光刻投影物镜中的各透镜的参数如表1所示:
表面类型 半径(mm) 厚度(mm) 材料 通光口径(mm) 备注
  Infinity 45.14445     Object
Sphere -126.932 8.116472 SILICA 42.09159  
Sphere 211.6409 16.78667   49.11572  
Sphere -98.6014 30.26171 SILICA 49.11738  
Sphere -76.7787 2.542089   62.68226  
Asphere -154.404 34.13505 SILICA 73.31192 A(1)
Sphere -125.644 0.5   75.44307  
Sphere 202.0771 31.50521 SILICA 80.17842  
Sphere -244.778 0.5   80.59215  
Sphere 99.11957 32.08076 SILICA 71.28397  
Sphere 1841.601 20.92147   65.18342  
Sphere -3161.45 8 BSM51Y 52.72192  
Sphere 69.60824 138.834   47.79705  
Sphere 665.4425 24.19691 CAF2 47.39707  
Sphere -84.4703 0.5   47.36307  
Sphere -83.4967 8.003024 BSM51Y 47.1338  
Asphere 234.0162 14.10928   48.66002 A(2)
Sphere 200.9549 28.86588 CAF2 52.89498  
Sphere -114.815 5.000002   53.58722  
Sphere Infinity 5.000002   51.629 stop
Sphere 114.8153 28.86588 CAF2 54.05004  
Sphere -200.955 14.10928   53.45288  
Asphere -234.016 8.003024 BSM51Y 49.43503 A(3)
Sphere 83.49668 0.5   48.10195  
Sphere 84.47029 24.19691 CAF2 48.37204  
Sphere -665.443 138.834   48.43772  
Sphere -69.6082 8 BSM51Y 48.57738  
Sphere 3161.448 20.92147   53.65113  
Sphere -1841.6 32.08076 SILICA 66.13762  
Sphere -99.1196 0.5   72.11115  
Sphere 244.7777 31.50521 SILICA 81.65227  
Sphere -202.077 0.5   81.28062  
Sphere 125.6437 34.13505 SILICA 76.17766  
Asphere 154.4039 2.542089   74.34292 A(4)
Sphere 76.77872 30.26171 SILICA 63.23572  
Sphere 98.60136 16.78667   49.47638  
Sphere -211.641 8.116472 SILICA 49.65886  
Sphere 126.9322 45.14445   42.39329  
  Infinity       Image
其中,非球面参数为:
表1
本实施例的光刻投影物镜的波像差如图2所示,其中全视场波前已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的视场像差如图3所示,其中场曲、像散已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的倍率色差如图4所示,其中全视场倍率色差已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线如图5所示,其中0.2数值孔径的球差和离轴球差已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的远心误差如图6所示,其中物镜为校正远心的双远心结构。
第二实施例:
图7所示为根据本发明第二实施例的光刻投影物镜40的光学系统示意图。
物镜40包含四个透镜组G1, G2, G3 和 G4。孔径光阑AS位于第二透镜组G2与第三透镜组G3之间。掩模R投影到硅片W的线性放大倍率为近似1x。第一透镜组G1与第四透镜组G4关于光阑对称。第二透镜组G2与第三透镜组G3也关于光阑对称。透镜组G1, G2, G3 和 G4的光焦度依次为正、负、负、正。
第一透镜组G1将来自掩模的光线会聚至第二透镜组。第一透镜组G1包含五个透镜50、51、52、53、54,光焦度依次为负、负、正、正、正。第一透镜组包含一个子透镜组G1-1n,子透镜组G1-1n为负光焦度,包含第一透镜组的第一透镜50、第二透镜51。第一透镜组的第一透镜50为负光焦度的双凹透镜,第一透镜组G1的第二透镜51为负光焦度的弯月式透镜,且凹面202面向掩模R。第一透镜组G1的第三透镜52为正光焦度双凸透镜。第三透镜52的第一面204为非球面,用于校正像散和远心误差。第一透镜组G1的第四透镜53为正光焦度弯月透镜,透镜53的凹面206面向掩模R。第一透镜组G1的第五透镜54为正光焦度弯月透镜,凹面208面向硅片W。以上第一透镜组的透镜结构组合校正了像散,场曲,远心,且压缩了光学系统总长。
第二透镜组G2收集从第一透镜组G1出射的光线,准直后出射至第三透镜组G3。第二透镜组G2包含四个透镜55、56、57、58,光焦度依次为负、正、负、正。第二透镜组G2包含一负光焦度的子透镜组G2-1n,子透镜组G2-1n包含第二透镜组G2的第二透镜56和第三透镜57。第二透镜组G2的第一透镜55是双凹透镜。第二透镜组G2的第二透镜56是双凸透镜,由低色散玻璃构成。第二透镜组G2第三透镜57为双凹透镜,由高色散材料构成。第三透镜57的第二个面210为非球面以补偿高级球差及减小物镜的F数。第二透镜组G2的第四透镜58是正光焦度的双凸透镜。以上第二透镜组的四个透镜结构组合校正了球差,轴向色差和二级光谱。
投影物镜为近似1x放大倍率系统,关于光阑AS对称。第四透镜组G4与第一透镜组G1结构近似对称。第三透镜组G3与第二透镜组G2结构近似对称。
第一透镜组G1和第四透镜组G4分别靠近物面和像面,校正物镜的远心误差、像散和场曲。第二透镜组G2和第三透镜组G3均靠近光阑AS,校正物镜的球差和轴向色差。
与第一实施例相类似,投影物镜关于光阑对称,所以不存在慧差,畸变及倍率色差。正光焦度透镜使用低色散材料,负光焦度透镜使用高色散材料,这种组合校正了色差。第二及第三透镜组的设计校正了轴向色差。第一及第四透镜组校正了像散。第一透镜组的透镜52及第四透镜组的透镜65的非球面有助于校正子午像散和整个系统的远心。球差由第二透镜组G2 及第三透镜组G3 校正。第二透镜组G2的透镜57 及第三透镜组G3的透镜60的非球面校正了高级球差。场曲的校正通过透镜组G1、G2、G3、G4的光焦度组合来实现。
场曲和弧矢像散的校正通过第一透镜组G1的第一子透镜组G1-1n中的负透镜50及厚弯月式(弱光焦度的负透镜)51组合实现。弯月透镜51的凹面202面向掩模R。
透镜组G1的第三透镜52、第四透镜53、第五透镜54均为正光焦度透镜,用来校正像散和远心误差。透镜52的面204为面向掩模R的非球面,校正高级像散。 
为了补偿由子透镜组G1-1n带来的场曲和色球差,透镜52、53、54由与子透镜组G1-1n相同的低色散材料SFPL51Y OHARA构成。
校正轴向色差和二级光谱是通过以下方法实现的:子透镜组G2–1n的透镜56由低色散反常色散材料构成,透镜57由高色散材料构成。Caf2作为低色散反常色散材料,BSM51Y作为高色散材料。子透镜组G2-1n的光焦度都是负值,透镜组G2的第一透镜55为负光焦度,透镜组G2第四透镜58为正光焦度。透镜58补偿子透镜组G2-1n带来的球差。
以下透镜组G1、G2,及其子透镜组和透镜间的关系式进一步确立了物镜像质优化的基础。
-1.25<f1/ f2<-0.08           (2-1)
-1.65< fG1-1n / f1< -1.25      (2-2)
-12< fel2/ f1<-3.5            (2-3)
0.15< fG2-1n / f2< 0.55        (2-4)
1.45< Vel56 / Vel57< 1.75       (2-5)
0.8< Vel50 / Vel51< 1.25        (2-6)
其中:
f1 :透镜组G1的焦距;
f2 :透镜组G2的焦距;
fG1-1n :透镜组G1的子透镜组 G1-1n的焦距;
fel2 :子透镜组 G1-1n弯月式透镜51的焦距;
fG2-1n :透镜组G2的子透镜组G2-1n 的焦距;
Vel56 和Vel57 :子透镜组G1-2n中的透镜56和透镜57的阿贝数;
Vel50 和Vel51:子透镜组G2-1n中的透镜50和透镜51的阿贝数。
关系式(2-1)–(2-6)定义了投影物镜透镜组G1、G2、G3、G4、及其子透镜组、透镜校正像差的结构关系。
本实施例中光刻投影物镜中的各透镜的参数如表2所示:
表面类型 半径(mm) 厚度(mm) 材料 通光口径(mm) 备注
  Infinity 46.2727     Object
Sphere -163.368 8 SFPL51Y_OHARA 40.395  
Sphere 309.9971 21.53847   44.121  
Sphere -67.2551 34.9658 SFPL51Y_OHARA 44.738  
Sphere -83.9536 12.87321   60.309  
Asphere -620.063 23.31362 SFPL51Y_OHARA 74.016 A(1)
Sphere -202.432 0.5   78.014  
Sphere 402.9276 31.88811 SFPL51Y_OHARA 84.714  
Sphere -209.634 0.537955   85.172  
Sphere 179.934 21.99608 SFPL51Y_OHARA 82.072  
Sphere 966.3272 132.4133   80.846  
Sphere -842.049 8.399738 BSM51Y_OHARA 43.475  
Sphere 83.90816 30.81834   40.397  
Sphere 147.4593 27.07599 CAF2_SPECIAL 42.63  
Sphere -69.2363 1.488135   42.41  
Sphere -65.9941 8.109269 BSM51Y_OHARA 41.811  
Sphere 305.0855 14.77455   43.728  
Sphere 352.8892 22.19611 CAF2_SPECIAL 46.976  
Sphere -87.4581 2.827303   47.52  
Sphere Infinity 2.827303   43.078 stop
Sphere 87.45815 22.19611 CAF2_SPECIAL 47.835  
Sphere -352.889 14.77455   47.329  
Sphere -305.085 8.109269 BSM51Y_OHARA 44.099  
Sphere 65.99408 1.488135   42.113  
Sphere 69.23631 27.07599 CAF2_SPECIAL 42.714  
Sphere -147.459 30.81834   42.915  
Sphere -83.9082 8.399738 BSM51Y_OHARA 40.598  
Sphere 842.0489 132.4133   43.685  
Sphere -966.327 21.99608 SFPL51Y_OHARA 80.96  
Sphere -179.934 0.537955   82.174  
Sphere 209.6341 31.88811 SFPL51Y_OHARA 85.243  
Sphere -402.928 0.5   84.786  
Sphere 202.4321 23.31362 SFPL51Y_OHARA 78.043  
Asphere 620.0626 12.87321   74.035 A(2)
Sphere 83.95359 34.9658 SFPL51Y_OHARA 60.285  
Sphere 67.25506 21.53847   44.696  
Sphere -309.997 8 SFPL51Y_OHARA 44.054  
Sphere 163.3681 46.2727   40.318  
  Infinity 0     Image
其中,非球面参数为:
表2
本实施例的光刻投影物镜的波像差曲线如图8所示,其中全视场波前已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的视场像差如图9所示,其中场曲、像散已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的倍率色差如图10所示,其中全视场倍率色差已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线如图11所示,其中0.2数值孔径的球差和离轴球差已被校正。
本实施例的光刻投影物镜的远心误差如图12所示,其中物镜为校正远心的双远心结构。
第三实施例
图13所示为根据本发明的第三实施例的光刻投影物镜70的光学系统示意图。
物镜70包含四个正光焦度透镜组G1, G2, G3 和 G4。孔径光阑AS位于第二透镜组G2与第三透镜组G3之间。掩模R投影到硅片W的线性放大倍率为近似1x。第一透镜组G1与第四透镜组G4关于光阑对称。第二透镜组G2与第三透镜组G3关于光阑对称。
第一透镜组G1将来自掩模R的光线会聚至第二透镜组G2。第一透镜组G1包含四个透镜71、72、73、74,光焦度依次为负、负、正、正。第一透镜组G1包含一个子透镜组G1-1n,子透镜组G1-1n为负光焦度,包含第一透镜组G1的第一透镜71、第二透镜72。第一透镜组的第一透镜71为负光焦度双凹透镜,由低色散材料构成。第一透镜组G1的第二透镜72为负光焦度弯月式透镜,且凹面310面向掩模R。第二透镜72第一面310为非球面,用于校正像散和远心误差。第一透镜组G1的第三透镜73为正光焦度弯月透镜,凹面350面向掩模R,由高色散材料构成。
第一透镜组G1的第四透镜74为正光焦度双凸透镜,由高色散材料构成。
以上第一透镜组G1 透镜结构组合校正了像散,场曲,远心,且压缩了光学系统总长。第一透镜组G1的材料组合校正了轴向色差和二级光谱。
第二透镜组G2收集从第一透镜组G1出射的光线,并出射至第三透镜组G3。第二透镜组G2包含四个透镜75、76、77、78,光焦度依次为负、正、负、正。第二透镜组G2包含一正光焦度的子透镜组G2-1p,和一负光焦度的子透镜组G2-2n。子透镜组G2-1p包含第二透镜组G2的第一透镜75和第二透镜76。第二透镜组G2的第一透镜75是负光焦度的弯月透镜,其凹面315面向硅片W,由高色散材料构成。第二透镜组G2的第二透镜76是双凸透镜,由低色散材料构成。
子透镜组G2-2n包含第二透镜组G2的第三透镜77,第四透镜78,。第二透镜组G2的第三透镜77为负光焦度透镜,其凹面325面向硅片W。第三透镜77由高色散材料构成。第二透镜组G2的第四透镜78是正光焦度的弯月透镜,其凹面335面向硅片W,由低色散玻璃构成。
以上第二透镜组的四个透镜结构组合校正了球差,轴向色差和二级光谱。
投影物镜为近似1x放大倍率系统,关于光阑AS对称。第四透镜组G4与第一透镜组G1结构近似对称。第三透镜组G3与第二透镜组G2结构近似对称。
第一透镜组G1和第四透镜组G4分别靠近物面和像面,校正物镜的远心误差,像散和场曲。第二透镜组G2和第三透镜组G3靠近光阑AS,校正物镜的球差和轴向色差,且并不引入弧矢像散。
投影物镜关于光阑对称,所以不存在慧差,畸变及倍率色差。此对称系统前半部透镜组G1和G2的光焦度匹配及色散材料的匹配,校正了轴向色差、二级光谱和色球差。第一透镜组G1的第一透镜71由低色散的OHARA玻璃SFPL51Y构成,为负光焦度。第一透镜组G1的第三透镜73由高色散的OHARA玻璃PBM18Y构成,为正光焦度。第一透镜组G1的第四透镜74由高色散的OHARA玻璃PBM2Y构成,为正光焦度。
子透镜组G2-1p的第一透镜75及子透镜组G2-2n的第一透镜77分别由高色散的OHARA玻璃PBM2Y和PBL25Y构成。子透镜组G2-1p的第二透镜76及子透镜组G2-2n的第二透镜78分别由低色散的OHARA玻璃SFPL51Y和CAF2构成。以上玻璃组合校正了400到440nm范围内的色球差及二级光谱。
第一透镜组G1及第四透镜组G4校正了视场像差。第一透镜组G1的第一负透镜71及弱负光焦度非球面弯月透镜72组合有助于校正子午像散和弧矢像散。弯月透镜72的非球面凹面310面向掩模R。相似的校正通过第四透镜组G4的负透镜86及弱负光焦度非球面弯月透镜85来实现。透镜85的非球面凹面面向硅片W。
第一透镜组G1 的非球面透镜72及第四透镜组G4的非球面透镜85组合校正残余的子午像散及残余的远心误差。
场曲的校正要通过正负光焦度的匹配完成,第一子透镜组G1-1n为负光焦度,第一透镜组G1的透镜73和74为正光焦度,二者组合校正场曲。第二透镜组G2子透镜组G2-1p光焦度为正,子透镜组G2-2n光焦度为负,二者组合校正场曲。
以下透镜组G1、G2、G3、G4,及其子透镜组和透镜间的关系式进一步确立了物镜像质优化的基础。
0.10<f1/ f2<0.30                    (3-1)
-0.85< fG1-1n / f1< -1.15             (3-2)
0.10< fG2-1p / f2< 0.25               (3-3)
1.9< Vel71 / Vel73< 2.55                (3-4)
2.10< Vel71 / Ve74< 2.60              (3-5)
0.30< Vel75 / Ve76< 0.50               (3-6)
0.35< Vel77 / Ve78< 0.45               (3-7)
其中:
f1 :第一透镜组G1的焦距;
f2 :第二透镜组G2的焦距;
fG1-1n :第一透镜组G1的第一子透镜组 G1-1n的焦距;
fG2-1p:第二透镜组G2的第一子透镜组 G2-1p的焦距;
Vel71 和Vel73 :第一透镜组G1中第一透镜71和第三透镜73的阿贝数;
Vel74 :第一透镜组G1中第四透镜74的阿贝数;
Vel75和Vel76:第二透镜组G2的第一子透镜组G2-1p中的第一透镜75和第二透镜76的阿贝数;
Vel77和Vel78:第二透镜组G2的第二子透镜组G2-1n中的第一透镜77和第二透镜78的阿贝数。
由于是近似1x放大倍率系统,透镜组G3、G4及相应子透镜组、透镜也应满足类似的关系式。
关系式(3-1)–(3-7)定义了投影物镜透镜组G1、G2、G3、G4、及其子透镜组、透镜校正像差的结构关系。
本实施例中光刻投影物镜中的各透镜的参数如表3所示:
表面类型 半径(mm) 厚度(mm) 材料 通光口径(mm) 备注
  Infinity 37.08826     Object
Sphere -101.842 8.442844 SFPL51Y_OHARA 45.93631  
Sphere 1228.205 22.28772   57.06461  
Asphere -73.2562 34.36661 BSM51Y_OHARA 57.06749 A(1)
Sphere -79.9522 0.888375   69.4291  
Sphere -290.959 29.27068 PBM18Y_OHARA 83.0979  
Sphere -112.325 3.244132   84.38392  
Sphere 375.4784 26.14982 PBM2Y_OHARA 85.99502  
Sphere -473.064 229.5342   85.38206  
Sphere 79.25227 12.27328 PBM2Y_OHARA 31.82516  
Sphere 67.57454 4.320224   29.15049  
Sphere 72.59654 20.89909 SFPL51Y_OHARA 28.97495  
Sphere -321.347 0.586682   26.80145  
Sphere -211.639 8.021006 PBL25Y_OHARA 26.80078  
Sphere 52.78387 0.5   25.20058  
Sphere 51.87459 8.50096 CAF2_SPECIAL 25.34734  
Sphere 201.7557 3.626122   25.21417  
Sphere Infinity 3.626122   29.85606 stop
Sphere -201.756 8.50096 CAF2_SPECIAL 25.29557  
Sphere -51.8746 0.5   25.48163  
Sphere -52.7839 8.021006 PBL25Y_OHARA 25.35727  
Sphere 211.6395 0.586682   27.25712  
Sphere 321.3472 20.89909 SFPL51Y_OHARA 27.25186  
Sphere -72.5965 4.320224   29.51223  
Sphere -67.5745 12.27328 PBM2Y_OHARA 29.71287  
Sphere -79.2523 229.5342   32.53597  
Sphere 473.0643 26.14982 PBM2Y_OHARA 88.253  
Sphere -375.478 3.244132   88.75278  
Sphere 112.3253 29.27068 PBM18Y_OHARA 86.43404  
Sphere 290.9591 0.888375   85.7513  
Sphere 79.95215 34.36661 BSM51Y_OHARA 70.52317  
Asphere 73.25615 22.28772   58.56589 A(2)
Sphere -1228.2 8.442844 SFPL51Y_OHARA 59.63069  
Sphere 101.8418 37.08826   47.11564  
  Infinity 0     Image
其中,非球面参数为:
表3
本实施例的光刻投影物镜的波像差曲线如图14所示。
本实施例的光刻投影物镜的视场像差如图15所示。
本实施例的光刻投影物镜的倍率色差如图16所示。
本实施例的光刻投影物镜的边缘光线像差曲线如图17所示。
本实施例的光刻投影物镜的校正远心误差如图18所示。
本说明书中所述的只是本发明的几种较佳具体实施例,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在本发明的范围之内。

Claims (6)

1. 一种光刻投影物镜,把掩模的图像聚焦成像在基底上,从掩模开始包括沿着光轴依次设置的:
具有正光焦度的第一透镜组;
具有正光焦度的第二透镜组;
孔径光阑AS;
具有正光焦度的第三透镜组,相对于孔径光阑与第二透镜组对称;
具有正光焦度的第四透镜组,相对于孔径光阑与第一透镜组对称;
第一透镜组将来自掩模的光线会聚至第二透镜组,第一透镜组包含四个光焦度依次为负、负、正、正的透镜,第一透镜、第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1-1n;
第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线,准直后出射至第三透镜组,第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜,第一透镜和第二透镜组成具有正光焦度的第一子透镜组G2-1p,第三透镜和第四透镜组成具有负光焦度的第二子透镜组G2-2n。
2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜,其中,光刻投影物镜的放大倍率为近似1x。
3.根据权利要求2所述的光刻投影物镜,其中,光刻投影物镜的带宽为400纳米到440纳米。
4.根据权利要求2所述的光刻投影物镜,其中,第一透镜组的第一透镜为双凹透镜,第二透镜为第一面为非球面且凹面面向掩模的弯月式透镜,第三透镜为凹面面向掩模的弯月透镜,第四透镜为双凸透镜;第二透镜组的第一透镜是凹面面向硅片的弯月透镜,第二透镜是双凸透镜,第三透镜为凹面面向硅片的弯月透镜,第四透镜是凹面面向硅片的正光焦度的弯月透镜。
5.根据权利要求4所述的光刻投影物镜,其中,第一透镜组的第一透镜由低色散材料构成,第三透镜由高色散材料构成,第四透镜由高色散材料构成;第二透镜组的第一透镜由高色散材料构成,第二透镜由低色散材料构成,第三透镜由高色散材料构成,第四透镜由低色散材料构成。
6.根据权利要求1-5中任意一个所述的光刻投影物镜,其中,
所述的光刻投影物镜满足以下关系式:
0.10<f1/ f2<0.30                 (3-1)
-0.85< fG1-1n / f1< -1.15          (3-2)
0.10< fG2-1p / f2< 0.25            (3-3)
 1.9< Vel71 / Vel73< 2.55        (3-4)
2.10< Vel71 / Ve174< 2.60            (3-5)
0.30< Vel75 / Ve176< 0.50            (3-6)
0.35< Vel77 / Ve178< 0.45            (3-7)
其中,f1是第一透镜组的焦距,f2是第二透镜组的焦距,fG1-1n是第一透镜组的子透镜组 G1-1n的焦距,fG2-1p是第二透镜组第一子透镜组 G2-1p的焦距,Vel71 和Vel73 是第一透镜组的第一透镜和第三透镜的阿贝数,Vel74是第一透镜组的第四透镜的阿贝数,Vel75和Vel76是第二透镜组的第一透镜和第二透镜的阿贝数,Vel77和Vel78是第二透镜组的第三透镜和第四透镜的阿贝数。
CN201210195607.0A 2010-03-23 2010-03-23 光刻投影物镜 Active CN102707414B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210195607.0A CN102707414B (zh) 2010-03-23 2010-03-23 光刻投影物镜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210195607.0A CN102707414B (zh) 2010-03-23 2010-03-23 光刻投影物镜

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201010130992 Division CN102200624B (zh) 2010-03-23 2010-03-23 光刻投影物镜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102707414A CN102707414A (zh) 2012-10-03
CN102707414B true CN102707414B (zh) 2014-07-16

Family

ID=46900334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210195607.0A Active CN102707414B (zh) 2010-03-23 2010-03-23 光刻投影物镜

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102707414B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104570610B (zh) * 2013-10-11 2017-02-15 上海微电子装备有限公司 投影曝光装置
DE102018108927A1 (de) * 2018-04-16 2019-10-17 HELLA GmbH & Co. KGaA Kommunikationsvorrichtung für ein Fahrzeug
CN111175956A (zh) * 2019-12-23 2020-05-19 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 宽谱段大数值孔径的显微物镜

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060126048A1 (en) * 2004-11-18 2006-06-15 Yuhei Sumiyoshi Projection optical system and exposure apparatus having the same
CN101438196A (zh) * 2006-05-05 2009-05-20 卡尔·蔡司Smt股份公司 用于微光刻的具有四个透镜组的对称物镜
CN101571622A (zh) * 2009-02-06 2009-11-04 上海微电子装备有限公司 一种低热效应投影物镜

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060126048A1 (en) * 2004-11-18 2006-06-15 Yuhei Sumiyoshi Projection optical system and exposure apparatus having the same
CN101438196A (zh) * 2006-05-05 2009-05-20 卡尔·蔡司Smt股份公司 用于微光刻的具有四个透镜组的对称物镜
CN101571622A (zh) * 2009-02-06 2009-11-04 上海微电子装备有限公司 一种低热效应投影物镜

Also Published As

Publication number Publication date
CN102707414A (zh) 2012-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6863403B2 (en) Deep ultraviolet unit-magnification projection optical system and projection exposure apparatus
US6879383B2 (en) Large-field unit-magnification projection system
US5943172A (en) Projection optical system and projection exposure apparatus
US6813098B2 (en) Variable numerical aperture large-field unit-magnification projection system
US20080213703A1 (en) Imaging System With Mirror Group
US20080117532A1 (en) Unit magnification projection objective
CN102707415B (zh) 光刻投影物镜
JPH08179204A (ja) 投影光学系及び投影露光装置
CN104199173B (zh) 一种单倍率对称式投影曝光物镜
JP2008519433A (ja) アポクロマート等倍投影光学系
US7957069B2 (en) Projection optical system
CN102998779B (zh) 一种变焦距光刻物镜系统
CN102200624B (zh) 光刻投影物镜
CN111596532A (zh) 一种双远心镜头及数字投影光刻系统
CN102707414B (zh) 光刻投影物镜
CN109375480B (zh) 一种光刻投影物镜及光刻机
US6710930B2 (en) Illumination optical system and method of making exposure apparatus
CN103105666A (zh) 一种曝光投影物镜
JP2002072080A (ja) 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP6511701B2 (ja) 投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法
CN112394474B (zh) 一种光刻投影物镜及光刻机
CN110764224B (zh) 一种光刻投影物镜
CN109991816B (zh) 一种投影物镜光学系统及光刻机
WO2023144100A1 (en) Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method
CN115524927A (zh) 大视场投影物镜及光刻机

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder