TWI715392B - 一種光刻投影物鏡及光刻機 - Google Patents

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TWI715392B
TWI715392B TW108148442A TW108148442A TWI715392B TW I715392 B TWI715392 B TW I715392B TW 108148442 A TW108148442 A TW 108148442A TW 108148442 A TW108148442 A TW 108148442A TW I715392 B TWI715392 B TW I715392B
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張羽
安福平
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大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

本發明係提供一種光刻投影物鏡，前述光刻投影物鏡包含沿光軸依次排列的第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、光闌、第四透鏡組、第五透鏡組及第六透鏡組，前述第一透鏡組與前述第六透鏡組對前述光闌對稱，前述第二透鏡組與前述第五透鏡組對前述光闌對稱；前述第三透鏡組及前述第四透鏡組對前述光闌對稱；
Figure 108148442-A0202-11-0001-1
；
Figure 108148442-A0202-11-0001-2
；其中，f 1為前述第一透鏡組以及前述第六透鏡組的焦距，f 2為前述第二透鏡組以及前述第五透鏡組的焦距，f 3為前述第三透鏡組以及前述第四透鏡組的焦距。

Description

一種光刻投影物鏡及光刻機
本發明係關於光刻技術領域，例如關於一種光刻投影物鏡及光刻機。
光學光刻是一種用光將掩模圖案投影複製的技術。積體電路就是由投影曝光裝置製成的。借助投影曝光裝置，具有不同掩模圖案的圖形被成像至基底上，如矽片或液晶顯示(Liquid Crystal Display，LCD)板，用於製造積體電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機電(Micro-Electro-Mechanical System，MEMS)等一系列結構。過去數十年曝光設備技術水準不斷發展，滿足了更小線條尺寸，更大曝光面積，更高可靠性及產率，更低成本的需求。
相關技術的光刻投影物鏡存在諸如數值孔徑較小、解析度低、適用波段窄、數值孔徑不可變等問題。
本發明提供一種光刻投影物鏡及光刻機，以解決上述相關技 術中存在的問題。
本發明提供一種光刻投影物鏡，前述光刻投影物鏡包含沿光軸依次排列的第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、光闌、第四透鏡組、第五透鏡組及第六透鏡組，前述第一透鏡組與前述第六透鏡組對前述光闌對稱，前述第二透鏡組與前述第五透鏡組對前述光闌對稱；前述第三透鏡組及前述第四透鏡組對前述光闌對稱；
Figure 108148442-A0202-12-0002-3
；
Figure 108148442-A0202-12-0002-4
；
其中，f 1為前述第一透鏡組以及前述第六透鏡組的焦距，f 2為前述第二透鏡組以及前述第五透鏡組的焦距，f 3為前述第三透鏡組以及前述第四透鏡組的焦距。
在一實施例中，前述第一透鏡組以及前述第六透鏡組具有正的光焦度，前述第二透鏡組以及前述第五透鏡組具有負的光焦度，前述第三透鏡組以及前述第四透鏡組具有正的光焦度。
在一實施例中，前述第一透鏡組、前述第二透鏡組、前述第三透鏡組、前述第四透鏡組、前述第五透鏡組及前述第六透鏡組中的所有的透鏡均為球面透鏡。
在一實施例中，前述第一透鏡組、前述第二透鏡組、前述第三透鏡組、前述第四透鏡組、前述第五透鏡組及前述第六透鏡組均包含至少一個彎月透鏡。
在一實施例中，前述第一透鏡組包含4個透鏡，前述第二透鏡組包含2個透鏡；前述第三透鏡組包含4個透鏡；
前述第四透鏡組包含4個透鏡；前述第五透鏡組包含2個透鏡；前述第六透鏡組包含4個透鏡。
在一實施例中，前述第一透鏡組包含沿光軸依次排列的第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡及第四透鏡；前述第一透鏡為雙凹透鏡，前述第二透鏡及前述第三透鏡均為彎月透鏡，前述第四透鏡為雙凸透鏡；
前述第六透鏡組包含沿光軸依次排列的第十七透鏡、第十八透鏡、第十九透鏡及第二十透鏡；前述第十七透鏡為雙凸透鏡，前述第十八透鏡及前述第十九透鏡均為彎月透鏡，前述第二十透鏡為雙凹透鏡。
在一實施例中，前述第二透鏡組包含沿光軸依次排列的第五透鏡及第六透鏡；前述第五透鏡為彎月透鏡，前述第六透鏡為雙凹透鏡；
前述第五透鏡組包含沿光軸依次排列的第十五透鏡及第十六透鏡；前述第十五透鏡為雙凹透鏡，前述第十六透鏡為彎月透鏡。
在一實施例中，前述第三透鏡組包含沿光軸依次排列的第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡及第十透鏡；前述第七透鏡為彎月透鏡，前述第八透鏡及前述第十透鏡為雙凸透鏡，前述第九透鏡為雙凹透鏡；前述第四透鏡組包含沿光軸依次排列的第十一透鏡、第十二透鏡、第十三透鏡及第十四透鏡；前述第十一透鏡及前述第十三透鏡為雙凸透鏡，前述第十二透鏡為雙凹透鏡，前述第十四透鏡為彎月透鏡。
在一實施例中，前述光刻投影物鏡在i線波段光照下的最大像方數值孔徑為0.18。
在一實施例中，前述光刻投影物鏡在i線波段、h線波段及g線波段光照下的最大像方數值孔徑為0.14。
在一實施例中，前述光刻投影物鏡的曝光視場直徑為62.934mm。
本發明提供一種光刻機，其包含：第一方面所記載之光刻投影物鏡。
本發明提供一種光刻投影物鏡，其包含第一透鏡組、第二透鏡組及第三透鏡組，以及與第一透鏡組、第二透鏡組及第三透鏡組對光闌對稱設置的第四透鏡組、第五透鏡組及第六透鏡組。藉由調節光闌的通光孔的大小可以調節光刻投影物鏡的數值孔徑，從而增加光刻投影物鏡適用於不同場景的能力。且第一透鏡組的焦距f 1與第二透鏡組的焦距f 2滿足
Figure 108148442-A0202-12-0004-6
，第二透鏡組的焦距f 2與第三透鏡組的焦距f 3滿足
Figure 108148442-A0202-12-0004-7
，從而增大光刻投影物鏡的數值孔徑，提升光刻投影物鏡的解析度。本發明提供的光刻投影物鏡可適用於i線波段、h線波段及g線波段，適用波段較寬。本發明中的透鏡全部採用球面透鏡且透鏡數量少僅有20片，從而降低光刻投影物鏡中透鏡的加工成本，縮短透鏡的加工週期，提升光刻投影物鏡的裝調效率。
1‧‧‧第一透鏡
2‧‧‧第二透鏡
3‧‧‧第三透鏡
4‧‧‧第四透鏡
5‧‧‧第五透鏡
6‧‧‧第六透鏡
7‧‧‧第七透鏡
8‧‧‧第八透鏡
9‧‧‧第九透鏡
10‧‧‧第十透鏡
11‧‧‧第十一透鏡
12‧‧‧第十二透鏡
13‧‧‧第十三透鏡
14‧‧‧第十四透鏡
15‧‧‧第十五透鏡
16‧‧‧第十六透鏡
17‧‧‧第十七透鏡
18‧‧‧第十八透鏡
19‧‧‧第十九透鏡
20‧‧‧第二十透鏡
G1‧‧‧第一透鏡組
G2‧‧‧第二透鏡組
G3‧‧‧第三透鏡組
G4‧‧‧第四透鏡組
G5‧‧‧第五透鏡組
G6‧‧‧第六透鏡組
IMA‧‧‧光刻投影物鏡的像面
STOP‧‧‧光闌
【圖1】為本發明提供的一種光刻投影物鏡的結構示意圖。
【圖2】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖3】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖4】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖5】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖6】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖7】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖8】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下的垂軸色差圖。
【圖9】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下的物像方遠心圖。
【圖10】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖11】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖12】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖13】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖14】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的子午像差分佈圖。
【圖15】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。
【圖16】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下的垂軸色差圖。
【圖17】為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下的物像方遠心圖。
以下結合圖式及實施例對本案進行說明。可理解的是，此處所描述的具體實施例係僅用於解釋本案，而非對本案的限定。此外亦需說明，為了便於描述，圖式中僅示出與本案相關的部分而非全部結構。
圖1為本發明提供的一種光刻投影物鏡的結構示意圖，參考圖1，光刻投影物鏡包含沿光軸依次排列的第一透鏡組G1、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、光闌STOP、第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6，第一透鏡組G1與第六透鏡組G6對光闌STOP對稱，第二透鏡組G2與第五透鏡組G5對光闌STOP對稱，第三透鏡組G3及第四透鏡組G4對光闌STOP對稱。第一透鏡組G1校正場分佈相關的球差、像散及場曲，第二透鏡組G2匹配補償第一透鏡組G1及第三透鏡組G3產生的像差，第三透鏡組G3校正色 差、常數項球差及像散，第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6分別與第三透鏡組G3、第二透鏡組G2及第一透鏡組G1對光闌STOP對稱，第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6可以分別補償第三透鏡組G3、第二透鏡組G2及第一透鏡組G1產生的彗差及畸變。光刻投影物鏡滿足公式：
Figure 108148442-A0202-12-0007-8
，
Figure 108148442-A0202-12-0007-9
。其中，f 1為第一透鏡組G1以及第六透鏡組G6的焦距，f 2為第二透鏡組G2以及第五透鏡組G5的焦距，f 3為第三透鏡組G3以及第四透鏡組G4的焦距。
本發明提供的一種光刻投影物鏡，其包含第一透鏡組、第二透鏡組及第三透鏡組，以及與第一透鏡組、第二透鏡組及第三透鏡組對光闌對稱設置的第四透鏡組、第五透鏡組及第六透鏡組。藉由調節光闌的通光孔的大小可以調節光刻投影物鏡的數值孔徑，從而增加光刻投影物鏡適用於不同場景的能力。且第一透鏡組的焦距f 1與第二透鏡組的焦距f 2滿足
Figure 108148442-A0202-12-0007-10
，第二透鏡組的焦距f 2與第三透鏡組的焦距f 3滿足
Figure 108148442-A0202-12-0007-11
，從而增大光刻投影物鏡的數值孔徑，提升光刻投影物鏡的解析度。本發明提供的光刻投影物鏡可適用於i線波段、h線波段及g線波段，適用波段較寬。本發明中的透鏡可以全部採用球面透鏡且透鏡數量少僅有20片，從而降低光刻投影物鏡中透鏡的加工成本，縮短透鏡的加工週期，提升光刻投影物鏡的裝調效率。
在一實施例中，參考圖1，第一透鏡組G1以及第六透鏡組G6具有正的光焦度，第二透鏡組G2以及第五透鏡組G5具有負的光焦度，第三 透鏡組G3以及第四透鏡組G4具有正的光焦度。光焦度等於像方光束匯聚度與物方光束匯聚度之差，其代表光學系統偏折光線的能力。光焦度的絕對值越大，對光線的彎折能力越強，光焦度的絕對值越小，對光線的彎折能力越弱。光焦度為正數時，光線的折射是匯聚性的；光焦度為負數時，光線的折射是發散性的。光焦度可適用於代表一個透鏡的某一個折射面，可適用於代表某一個透鏡，亦可適用於代表多個透鏡共同形成的系統。
在一實施例中，參考圖1，第一透鏡組G1、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、光闌STOP、第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6中的所有的透鏡均為球面透鏡。球面透鏡是指從透鏡的中心到邊緣具有恒定的曲率，球面透鏡的兩個折射面均為球面，而非球面透鏡則是從中心到邊緣之曲率連續發生變化，因此球面透鏡相對於非球面透鏡而言更容易加工。本發明中的透鏡全部採用球面透鏡，降低光刻投影物鏡中透鏡的加工成本，縮短透鏡的加工週期，提升光刻投影物鏡的裝調效率。
在一實施例中，參考圖1，第一透鏡組G1、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、光闌STOP、第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6均包含至少一個彎月透鏡。彎月透鏡一般由兩個曲率半徑較小，數值相差也很少的球面構成，彎月透鏡呈現出新月形，用於像差的矯正。在所有的透鏡組中均設置至少一個彎月透鏡，有利於像差的矯正。
在一實施例中，參考圖1，第一透鏡組G1包含4個透鏡，第二透鏡組G2包含2個透鏡，第三透鏡組G3包含4個透鏡。由於第四透鏡組G4、第五透鏡組G5及第六透鏡組G6分別與第三透鏡組G3、第二透鏡組G2及第一透鏡組G1對光闌STOP對稱，相應地，第四透鏡組G4包含4個透鏡，第五透 鏡組G5包含2個透鏡，第六透鏡組G6包含4個透鏡。本發明中，光刻投影物鏡一共包含20個透鏡。需要說明的是，在其他實施方式中，光刻投影物鏡亦可包含其他數量的透鏡，只要滿足
Figure 108148442-A0202-12-0009-12
，
Figure 108148442-A0202-12-0009-13
即可。
在一實施例中，參考圖1，第一透鏡組G1包含沿光軸依次排列的第一透鏡1、第二透鏡2、第三透鏡3及第四透鏡4。第一透鏡1為雙凹透鏡，第二透鏡2及第三透鏡3均為彎月透鏡，第四透鏡4為雙凸透鏡。由於第六透鏡組G6與第一透鏡組G1對光闌STOP對稱，相應地，第六透鏡組G6包含沿光軸依次排列的第十七透鏡17、第十八透鏡18、第十九透鏡19及第二十透鏡20。第十七透鏡17為雙凸透鏡，第十八透鏡18及第十九透鏡19均為彎月透鏡，第二十透鏡20為雙凹透鏡。
在一實施例中，參考圖1，第二透鏡組G2包含沿光軸依次排列的第五透鏡5及第六透鏡6，第五透鏡5為彎月透鏡，第六透鏡6為雙凹透鏡。由於第五透鏡組G5與第二透鏡組G2對光闌STOP對稱，相應地，第五透鏡組G5包含沿光軸依次排列的第十五透鏡15及第十六透鏡16，第十五透鏡15為雙凹透鏡，第十六透鏡16為彎月透鏡。
在一實施例中，參考圖1，第三透鏡組G3包含沿光軸依次排列的第七透鏡7、第八透鏡8、第九透鏡9及第十透鏡10。第七透鏡7為彎月透鏡，第八透鏡8及第十透鏡10為雙凸透鏡，第九透鏡9為雙凹透鏡。由於第四透鏡組G4與第三透鏡組G3對光闌STOP對稱，相應地，第四透鏡組G4包含沿光軸依次排列的第十一透鏡11、第十二透鏡12、第十三透鏡13及第十四透鏡14。第十一透鏡11及第十三透鏡13為雙凸透鏡，第十二透鏡12為雙凹透 鏡，第十四透鏡14為彎月透鏡。
在一實施例中，參考圖1，光刻投影物鏡在365nm光照下的最大像方數值孔徑為0.18。即，使用汞燈的i線波段(i線波段的中心波長為365nm)作為曝光光源時，光刻投影物鏡的最大像方數值孔徑為0.18。光刻投影物鏡的物像共軛距為900mm，光刻投影物鏡的物像共軛距為光刻投影物鏡的物平面與光刻投影物鏡的像平面之間的距離。光刻投影物鏡的放大倍率為-1，曝光視場直徑為62.934mm，物距及像距均為55.65mm。
表1 光刻投影物鏡的一種設計值
Figure 108148442-A0202-12-0010-14
Figure 108148442-A0202-12-0011-16
Figure 108148442-A0202-12-0012-17
表1示出光刻投影物鏡的一種設計值，光刻投影物鏡的數值大小可根據產品需求進行調節，並非對本發明的限制。一個透鏡一般包含兩個表面，每一個表面為一個折射面。表1中的序號根據多個透鏡的表面來進行編號。「序號」一欄中的OBJ代表光刻投影物鏡的物面，「序號」一欄中的「STOP」代表光闌，「序號」一欄中的「IMA」代表光刻投影物鏡的像面。「類型」一欄中，所有的表面為球面，則所有的透鏡為球面透鏡。正的半徑值表示曲率中心在表面的右邊(鄰近像面IMA一側)，負的半徑值代表曲率中心在表面的左邊(遠離像面IMA一側)。「厚度」一欄中的數值表示當前表面到下一個表面的軸上距離。例如，序號為「1」厚度為「12.026046」的儲存格代表第一透鏡1的厚度為12.026046mm，序號為「2」厚度為「31.00701」的儲存格代表第一透鏡1與第二透鏡2之間的距離為31.00701mm。「全口徑」 一欄代表當前表面的最大通光口徑。「材料」一欄中的'air'表示空氣，'N2'表示氮氣，填充氮氣可以防止空氣中雜質污染鏡片表面，產生雜散光，造成光路污染。'PBM18Y1*'表示牌號為PBM18Y1的玻璃，'SFSL5Y2*'表示牌號為SFSL5Y2的玻璃，'SFSL5Y1*'表示牌號為SFSL5Y1的玻璃，'PBM18Y2*'表示牌號為PBM18Y2的玻璃。
圖2為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖3為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。圖4為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖5為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。圖6為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖7為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。參考圖2~圖7，橫坐標代表光瞳上的高度(單位為mm)，其中中心點(即，橫坐標及縱坐標的交叉點)代表光瞳中心，縱坐標代表像差大小(單位為mm)，每幅圖的不同曲線分別代表多個波長下的像差曲線。從圖2~圖7中可看出多個視場點的最大像差均小於0.005969mm，光刻投影物鏡的波像差均得到較好的校正。
圖8為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下的垂軸色差圖，參考圖8，縱坐標為物方視場高度(單位為mm)，橫坐標為垂軸色差(單位為mm)，曲線L1表示360nm及374nm波長在多個物方視場高度下的垂 軸色差值，曲線L2為360nm及365nm波長在多個物方視場高度下的垂軸色差值。從圖8可看出光刻投影物鏡最大垂軸色差為14nm，說明光刻投影物鏡的垂軸色差已被很好地校正。
圖9為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm光照下的物像方遠心圖，參考圖9，橫坐標為物方視場高度(單位為mm)，縱坐標為遠心(單位為mrad)，圖9中兩條曲線分別為光刻投影物鏡的像方遠心及物方遠心，由於兩條曲線距離非常近，在圖9中重疊，整個視場內物方遠心及像方遠心最大值不超過6.87mrad，光刻投影物鏡的的遠心已被很好地校正。
在一實施例中，參考圖1，光刻投影物鏡在i線波段、h線波段及g線波段光照下的最大像方數值孔徑為0.14。即，使用汞燈的i線波段(i線波段的中心波長為365nm)、h線波段(h線波段的中心波長為405nm)及g線波段(g線波段的中心波長為436nm)作為曝光光源時，光刻投影物鏡的最大像方數值孔徑為0.14。光刻投影物鏡的物像共軛距為900mm，光刻投影物鏡的物像共軛距為光刻投影物鏡的物平面與光刻投影物鏡的像平面之間的距離。光刻投影物鏡的放大倍率為-1，曝光視場直徑為62.934mm，物距及像距均為55.65mm。
圖10為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖11為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為1時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。圖12為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖13為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、 405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.89時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。圖14為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的子午像差分佈圖。圖15為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下，相對物方視場點高度為0.67時在光瞳處的弧矢像差分佈圖。參考圖10~圖15，橫坐標代表光瞳上的高度(單位為mm)，其中中心點代表光瞳中心，縱坐標代表像差大小(單位為mm)，每幅圖的不同曲線分別代表多個波長下的像差曲線。從圖10~圖15中可看出多個視場點的最大像差均小於0.009656mm，光刻投影物鏡的波像差均得到較好的校正。
圖16為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下的垂軸色差圖，參考圖16，縱坐標為物方視場高度(單位為mm)，橫坐標為垂軸色差(單位為mm)，曲線L1表示360nm及374nm波長在多個物方視場高度下的垂軸色差值，曲線L2為360nm及365nm波長在多個物方視場高度下的垂軸色差值。從圖16可看出光刻投影物鏡最大垂軸色差為18nm，說明光刻投影物鏡的垂軸色差已被很好地校正。
圖17為本發明提供的光刻投影物鏡在365nm、405nm及436nm光照下的物像方遠心圖，參考圖17，橫坐標為物方視場高度(單位為mm)，縱坐標為遠心(單位為mrad)，圖17中兩條曲線分別為光刻投影物鏡的像方遠心及物方遠心，由於兩條曲線距離非常近，在圖17中重疊，整個視場內物方遠心及像方遠心最大值不超過5.88mrad，光刻投影物鏡的的遠心已被很好地校正。
本發明進一步提供一種光刻機，其包含上述實施例中的光刻 投影物鏡。光源發出的光經過光刻投影物鏡後照射到工件上，從而實現光刻過程。由於本發明提供的光刻機包含上述實施例中的的光刻投影物鏡，光刻投影物鏡的解析度高，因此使用光刻投影物鏡的光刻機能對產品實現更為細緻的曝光，從而提高產品良率。光刻投影物鏡的數值孔徑大，因此使用光刻投影物鏡的光刻機能對產品實現更大範圍的曝光，從而提高產品產量。光刻投影物鏡的數值孔徑可調，因此使用光刻投影物鏡的光刻機可以在不更換光刻投影物鏡的情況下應用於不同數值孔徑的曝光場景。光刻投影物鏡可適用於i線波段、h線波段及g線波段，因此使用光刻投影物鏡的光刻機可具有更寬的應用波段。
1‧‧‧第一透鏡
2‧‧‧第二透鏡
3‧‧‧第三透鏡
4‧‧‧第四透鏡
5‧‧‧第五透鏡
6‧‧‧第六透鏡
7‧‧‧第七透鏡
8‧‧‧第八透鏡
9‧‧‧第九透鏡
10‧‧‧第十透鏡
11‧‧‧第十一透鏡
12‧‧‧第十二透鏡
13‧‧‧第十三透鏡
14‧‧‧第十四透鏡
15‧‧‧第十五透鏡
16‧‧‧第十六透鏡
17‧‧‧第十七透鏡
18‧‧‧第十八透鏡
19‧‧‧第十九透鏡
20‧‧‧第二十透鏡
G1‧‧‧第一透鏡組
G2‧‧‧第二透鏡組
G3‧‧‧第三透鏡組
G4‧‧‧第四透鏡組
G5‧‧‧第五透鏡組
G6‧‧‧第六透鏡組
IMA‧‧‧光刻投影物鏡的像面
STOP‧‧‧光闌

Claims (12)

  1. 一種光刻投影物鏡，其特徵係其包含沿光軸依次排列的第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、光闌、第四透鏡組、第五透鏡組及第六透鏡組，前述第一透鏡組與前述第六透鏡組對前述光闌對稱，前述第二透鏡組與前述第五透鏡組對前述光闌對稱；前述第三透鏡組及前述第四透鏡組對前述光闌對稱；
    Figure 108148442-A0202-13-0001-18
    ；
    Figure 108148442-A0202-13-0001-19
    ；
    其中，f 1為前述第一透鏡組以及前述第六透鏡組的焦距，f 2為前述第二透鏡組以及前述第五透鏡組的焦距，f 3為前述第三透鏡組以及前述第四透鏡組的焦距。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第一透鏡組以及前述第六透鏡組具有正的光焦度，前述第二透鏡組以及前述第五透鏡組具有負的光焦度，前述第三透鏡組以及前述第四透鏡組具有正的光焦度。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第一透鏡組、前述第二透鏡組、前述第三透鏡組、前述第四透鏡組、前述第五透鏡組及前述第六透鏡組中的所有的透鏡均為球面透鏡。
  4. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第一透鏡組、前述第二透鏡組、前述第三透鏡組、前述第四透鏡組、前述第五透鏡組及前述第六透鏡組均包含至少一個彎月透鏡。
  5. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第一透鏡組 包含4個透鏡，前述第二透鏡組包含2個透鏡；前述第三透鏡組包含4個透鏡；
    前述第四透鏡組包含4個透鏡；前述第五透鏡組包含2個透鏡；前述第六透鏡組包含4個透鏡。
  6. 如申請專利範圍第5項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第一透鏡組包含沿光軸依次排列的第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡及第四透鏡；前述第一透鏡為雙凹透鏡，前述第二透鏡及前述第三透鏡均為彎月透鏡，前述第四透鏡為雙凸透鏡；
    前述第六透鏡組包含沿光軸依次排列的第十七透鏡、第十八透鏡、第十九透鏡及第二十透鏡；前述第十七透鏡為雙凸透鏡，前述第十八透鏡及前述第十九透鏡均為彎月透鏡，前述第二十透鏡為雙凹透鏡。
  7. 如申請專利範圍第5項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第二透鏡組包含沿光軸依次排列的第五透鏡及第六透鏡；前述第五透鏡為彎月透鏡，前述第六透鏡為雙凹透鏡；
    前述第五透鏡組包含沿光軸依次排列的第十五透鏡及第十六透鏡；前述第十五透鏡為雙凹透鏡，前述第十六透鏡為彎月透鏡。
  8. 如申請專利範圍第5項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述第三透鏡組包含沿光軸依次排列的第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡及第十透鏡；前述第七透鏡為彎月透鏡，前述第八透鏡及前述第十透鏡為雙凸透鏡，前述第九透鏡為雙凹透鏡；前述第四透鏡組包含沿光軸依次排列的第十一透鏡、第十二透鏡、第十三透鏡及第十四透鏡；前述第十一透鏡及前述第十三透鏡為雙凸透鏡，前述第十二透鏡為雙凹透鏡，前述第十四透鏡 為彎月透鏡。
  9. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述光刻投影物鏡在i線波段光照下的最大像方數值孔徑為0.18。
  10. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述光刻投影物鏡在i線波段、h線波段及g線波段光照下的最大像方數值孔徑為0.14。
  11. 如申請專利範圍第1項所記載之光刻投影物鏡，其中，前述光刻投影物鏡的曝光視場直徑為62.934mm。
  12. 一種光刻機，其特徵係其包含：如申請專利範圍第1至11項中任一項所記載之光刻投影物鏡。
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