TW405176B - Cleaning fluid for electronic materials - Google Patents

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TW405176B
TW405176B TW087121405A TW87121405A TW405176B TW 405176 B TW405176 B TW 405176B TW 087121405 A TW087121405 A TW 087121405A TW 87121405 A TW87121405 A TW 87121405A TW 405176 B TW405176 B TW 405176B
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TW
Taiwan
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washing water
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dissolved
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Hiroshi Morita
Junichi Ida
Tetsuo Mizuniwa
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Kurita Water Ind Ltd
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Description

^05176 Λ7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 1 ) 1 1 發 明 所 _ 技 術 鞒 嚼 1 1 1 本 發 明 係 關 於 電 子 材 料 用 洗 淨 水 0 具 體 之 9 本 發 明 1 1 係 關 於 —. 種 電 子 材 料 用 洗 淨 水 9 在 從 電 子 材 料 表 面 去 除 fv 請 先 雜 質 9 尤 指 微 粒 之 濕 式 洗 淨 中 > Μ 低 濃 度 的 藥 劑 溶 解 量 閱 讀 1 1 9 在 室 溫 即 可 有 效 洗 淨 者 0 背 1 之 1 η. 知 抟 術 意 1 拳 1 從 半 導 體 用 矽 基 板 .、 液 晶 用 玻 璃 基 板 光 罩 用 石 英 基 項 再 板 等 電 子 材 料 表 面 去 除 微 粒 為 防 止 不 良 品 的 極 重 要 之 填 寫 本 1 -裝 舉 〇 為 此 巨 的 , 向 來 使 用 混 合 氨 和 過 氧 化 氫 的 水 溶 液 加 I 1 I 溫 > 進 行 ΑΡΜ 洗 淨 〇 一 般 方 法 中 9 ΑΡΜ 洗 淨 所 用 藥 品 混 1 1 合 比 f Μ 氨 水 (29重量% ) 過 氧 化 氫 水 (30重量% ): 水 1 1 = 1 : 1 : 5 為 標 準 9 在 洗 淨 溫 度 80 1C 左 右 進 行 〇 APM 洗 淨 訂 方 式 顯 示 非 常 儍 良 的 微 粒 去 除 硬 化 > 但 問 題 很 多 t 例 如 使 用 大 最 高 純 度 藥 劑 9 因 此 洗 淨 後 必 須 用 大 量 超 純 水 淋 1 1 洗 排 水 處 理 負 擔 大 > 必 須 有 加 溫 和 itrt m 溫 機 構 9 由 於 發 1 1 生 大 量 藥 品 蒸 氣 > 必 須 有 空 調 設 備 Η 排 出 蒸 氣 > 並 吸 入 1 1 相 當 於 排 氣 量 的 新 鮮 空 氣 量 % 加 淨 化 〇 線 I 在 無 損 微 粒 去 除 735 硬 化 的 情 況 下 > 解 除 上 述 問 題 的 方 法 1 1 就 向 來 將 藥 品 稀 釋 數 倍 t 於 溫 度 40 V 左 右 或 常 溫 時 t 1 併 用 超 音 波 振 動 之 方 法 加 Μ 研 究 〇 此 等 改 良 係 Μ 習 知 方 Γ 法 為 基 礎 » 具 有 量 產 工 場 亦 可 採 用 的 優 點 I 但 問 題 的 改 Γ 善 效 果 小 0 1 因 此 > 亟 需 有 藥 劑 用 量 少 9 可 在 常 溫 洗 淨 t 且 洗 淨 效 1 I 果 大 的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 0 1 1 I -3 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) Λ7 405176 _bj 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (2 ) 1 1 發 明 所 要 解 決 的 課 闕 1 1 本 發 明 之 g 的 9 在 於 提 供 —* 種 電 子 材 料 用 洗 淨 水 t 在 \ 1 從 電 子 材 料 表 面 去 除 雜 質 > 尤 指 微 粒 之 濕 法 洗 淨 中 9 Μ 請 先 低 濃 度 的 藥 劑 溶 解 量 在 室 溫 9 即 可 進 行 有 效 洗 淨 > 節 閱 ik 1 1 省 資 源 rm in 保 效 果 大 » 且 量 產 工 場 亦 可 容 易 採 用 0 背 I 之 1 M, 決 課 Μ 手 段 注 意 1 事 1 本 發 明 人 等 就 解 決 上 述 Μ 題 加 Μ 重 複 潛 心 研 究 結 果 » 項 再 I 發 現 在 含 氨 和 過 氧 化 氬 的 低 濃 度 水 中 9 溶 有 比 大 氣 飽 和 填 寫 本 1 _裝 I 濃 度 更 高 濃 度 的 氧 氣 或 堪 原 性 物 質 之 洗 淨 水 t 以 去 除 電 頁 1 1 子 材 料 表 而 附 著 的 微 粒 > 具 有 優 良 效 果 t 基 於 此 項 知 識 1 1 1 完 成 本 發 明 0 1 1 即 本 發 明 提 供 ; 訂 1 . 一 種 電 子 衬 料 用 洗 淨 水 t 其 特 徵 為 9 溶 有 比 大 氣 飽 和 濃 度 更 高 濃 度 的 氧 氣 或 m 原 性 物 質 » 且 含 有 氨 〇. 1 - 1 1 10 ,000 ID g / 1 和 過 氧 化 氫 0 . 1, -1 0, 000m g/ 1者( 1 I 2 . 一 種 電 子 材 料 用 洗 淨 水 * 其 特 徵 為 9 溶 有 比 大 氣 飽 1 1 線 1 和 濃 度 更 高 濃 度 之 氧 氣 f 且 含 有 氨 0 . 1 〜10, 000m S / 1和 過 氧 化 氫 0 . 1〜1 0, 0 0 0m g / 1者C —丨 I 3 . _. 種 電 子 材 料 用 洗 淨 水 f 其 特 徵 為 溶 有 遷 原 性 物 1 質 9 且 含 有 氨 0 . 1、 -1 0, 000m g / 1和過氧化氫0 .1 10 ,000 1 ί mg / 1 者 0 f 4 · 如 上 述 第 1 至 3 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 9 其 中 被 洗 I 淨 之 電 子 材 料 為 半 導 體 用 矽 基 板 液 晶 用 玻 璃 基 板 •N 或 1 1 光 罩 用 石 英 基 板 者 0 1 I -4 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公後) Λ7405176 β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( a ) 1 i 再 者 » 本 發 明 較 佳 具 體 例 有 1 1 | 5 . 如 第 1 或 2 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 » 其 中 溶 存 氧 氣 1 濃 度 為 1 2 m % -J\ 以 上 者 〇 請 先 1 6 . 如 第 5 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 > 其 中 溶 存 氧 氣 濃 度 閏 讀 1 背 為 20 m g / 1 Μ 上 者 0 ΐέ I 之 1 7 · 如 第 6 項 之 電 子 «. .1 材 料 用 洗 淨 水 > 其 中 溶 存 氧 氣 濃 度 注 意 1 | 事 1 為 30 m g / 1 Μ 上 者 0 項 再 I 8 . 一 種 製 造 第 1 或 2 項 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 .方 法 » 其 填 寫 本 1 -裝 1 特 徵 為 在 將 水 脫 氣 Μ 降 低 溶 存 氣 體 之 胞 和 度 後 > 供 應 頁 1 1 氧 氣 9 使 氧 氣 溶 於 水 中 者 〇 1 1 9 . 如 第 8 項 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 ) 其 中 換 算 成 氧 1 1 氣 飽 和 度 之 供 應 量 f 相 當 於 脫 氣 的 氣 體 飽 和 度 降 低 量 者0 訂 10 * 如 第 9 項 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 9 其 中 從 水 除 、丨 去 溶 存 氣 jrd» 體 並 溶 解 氧 氣 時 f 採 用 透 氣 膜 模 組 者 0 1 1 11 * 第 10 項 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 * 其 中 透 氣 膜 横 1 1 m 設 有 二 段 9 月W 段 透 氣 膜 模 組 係 全 部 溶 存 氣 體 為 對 象 1 1 線 » 用 來 進 行 減 壓 膜 脫 氣 > 後 段 透 氣 膜 模 組 用 來 溶 解 氧 氣 者 0 1 1 12 * 如 第 3 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 9 其 中 遒 原 1 性 物 質 濃 度 為 0 . 00005重量% 者 ) Γ 13 * 如 第 3 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 9 其 中 還 原 性 物 質 濃 度 係 高 純 度 試 藥 者 0 1 14 * 如 第 3 項 之 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 製 法 9 其 中 遷 原 1 | 性 物 質 濃 度 係 氪 氣 次 亞 硫 酸 鹽 亞 硫 酸 鹽 Λ 亞 硫 酸 氫 1 | -5 I 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公t ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ' Λ7 __405176__Π7____________________ 五、發明説明(4 ) 鹽、亞硝酸鹽、阱、硫化氫、甲酸或醛者。 15. —種電子材料之洗淨方法,其特徵為,在第1至 3項之電子材料用洗淨水中,一邊施Μ頻率400仟赫Μ 上之超音波振動,一邊洗淨者。 16. 如第15項電子材料用洗淨水之製法,其中電子材 料用浼淨水是在室溫原狀用來洗淨者。 馘明夕官倫亘鵲例 本發明電子材料用洗淨水溶有比大氣飽和濃度更高濃 度的氧氣或遨原性物質,且含有氨0,1〜10,OOOmg/]和 過氧化氫0.1〜10,000mg/l。本發明電子材料用洗淨水 以超純水為佳。另外,本發明電子材料用洗淨水中所用 氨和過氧化氫,Μ電子材料四級之高純品為佳。 大氣飽和濃度係在與大氣圼平衡狀態的水中所溶氣體 濃度。氧氣的大氣飽和濃度因溫度而異,低溫時高而高 溫時低,在20〜25t:時為8〜9mg/l左右。本發明電子材 料用水,其溶存氣氣濃度以1 2 m g /丨Μ上為佳,2 0 mg/lK上更好,而K30rag/IK上尤佳◊本發明電子材料 用洗淨水可視使用目的,選用溶存氧氣濃度。 本發明電子材料用洗淨水溶有比大氣飽和濃度更高濃 度的氧氣,且含有低濃度氨和過氧化氪,具有完全除去 電子材料表面的金屬污染、有機物污染和微粒污染之效 果,尤其對去除微粒污染,可發揮儍異效果。本發明電 子材料用洗淨水,可選用於洗淨半導體用矽基板、液晶 用玻璃基板、光罩用石英基板等。 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X 297公楚) ---^------裝-------訂 J-----線 - _ (讀先閏讀背面之注意事項再填寫本頁) 5 /--- 明説 明 發五 6715 ο4
7 B 預氧 在過 可和 ,氨 制加 限添 別 , 特氣 無氧 法的 製度 之濃 水高 淨更 洗度 用濃 料 和 材飽 子氣 電大 明比 發有 本溶 先 比中 解當 溶法 ,方 中等 水此 的在 氫。 化成 氧製 過而 和氣 氨氧 有的 含度 於濃 可高 亦更 , 度 成濃 製和 而飽 氫氣 化大 為在 法 , 方法 的方 氫之 化氣 氧氧 過解 和溶 氨前 加之 添氫 中化 水氧 的過 氣和 氧氨 解加 溶添 先在 預照 在按 Μ 。 ,佳 和低 飽降 的度 體濃 氣氣 存氧 溶中 低水 降使 使即 即或 氣失 脫逸 水而 博 動 tin non 先移 要相 前氣 之向 氣會 氧氨 解 , 溶度 脫水 水於 將溶 在氣 M氧 是使 水氣 於氧 溶應 氣供 氧 , 〇 後 虜度 之和 解飽 分的 氫體 化氣 氧存 過溶 進低 促降 有氣 氣值 的之 中量 水解 於溶 溶體 是氣 度的 和時 飽 P 體20 氣度 ,溫 中、 明pa 發 5 本10 在力 〇 懕 佳以 為除 法 , 方量 之體 狀的 衡解 平溶 圼中 觸水 接苕 氣 , 氮/1 的Big P 2 ο 9 2 1 度為 溫量 、 解 pa溶 5 的 10中 力水 壓在 與氣 水氮 如 , 例時 ο 態 和量 飽解 之溶 中在 水則 的 , /1氣 Ing氮 .2有 19只 為體 量氣 解的 溶解 在溶 則.中 ,水 時而 氣 , 氮倍 有 ο 只1. 體為 氣度 為 度 溫 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. -3 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 pa氣利 5 氮則 10解, 力溶態 S會狀 在,的 ,水倍 X的1.0 。態丨 倍狀 5衡 丨平 成 觸1’ 接g/ 氣8m 空 8 與氣 ,氧 P 和 度 和 包 為Η 口壬 度 和 飽 之 中 水 的 1.者 氣再 氮 。 為倍 成 1 量 ο 解為 溶即 體度 氣和 使飽 氣其 脫 , 用水 氣 氧 和 Ρ 5 ο 11 力 壓 與 水 的溫 為 量為 解量 溶解 中溶 水其 在則 氣 , 氧氣 ,氧 。 時有倍 態只 5 狀體 ο 衡氣為 平解度 呈溶和 觸中飽 接水之 氣若水 氧,的 11* 11 -ώ / / L s S Γ m m ο ο ο 2 · . ί 4 2 度 4 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公t ) 線 經濟部中央檑準局員工消費合作社印製 Λ7 ------------------- 五、發明説明(6 ) 本發明電子材料用洗淨水中,要提高洗淨用功能水的 效果,則溶存氧氣濃度愈高愈好,在大氣壓下和常溫時 的飽和濃度接近約4 4 D! g / I時,洗淨效果高。可是,即使溶 存氧氣濃度不提高到飽和附近,只要在某一水準K上的 濃度,仍屬實質有效的電子材料用洗淨水。其濃度在1 2 m g / I Μ上,Μ 2 0 m g /丨左右為佳,即在常溫和大氣壓下的 溶存氧氣飽和度為1/2倍弱時,可由本發明人等加K確 認。溶存氧氣濃度在3 0 m g / 1左右,即提高到胞和的7 0 % 時,可更加提高洗淨效果。 本發明電子材料用洗淨水製造中,水的脫氣程度/雖無 特別眼制,但為Μ良好效率製造溶存氧氣濃度在20mg/l Μ上的電子材料用洗淨水,Μ脫除相當於所要溶解氧氣 飽和度量的溶存氣體,空出水中氣體溶解容量製成為佳 。例如要溶解飽和度1 / 2倍Κ上的氧氣時,宜預先脫氣 除去相當於飽和度1/2倍以上的溶存氣體。令換算成飽 和度的原水中溶存氣體之脫氣量,與換算成飽和度的所 要溶解氧氣量大約相等,即可容易溶解氧氣。 不控制溶存氣體而與大氣呈平衡狀態的水,在常溫溶 有約8 m g / 1的氧氣、約1 6 m g / 1的氮氣,和微量的碳酸等。 此水為原水時,若溶存氮氣濃度降到8 m g / 1左右Μ下, 即飽和度的1/2左右Μ下,即可容易溶解到氧氣飽和度 的1/2左右,而得溶存氧氣濃度20®g/lM上的電子材料 用洗淨水。 在本發明方法中,做為原水的水不必一定要與大氣呈 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) J.I---Μ-----^--------IT—-----.^ 1 -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 405176 b7 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 7 ) 1 1 1 平 衡 狀 態 , 溶 存 氣 體 種 類 濃 度 比 率 等 7C 全 没 有 限 制 1 1 〇 例 如 藉 大 約 只 有 氮 氣 取 代 溶 存 氣 體 » 以 提 局 溶 存 氮 氣 〆—V. 請 先 1 濃 度 之 原 水 時 , 只 要 由 此 脱 除 相 當 於 必 要 飽 和 度 之 量 的 閱 1 溶 存 氮 氣 9 即 可 逹 成 0 的 〇 總 之 J 將 總 溶 存 氣 體 的 減 低 背 I 之 1 量 換 算 為 飽 和 度 時 ♦ 只 要 與 所 要 溶 存 氧 氣 飽 和 度 相 抵 以 意 1 I 上 的 量 m 可 〇 事 項_ 再 1 1 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 製 造 中 的 脫 氣 處 理 以 不 拘 填 寫_ 本 1 裝 何 種 氣 體 均 可 除 去 的 真 空 脫 氣 或 滅 壓 膜 脫 氣 為 佳 〇 其 中 頁 1 I 利 用 高 純 度 氣 膜 模 組 之 膜 脱 氣 特 別 適 用 > 因 為 可 在 較 近 1 1 使 用 現 場 無 損 原 水 純 度 , 脫 除 微 粒 溶 存 的 氣 體 0 1 I 本 發 明 中 > 氣 氣 在 水 中 溶 解 方 法 並 無 特 別 限 制 可 以 訂 例 如 不 將 水 脱 氣 J 而 利 用 冒 泡 等 使 局 度 氧 氣 與 水 接 觸 > 基 於 利 定 律 減 少 水 中 溶 存 氮 氣 ) 可 使 溶 存 氧 氣 濃 度 1 | 在 3 0 R1 g / 1 以上 〇 按 照 氧 氣 在 水 中 冒 泡 的 方 法 j 提 局 水 中 1 I 溶 存 氧 氣 到 一 定 濃 度 為 止 的 必 要 氧 氣 量 雖 多 但 不 用 特 1 1 殊 裝 置 9 即 可 簡 便 製 成 含 溶 存 氯 氣 的 水 〇 線 利 用 氧 氣 在 水 中 冒 泡 以 製 造 溶 氧 的 水 之 際 » 宜 先 從 水 1 1 除 去 溶 存 氣 體 ,再令氣氣冒泡。 從水除去溶存氣體的方法 1 1 無 特 別 限 制 例 如 可 通 水 於 脫 氣 膜 裝 置 * 或 通 水 於 保 持 I I 減 壓 的 充 填 塔 〇 從 水 除 去 溶 存 氣 體 後 9 使 氧 氣 冒 泡 9 即 1 .1 可 減 少 必 要 的 氧 氣 蠆 ϊ 使 水 中 溶 存 氣 氣 提 高 到 一 定 濃 度。 1 本 發 明 中 亦 可 用 透 氣 膜 模 組 提 尚 水 中 溶 存 氯 氣 濃 度 〇 1 1 例 如 以 氧 氣 為 灌 充 氣 體 > 通 過 透 氣 膜 模 組 的 氣 相 9 卽 可 1 ! 使 溶 存 氧 氣 濃 度 達 3 0 m g / 1以上 0 與 大 氣 呈 平 衡 狀 態 的 水 i 1 -9 - I 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 405176--- 五、發明説明(ί ) 中氣氣以外之溶存氣體,大多為氤氣,藉提高透氣膜 模組的氣相之氣氣分相,與溶於水中的氮氣交換,以減 少溶存氮氣,即可提高溶存氣氣濃度。按照以氣氣為灌 充氣體之方法,必須有相當程度的過剩氧氣,但使用簡 單裝置即可簡便提高溶存氣氣濃度。 本發明中可採用多段透氣膜模組,進行除去溶存氣體 和溶解氧氣。例如設二段透氣膜模組,使用前段透氣膜 模組以全部溶存氣體為對象進行減壓膜脫氣,後段透氣 膜模組用來溶解氧氣。設二段透氣膜模組進行以全部溶 存氣體為對象的減壓膜脱氣和溶解氧氣,不會順利放出 氣氣,可大約定量溶解於水中》 設二段透氣膜模組,使用前段透氣膜模組以全部溶存 氣體為對象進行減壓膜脫氣時,在前段透氣膜模組的減 壓氣相中,可有氣氣存在。由於前段透氣膜模組的減壓 氣相中有氧氣存在,氧氣使用量稍會增加,但可提高前 段透氣膜模組的氮氣除去效果,同時水中可溶解某一程 度的氧氣。 本發明中可視必要的溶存氣氣濃度,或電子材料用洗 淨水的使用量等,選擇適當的氧氣溶解方法。 本發明電子材料用洗淨水所用還原性物質無特別限制 ,有例如氫等還原性氣體,次亞硫酸鈉(N a 2 S 3 0 4 )、 次亞硫酸銨等次亞硫酸鹽、亞硫酸納(N a 2 S 0 3 )、亞硫 酸銨等亞硫酸鹽、亞硫酸氫鈉(N a H S 0 3 )、亞硫酸氫銨 等亞硫酸氫鹽,亞硝酸納(N a Μ 0 3 ).、亞硝酸銨等亞硝酸 -1 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) -----Γ-----批衣------ΐτ------^ * - . I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 405176 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 9 ) 1 1 鹽 > 阱 9 硫 化 氫 等 無 m m 原 性 物 質 j 甲 酸 醛 等 有 機 還 1 1 I 原 性 物 質 等 0 此 等 遷 原 性 物 質 可 單 用 1 種 » 亦 可 2 種 以 1 上 m 合 使 用 〇 所 用 遷 原 性 物 質 以 高 純 度 試 藥 為 佳 0 -—S 請 先 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 中 » 遷 原 性 物 質 的 濃 度 Μ 閲 1 | 。‘ 00005〜1 重 量 % 為 佳 t 而 以 0 . 05 〜 0 . 5重量\ 更好 0 背 I 之 1 m 原 性 物 質 的 濃 度 在 0 . 00005重量% K下時, 有洗淨效 意 1 事 1 果 不 足 之 虞 0 m 原 性 物 質 濃 度 在 1 重 量 % 下 9 已 可 呈 項 再 現 充 分 洗 淨 效 果 9 通 常 不 必 超 過 1 重 量 % 的 遛 原 性 物 質 填 寫 本 1 -裝 > 若 xua m 原 性 物 質 濃 度 太 高 t 洙 淨 後 拊 洙 所 必 要 的 水 量 有 頁 1 I 過 多 之 虡 〇 堪 原 性 物 質 為 氫 氣 時 » 其 濃 度 Μ 0 . 5 ^ -1 .5 1 1 m g / 1 為 宜 0 1 1 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 的 製 法 無 特 別 限 制 9 可 在 預 訂 先 溶 解 遝 原 性 物 質 的 水 > 添 加 氨 和 過 氧 化 氫 而 製 成 9 亦 可 在 含 氨 和 過 氧 化 氫 的 水 溶 解 堪 原 性 物 質 而 製 成 > 遨 可 1 1 將 溶 解 遷 原 性 物 質 、 過 氧 化 氫 的 水 溶 液 混 合 製 成 0 1 I 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 中 9 氨 含 量 為 0 . 1〜1 0 , 000 1 1 mg / 1 9 以 1 m 1 0 0 m g / 1為佳c 電子材料用洗淨水因含氨, 線 I 使 電 子 材 料 用 洗 淨 水 圼 鹼 性 微 粒 和 被 洗 淨 物 的 表 面 電 Ί 1 位 均 鄉 成 負 > 可 防 止 微 粒 再 附 著 於 被 洗 淨 物 表 面 0 氨 含 1 1 量 在 0 . 1 RI g / 1M下時, η &淨效男 Ϊ有不足之虞C 氨含量在 1 1 10 ,000 mg / 1 下 已 呈 現 充 分 洗 淨 效 果 » 通 常 含 氨 不 必 超 1 過 10 ,000 rag / 1 > 含 氨 量 太 多 時 > 洗 淨 後 淋 洗 時 必 要 水 量 1 有 增 多 之 虞 0 1 I 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 -1 中 1 - 過 氧 化 氫 含 量 為 0 . 1 ^ 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4現格(210 X 297公釐') 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A 7 __4051 7β b7__ 五、發明説明(10 ) 10,000mg/l, K1〜100mg/l更好。電子材料用洗淨水因 含有過氧化氫,即使僅溶有氧氣,亦可安定維持氧化性 ,防止被洗淨物表面皴裂。過氧化氫含量在0.1mg/lM 下時,洗淨效果有不足之虞。過氧化氫含量在10, 〇〇〇mg/l Μ下時,已圼規充分洗淨效果,通常含過氧化氫沒有必 要超過10,OOOmg/1,過氧化氫含量太多,則洗淨後淋洗時必 要水量有增多之虜。 本發明電子材料用,洗淨水,與電子材料,尤指被微粒 污染的電子材料接觸方法無#別限制,可視微粒種類、 粒度、附著量等適當選擇。例如可將微粒污染的電子材 料浸於電子材料用洗淨水中,分批洗淨,或每次處理一 張,Μ進行逐張洗淨,逐張洗淨方法有將微粒污染的電 子材料轉動,流注電子材料用洗淨水之旋洗法等。使用 本發明電子材料用洗淨水,洗淨受微粒污染的電子材料 之際,可對電子材料用洗淨水胞Κ超音波振動。對電子 材料用洗淨水施Κ超音波振動的方法無特別限制,例如 在分批洗淨中,可對貯存電子材料用洗淨水的槽施Κ超 音波振動,而在旋洗中,可對流動電子材料用洗淨水的 噴嘴施W超音波振動。所施超音波振動的頻率Κ 2 0仟赫 Κ上為佳,而Κ400仟赫Μ上更好。超音波振動頻率在 20仟赫Κ下時,從微粒污染的電子材料除去微粒不足。 進行對被洗淨物表面無損的精密洗淨時,胞Κ 4 0 0仟赫 Μ上特別高頻率超音波振動為佳。 本發明電子材料用洗淨水在室溫顯示優異的微粒除去 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4棵格(210 X 297公釐) — :---^------批衣------1Τ------il •* - - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 405176 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 11 ) 1 I 效 果 f 可 在 髙 度 微 粒 除 去 率 洗 淨 電 子 材 料 表 面 > 故 不 必 1 1 像 習 知 APM 洗 淨 那 樣 加 熱 到 高 溫 0 因 此 , 使 用 本 發 明 電 1 1 子 材 料 用 洗 淨 水 y 可 降 低 能 量 成 本 , 改 善 作 業 環 境 0 ^-V 請 先 1 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 9 適 用 採 取 循 環 式 的 電 子 材 閱 讀 1 料 用 洗 淨 水 供 應 裝 置 > 即 從 密 閉 式 電 子 材 料 用 洗 淨 水 貯 面 1 I 之 1 槽 經 配 管 送 水 到 使 用 現 場 9 剩 餘 電 子 材 料 用 洗 淨 水 經 配 注 意 1 事- 1 管 回 送 到 密 閉 式 電 子 材 料 用 洗 淨 水貯 槽 0 第 1 圖 為 本 發 項 再 1 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 製 造 供 應 裝 置 一 具 體 例 之 糸 統 圖 填 寫- 本 1 裝 0 原 水 利 用 真 空 泵 送 到 氣 相 側 保 持 減 壓 的 刖 段 透 氣 膜, 模 頁 1 I 驵 2 除 去 溶 存 氣 體 0 除 去 溶 存 氣 體 的 水 9 接 著 送 到 後 1 1 段 的 透 氣 膜 模 組 3 > 由 氧 氣 供 懕 器 4 供 應 的 氧 氣 溶 解 到 1 1 預 定 濃 度 9 成 為 溶 氧 濃 度 比 大 氣 飽 和 濃 度 為 高 的 水 0 溶 訂 氧 濃 度 比 大 氣 飽 和 濃 度 為 高 的 水 中 9 再 注 入 從 氨 水 貯 槽 5 經 泵 6 送 來 的 氨 水 9 Μ 及 從 過 氧 化 氫 水 貯 槽 7 經 泵 8 1 1 送 來 的 過 氧 化 氫 水 » 調 製 為 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 淨 水 f 1 I 貯 存 在 密 閉 式 電 子 材 料 用 洗 淨 水 貯 槽 9 0 測 量 溶 氧 濃 度 1 1 比 大 氣 飽 和 濃 度 為 高 的 水 之 流 入 量 , 及 貯 槽 内 電 子 材 線 料 用 洗 淨 水 的 氨 和 過 氧 化 氫 濃 度 送 信 號 到 控 制 器 » Μ 1 1 控 制 經 泵 6 和 8 送 來 的 氨 水 和 過 氧 化 氫 水 注 人 量 > 即 可 Ί 保 持 貯 槽 内 電 子 材 枓 用 洗 淨 水 的 氣 和 過 氧 化 氫 濃 度 於 預 | 定 值 〇 ί | 貯 存 在 密 閉 式 電 子 材 料 用 洗 淨 水 貯 槽 9 的 電 子 材 料 用 1 1 洗 淨 水 , 利 用 泵 10 經 配 管 1 1送 到 使 用 現 場 12 > 使 用 現 場 1 I 用 剩 的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 > 經 配 管 送 回 到 密 閉 式 電 子 材 1 1 -13- 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4祝格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 --405t76B2 五、發明説明(p) 料用洗淨水貯槽,可循環再用。 溶氧並含有低濃度氨和過氣化氫的本發明電子材料用 洗淨水,因氧氣不會自行分解,故極為安定,由於含氨 和過氣化氫的濃度均低,且使用於密閉式貯槽和供應配 管,可長期間保持水質。使用此等裝置,對多數使用現 場不設洗淨水製造裝置,而是集中製造電子材料用洗淨 水,通過主配管和支配管,把水質安定的電子材料用洗 淨水供應到複數使用現場。然而,使用現場用剩的電子 材料用洗淨水送回貯槽,再送到使用現場使用,形成循 環条統。 按照本發明電子材料用洗淨水,受徹粒污染的電子材 料洗淨用藥劑量大為減少,在室溫洗淨,可得高度 洗淨效果,且電子材料洗淨後的廢液處理容易。即向來 洗淨廢液是以含有大量氨或過氧化氫的高濃度狀態排出 ,必須中和處理或分解處理,即使廢液處理中,也必須 有洗淨液調製所用同樣程度量的藥品。本發明中排出者 為含低濃度氨和過氧化氫之液體,例如加少量酸即可中 和排放。當然,亦可再利用做原水。廢液中所含過氧化 氫為徹量,通常不會發生安金上的問題,惟視使用環境 ,必要時可將廢液中的溶存過氧化氫分解。例如含過氣 化氫的水,可藉與鉛、粑、二氧化錳等觸媒接觸,將過 氧化氫分解成水和氣氣而除去。 Η以實施例詳逑本發明,惟本發明不限於此等實施例 。再者,實施例和比較例中洗淨水的調製採用超純水。 -1 4 - 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) J—---^------f.------IT------0 1 ' - -(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 405176 b7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (ο ) 1 1 1 旅 例 1 1 1 I 直 徑 6 时 的 矽 晶 圓 > 表 面 用 含 臭 氧 的 超 純 水 氣 化 J 經 Ϊ 1 氧 化 鋁 徹 粉 來 污 染 9 製 成 表 面 附 箸 氧 化 鋁 微 粒 污 染 的 晶 y—s 請 1 先 \ 圓 〇 此 污 染 晶 圓 利 用 晶 圓 灰 塵 檢 查 裝 置 ( 東 京 光 學 m 慨 械 閱 讀 1 I 公 司 ) 根 據 田 射 浸 射 光 撿 査 方 式 > 測 量 附 箸 微 粒 數 刖 背 面 1 I 之 1 I 每 枚 晶 圓 有 直 徑 0 . 2 - -0 .5 Μ m的徹粒1 2, 6 0 〇個, 直徑0 .5 注 意 1 事 1 1 . 0 μ ^ 的 徹 粒 3 1 ,2 0 0 個 » 直 徑 1 . 0 /Ζ ΪΪ1 以 上 的 徹 粒 2 0 0 項 再 個 » 合 計 4 4 ,〇 00 個 〇 填 寫 本 1 M- 此 污 染 晶 圓 以 50 0 r Ρ ΪΙ1 轉 動 對 溶 氧 3 0 m g /1 j 含 氨 10 m g / 1 頁 '---, 1 I 和 過 氣 化 氫 1 0 m g /1的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 j 在 室 溫 9 使 用 1 1 超 音· 波 昭 射 噴 嘴 ( 布雷技術公司, F in e Je t) ί 施以頻 1 1 率 1 . 6Μ Η ζ 9 輸 出 13 .5W/ c m 2 的 超 波 9 以 流 量 80 0 m g/l , 訂 進 行 6 0秒 旋 洗 9 其 次 9 用 超 純 水 淋 洗 9 加 以 乾 燥 〇 乾 燥 後 的 晶 圓 表 面 附 箸 徹 粒 數 > 按 同 法 測 定 9 每 枚 晶 1 1 圓 有 直 徑 0 . 2 ^ -0 .5 Μ ΠΙ的徹粒1 3 0 個 > 直 徑 0 . 5〜1 .0 Μ Π) 1 I 的 微 粒 3 1 0 個 J 直 徑 1 . 0 tn 以 上 的 徹 粒 0 锢 9 合 計 4 4 0 1 1 個 晶 圓 表 面 微 粒 除 去 率 為 99¾ 0 線 I (~h 較 例 丄 1 重 複 實 施 例 1 ί 惟 所 用 室 溫 洗 淨 水 除 氛 10 m g / 1 和 過 氧 1 1 化 氫 10 m g / 1 外 Ϊ 溶 氣 不 過 大 氣 飽 和 濃 度 , 進 行 洗 淨 實 施 1 I 例 1 調 製 的 污 染 晶 圓 〇 1 乾 燥 後 晶 圓 表 面 的 附 箸 徹 粒 數 按 實 施 例 1 同 樣 測 定 1 1 , 每 枚 晶 圓 有 直 徑 0 . 2〜0 .5 β m的微粒6 ,4 0 0 個 5 直 徑 1 I 0 . 5 - 〆1 .0 Μ m的徹粒1 6 , 50 〇個, 直徑1 .0 β m以上白; ]微粒 1 1 -1 5 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4〇sm7 B7 五、發明説明(K ) 9 5個,合計2 2 9 9 5値,晶圓表面微粒除去率4 8 % 。 htULl— 重複實施例1 ,惟含氨4 . 1重量%和過氧化氫4 . 3重 量%的所諝A P Μ洗淨水,加熱到8 0°C使用,且不實施超 音波振動,進行洗淨實施例1調製之污染晶圓。 乾燥後晶圓表面附箸微粒數,按實施例1同樣測量, 每枚晶圓有直徑0 . 2〜0 . 5 # m的撒粒1 4 5個,直徑0 . 5〜 I . 0 // m的撤粒3 4 0個,直徑1 . 0 # at以上的微粒1個,合 II 4 8G個,晶圓表面的徹粒除去率9 U 。 hh較例3 重複實施例1 ,惟將比較例2所用A P Μ洗淨水稀釋1 0 倍,使用含氨0 . 4 1重量%和過氧化氫0 . 4 3重量%的洗淨 水,於室溫實施超音波振動,進行洗淨實施例1所調製 污染晶圓。 乾燥後的晶國表而附箸微粒數,按實施例〗同樣測定 ,每枚晶圓有直徑〇 . 2〜0 . 5 # m的徹粒3,4 4 0値,直徑 0 . 5〜1 . 0 # m的撤粒8,5 0 0値,直徑1 . 0 # m以上的徹粒5 5 摑,合計11,995個,晶圓表面撤粒除去率73% 。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 實施例1和比較例1〜3的洗淨水組成,洗淨條件和微 粒除去率如第1表所示。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 405176 A7 15 /IV明説明發 、五 ^甲,中'"«^Γ{ -ΤΜΛΓ "作·不 ν* ·*ι^· rr rr Μ m. u> rr rr 鵁 鸢 (Si rr 頰 H-k 减 m m — >f m 7S> car 普 n 葙 H ill TO car 苕 m m M· m 7BI> DSr 费 m 'M w o B <W 、 «—> 爾 濰 o Wi m 狹 卿 _ r~* o B 、 H-* o 3 〇q 、 雜 o 〇〇 Hffrii 卿 _ 狹 Ca5 » _ f—1 〇 3 OQ 、 H-* 〇 a OQ \ m 瞻 m i§ 0〇 ο r? §§ 邮 m 薛 掛 m 埘 m m 晡 -^3 OO to CO oo CO o 键 e郅 Mf m SI謝一 —----_------私衣 ..~訂一; 線 - - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _本紙张尺1迻「;1】中國國家標隼(CNS ) A4規格(2l〇XW7公t ) 405176B7 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( ^ ) 1 1 由 第 1 表 結 果 可 見 , 實 施 例 1 的 本 發 明 電 子 材 料 用 洗 1 1 淨 水 J 與 比 較 例 3 的 APM 洗 淨 水 相 較 儘 管 氨 和 過 氯 化 1 1 氫 含 S ΙΜ. m 度 均 低 到 4 0 〇 〇分 之 一 j 且 儘 管 在 室 溫 進 行 j 洗 /"—V 請 1 先 1 淨 受 微 粒 污 染 的 晶 圓 > 卻 顯 示 與 APM 洗 淨 同 等 的 徹 粒 除 閱 1 去 率 0 比 較 例 1 的 洗 淨 水 雖 然 氨 和 過 氧 化 氫 含 量 和 實 施 背 \ I 之 1 例 1 的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 相 同 > 但 溶 氣 不 過 大 氣 飽 和 濃 注 意 1 孝 1 度 致 微 粒 除 去 率 減 半 * 可 確 認 本 發 明 溶 氧 濃 度 高 於 大 項 再 氣 飽 和 濃 度 的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 之 有 效 性 0 又 fcb 較 例 填 寫 本 1 -ά 3 洗 淨 水 含 氨 和 過 氣 化 氫 濃 度 為 習 用 ΑΡ Μ 洗 淨 水 的 十 分 頁 1 I 之 一 即 使 實 施 超 音 波 振 動 , 微 粒 除 去 還 降 到 7 0 % 左 右 1 1 » 可 知 為 有 效 進 行 AP Μ 洗 淨 含 局 濃 度 藥 劑 的 高 溫 洗 淨 1 1 水 實 不 可 或 缺 〇 奮— 施 農 訂 直 徑 C 时 的 矽 晶 圓 9 表 面 用 含 臭 氣 的 超 純 水 氣 化 9 經 1 I 氧 化 鋁 微 粉 來 污 染 製 成 表 面 附 著 氣 化 鋁 微 粒 污 染 的 晶 1 I 圓 〇 此 污 染 晶 圓 利 用 晶 圖 灰 塵 檢 査 裝 置 ( 東 京 光 學 機 械 1 1 公 司 ) 根 據 雷 射 浸 射 光 檢 査 方 式 , 測 量 附 箸 微 粒 數 9 則 線 1 每 枚 晶 圓 有 直 徑 0 . 2、 〆0 .5 Μ ra的徹粒1 2, 6 0 〇個, 直徑0 .5 j 1 I 1 . 0 Μ ^ 的 撤 粒 3 1 ,2 0 0 锢 直 徑 1 . ΰ μ ^ 以 上 的 微 粒 2 0 0 1 1 個 9 合 計 44 ,〇 0 0 個 0 1 1 此 污 染 晶 圓 以 5 0 Or pm 轉 動 ) 對 溶 次 亞 硫 酸 納 0 . 1 重 量% 1 1 » 含 氨 1 0 mg /1和 過 氣 化 氫 10 m g /1的 電 子 材 料 用 洗 淨 水 J 1 1 在 室 溫 ) 使 用 超 :fe 曰 波 眧 射 噴 嘴 ( 布雷技術公司, F i η e 1 I J e t ) ί 施以頻率1 .G MH 2 , 輸出1 3 . 5 W/c m 2 ]超音波, 1 1 -1 8- 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 405176B7 五、發明説明(17 ) Μ流最8 Ο Ο κι g / 1 ,進行6 0秒旋洗,其次,用超純水淋洗, 加Μ乾燥。 乾燥後的晶圓表面附著微粒數,按同法測定,每枚晶 阆有直徑0.2〜0.5W nt的微粒120個,直徑0.5〜l.Ow m 的微粒310個,直徑l.OwinK上的微粒〇個,合計430 個,晶圓表面微粒除去率為99¾ 。 (:h較例4 重複實胞例2 ,惟所用室溫洗淨水除氨lOing/1和過氧 化氫10nig/l外,不溶還原性物質,進行洗淨實施例2調 製的污染晶圓。 乾燥後晶圓表面的附著微粒數,按實施例2同樣測定 ,每枚晶圓有直徑0.2〜0.5Wm的微粒5, 800個,直徑 0. 5〜1.0m m的微粒15, 200個,直徑1.0« mM上的微粒 80個,合計21,080個,晶圓表面微粒除去率52¾ 。 hh較例5 窜複實胞例2 ,惟含氨4 . 1重量%和過氧化氫4 · 3重 最%的所謂APM洗淨水,加熱到80t使用,且不實施超 音波振動,進行洗淨實施例2調製之污染晶圓。 乾燥後晶圓表面附著微粒數,按實施例2同樣測量, 每枚晶圓有直徑0.2〜0.5// ra的微粒150個,直徑0.5〜 1 . 0 w m的微粒3 2 0個,直徑1 . 0 w m K上的微粒0個,合 計4 7 0個,晶圓表面的微粒除去率9 9 % 。 卜卜.較例 重複實施例2 ,惟將比較例2所用APM洗淨水稀釋10 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4Λ格(210Χ297公釐) IJ---Γ-----批衣------,1T------0 - - · - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 405176 五、發明説明(18 ) 倍,使用含氨0.41重量%和過氧化氫0.43重量%的洗淨 水,於室溫實胞超音波振動,進行洗淨實雎例2所調製 污染晶圓。 乾燥後的晶圓表面附著微粒數,按實胞例2同樣測定 ,每枚晶阆有直徑0 . 2〜0 . 5 w ra的微粒4 , 2 〇〇個,直徑 0,5~1.0;«111的微粒9,800個,直徑1.0;1/111以上的微粒50 個,合計1 4, 050個,晶圓表面微粒除去率68¾ 。 實_例2和比較例4〜6的洗淨水組成,洗淨條件和微 粒除去率如第2表所示。 1^---7-----^------1T------^ , - * > (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4祝格(2!〇X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 405M6 B7 五、發明説明(19 ) 戣 05 rr ΓΓ 趙 漥 rr crr 戣 繭 m ΓΟ 1 1 1 ο • _ [non 挪I 狄 SI IS w a 〇 各 (~k Ίτηΐι 卿 _ 〇 B \ μ-^ Ο Β 0Q \ f W m 〇 to m _ CO 酿 _ 〇 3 \ — Ο 3 (W \ m 貴 cr m 邮 m 0〇 〇 r? 邮 m 韻 韻 啩 m 埘 m 酿 蚶 薄 Οί 〇0 <〇 ς〇 C-Π to CD ς〇 键 s猱 rtt- 樹 -21 I-;---------t.------ir------i . ί * w (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4祝格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4ff5176 B7 五、發明説明(2Q ) 由第2表结果可見,實胞例2的本發明電子材料用洗 淨水,與比較例6的習用APM洗淨水相較,儘管氨和過 氧化氫含最濃度均低到4000分之一,且儘管在室溫進行 ,洗淨受微粒污染的晶圓,卻顯示與APM洗淨同等的微 粒除去率。比較例4的洗淨水雖然氨和過氧化氫含量和 實皰例2的電子材料用洗淨水相同,但不含還原性物質 ,致微粒除去率減半,可確認本發明溶有遷原性物質且 含氨和過氧化氫的電子材料用洗淨水之有效性。又,比 較例6洗淨水含氨和過氧化氫濃度為習用A P Μ洗淨水的 十分之一,即使實施超音波振動,微粒除去遷降到70¾ 左右,可知為有效進行AP Μ洗淨,含高濃度蔡劑的高溫 洗淨水實不可或缺。 發明放果 本發明電子材料用洗淨水,由於溶有濃度高於大氣飽 和濃度的氧氣或還原性物質,儘管氨和過氧化氫含畺較 習知ΑΡΜ洗淨水格外低,但具有習知ΑΡΜ洗淨同等的微 粒除去效果。本發明電子材料用洗淨水含氨和過氧化氫 ,係習知A Ρ Μ洗淨水的延伸,可使用量產工場現有裝置 ,無適用上的妨礙。 蘭式簡輩說明 第1圖為本發明電子材料用洗淨水製造,供應裝置一 具體例系統圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4祝格(210X 297公釐) IJ---:-----裝J-----訂------線 1·‘ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 405176 B7 五、發明説明(21 ) 參者符號gft明 1 真 空 泵 2 刖 段 透 氣 膜 模 組 3 後 段 透 氣 膜 模 組 4 氧 氣 供 nta 懕 器 5 氨 水 貯 槽 6 泵 7 過 氧 化 氫 水 貯 槽 8 泵 9 電 子 材 料 用 洗 淨水貯槽 10 泵 11 配 管 12 使 用 現 場 ^ ^ I.—裝^ 訂 線 一- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4祝格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 公告泰 六、申請專利範圍 405176 .一種電子材料用洗淨水,其特徵為,溶有比大氣飽和 濃度更高濃度的氣氣或還原性物質,旦含有氨0.1〜 10,000mg/l和過氧化氫 0.1〜i〇,〇〇〇rag/l 者。 .一種電子材料用洗淨水,其特徴為,溶有比大氣飽和 濃度更高濃度之氧氣,且含有氨0.1〜10,000mg/l和 過氧化氫0.1〜10,000mg/l者。 .一種電子材料用洗淨水,擻為,溶有還原性物質 ,且含有氨0.1〜10,000m$/¾和過氧化氫0.1〜10,000 » ,r,:j “/1者。 愚 •如申請專利範圍第1至3 電子材料用洗淨水,其 中被洗淨之電子材料為半齊^用矽基板、液晶用玻璃 -^ m 丨— 基板、或光罩用石英基板者》 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 黎| 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)
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