TW483802B - Method and apparatus for cleaning polishing surface of polisher - Google Patents

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TW483802B
TW483802B TW090104246A TW90104246A TW483802B TW 483802 B TW483802 B TW 483802B TW 090104246 A TW090104246 A TW 090104246A TW 90104246 A TW90104246 A TW 90104246A TW 483802 B TW483802 B TW 483802B
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Tatsuo Inoue
Mitsunori Komatsu
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Ebara Corp
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483802 A7 ""'--------- 五、發明說明(1 ) " [發明背景】 本發明係關於一種研磨器之研磨表面清洗方法及裝 置,其中待研磨工件,例如,半導體晶圓,係如麼靠^研 磨平台之研磨布、研磨輪等等之研磨表面上,以藉由在研 磨表面與工件之間的相對運動而研磨該工件。 傳統上,此類型之研磨器係存在有一問題,亦即經過 籲研磨之工件(例如,半導體晶圓)之殘屑會殘留在研磨布之 研磨表面上,而有可能在後績研磨加工處理過程中使工件 受損。為解決該問題,當研磨布之研磨表面藉由整平器(再 ^裝置)來整平時,一清洗液體,例如,純水,或氮氣係嘴 灑在該研磨表面上,藉此使研磨表面上經研磨之工件的殘 屑可以由系統中排放至外界。 當以純水做為清洗液體而喷灑在研奢表面上時,在整 個系統冲之純水使用量便會增加,且欲供應至研磨單元之 書純水篁便會不足。再者,當純水以較低之壓力喷灑在研磨 布之研磨表面上時,無法將位在研磨布表面之凹部中的殘 屑刮降。因此,其便有需要以較大之負載來進行整平。然 而,若研磨布以較大的負載來加以整平時,則由整平器移 除之研磨布的原料數量便會增加。因此,該研磨布之耗損 速率便會增加。 若純水係以高壓狀態喷灑以加強研磨殘屑刮除效果, 則所使用之純水量便會因而增加,當然,這會使得純水之 供應量變得不足。 另一方面’以氮氧喷射在研磨表面上以將研磨殘屑吹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公复) 312378 --I---I--I 11 » ------— It· —--11--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 802 A7
五、發明說明(2 ) 到系統外面的方法雖然有效,但是這仍會具有缺點,亦g , 該研磨殘屑係有可能會由於氮氣之喷射而乾化,而使 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 而更穩固地固定在該研磨布表面上。再者,氮氣的噴射: 會造成研磨殘屑散亂而污染系統外面的環境,亦即,在研 磨平台周圍之環境。這對於後續的研磨加工程序係會 利的影響。 “ 不 [發明概述] 本發明係有鐘於上述習知技術之缺點而發展出來。因 此,本發明之目的係要提供一種研磨表面清洗方法,藉由 最少量的液體而有效地由研磨平台之研磨表面上清除研磨 殘屑〇 本發明之另一目的為提供一種研磨表面清洗裝置,係 可以適當地實現該研磨表面清洗方法。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 本發明提供一種用於研磨器之研磨表面清洗方法,在 该研磨器裡之待研磨之工件係加壓靠在研磨平台之研磨表 面上’藉由在研磨表面與工件之間的相對運動而研磨該工 件。依照該研磨表面清洗方法,清洗液體與氣體之流體混 合物係喷射在該研磨表面上,以清洗該研磨表面。 藉由清洗液體及氣體之流體混合物喷射在研磨表面 上’在研磨表面上之研磨殘屑可以藉由流體混合物中之氣 體來加以刮除,並且藉由清洗液體來加以清洗。因此,在 研磨表面上之研磨殘屬幾乎完全清除。此外,藉由此方法 清洗之研磨表面,不會損害後續研磨製程令之工件,並且 可以保持穩定的研磨性能。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 2 312378
經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 483802 五、發明說明(3 ) 該流體混合物可以藉由複數個位在研磨平台之研磨表 面上方之混合喷嘴來喷射。該混合喷嘴係配置將清洗液體 與氣體混合一起,並且噴射出形成之流體混合物。 此外’本發明亦提供一種用於研磨器内之研磨表面清 洗褒置,其中待研磨之工件係加壓靠在一研磨平台之研磨 表面上,藉由在研磨表面與工件之間的栢對運動而研磨該 _工件。該裝置包含一混合噴嘴,係用以將清洗液體與氣體 混δ 起’以喷射構成之流體混合物在該研磨表面上以清 洗該研磨表面。 藉由將清洗液體及氣體之流體混合物經由混合噴嗜喷 射在研磨表面上,在研磨表面上之研磨殘屑幾乎係完全清 除。此外,藉由此裝置清洗之研磨表面,不會損害後續研 磨製程中之工件,並且可以保持穩定的研磨性能。 該研磨表面清洗裝置係可以進一步包含壓力控制器, 以獨立地控制供應至混合喷嘴之清洗液體及氣體的個別壓 •力。 提供壓力控制器便可以適當控制在流體混合物中之清 洗液體與氣體之間的比例,以及控制流體混合物之喷射速 度’如此便可以視需要而控制在研磨表面上之清洗動作。 在該研磨表面清洗裝置中,該混合喷嘴係可以固定至 安裝構件,以安裝用來供應研磨性液體至研磨表面之研磨 性液體供應喷嘴,或者安裝用來供應化學液體至研磨表面 之化學液體供應喷嘴。 本發明上述及其他目的、特徵及優點,將可以由以下 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 3 312378 --------------裝--------訂—------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 483802 經濟邹智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(4 ) 之詳細說明及附加之申請專利範圍以及所附之圖式,而獲 得更深入之瞭解。 [圖式之簡單說明] 第1圖係一不意圖,顯示研磨器之結構實例,其中該 研磨器可以實現本發明之研磨表面清洗方法。 第2圖係意圖’顯示使用在本發明之研磨表面清 洗方法中之混合喷嘴的結構實例。 第3圖係-示意圖,顯示使用在本發明之研磨表面清 洗方法中之混合喷嘴的另一結構實例。 第4圖係一示意圖,顯示來自混合喷嘴之流體混合物 的喷射流路徑’其中:第4a圖係一侧視圖,顯示流體混合 物之喷射流側視之型態;第4b圖係一平面視圖,顯示該流 體混合物喷射在研磨布表面上之上視型態;第4c圖為流體 混合物之流速分佈圖。 第5圖係一示意圖,顯示由混合喷嘴噴出之流體混合 物之喷射流撞擊在研磨布表面上之分佈點。 尸 第6圖係一時程表,顯示依據本發明所實現之研磨表 面清洗方法之流體混合物噴射在研磨器内之時機之實例。 第7圖係一時程表,顯示依據本發明所實現之研磨表 面清洗方法之流體混合物噴射在研磨器内之時機之另一 例。 貫 第8圖係一示意圖,顯示將該混合喷嘴安裝在研磨器 中之實例,其中該研磨器係可以實現本發明之 主 洗方法。 曆表面清 $氏張f度剌中關家標準(CNS)A4規格⑵0x297公爱)~一 — 312378 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁} £------- — 訂------I . * -%». 483802 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 五、發明說明(5 ) [元件符號說明] 1 研磨平台 la、 3 a轉動轴桿 2 研磨布 3 整平器 4 氮氣供應源 5、 9 調節器 6、 氣動閥 Ί、 7-1至7-4混合喷嘴 8 純水供應源 11 > 16a氣體供應開口 12 、17a液體供應開口 13 混合部分 14 流體混合物排放開σ 15 喷嘴主體 16 圓錐狀喷嘴主體 16 b 氣體排放開口 17 液體供應管 17b 液體排放開口 18 流體混合物 19 喷射流執跡 20 研磨性液體供應喷嘴 21 安裝構件 22 氣體供應管路 23 液體供應管路 [本發明之詳細說明] 本發明之實施例現將參照下列所附之圖式而詳加說明 如下。 第1圖係一示意圖,顯示研磨器之結構實例,其中在 研磨器内為依照本發明所實施之研磨表面清洗方法。在此 一研磨器中,舉例來說,以純水來做為清洗液體,並且以 氮氣來做為與該清洗液體混合之氣體0然而,在此一實施 例中該清洗液體之使用並非僅侷限在純水,舉例來說,可 以為用以研磨之研磨性液體或者用以清洗之化學液體。與 清洗液體相混合之氣體亦不需侷限於氮氣,舉例來說,可 以為壓縮空氣或者為已將油霧及顆粒經由過濾器構件(圖 n I n n n a - I I 1 I - I . I n n I li ϋ u 一aI、· n n n n n n n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 5 312378 483802 A7 五、發明說明(6 ) 上未顯示)移除之蒸氣。 在第1圖中’研磨平台!具有研磨 力 平台上。整平田、,附著在該研磨 十 登+器3用以再生該研磨布2之研磨矣 磨平台1以對轉動軸桿la轉動。該整 。5X研 3a轉動。當研磨布2之研磨表面器3對轉動軸桿 箱定之露U蔽 研磨表面再生時’整平器3便會以|| 在研磨布2之研磨表面上,且藉由在研丨1 生(已整平) 的相對運動而使該研磨表面得以再 複數個混合喷嘴7]至7-4(在本實施例中有四個)配置 f㈣1上方°該混合㈣7]至7_4將純水與氮 氣混合一起,然後將形成之流體混合物嗔射在研磨布2之 研磨表面上。該混合喷嘴至7_4在堡力經由調節器$ 調整之後’經由氣動閥6由氮氣供應源4供應氮氣。該混 合喷嘴7] i7_4亦透過廢力調節器9經由氣動闕1〇由純 水供應源8來提供純水。在每一喷嘴中,所供應之液體係 藉由改變不同的參數,諸如液體及/或氣體之壓力、溫度,·、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、及喷嘴开7狀,而开’成細微顆粒或固化成細微顆粒或者蒸 發(亦即,該液體係微粒化),且液體與氣體成份的混合物 係以預定之方向性而由喷嘴朝向研磨平台i喷射。 當研磨表面藉由在研磨布2與整平器3之間的相對運 動而再生(整平)時,純水與氮氣之流體混合物係經由混合 喷嘴7-1至7-4而喷射在研磨布2之表面(研磨表面)上,以 清洗該研磨表面。氮氣之壓力可以設定在〇 〇1MPa(百萬帕 司卡)至0.7Mpa的範圍内。純水之壓力可以設定在〇1 Mpa 312378 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483802 P· A7 -------__ΒΖ_— —___ 五、發明說明(7 ) 至〇.3Mpa的範圍内。氣氣之壓力及純水之壓力可以彼此 獨立地ax心。雖然在本實施例中,純水管路及氮氣管路係 採用手動驅動調節器,然而每一管路亦可以採用能夠依照 外部信號而改變廢力設定值之調節器。在使用以外部信號 為基礎驅動調節器之例子,依據來自控制器(未顯示)之信 號,對於每個研磨製程,純水及氮氣之壓力可以改變。^ | 當純水係藉由使用增壓設備來供應時,該純水之壓力 可以很容易地上升至l.0Mpa。然而,壓力增加超過此一數 值則不見得能夠產生功效,因為其可能需要採用特殊設備 來增加供應系統之壓力阻抗。在此一實施例中,氮氣之壓 力係設定在0.35Mpa,而純水之壓力係設定在〇 1Mpa。 以下將參考第2圖及第3圖來說明混合喷嘴7之結 構。在第2圖所示之混合喷嘴7具有一喷嘴主體is,在該 喷嘴主體1 5中則具有一混合部分1 3,該混合部分13係一 •個用以將液體與氣體混合在一起之空間。喷嘴主體呈有 液體供應開口 12、氣體供應開口 11以及流體混合物排& 開口 14。氮氣係以預定壓力(在本實施例中係〇 35Mpa)而 供應至氣體供應開口 11,而純水係以一預定壓力(在本實 施例中係O.IMpa)而供應至液體供應開口 12。接著,該氮 氣與純水便可以在混合部分13中混合在一起,且所形成之 流體混合物便能以氮氣與純水之總和壓力而由流體混合物 排放開口 14喷射出來。流體混合物由混合喷嘴7喷射出來 之角度,由流體混合物排放開口 14之形狀所決定。 在第3圖所示之混合喷嘴7具有圓錐狀喷嘴主體16, -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 7 312378 483802 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 社 印 製 A7 B7 五、發明說明(8 ) 且其中係配置有液體供應管17〇氣體供應開口 16a位在該 喷嘴主體16之一端部(後緣端),且氣體排放開口 16b位在 喷嘴主體16之另一端部(前緣端液體供應開口 17a係位 在該液體供應管17之端部(後緣端),且一液體排放開口 17b係位在該液體供應管I?之另一端部(前緣端)。氮氣係 以預定壓力(在本實施例中係0.35Mpa)供應至氣體供應開 口 16a,而純水係以預定壓力(在本實施例中係〇jMpa)而 供應至液體供應開口 17a。接著,由液體排放開口 17b所 排放之純水係經由氣體排放開口 16b所排放出來之氮氣所 捕捉,並且藉由氮氣之壓力而以喷射狀方式喷出。流體混 合物由混合喷嘴7喷射出來之角度,係由氣體排放開口 i6b 之形狀所決定。 第4圖係一示意圖,顯示流體混合物由一混合喷嘴7 噴射出來之執跡。第4a圖係一側視圖,其中顯示由該流體 混合物由側視之喷射型態。第4b圖係一平面視圖,顯示由 上視之流體混合物喷射在研磨布表面上之型態。第4c圖係 一圖表,顯示該流體混合物之流動分佈狀態。由混合喷嘴 7喷出之流體混合物18之喷射流以一喷射角度0散開,並 且撞擊在該研磨布2之上表面。由於流體混合物18需要嘴 射在轉動之研磨布2之整個表面上,因此最好該喷射角度 0係可以增寬,並且最好採用複數個具有45。至75。噴射 角度0之混合喷嘴7(在第丨圖中總共係使用四個混合喷嘴 7_1 至 7-4) 〇 在研磨布2之表面上,該流體混合物18係形成橢圓形 本紙張尺用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) ' 8 312378 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝----- 訂--------- 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 社 印 製 9 483802 A7 --—____B7_ 五、發明說明(9 ) 之形狀,如第4b圖所示。該流體混合物18在研磨布2之 表面上的流動分佈,除了在兩端部(呈梯形流動分佈)以 外’其在中央部位係大致均勻的,如第4c圖所示。 第5圖係一示意圖,顯示該流體混合物1 8撞擊在研磨 布2之表面上的位置點。流體混合物is撞擊在研磨布2 之表面上之喷射流執跡19,可以視為相對於該研磨平台i 之轉動方向A具有一角度α。相對於垂直於該研磨平台ι 之轉動方向Α之垂直方向適當之角度江為4父度角。再 者’混合噴嘴7-1至7_4係配置成使得每一對相鄰之流體 混合物18的喷射流係彼此重疊,此可由側視而得知。藉由 此配置,該流體混合物18便能以均勻的流動分佈而喷射 在該研磨布2之表面上。 現將參考第6圖來說明該流體混合物18喷射之時機。 該流體混合物18在完成工件例如半導體晶圓,研磨之後而 .喷射*來(亦即’在上方環圈已經升起之後村出)。詳古 在該整平器3平置在該研磨布2之表面上而開始整平 f理時,該混合喷嘴7便啟動而喷射㈣流體混合物Μ。 取好’該流體混合物18之嗔射流不是在剛完成整平處理後 (亦即’在該整平器3剛上升之後)便馬上停止,如此藉由 ^流趙混合物18所進行之清洗卫作便可以順利地達成。若 之後藉由該流趙混合物18所進行之清洗 ==長,則研磨處理所花費的時間便會 因此,清洗時間T1最好係限制在1〇 研麻亚^ P鐘之内。殘留在該 i研磨千口 i上之廢液趙係藉由增加該研磨平Μ少㈣ ;紙張尺度賴中關家標準(CNS)A4規格〗2IG χ 297公复「 312378 -------------裝--------訂i aamMm ·ϋ n n n an i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 483802 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^^ A7 B7 五、發明說明(10 ) 數以離心力由該研磨平台1上清除。因此,在研磨表面上 便不會有清洗殘留。 如第7圖所示,該流體混合物喷射時機亦可以在完成 研磨之後(亦即,在上方環圈已經升起之後)以及在開始進 行整平之前,該混合喷嘴7便可以啟動而開始流體混合物 之喷射,且在經過預定時間T2之後,開始進行整平(亦 即’將整平器3降下)。因此’在完成研磨之後,該流體混 合物18係可以喷射一段預定時間T2,將研磨漿液由研磨 布2之表面移除,且之後,進行整平處理。藉由此一設計, 該整平器3係可以避免遭受研磨漿液所侵蝕,藉此增加該 整平器3之使用壽命。然而,須要注意的是,時間T2不 可以設定成過長,因為該流體混合物18在整平之前之喷射 亦會增加研磨處理所花費的時間。 第8圖係一示意圖,顯示混合喷嘴安裝方式的另一實 例。如圖所示,混合喷嘴7-1至7-4係固定至安裝構件21, 其係用以安裝研磨性液體供應喷嘴20,其中該研磨性液體 供應喷嘴20係用以供應研磨性液體至研磨布2之表面,或 者係安裝化學液體供應喷嘴(圖上未顯示)以供應化學液體 (清洗液體)。藉由此一設計,其便可以在研磨性液體供應 喷嘴或化學液體供應喷嘴改變配置位置的同時,改變該用 以供應氮氣及純水之氣體供應管路22及液體供應管路23 之路線配置。在完成研磨之後(上方環圈升起之前),該混 合喷嘴7-1至7-4便可以開始喷射流體混合物18,以將殘 留在研磨平台1上之研磨材料移除,藉此可以避免過度研 -----------^--------^ ο---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 10 312378 802 802
五、發明說明(11 ) 磨,以及穩定研磨速率。 在上述實施例中,士 ntt " 本發明係已針對清洗研磨器之研磨 表面的實例來說明,其中該研磨器係由研磨布2附著於研 磨平口 1之上表面而形成。然而,本發明並未偈限於上述 實施例,但亦可以應用於清洗研磨器之研磨輪表面的方 法其中該研磨器具有研磨輪固定在研磨平台上。 如前所述,本發明可以提供以下之優點。 依照本發明’清洗液體及氣體之流體混合物係喷射在 研磨表面上’藉此在研磨表面上之研磨殘屑便可以藉由流 體混合物中之氣體來加以刮除,並且進一步藉由清洗液體 來加以清洗。因此,在研磨表面上之研磨殘屑幾乎可以完 王α除此外,猎由此方法所清洗之研磨表面不會損害後 績研磨製程中之工件,並且可以保持穩定的研磨性能。 依照本發明之研磨表面清洗裝置,清洗液體及氣體之 流體混合物係由混合喷嘴喷射在研磨表面上,藉此,在研 磨表面上之研磨殘屑便可以藉由流體混合物中之氣體來加 以到除’並且進一步藉由清洗液體來清洗。因此,在研磨 表面上之研磨殘屑幾乎可以完全清除。此外,藉由此方法 所清洗之研磨表面,係不會損害後績研磨加工處理製程中 之工件,並且可以保持穩定的研磨性能。 若研磨表面清洗裝置係具有壓力控制器,以獨立地控 制供應至混合喷嘴之清洗液體及氣體的個別壓力,則便可 以達到在流體混合物中之清洗液體與氣體之間比例,及流 體混合物之喷射速度之適當控制,如此便可以視情況需要 --------訂--------* (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(cns)a4規格(210 x 297公釐) 11 312378 483802 A7 五、發明說明(η ) 而控制在研磨表面上之清洗動作。 該混合喷嘴可以固定至安裝構件, 由αν»祕r ^ ^ 从女裝用以供應研 磨性液體至研磨表面之研磨性液體喑喈 ^ 只再’或者安裝用以供 應化學液體至研磨表面之化學液體供應喷嘴❶此設計係使 其可以在研磨性液體供應喷嘴或化學液體供應喷嘴之配置 位置改變的同時,改變該氣體供應管路及液體供應管路之 配置。 在此應說明的是,本發明並未侷限於上述實施例,相 反地,其仍可以有許多各種不同的變化裡做變更。 -----------41^ 裝--------訂---------^^_wl (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 12 312378

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ι· -種使用在研磨器中之研磨表面清洗方法,其中待研磨 之工件係加壓靠在研磨平台之研磨表面上,藉由在該研 磨表面與該工件之間的相冑運動而研磨該工件,該方法 包括以下之步驟: 製備清洗液體與氣體之流體混合物;以及 喷射該流體混合物於該研磨表面上以清洗該研磨 表面。 2.如申請專利範圍第1項之研磨表面清洗方法,其中喷射 該流體混合物於該研磨表面上之步驟係包括以下之步 驟: 提供複數個混合噴嘴,將清洗液體與氣體混合在一 起,該複數混合喷嘴係配置在該研磨平台之研磨表面上 方;以及 經由該複數混合喷嘴喷射該流體混合物於該研磨 表面上。 ^ . 〆 3· —種使用在研磨器中之研磨表面清洗裝置,其中待研磨 之工件係加壓靠在研磨平台之研磨表面上,以藉由在該 研磨表面與該工件之間的相對運動而研磨該工件,該裝 置包括: 一混合喷嘴,係用以將清洗液體與氣體混合一起, 以構成流體混合物並且喷射該流體混合物;以及 用以操作該混合喷嘴之裝置,係用以將該流體混合 物喷射在該研磨表面上,以清洗該研磨表面。 4.如申請專利範圍第3項之研磨表面清洗裝置,進一步包 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 I裝 頁 訂 痤齊郎智慧时產局員X.消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 13 312378 483802
    壓力控制裝置,係用以獨立地控制供應至該混合喷 嘴之清洗液體與氣體之個別壓力。 5· 6· 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 頁 如申請專利範圍第4項之研磨表面清洗裝置,其中該混 合喷嘴固定至安裝構件,以安裝用以供應研磨性液體至 該研磨表面之研磨性液體供應喷嘴之一,或者安裝用以 供應化學液體至該研磨表面之化學液體供應喷嘴。 如申凊專利範圍第3項之研磨表面清洗裝置,其中該流 體混合物係由清洗液體及氣體所構成,且壓力、溫度及 喷嘴形狀皆受到控制。 種研磨表面清洗方法,其包含以下之步驟: 藉由加壓工件壓於研磨表面上且在其間產生相對 運動而研磨該待研磨工件; 在研磨步驟之後,藉由整平器整平該研磨表面,· 在該整平器開始整平時,經由混合喷嘴喷射清洗液 體及氣體之流體混合物至該研磨表面; 在整平結束後’經過一段預定時間,停止經由該混 合噴嘴喷射該流體混合物之動作。 8. —種研磨表面清洗方法,其包含以下之步驟: 藉由上方環圈藉握持工件加壓該工件靠在研磨表 面’並且藉由在該工件與該研磨表面之間產生相對運動 而研磨該待研磨工件; 在研磨步驟之後,藉由整平器整平該研磨表面; 在研磨之後而該上方環圈上升的同時,經由混合喷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公Μ ) 14 312378 483802 A8B8C8D8 六、申請專利範圍 嘴喷射清洗液體及氣體之流體混合物至該研磨表面。 9· 一種研磨表面清洗方法,其包含以下之步驟·· 藉由將工件加壓靠在研磨表面,且在其間產生相對 運動而研磨該待研磨工件; 在研磨步驟之後,藉由整平器整平該研磨表面; 在整平步驟開始之前,經由混合喷嘴噴射清洗液體 I 及氣體之流體混合物至該研磨表面; 在整平處理結束後’經過一段預定時間時,停止經 由該混合喷嘴喷射該流體混合物之動作。 ' -------------裝 i. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    訂---------線 陘齊郎智慧时產局員X消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公f) -----—_ 15 312378
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