CN112394474B - 一种光刻投影物镜及光刻机 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f1，所述第二透镜组的焦距为f2，所述第三透镜组的焦距为f3，f1、f2和f3满足：‑4＜f2/f1＜‑1，‑0.4＜f3/f2＜‑0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。

Description

一种光刻投影物镜及光刻机
技术领域
本发明实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜及光刻机。
背景技术
光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。
现有的光刻投影物镜存在诸如数值孔径较小、分辨率低等问题，曝光视场直径与分辨率存在矛盾，无法在大的曝光视场下实现高的分辨率。
发明内容
本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。
第一方面，本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f1，所述第二透镜组的焦距为f2，所述第三透镜组的焦距为f3，f1、f2和f3满足：
-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。
可选地，所述第一透镜组和所述第三透镜组具有正的光焦度，所述第二透镜组具有负的光焦度。
可选地，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组中的任何一个均包括至少一个非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面。
可选地，所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第五透镜为弯月透镜，所述第四透镜为双凸透镜；
所述第二透镜组包括沿光轴顺次排列的第六透镜和第七透镜，所述第六透镜和所述第七透镜为弯月透镜；
所述第三透镜组包括沿光轴顺次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜和第十九透镜，所述第八透镜、所述第十三透镜、所述第十七透镜和所述第十八透镜为双凹透镜，所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第十九透镜为弯月透镜，所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为双凸透镜。
可选地，所述第一透镜、所述第二透镜、所述第七透镜、所述第九透镜、所述第十六透镜和所述第十八透镜为非球面透镜。
可选地，所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜为弯月透镜，所述第五透镜和所述第六透镜为双凸透镜；
所述第二透镜组包括第七透镜，所述第七透镜为弯月透镜；
所述第三透镜组包括沿光轴顺次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜和第十九透镜，所述第八透镜、所述第十一透镜、所述第十二透镜和所述第十四透镜为双凸透镜，所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第十九透镜为弯月透镜，所述第十三透镜、所述第十七透镜和所述第十八透镜为双凹透镜。
可选地，所述第二透镜、所述第七透镜、所述第九透镜、所述第十六透镜和所述第十八透镜为非球面透镜。
可选地，所述光刻投影物镜的像方数值孔径为0～0.5。
可选地，所述光刻投影物镜的像方视场直径为0～66mm。
第二方面，本发明实施例提供一种光刻机，包括第一方面所述的光刻投影物镜。
本发明实施例提供的光刻投影物镜中，第一透镜组的焦距f1、第二透镜组的焦距f2和第三透镜组的焦距f3满足-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8，从而实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。例如，光刻投影物镜在i线紫外光谱范围，可以实现像方视场直径大于60mm，且分辨率高于500nm。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种光刻投影物镜的结构示意图；
图2为图1所示光刻透镜物镜的远心分布图；
图3为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的子午像差分布图；
图4为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图5为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的子午像差分布图；
图6为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图7为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的子午像差分布图；
图8为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图9为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的子午像差分布图；
图10为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图11为图1所示光刻透镜物镜的场曲分布图；
图12为图1所示光刻透镜物镜的畸变分布图；
图13为本发明实施例二提供的一种光刻投影物镜的结构示意图；
图14为图13所示光刻透镜物镜的远心分布图；
图15为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的子午像差分布图；
图16为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图17为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的子午像差分布图；
图18为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图19为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的子午像差分布图；
图20为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图21为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的子午像差分布图；
图22为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的弧矢像差分布图；
图23为图13所示光刻透镜物镜的场曲分布图；
图24为图13所示光刻透镜物镜的畸变分布图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的一种光刻投影物镜的结构示意图，参考图1，光刻投影物镜包括沿光轴且由物面OBJ指向像面IMA顺次排列的第一透镜组G1、第二透镜组G2和第三透镜组G3。第一透镜组G1的焦距为f1，第二透镜组G2的焦距为f2，第三透镜组G3的焦距为f3，f1、f2和f3满足：
-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。
本发明实施例提供的光刻投影物镜中，第一透镜组的焦距f1、第二透镜组的焦距f2和第三透镜组的焦距f3满足-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8，从而实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。例如，光刻投影物镜在i线紫外光谱范围，可以实现像方视场直径大于60mm，且分辨率高于500nm。
可选地，参考图1，第一透镜组G1和第三透镜组G3具有正的光焦度，第二透镜组G2具有负的光焦度。
可选地，参考图1，第一透镜组G1、第二透镜组G2和第三透镜组G3中的任何一个均包括至少一个非球面透镜，一个非球面透镜包括一个非球面表面。也就是说，第一透镜组G1包括至少一个非球面透镜，第二透镜组G2包括至少一个非球面透镜，第三透镜组G3包括至少一个非球面透镜。本发明实施例中，光刻投影物镜中的每一个透镜组中均包括一个非球面透镜，使光刻投影物镜中的每一个透镜组均具有较好的消相差效果，从而提高了光刻投影物镜的成像质量。
可选地，参考图1，第一透镜组G1包括沿光轴顺次排列的第一透镜1、第二透镜2、第三透镜3、第四透镜4和第五透镜5。第一透镜1为双凹透镜，第二透镜2、第三透镜3和第五透镜5为弯月透镜，第四透镜4为双凸透镜。第二透镜组G2包括沿光轴顺次排列的第六透镜6和第七透镜7，第六透镜6和第七透镜7为弯月透镜。第三透镜组G3包括沿光轴顺次排列的第八透镜8、第九透镜9、第十透镜10、第十一透镜11、第十二透镜12、第十三透镜13、第十四透镜14、第十五透镜15、第十六透镜16、第十七透镜17、第十八透镜18和第十九透镜19，第八透镜8、第十三透镜13、第十七透镜17和第十八透镜18为双凹透镜，第九透镜9、第十透镜10、第十五透镜15、第十六透镜16和第十九透镜19为弯月透镜，第十一透镜11、第十二透镜12、第十四透镜14为双凸透镜。其中，弯月透镜可以包括凹凸透镜和凸凹透镜。
可选地，参考图1，第一透镜1、第二透镜2、第七透镜7、第九透镜9、第十六透镜16和第十八透镜18为非球面透镜。在其他实施方式中，非球面透镜还可以设置于其他位置，本发明实施例对此不作限制。本发明实施例中采用了6个非球面透镜，具有良好的相差校正能力。
可选地，光刻投影物镜的像方数值孔径为0～0.5，光刻投影物镜的最大像方数值孔径为0.5。光刻投影物镜的像方视场直径为0～66mm，光刻投影物镜的最大像方视场直径为66mm。光刻投影物镜的放大倍率为-0.5，曝光波长为i线(360nm～370nm)光谱。像方视场直径可满足0～66mm。本发明实施例提供的光刻投影物镜能够实现最大的分辨率为400nm，即，光刻投影物镜的最小光刻尺寸为400nm。
由于球差等相差与数值孔径的大小相关，球差等相差受到数值孔径的影响，为了进一步优化光刻投影物镜的相差，以便提供更好的像质。可选地，光刻投影物镜的像方数值孔径大于或者等于0.4，且小于或者等于0.5。
可选地，光刻投影物镜还包括光阑STOP，光阑STOP位于第三透镜组G3中。示例性地，参考图1，光阑STOP位于第十一透镜11和第十二透镜12之间。可以通过调节光阑STOP的尺寸来调节光刻投影物镜有效通光口径，即可以通过调节光阑STOP来调节光刻投影物镜的数值孔径，以适应不同的光刻投影物镜应用场景。由于光刻投影物镜还包括光阑STOP，因此可以通过调节光阑STOP使光刻投影物镜的数值孔径实现0-0.5范围连续可调。
表1光刻投影物镜的一种具体设计值
Figure BDA0002167769470000081
Figure BDA0002167769470000091
表1示出了光刻投影物镜的一种具体设计值，其具体数值大小可根据产品需求进行调节，并非对本发明实施例的限制。表1中示出的光刻投影物镜可以为图1中所示。一个透镜一般包括两个表面，每一个表面为一个折射面。表1中的序号根据各个透镜的表面来进行编号。其中，序号栏中的“OBJ”表示物面，序号栏中“STOP”表示光阑，序号栏中“IMA”表示像面。正的半径值表示曲率中心在表面靠近像面IMA一侧，负的半径值代表曲率中心在表面靠近物面OBJ一侧。“半径”一栏中“1E+18”为一个比较大的数值，代表此表面为平面。“厚度”一栏中的数值表示当前表面到下一个表面的轴上距离。“材料”一栏中的‘AIR’以及空格表示空气。材料栏中除了空格和‘AIR’之外的材料指的是透镜的材料种类。例如，“材料”一栏中的“SILICA”表示融融石英。“全口径”一栏是指透镜表面的最大通光口径。
图2为图1所示光刻透镜物镜的远心分布图，参考图2，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为光刻透镜物镜的像方远心和物方远心，从图2中可以看出整个视场内物方远心和像方远心最大值不超过7mrad，光刻投影物镜的远心已被很好校正。
图3为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的子午像差分布图，图4为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的弧矢像差分布图，图5为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的子午像差分布图，图6为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的弧矢像差分布图，图7为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的子午像差分布图，图8为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的弧矢像差分布图，图9为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的子午像差分布图，图10为图1所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的弧矢像差分布图，参考图3-图10，横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小。从图3-图10中可以看出各视场点的最大像差均小于0.002385mm，说明光刻投影物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。
图11为图1所示光刻透镜物镜的场曲分布图，参考图11，纵坐标为像方视场点，横坐标代表各点离焦量，从图11中可知场曲已被很好校正。
图12为图1所示光刻透镜物镜的畸变分布图，参考图12，纵坐标为像方视场点，横坐标代表各点畸变值。从图12中可知畸变已被很好校正。
实施例二
图13为本发明实施例二提供的一种光刻投影物镜的结构示意图，参考图13，光刻投影物镜包括沿光轴且由物面OBJ指向像面IMA顺次排列的第一透镜组G1、第二透镜组G2和第三透镜组G3。第一透镜组G1的焦距为f1，第二透镜组G2的焦距为f2，第三透镜组G3的焦距为f3，f1、f2和f3满足：
-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。
本发明实施例提供的光刻投影物镜中，第一透镜组的焦距f1、第二透镜组的焦距f2和第三透镜组的焦距f3满足-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8，从而实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。例如，光刻投影物镜在i线紫外光谱范围，可以实现像方视场直径大于60mm，且分辨率高于500nm。
可选地，参考图13，第一透镜组G1和第三透镜组G3具有正的光焦度，第二透镜组G2具有负的光焦度。
可选地，参考图13，第一透镜组G1、第二透镜组G2和第三透镜组G3中的任何一个均包括至少一个非球面透镜，一个非球面透镜包括一个非球面表面。也就是说，第一透镜组G1包括至少一个非球面透镜，第二透镜组G2包括至少一个非球面透镜，第三透镜组G3包括至少一个非球面透镜。本发明实施例中，光刻投影物镜中的每一个透镜组中均包括一个非球面透镜，使光刻投影物镜中的每一个透镜组均具有较好的消相差效果，从而提高了光刻投影物镜的成像质量。
可选地，参考图13，第一透镜组G1包括沿光轴顺次排列的第一透镜1、第二透镜2、第三透镜3、第四透镜4、第五透镜5和第六透镜6。第一透镜1为双凹透镜，第二透镜2、第三透镜3和第四透镜4为弯月透镜，第五透镜5和第六透镜6为双凸透镜。第二透镜组G2包括第七透镜7，第七透镜7为弯月透镜。第三透镜组G3包括沿光轴顺次排列的第八透镜8、第九透镜9、第十透镜10、第十一透镜11、第十二透镜12、第十三透镜13、第十四透镜14、第十五透镜15、第十六透镜16、第十七透镜17、第十八透镜18和第十九透镜19，第八透镜8、第十一透镜11、第十二透镜12和第十四透镜14为双凸透镜，第九透镜9、第十透镜10、第十五透镜15、第十六透镜16和第十九透镜19为弯月透镜，第十三透镜13、第十七透镜17和第十八透镜18为双凹透镜。其中，弯月透镜包括凹凸透镜和凸凹透镜。
可选地，参考图13，第二透镜2、第七透镜7、第九透镜9、第十六透镜16和第十八透镜18为非球面透镜。本发明实施例提供的光刻投影物镜包括5个非球面透镜，采用了较少的非球面透镜，在保证成像质量的同时，能够降低光刻投影物镜的成本。
可选地，光刻投影物镜的像方数值孔径为0～0.5，光刻投影物镜的最大像方数值孔径为0.5。光刻投影物镜的像方视场直径为0～66mm，光刻投影物镜的最大像方视场直径为66mm。光刻投影物镜的放大倍率为-0.5，曝光波长为i线(360nm～370nm)光谱。像方视场直径可满足0～66mm。本发明实施例提供的光刻投影物镜能够实现最大的分辨率为400nm，即，光刻投影物镜的最小光刻尺寸为400nm。
由于球差等相差与数值孔径的大小相关，球差等相差受到数值孔径的影响，为了进一步优化光刻投影物镜的相差，以便提供更好的像质。可选地，光刻投影物镜的像方数值孔径大于或者等于0.4，且小于或者等于0.5。
可选地，光刻投影物镜还包括光阑STOP，光阑STOP位于第三透镜组G3中。示例性地，参考图13，光阑STOP位于第十一透镜11和第十二透镜12之间。可以通过调节光阑STOP的尺寸来调节光刻投影物镜有效通光口径，即可以通过调节光阑STOP来调节光刻投影物镜的数值孔径，以适应不同的光刻投影物镜应用场景。由于光刻投影物镜还包括光阑STOP，因此可以通过调节光阑STOP使光刻投影物镜的数值孔径实现0-0.5范围连续可调。
表2光刻投影物镜的另一种具体设计值
序号 类型 半径(mm) 厚度(mm) 材料 全口径(mm)
OBJ 球面 1.00E+18 56
1 球面 -146.0 8 SILICA 75.31
2 球面 879.7 22 87.50
3 非球面 -220.2 55 BSM51Y 88.18
4 球面 -287.5 8 114.93
5 球面 -1100.7 32 BSM51Y 130.38
6 球面 -273.5 1 132.83
7 球面 -36005.3 32 BSM51Y 144.15
8 球面 -402.8 1 145.31
9 球面 665.9 32 BSM51Y 148.77
10 球面 -1097.4 2 148.52
11 球面 305.7 41 N4786 141.22
12 球面 -6977.2 84 139.60
13 非球面 761.9 43 BSL7Y 99.68
14 球面 142.0 87 79.77
15 球面 -122.3 8 PBL35Y 73.89
16 球面 298.6 43 82.43
17 非球面 -150.3 28 BSM51Y 85.12
18 球面 -218.4 8 104.41
19 球面 -806.9 50 N4786 123.52
20 球面 -175.6 1 126.56
21 球面 625.9 60 N4786 148.64
22 球面 -323.7 18 149.36
Stop 球面 1.00E+18 1 147.07
24 球面 318.4 60 N4786 149.24
25 球面 -638.0 22 148.60
26 球面 -407.7 8 PBL35Y 144.54
27 球面 353.8 8 143.21
28 球面 323.6 60 SILICA 146.75
29 球面 -570.8 41 146.74
30 球面 241.0 44 SILICA 133.33
31 球面 1464.7 22 130.42
32 球面 155.0 46 N4786 106.78
31 非球面 654.5 28 101.73
34 球面 -1111.9 8 PBL6Y 84.38
35 非球面 406.2 35 75.74
36 球面 -286.6 8 N4786 65.48
37 球面 184.3 18 59.51
38 球面 100.0 21 PBL35Y 54.94
39 球面 1110.8 35 52.82
IMA 球面 1.00E+18 0 33.00
表2示出了光刻投影物镜的一种具体设计值，其具体数值大小可根据产品需求进行调节，并非对本发明实施例的限制。表2中示出的光刻投影物镜可以为图13中所示。一个透镜一般包括两个表面，每一个表面为一个折射面。表2中的序号根据各个透镜的表面来进行编号。其中，序号栏中的“OBJ”表示物面，序号栏中“STOP”表示光阑，序号栏中“IMA”表示像面。正的半径值表示曲率中心在表面靠近像面IMA一侧，负的半径值代表曲率中心在表面靠近物面OBJ一侧。“半径”一栏中“1.00E+18”为一个比较大的数值，代表此表面为平面。“厚度”一栏中的数值表示当前表面到下一个表面的轴上距离。“材料”一栏中的空格表示空气。材料栏中除了空格之外的材料指的是透镜的材料种类。例如，“材料”一栏中的“SILICA”表示融融石英。“全口径”一栏是指透镜表面的最大通光口径。
图14为图13所示光刻透镜物镜的远心分布图，参考图14，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为光刻透镜物镜的像方远心和物方远心，从图14中可以看出整个视场内物方远心和像方远心最大值不超过7mrad，光刻投影物镜的远心已被很好校正。
图15为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的子午像差分布图，图16为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为1时在光瞳处的弧矢像差分布图，图17为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的子午像差分布图，图18为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.91时在光瞳处的弧矢像差分布图，图19为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的子午像差分布图，图20为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.82时在光瞳处的弧矢像差分布图，图21为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的子午像差分布图，图22为图13所示光刻透镜物镜在i线光照下，相对物方视场点高度为0.73时在光瞳处的弧矢像差分布图，参考图15-图22，横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小。从图15-图22中可以看出各视场点的最大像差均小于0.002385mm，说明光刻投影物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。
图23为图13所示光刻透镜物镜的场曲分布图，参考图23，纵坐标为像方视场点，横坐标代表各点离焦量，从图23中可知场曲已被很好校正。
图24为图13所示光刻透镜物镜的畸变分布图，参考图24，纵坐标为像方视场点，横坐标代表各点畸变值。从图24中可知畸变已被很好校正。
实施例三
本发明实施例还提供一种光刻机，包括上述任一实施例中的光刻投影物镜。由于光刻投影物镜在大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。因此，使用上述实施例中光刻投影物镜的光刻机能够提升产率以及实现高精度光刻，进而能够在保证光刻精度的基础上提高经济效益。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (9)

1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f1，所述第二透镜组的焦距为f2，所述第三透镜组的焦距为f3，f1、f2和f3满足：
-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8；
所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第五透镜为弯月透镜，所述第四透镜为双凸透镜；
所述第二透镜组包括沿光轴顺次排列的第六透镜和第七透镜，所述第六透镜和所述第七透镜为弯月透镜；
所述第三透镜组包括沿光轴顺次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜和第十九透镜，所述第八透镜、所述第十三透镜、所述第十七透镜和所述第十八透镜为双凹透镜，所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第十九透镜为弯月透镜，所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为双凸透镜。
2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组和所述第三透镜组具有正的光焦度，所述第二透镜组具有负的光焦度。
3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组中的任何一个均包括至少一个非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面。
4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜、所述第二透镜、所述第七透镜、所述第九透镜、所述第十六透镜和所述第十八透镜为非球面透镜。
5.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f1，所述第二透镜组的焦距为f2，所述第三透镜组的焦距为f3，f1、f2和f3满足：
-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8；
所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜为弯月透镜，所述第五透镜和所述第六透镜为双凸透镜；
所述第二透镜组包括第七透镜，所述第七透镜为弯月透镜；
所述第三透镜组包括沿光轴顺次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜和第十九透镜，所述第八透镜、所述第十一透镜、所述第十二透镜和所述第十四透镜为双凸透镜，所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第十九透镜为弯月透镜，所述第十三透镜、所述第十七透镜和所述第十八透镜为双凹透镜。
6.根据权利要求5所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第二透镜、所述第七透镜、所述第九透镜、所述第十六透镜和所述第十八透镜为非球面透镜。
7.根据权利要求5所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜的像方数值孔径为0～0.5。
8.根据权利要求5所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜的像方视场直径为0～66mm。
9.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的光刻投影物镜。
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