TW293037B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW293037B
TW293037B TW083105374A TW83105374A TW293037B TW 293037 B TW293037 B TW 293037B TW 083105374 A TW083105374 A TW 083105374A TW 83105374 A TW83105374 A TW 83105374A TW 293037 B TW293037 B TW 293037B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
titanium
layer
radon
coated
nitride
Prior art date
Application number
TW083105374A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP08144594A external-priority patent/JP3353449B2/ja
Priority claimed from JP11081194A external-priority patent/JP3384110B2/ja
Application filed by Sumitomo Electric Industries filed Critical Sumitomo Electric Industries
Application granted granted Critical
Publication of TW293037B publication Critical patent/TW293037B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34Nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32Carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/36Carbonitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12049Nonmetal component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12576Boride, carbide or nitride component

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Turning (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Scissors And Nippers (AREA)

Description

經濟部中央揉準局及工消费合作社印製 A7 ____B7 五、發明说明(1 ) 坊枥節鼸 本發明傺關於在超硬合金等基材表面形成強韌且《磨 性優良的被覆之被覆切削工具,及其製法。 莆署持術 在超硬合金,陶金和陶瓷表面,蒸著《化鈦(TiC)等 被覆層,以提离切削工具的壽命,已行之有年,一般而 言,具有利用熱化學蒸着法(以下稱熱CVD法霣漿CVD 法所生成被覆層之被覆切削工具,已廣泛替及使用β 可是,使用此等被覆切削工具進行加工時,待別在高 速切削加工般的离溫,由於被覆層《磨性所必要的加工 ,或小零件的加工,加工數多,加上被削材刮削次數多 ,致使被覆層的附磨性有所不足,因發生被覆層損傷( 造成工具壽命減低。 另外,根據熱CVD法,被覆膜與基材的密合性優良, 視基材的種類而賦予特殊性能,在刀刃稜線部,於基材 界面容易析出厚7相的脆化層,在切削中被覆層與此7 相同時脱落,發生磨損,引起工具壽命不均,被覆層無 法期待充分提离壽命β 此等被覆切削工具當中,影馨其耐磨性或剝離性的因 素,為形成被覆的成份中之氰含量和定向性。 一般而言,利用熱CVD法或霣漿CVD法形成磺化鈦或氰 化鈦(TiI〇被覆,俱採用四氛化鈦(TiCU )為鈦灏,甲 烷(CH4 )為硪源,餌氣(N2 )為氰源等谁行之。因此, 採用此等氣羅的被覆中,因四氛化鈦成份的氱進入被覆 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) (請先閏讀背面之注$項再填寫本頁) 丄 訂 893037_五、發明説明(2 ) A7 B7
V 靥中,造成蹼質的劣化。 迄今有醐膜中氨份的報告,是利用霣漿CVD法在低溫 你I谁行被覆,見「表面技術j 40卷10期,1989年,第51 -55頁,以及「表面技術j 40卷4期,1989年,第33-36 頁等β據此報告,利用®漿CVD加熱到〜700Ό成膜,可 將膜中《含量水準降到「1原子χ左右」,由此可得良好膜 寅β 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印製 (请先閱讀背Λ之注f項再埃寫本頁) 又,日本待開平4-13874號公報記載,磺化鈦被覆層由 二層組成,自基體表面至0.5# Β以下部份的«含量為 0.025〜0.055原子% ,在0.5/u Β以上部份為0.055〜1.1 原子%,可得膜密著度優良,且耐磨性卓越的磺什鈦膜 。可是在該公載所記載方法中,僳利用四氛化鈦為原料 氣體,來自甲烷的游離硪(C)為硪源,故來自四氛化鈦 的氯(C1)和來自甲烷的游離硪,會進人膜中,對膜持性 産生不良影欲。尤其是C在膜中析出,會降低膜的耐磨 性故不宜,惟若有0 . 0 55原子96以上的«存在,不會有 硪析出,可得跗磨性優良的硪化钛膜#因此,在此方法 中為提高密合性,必須有一層構造,邸氛含蛋在基體界 面附近為0.025〜0.055原子%,而逋雔界面部份為0.055 原子96以上·但在此情沅下,«存在本身即會进成耐磨 性降低,所得皮膜的《磨性不足,不言可喻。 向來按照熱CVD法,揉用設有被覆層的被覆切削工具 ,進行斷鑣加工或零件加工時,會發生基材奧謨藺的隔 雔,以及在膜中對膜本身的損傷,因此常有基材》出或 本紙張尺度逋用中國國家搞率(CNS ) A4规格(210X297公釐) 、發明説明㈤ ΐ補充」’ 瑕疵度的情形,被覆層的定向性被視為是此膜本身損傷的 原因之一。通常按照熱CVD法,已知磺化鈦等被覆層在 (220)面有強定向(參見日本金屬學會誌,第41卷第6頁 ,1 9 7 7年第5 4 2〜54 5頁等),在( 2 2 0 )面具有岩鼸型構迪 的碩化鈦等當中,加工時切刀的刀尖溫度在約600 eC以下 時,有一次滑面,在此面方向易發生破損》此外,在基材 的界面附近被覆層中,基材與被覆層的熱膨脹俱數差異 ,會留下待大的殘餘抗拉應力,由於會被加工中的被削 材料或切削粉末,按膜表面的平行方向摩擦。故會對膜 賦予剪斷應力,非常容易在基材界面附近的膜中發生破顛· 為解決前述7相的問題,利用乙脯(CH3CN>等有機CN 化合物,藉熱CVD法以形成硪氮化膜,已引起注意(見持 開昭50-117809,特開昭50-109828等公報>。 此法與習知熱CVD法相較,可在較低溫度塗佈,一般 稱為中溫CVD法(MT-CVD法)。習知熱CVD法(稱高溫CVD法 ,ΗΤ-CVD法)中,元素(尤指碩)會在鈦条皮膜形成中, 自基材向皮膜移動,在基材表面形成改霣層(稱7相, 經濟部中央椟準局貝工消費合作社印装 ---------^1裝— (請先閱讀背面之注$項再填寫本莧) 订 為C03W3C等褀碩化物在此等ΗΤ-CVD法中,元索移 動的原因首推被覆度高(通常在l〇〇(TC〜1 05 0*0 ),尤 其是硪的移動,除了溫度高以外,由於皮膜形成中從氣 觴供《不足,致形成中的皮膜輿基材表面之間,産生碩 的《度梯度,皮禊有自基材吸硪的現象。 〆 相對地,MT-CVD法的被覆溫度稍低(800eC〜90〇·〇 ), 自氣相供C或Ν充分,建切刀稜線部界面也不發生17相* 本紙張尺度逋用中國·家橾率(CNS 规格(210X297公;
A * 經濟部中央揉準局MC工消费合作社印製 五、發明说明(4 ) 採用ΜΤ-CVD法的專利,後來提出頗多申讅案*例如特 f 两平3-64469和3-87368號公報提議,在超硬合金基材表 面,直接採用MT-CVD法形成磺氰化鈦(TiCN)_以外,3 利用HT-CVD法形成氣化鋁(Al2 03 >或《化鈦(Ti»)等多 靥膜的工具•又,特閭昭62-9946 7公報掲示被覆以结晶 粒徑0.5;/ 以下的硪氰化纹膜和/或«化鈦膜〇.5〜5.0 厚之單層或稹層皮膜,磺讯化鈦膜形成方法則有在 蒸着溫度700-900*0的然而,即使在此方法 中,輿基材接觴膜仍為磺氰化鈦(TiCN)膜。 可是,本發明人等就磺氰化膜所》覆的超硬合金構件 進行研究期間,發現利用MT-CVD法會使碩氰化钛腰與超 硬合金基材之密合性,渐渐成為不穩定β两於此事進行 潛心分柝時,確定其原因是在利用HT-CVD法形成磺《化 鈦皮膜當中,因所産生反醮生成物的氣氣,腐蝕了超硬 合金基材表面結合相的鈷(Co)。 另外,乙膀等有機CN化合物的熱分解,在基材表面的 化學結合狀態易受影鬱,接二連三形成游離發生此 等游雔硪,會降低皮膜與基材的密合些,又加上前逑界 面改質層的發生,按照MT-CVD法,會使被覆切削工具性 能不安定β · 以超硬合金為基鱧,被覆以硪化鈦,氰化鈦,确餌化 纹等多層膜而成的被覆超硬合金雷中,已掲示鄰接基鼸 的最内靥為〇.1~ 1.0私氘化鈦的被覆超硬合金(特開昭 本紙張尺度逋用中•國家槺率(CNS > A4规格(210X297公釐) (請先Η讀背面之注意事項再埃寫本頁) -装. 订
2930S7_ 五、發明説明(5) β卜170559號公報U此係鼷於PVD法之被膜,對膜中氰 含量或結晶定向性之影想,並未加以檢討❶ 此外,鼷於皮膜硬度一般認為愈离,則射磨性愈優, 但單純提离硬度,有容易降低皮膜韌性的缺黏,做為切 削工具容易引起異常磨耗,成為不耐實用的問題❶因此 ,棰痛兼備硬度和助性的良好平衡· 關於皮膜的撖細構造,如持開昭8 2 - 99 4 6 7號公報所傷 議,構成被覆層的磺氣化鈦膜和/或氮化鈦膜结晶粒徑 在0.5// Β以下時最遴用,惟對结晶粒的形狀和粒徑評估 法,《無記載,不符實用》 本發明之目的,在於解決前述習知技術中的問題,提 供一種被覆切削工具及其製法,耐磨性較習知被覆切削 工具為高,被覆膜與基材之接着堅固,且切削時的耐細 離性優良》 此外,本發明另一目的在於提供一種被覆切削工具, 可將MT-CVD法所得«氰化鈦膜的優良發揮到最大長度, 可靠性較習知為离》為遽成此目的,提供一薄被覆切削 工具,具有皮膜構造,可防止被覆形成中基材表面的變 質,並抑制在皮膜與基材的界面析出不良物質,並提供 一種被覆切削工具,不但使微細皮膜構造最逋化,且從 撖視構造或硬度觀站而言,具有最適構造和最逋範团的 機械性強度》 奋砌由玫 本發明人等為解決與基材接觸的最内層具有磺氰化鈦 本紙張尺度逋用中國國家輮率(CNS > Α4规格(210X297公釐) --------( '裝------訂-------{ Ί (請先閱讀背面之注f項再4寫本筲) 經濟部中央揉準局月工消費合作社印製 A7 S93037 B7 五、發明説明(6 ) (請先間讀背面之注f項再4寫本頁) 或輿基材接鼸的氰化鈦及其上方的《氮化鈦之被覆層的 被覆切削工具中前述問題,一再加以種種研究結果,發 現被覆形成成份,尤其是輿基材接觸的磺《化鈦,或與 基材接觴的氰化鈦及其上方的硪«化鈦之氱含悬,限定 在規定置以下,使此等磺®化的定向性在特定範圍内時 ,輿習知被覆切削工具相較,可大為提高切削的射磨性 ,同時可提高膜本身的耐磨性,以及膜的破壊強度,可 穩定且大輻度改善工具的壽命,而完成本發明。 本發明人等為解決上逑問題加以種種研究結果。發現 不將MT-CVD法所得磺氮化鈦膜直接被覆於基材表面,而 是先在基材表面被覆以第一層氮化鈦膜,其上再被覆以 第二層硪氮化钛膜,即可有效解決上述問題β 鬭於第二層的硪氮化鈦膜,發現其微小硬度或結晶構 造與粒子大小等,對皮膜特性有很大影想。 本發明便傜基於此等認知而完成》 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 本發明第一要旨,在於提供一種被覆切削工具,在磺 化鏡質超硬合金,硪m化鈦質陶金,氮化矽質陶瓷或氣 化鋁霣陶姿製成的基材表面,具有内靥和外靥組成的被 覆層,該内層偽由輿基材接觸的碩氮化鈦單層,或輿基 材接觴而厚度0.1〜2#·的氮化鈦,及其上方的«氰化 鈦雙層,或於該單層或雙層的硪氰化鈦上方,再被覆以 邇自硪化物、氰化物、磺m化物、珊m化物,礪磺氰化 物一種以上的多層所構成,該外層則你由遘自氧化鋁、 氣化鍺、氣化給、硪化鈦、«氮化鈦、®化纹一種以上 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 A7 B7 五、發明说明(7 ) 的單層或多層所_成,而具有下列(1)至U8)之構造· (1) 一種被费切削工具,其特欺為前述内層的氦含量 為内雇全體平均〇·〇 5原子%以下者。 (2>如前述(1>項之被覆切削工具,其特撖為,前逑内 層中與基材接觴的硪氰化鈦之氛含量,或與基材接觸而 厚度為0.1〜2#爾的破化鈦及其上方硪氣化鈦的平均氱 含量,在0.05原子%以下者。 (3)—種被覆切削工具,其持徽為,前逑與基材接觸 的硪笫化鈦,或與基材接鵾而厚度為〇.1〜2 # 之氟化 鈦正上方的磺氮化鈦,於X射線折射角20=20° -140° 間里現折射高峰的面當中,與(220)面的面間角度為3(r 〜60。之面Ukl)的折射高峰強度I(hkl),對( 2 20 }面的 高峰強度1(220)之比,即lUhl>/I(220)值,自基材表 面或氮化鈦表面到〇〜B為止的平均為 2 . 5 ^ I (khl )/I ( 2 2 0 ) S 7.0 而自基材表面或氮化鈦表面到0〜20# 為止的平均為 2.I (khl)/ 1 ( 2 2 0 ) ^ 15.0 (4>前述(1)或(2>之被覆切削工具,其待微為,前述 内層中與基材接觸的磺氰化鈦,或與基材接觸而厚度為 0.1〜2#·之氮化鈦正上方的硪氮化鈦,於X射線折射 角20=2〇*~14〇8間呈現折射高峰的面當中,與(220) 面的面間角度為30·〜60*之面(hkl)的折射离峰強度1 (hkl),對(220)面的高峰強度1(220)之比,即I(hkl)/ 1(220)值,自基材表面或铒化鈦表面到0〜3#B為止的 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS ) A4规格(2丨0父297公簸> ----------{ >-- (請先W讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 A7 2030^7 B7 五、發明説明(8 ) 平均為: 2 . 5 S I (khl ) / I (220)5 7 . 0 而自基材表面或氮化鈦表面到0〜20# 為止的平均為 2 . 5 S I (khl ) /1 ( 2 2 Ο ) έ 15.0 (5)—種被覆切削工具,其待徽為,前逑輿基材接觸 的碩氰化鈦,或與基材接觸而厚度0.1〜2# Β之氘化鈦 正上方的硪氮化钛X射線折射中,令(311)面的高峰強 度為± ( 3 1 1 >,而(2 2 0 )面的高峰強度為I ( 2 2 (Π時,其 1(311)/1(220)值,自基材表面或氮化鈦表面到0〜3# 為止的平均為: 0.551(311)/1 (220)S 1.5 而自基材表面或氮化鈦表面到0〜20知B為止的平均為 0.5S 1(311)/1 ( 2 2 0 ) ^ 6.0 (6>前逑(1)至(4)任一項的被覆切削工具,其待徵為 ,前述内層中與基材接觴的硪氮化鈦,或輿基材接觴而 原度0.1〜2#·之氮化鈦正上方的硝氮化鈦中,於X射 線折射(311)面的高峰強度1(311),與(220)面的离峰強 度1(220)之比,即1(311)/1(220)值,自基材表面或氡 化鈦表面到〇~3 為止的平均為: 0.5S 1(311)/1 (220)5 1.5 而自基材表面或氮化鈦表面到〇〜20 為止的平均為 0.5^1(311)/1 (220)2 6.0 (7)—種被覆切削工具,其待微為,前述與基材接觸 的硪®化鈦,或與基材接觸而厚度為〇·1~2#·之氪化 -1 0 - 本纸張尺度逋用中國國家揉準(CNS > A4规格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) 、1Τ A ! 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 930〇7 A7 B7 五、發明説明(9 ) 、 鈦正上方的磺氮化鈦X射線折射中,令(111>面的离峰 強度為士( 1 1 1 ), ( 2 2 0 )面的高峰強度為1 ( 2 2 0 )時,1(111) /1(220)值自基材表面或氤化鈦表面到0〜3私為止的 平均為: 1 . 0 S 1 ( 1 1 1 )/ 1 ( 2 2 0 ) S 4.0 而自基材表面或氰化鈦表面到〇〜20# 為止的平均為 1.05 1(111)/1 (220>S 8.0 (Μ前逑(1)至(6)任一項的被覆切削工具,其特微為 ,前述内層中與基材接觴的硪氮化鈦,或舆基材接觸而 原度0.1〜2# Β之氮化鈦正上方的硪氮化鈦中,X _線 析射(111>面的离峰強度IU11),與(220)面的高峰強度 1(220)之比,即1(111)/1(220)值,自基材表面或氟化 鈦表面到〇〜3#·為止的平均為: 1.05 1(111)/1 ( 2 2 0 )S 4.0 而自基材表面或氣化鈦表面到〇〜20# B為止的平均為 1.0^ 1(111)/1 (220)盎 8.0 (9) 一種被覆切削工具,其特擻為,前述與基材接籣 的硪氮化鈦,或與基材接嫌而厚度0.1〜2#·之氮化鈦 正上方的硪氮化鈦X射線折射中,令(311)面的离峰強 度為±(311), (111)面的商峰強度為1 ( 1 1 1 ), ( 2 2 0 )面 的高峰強度為 I ( 2 2 0 )時.〔I (110) + 1(311>〕/ 1 ( 2 20 ) 值,自基材表面或«化%表面到〇〜3私·為止的平均為: 2.05 C 1(111)+1 (311)] / 1(220)5 5 . 5 而自基材表面或氰化鈦表面到〇〜20# 為止的平均為 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐〉 ---------1 ^------訂------蟓— (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 經濟部中央棣率局貝工消費合作社印製 經濟部中央樣準局負工消费合作杜印装 A7 B7__ 五、發明説明(10 ) 、 2.05 C 1(111)+1 (31D3 / 1(220)514.0 (10) 前述(1>至(8)任一項之被覆切削工具,其特徵為 ,前逑内層中與基材接觸的磺氮化鈦,或舆基材接鼸而 原度0.1〜2;u·之氮化鈦正上方的硪氘化鈦中,X射線 折射(31U面的离峰強度1(311), (111)面的离峰強度 I (11 1 ),與(2 2 0 >面的高峰強度I ( 2 2 0 )之闋傺式〔I ( 1 1 1 ) /1(311)〕/1(220)值,自基材表面或氮化鈦表面到〇 〜3 為止的平均為: 2.0S〔 I(111)+1 (311)〕/ I ( 2 2 0 )S 5. 5 而自基材表面或氮化鈦表面到〇〜2Q# 為止的平均為 2.05 [1(111)+1 (311)] /1(220)514.0 (11) 前迷(U至(1(0任一項之被覆切削工具,其特戡 為,前述内層中與基材接觸的磺氰化钛,或與基材接觸 而厚度為0.1〜2#·之氰化鈦正上方的磺氪化鈦,厚度 為1〜20#丨者β (12) 前述(1)至(11)任一項之被覆切削工具,其特微 為,前述基材為碩化鎢質超硬合金或硪氮化鈦霣陶金, 切刀稜線部的被覆層與基材界面發表面的7相厚度在1 >u 以下者。 (13) 前述(1>至(12)任一項之被覆切削工具,其特擞 為,前述内層和外層合計膜厚為2〜1〇〇#*者》 (14} 一種被覆切削工具,於主要成份傺遵自元素周期 表IVa, Va或Via族元素的碩化物,氰化物和硪氰化物一 鞴以上硬質成份,及VIII族金屬成份组成之合金的基材 -12- 本纸張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4«l格(210X297公釐) * # ^ϋ· an m It·— n^i In ^^^1 amemmf” (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 2ΰ〇0〇γ A7 £7_ 五、發明説明(11 ) (请先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 表面,形成包含内層和外層之硬霣被覆層,其特锹為, 該内暦僳多靥構造,即輿基材接觸的第一靥為氰化鈦, 其上第二層傺硬度1600〜2400kg/··2的硪®化鈦,再 上面為選自钛之硪化物,氮化鈦,碩氰化物及硼氮化物 一種以上的被覆,而外層偽由番自氧化鋁,氣化錨,氣 化給,磺化鈦,磺氰化鈦和氮化鈦一種以上之犟層或多 層構成的被覆層加以被覆者。 (15)—種被覆切削工具,於主要成份僳S自元素周期 表IVa, Va或VI a族元素的磺化物,铒化物和磺氡化物一 種以上硬質成份,及VIII族金屬成份組成之合金的基材 表面,形成包含内層和外層之硬霣被覆層,其特欲為, 與該内層基材接觸的第一層,僳被覆以厚度為fl.l〜2.0 的«ζ化鈦其上之第二層傜被覆以硬度1600〜2400kg/ «2的硝氰化鈦,再上面則被覆以選自鈦的硪化物,氮 化物,硪®化物和明氮化物一種以上的單層或多層,而 在此等内層之上的外層,偽被覆以遘自氧化鋁、硪化鈦 、硪氮化鈦及氟化鈦一種以上的單層或多層所構成之被 覆層。 經濟部中央揉準局員工消费合作社印製 (16>前逑(1〇或(15)的被覆切削工具,其第二層的磺 氡化鈦僳由柱狀結晶粒構成,該硪氰化鈦的平均結晶粒 ,在第二層膜厚4.0#·以下時為0.1〜lyua範_,第二 層膜厚度超過4.0# 而在2 0 >u 以下時為0.5〜3.0# 箱 圍者》 (17>前述(14)或(15)的被覆切削工具,其特徽為,前 -13- 本紙張尺度逋用中困國家橾率(CNS ) A4规格(210X297公釐〉 A7 B7_____—— 五、發明説明(12 ) 述内層的氛含置在内層全體平均為^^原子光以下者 (18) 前述(17)的被覆切削工具,其特激為,前述與内 層基材接觸的硪氰化鈦之氯含量,或與基材接觸的#化 鈦及其正上方的硪氛化鈦之平均氛含量,在〇·05原子% 以下者。 本發明第二要旨,在於提供一種被覆切削工具之製法 ,該被覆切削工具俗在硪化鎢質超硬合金,硪笛化纹質 陶金,氮化矽質陶瓷或氣化鋁質陶姿構成的基材表面, 具有包含内層和外層的被覆層,該内層锿由與基材接觸 的硪m化鈦單層,或與基材接腰而厚度〇.ι~2#·的氮 化鈦,及其上方的硪氮化鈦燹層,或於該單層或《層的 硝氮化鈦上方,再被覆以選自硪化物、《化物、磺氰化 物、硼氮化物、硼硪氮化物一種以上的多層所構成,該 外層刖係由選自氧化鋁、氣化鉻、氧化鈐、磺化鈦,碩 氮化鈦、氮化鈦一種以上的單層或多層所構成,具有如 下述(19)至(22)所述被覆切削工具之製法。 經濟部中央梯準局負工消費合作社印製 (請先《讀背面之注$項再秦寫本頁) (19) 一種被覆切削工具之製法,於前逑與基材接觸之 硪氮化鈦,或輿基材接觸而厚度0.1〜2#·之氮化鈦正 上方的磺氮化鈦被覆方法中,其待欺為,採用四氰化鈦 為鈦源,有機CH化合物為磺氰源,利用化學蒸著法在氡 «度2 6 %以上的氛囷下進行。於800〜950 °C的租度範園加 以被覆者β (20) —種被覆切削工具之製法,其待徽為,前述與基 材接觸的硪氮化鈦,或輿基材接觸而厚度為0.1〜2#· -1 4 - 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 經濟部中央樣芈局貝工消費合作社印製 293037 37 五、發明说明(13 ) 之氮化鈦正上方的磺氮化鈦被覆方法中,利用化學蒸箸 法,採用用《化鈦為鈦源,有機CN化合物為磺源,在950 〜105(TC溫度範園加以被覆者。 (21) 前述(1)至(13>任一項被覆切削工具之製法,其 特撤為,前逑輿基材接觸的硪氟化鈦,或輿基材接觴而 厚度0.1〜2# 之m化物正上方的硕《化鈦被覆方法中, 利用化學蒸著法,採用四氯化鈦為鈦源,有機CN化合物 為硪葱,在氰港度為26%以上的氛圍下進行,於80 0 ~ 950°C溫度範鼷加以被覆者〇 (22) 前述(1>至(13)任一項被覆切削工具之製法,其 特徴為,前逑與基材接觸的硪«化鈦,或與基材接觴而 厚度為0.1〜2// 之氟化鈦正上方的碩氮化鈦被覆方法 中,利用化學蒸箸法,採用四氨化鈦為鈦葱,有機CN化 合物為磺源,在95D〜105D-C溫度範圍加以被覆者〇 (23) —種被覆切削工具之製法,該被覆切削工具僳於 主要成份為選自元素周期表IVa,Va或Via族元素的硪化 物,氮化物和碩氮化物一種以上硬質成份,及VIII族金 羼成份組成之合金的基材表面形成包含内層和外層之硬 質被覆層,其特傲為,該内雇偽多層構造,即無基材接 觸的第一層為氮化鈦,其上第二層供硬度1600〜2400M / 2的硪氤化鈦,再上面,為邐自鈦之磺化物,«化 物,硪瓴化物及礪氰化物一種以上的被覆,而外靥你由 遵自氧化鋁,氧化貉,ft化拾,硪化钛,硪氟化钛和讯 化鈦一種以上之單層或多層構成的被覆層加以被覆,此 -1 5- 本纸張尺度逋用中國國家橾率(CNS } A4规格(210X297公釐) <請先W讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 A7 B7 經濟部中央橾準局—工消費合作社印製 五、發明説明(14 ) 1 1 製 法 之 特 徽 為 1 1 前 迷 舆 基 材 接 觸 的 硪 铒 化 鈦 » 或 舆 基 材 接 觸 之 氮 化 鈦 1 I 正 上 方 的 硪 氮 化 鈦 被 覆 方 法 中 > 利 用 化 學 蒸 蓿 法 9 採 用 /--N. 請 1 I 四 氛 化 鈦 為 鈦 源 9 有 檐 CN化 合 物 為 硪 源 9 在 95 0 〜1 0 50°C 先 Μ it 1 1 溫 度 範 匾 加 以 被 覆 者 〇 背 it 1 I (2 4) 一 種 被 覆 切 削 X 具 之 製 法 P 該 被 覆 切 削 工 具 % 於 之 注 意 1 1 主 要 成 份 為 選 商 元 素 周 期 表 I V a , V a或V I a 族 元 素 的 硪 化 1 項 1 I 再 1 物 * 氰 化 物 和 磺 餌 化 物 m 以 上 硬 質 成 份 f 及 V I II族 金 f 乂 靥 成 份 組 成 之 合 金 的 基 材 表 面 形 成 包 含 内 層 和 外 層 之 本 1 硬 霣 被 镡 層 > 其 特 撤 為 » 與 該 内 層 基 材 接 觸 的 第 —- 層 .* 1 1 像 被 覆 以 厚 度 為 0 . 卜2 .0 Μ 的氡化鈦其上之第二層僳 1 I 被 覆 以 硬 度 1 6 00 2 4 0 0 k g /ίΐ •‘ 1的硪気化鈦, 再上面則 1 1 被 覆 以 蘧 白 鈦 的 m 化 物 » 氪 化 鈦 » 碩 氰 化 物 和 硼 氮 化 物 訂 | 一 種 以 上 的 單 層 或 多 層 9 而 在 此 等 内 層 之 上 的 外 層 * 傜 1 | 被 覆 以 選 白 氧 化 鋁 Λ 磺 化 鈦 Ν 硪 m 化 鈦 及 氮 化 鈦 一 種 以 1 1 上 的 單 層 或 多 雇 所 構 成 之 被 覆 層 9 此 製 法 之 待 m 為 1 | 前 述 與 基 材 接 觸 的 硪 氮 化 鈦 9 或 與 基 材 接 觸 而 厚 度 為 0 . 1 Λ -2 Μ Β之氟化鈦正上方的硪氡化鈦被覆方法中, 利 1 1 用 化 學 蒸 著 法 1 採 用 四 m 化 鈦 為 鈦 葱 * 有 機 CN化 合 物 為 1 I 硪 源 9 在 9 5 0 - -1 050°C粗度範圍加以被覆者β 1 1 m 發 明 最 伴 具 賻 例 1 1 在 本 發 明 被 覆 切 削 X 具 中 9 藉 被 覆 層 中 m 含 董 抑 低 至 I 内 層 平 均 0 . 05原 子 % 以 下 的 極 m 量 » 不 但 才 能 大 幅 提 高 1 1 工 具 壽 命 • 而 且 可 大 為 增 進 安 定 性 〇 1 1 I -1 6- 1 1 1 1 本紙張尺度逋用中國國家梂率(CNS > A4规格(210X297公釐) 233037 a? B7 五、發明説明(15 ) 一方面,將被覆層中的氯含量降低至此水準時,可大 為提离膜硬度,顯箸改善膜本身的耐磨性,另一方面, 可明顯提高基材與膜界面的密合度,以及内®和外18間 的密合度,在切削時,不會發生磨耗油成此等界面的期1 離》尤其是用於切削時的界面剝雔,由於基材輿被覆層 的界面發生剝離,致基材薄出顯著,為工具壽命低@或 不均的肇因,故即使内靥中與基材直接接觸的联*1化敎 或輿基材接觸之《化鈦及其正上方的破®化教^其氛含 量平均宜抑低到0.05原子%以下。 膜中氛含量的澜定方法,可以AgCl為榡準試樣,使用 電子線探澍橄分析器UPMA)加以测定❶ 經濟部中央梂準局員工消費合作杜印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 向來之有前述將被覆膜中氯含量水平降至1原子%左 右可得良好膜質的報告,或由氯含量不同的二層構成硪 化鈦被覆的報告,惟尚未見研究將被覆層金體氯含童降 到0.05原子%以下低水準之事。本發明傜基於發現將被 覆層全體中的氰。降低到〇.〇5原子%以下的水平,才能 大幅提高耐磨性,並可提高切削時基材與膜界面之耐剝 離性,所得的結果β本發明在此範圍的低氛份為必要條 件,由此再加上离硬度,可得耐磨性優,且密合度優異 的被覆層》 本發明被覆切削工具,具有在内層的基材正上方直 接被覆硪氮化钛之構造,或被覆氮化鈦0.1〜2;u·,上 面再被覆以磺《化鈦之構造,其成效之一是利用成膜時 核生成之安定,可除去氯的不良彩響。 -17- 本紙張尺度適用中國國家揉率(CNS >八4规格(210Χ297公釐) 五、發明説明(16 ) 硪氮化鈦和氰化鈦在成膜時的核生成,對基材狀態無 甚影礬,非常均勻《若核生成不均勻,在成膜反應時, 由於四氛化鈦邐原所發生的«,即在基材與被覆層界面 偏析,造成被覆層的射剝雔性下降》另外,基材為超硬 合金或陶土時,基材表面附近的結晶相(鈷或鍊等)會被 氛腐姓,因此使基材表面附近的強度降低,為工具壽命 降低的肇因。 可是,輿基材接觸層採用被覆氰化鈦的構造時,氰化 鈦厚度在0.1/UB以下時,氮化鈦成膜視基材位置而來逹 充分均匀的狀態,因此,上面所被覆的硪氮化鈦,即部 份直接發生在基材上的核生成處,氮化鈦和硪觅化鈦的 核生成,卽在基材上混充成不均勻狀態,結果未能充分 顯現除氛不良影響的效果。反之,若超過對切削 時的耐磨性有不良影響。 是故,與基材接觴的膜,必須為直接被覆在硪氮化鈦 的構造,或在基材正上面被覆以厚度〇.1〜2#·的氪化 钛其上再被覆以硪氰化鈦的構造β 經濟部中央揉準局貝工消費合作杜印製 (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 基材正上面形成氮化鈦膜時,藉設定適當條件,可得 非常細的膜粒度,附帶可使其上的硪氮化鈦膜的粒度有 變細的傾向β又,利用MT-CVD法形成磺氘化鈦膜時,若 氣鼸條件一定,因基材合金磺童不同,或燒結時表面附 近的脱磺蛋不同,而採用表面附近的磺*不同之合金為 基材時,雖然在界面附近有游離硪析出的可能性,惟因 介置有氰化鈦膜β可缓和此種影播。 _ 1 8 - 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) 293037 A7 B7___ 五、發明説明(17 ) 再者,本發明被覆切削工具另一特欲是,與内層的基 材接觸的氮化鈦正上面之碩氮化層,或與36材直接接觸 的磺氮化靥,其定向性限定在特定銪釀内* 前述利用熱CVD法的硪化鈦等之被«,具有&一$® 面的(220)面定向之趙勢,做為工具在加工時,有容易 發生膜破壊的間題。 在本發明中,與基材接觸之®化鈦正& $ ,或與基材接觴的硪氮化鈦其土(hkU/H220)值》像 指在X射線折射角20 =20。〜140 *C間里現折射高峰面 當中,與(220)面的面間角度為30·〜60°之面UU)折 射高峰強度合計I(hkl),與(220)面高畢強度1(220)之 比。與(220)面的面角度於,因硪氪化鈦具有之方晶結 晶構造,可由下式表示: 2 X h 十 2 X k C O S 0 --- 23/2 X (h2 +k2 + 1 2 ) 1/2 即 I (hkl)表示 I(hkl)= I ( 1 1 1 ) + 1 ( 2 0 0 ) + 1 ( 3 1 1 ) + 1 ( 4 2 2 ) + 1(511), e因( 2 2 2 )面和(111)面等價,故除去;I · 一次滑面的( 2 2 0 )面相對傾斜面(30°〜60° )定向性 經濟部中央標準局身工消費合作社印製 (請先《讀背面之注意事項再缜寫本頁) ,必須控制在以X射線強度比而言,自基材表面或«I化 鈦表面到〇〜3#·的平均,和0~20yu·的平均,成為2.5 SI(hkl)/I(220),因此,對切削中剪斷的強度,變成 很強。 然而,被覆層在形成初期階段若定向性太強,由於在 -19- 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4规格(2!0X297公釐) 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印製 A7 B7五、發明説明(18 ) 此情況下也會影«基霣表面的核生成,进成密合度降低 ,故(hkl)面的定向性必須控制到X射線強度比,從基 材表面或®化鈦表面到〇〜η厚度位置平均為i(hkl> /I(220)S7.0,而到0〜20>u 厚度位置平均為±<hkl) / I ( 2 2 0 ) S 15.0的範園 β 本發明切削工具,由於可將自基材表面或氘化鈦表面 到0〜3#·和0〜20# 1為止範圍内,舆基材接觸的氰化 鈦正上面之碩氘化鈦,或與基材接觸之硪氣化鈦中(hkl) 面的定向性,控制在前述範圍,故可提高輿基霣的界面 密合度》同時抑制切削中膜本身的損傷^ 再者,輿基材接觸的氮化鈦正上面的磺氰化鈦,或輿 基材接觸的磺氰化鈦之定向,若控制在下述範圍,則邇 可加大前述效果。 在本發明中,與基材接觸的氰化鈦正上面的磺《化钛 ,或與基材接觸的硪氮化鈦中1(311)/1(220)值,僳X 射線折射中(311>面與(220)的高峰強度比,惟因未定向 的硪氣化鈦粉末中X射線強度比1(311) / 1(220) = 0.5 ,則本發明範園在0.5以上,表示在(311>面定向勝於 ( 2 2 0 ) 〇 (31U面使柑對於一次»面里約32。角度,此面的# 向性必須控制在其X射線強度比,自基材表面或 表面到0〜3# 和0〜20>«平均都是0.5ίί 1(311) / 1(22(>) 因此對切削中的剪斷強度非常強。 反之,在被覆層生成初期階段,若被费層的定向 -20 本纸張尺度適用中國國家揉準(CNS > Α4规格(210X297公釐) (請先《讀背面之注$項再填窝本頁) 丄 訂 { ! A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 五、發明説明(I9 ) 1 1 強 〇 由 於 在 此 情 況下也會影鬱基質表面的核生 成》迪成 1 1 、 密 合 度 降 低 9 故 (311)面的定向性必須控制到x 射線強 1 I 度 bb 〇 在 0 ~ 3 U 麗平均為 1(311)/ 1(220)5 1.5 ,而〇〜 /*»S 請 I 1 I 20 Μ 平均為I (3 11> / 1(22(05 6·〇範圍❶ 先 聞 1 1 本 發 明 切 削 X 具酋中,到0〜3#·和0〜20# 11為止的 背 面 1 I 磺 化 鈦 靥 (3 11)阻定向性,若能控制在上迷範國,卽 之 注 1 1 可 提 离 膜 與 基 材 的界面密合度,同時抑制切削 中膜本身 1 項 1 I 再 1 1 的 損 傷 〇 填 又 在 本 發 明 中 ,令X射線折射中(111)面的高峰強度 本 買 V 1 為 I ( 1 1 1) > (2 20 )面的高峰強度為I ( 2 2 (〇時,其特揪為 1 I 9 與 基 材 接 觸 的 氟化鈦正上面的硪氰化鈦,或 與基材接 1 I 觸 的 硪 氮 化 鈦 中 I (111) / I (22'〇)值,到 〇〜3# 為止的 1 1 平 均 為 1 . 0尨I (1 10/ 1(220)5 4.0,而到 0〜2 0 # 為止 訂 I 的 平 均 為 1 . 0盏I (111) / 1(220)妄8.0。 1 I 到 0〜3 U 和0 〜20私·為止的銪園内,與内層基材接 1 1 觸 的 化 鈦 正 上 面之磺®化鈦,或與基材接觭 之硪氪化 1 I 鈦 層 的 (1 1 1 >面定向性,因控制在上述範圖,刖在(31U 面 定 向 時 » 同 時 可抑制切削中膜本身的損傷β 1 1 若 白 基 材 表 面 或氮化鈦表面到〇〜3# «為止的平均為 1 I 2 . 0盔 C I (1 11 )+ 1(311)〕/ 1(220)5 5.5,而到 0~20>u· 1 I 為 止 的 平 均 為 2 . 0忘[1(1 ⑴+ 1(311)〕/1(22 0)S 14.5 1 1 範 圃 » 刖 利 用 相 對於( 2 2 0 )面傾斜的(311)面和 (111)面 I 定 向 可 更 為 增 加此效果。 1 1 可 是 膜 厚 超 遇 20>u·時,若 6.0〈土 1(311)/ 1(220), 1 1 1 -2 1- 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4洗格(210X297公釐) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7五、發明说明(20 ) 8·0<(ΙΙΙ)/ 士 (220},和 14.0< 〔1(111)+1<311)〕, 刖定向性太強,會影響外層被覆時的核生成狀態,加工 時,在被覆層界面會連帶剝離,故不宜。 另外,在被覆靥生成初期階段,若被覆層的定向性太 強,在此情況下會影響基質上的硪氰化鈦之核生成,發 生此等界面的密合度降低,故(3 11>面的定向性使X射 線強度比》在〇〜3#·的平均必須控制在 1(311)/ I( 2 2 0 ) S 1 . 5 1(111) / I(220)S 4.0 和〔Ι(111)+Ι(311Π / 1(220)含 5.5。 與基材接觸的氘化鈦正上面之硪氰化鈦,或輿基材接 觸的磺氮化鈦被覆層膜厚範圍,若比1#·薄,則在界面 附近的膜中破壤防止效果小,若超過20#·,則影響上 述定向性太強,故以1〜20// β為較佳範圃β 又,求I ( h Ιι 1) / I ( 2 2 0 )等各面強度之方法,偽採用C r 或V等管球的通常X射線折射法β不遇,在被覆於超硬 合金的硪氮化鈦較薄位置求出X射線高峰強度時,由於 X射線侵人到基材中,露出硪化銪(WC)的高峰,但因硪 化鎢的(III)面高峰與磺氮化鈦的(311)面高峰位置重叠 ,不會分離(邸使使用高峰最易分離的V管球,也不會 分離因此,採用磺化_粉末射線_樣(基材的磺化錄 通常俱未定向),由硪化箱最強高峰的面輿(111) 面高峰比(由 ASTM 卡,知 I0wc(l〇l)/I〇 wci111)^0.25) ,可求出 Iwc (11 I >,邸 I wc U 1 1 > = 〇 · 2 5 x 1 wc Π 〇 Π , -2 2- (請先5?讀背面之注f項再填寫本頁) .丄 訂 A ! 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS 规格(210X297公釐) 293037 五、發明説明(21 ) 則由(31U位置的高峰強度延伸,可求出± (311>。 此外,與基材接觸層被覆氰化鈦0.1〜2>u 的效果除 前逑氛不良影礬的去除效果外,又因氮化鈦成膜時核生 成之安定化(核生成對基材狀態無甚影鬱,非常細组均 勻),而對上面的硝餌化鈦定向性有控制效果。因此, 硪氮化鈦的定向性,不論基材種類,組成,表面狀態等 如何,均可安定控制在本發明箱惟厚度在0.1#»以 下時,效果不充分顯現。定向性的控制困難,而2# a以 上時,則對切削時的耐磨性有不良影堪。因此,氮化纹 厚度必須在〇·1〜2a B範圍0 本發明進一步特徵為,氮化鈦膜上所形成硪氰化鈦膜 具有特定硬度或特定硬度和構造。即第二層的磺氟化敎 膜的硬度在1600〜240flkg/n·2範圍,其硪氮化鈦僳由 柱狀結晶粒構成,該破氟化鈦的平均結晶粒徑,在第二 層膜厚4 .0/UB以下時以0.1〜1#·範圍,第二層膜厚超 過40# B而在20# ϋ以下時以0.5〜3.0# 範圍之皮膜鼉 適當》 其中,第一層和第二層組成的内靥氱含董,以内層全 腰平均在0.05原子%以下為佳。 經濟部中央梂準局貝工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於此所稱皮膜的硬度,僳指撖維克斯硬度(licre vickers tardness)或諾普硬度(Knoop Hardness)。具 饑而言,令皮膜表面與基材平行或里通常角度研磨,對 此研磨面以例如免荷2 5- 50克,免荷時間1〇〜20秒,施 加維克斯或諾普壓痕,澜蛋此壓痕大小加以澜定。在工 -2 3- 本紙張尺度逍用中國國家揉準(CNS > A4规格(2丨0X297公釐) A7 B7 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 五、發明説明(22 ) 1 1 具 用 薄 膜 測 定 硬 度 之 際 若 壓 件 侵 入 深 度 超 遇 皮 膜 厚 度 1 1 無 法 m 定 正 確 硬 度 9 故 必 須 選 擇 測 定 方 法 及 負 荷 » 使 1 I 至 少 侵 入 深 度 不 及 皮 膜 厚 度 之 半 〇 可 是 做 為 薄 膜 硬 度 测 請 1 1 定 法 開 發 的 動 態 硬 度 定 法 (由壓件壓入深度與壓入負 先 聞 1 I 讀 1 1 荷 的 關 係 > 求 出 硬 度 的 方 法 ), 由於所得測定值與維克 背 面 1 I 斯 (或諾普) 硬 度 的 絶 對 值 * 在 tfc 較 上 有 困 難 9 故 不 適 用 之 注 意 1 1 做 被 覆 切 削 工 具 硬 度 m 定 法 〇 1 項 1 I 另 方 面 9 在 皮 膜 厚 度 為 0 . 1 〜2 0 B 時 > 從 皮 膜 表 面 藉 再 填 ·$ 1 X 掃 描 電 子 顯 撤 鏡 等 加 以 觀 察 > 平 均 結 晶 粒 悝 m 為 柱 狀 結 馬 本 頁 1 晶 末 端 的 結 晶 粒 大 小 ♦ 邸 柱 狀 結 晶 前 端 部 的 粗 度 〇 平 均 1 I 結 晶 粒 徑 的 評 價 9 在 顯 微 鏡 照 相 的 表 面 照 Η 中 9 就 規 定 1 I 尺 寸 視 域 内 見 到 1 0 0傾結晶粒時, -邊長度1 0 Μ ^ 以 1 0 0 1 1 平 方 根 的 1 〇除 之 » 即 評 定 為 1 M 〇 此 時 » 超 出 視 域 的 結 訂 I 晶 粒 » 以 0 . 5計數。 然而, 以積層膜而言, 無法直接觀 1 I 察 皮 膜 的 成 長 面 故 平 均 結 晶 粒 徑 的 評 價 方 法 > 有 令 被 1 1 覆 超 硬 合 金 構 件 的 被 覆 層 > 對 基 材 呈 平 行 或 適 當 角 度 ( 1 I 以 1 0 ° 以 下 為 佳 ), 加以研磨, 使用適當腐蝕液( 氟 氬 酸 1 崎 和 m 酸 及 蒸 皤 水 之 混 合 溶 液 等 )〇 使結晶粒界浮上來後 1 1 以 掃 描 型 電 子 顯 微 鏡 加 以 觀 察 之 方 法 * 或 將 加 工 成 薄 Η 1 | 的 試 料 1 以 透 視 型 電 子 顯 榭 鏡 加 以 觀 察 之 方 法 等 〇 均 可 1 1 由 逋 當 倍 數 拍 攝 的 照 片 9 算 出 結 晶 粒 徑 〇 可 是 由 X 射 線 1 1 折 射 法 算 出 結 晶 粒 徑 » 計 算 值 容 易 影 皮 膜 的 殘 餘 應 力 1 1 等 » 故 不 宜 〇 1 1 前 述 具 有 特 定 硬 度 或 待 定 硬 度 和 構 造 的 m 氮 化 鈦 膜 1 1 I -2 4 - 1 1 1 1 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS > A4规格(210X297公釐) 2930S7 ΑΊ Β7 經濟部中央標準局員工消费合作杜印製 五、發明説明(> 1 1 利 用 MT -CVD 法 m 可 容 易 形 成 » 此 第 二 層 m 氮 化 鈦 膜 的 形 1 1 成 9 是 以 乙 腈 » 氣 氣 9 四 氛 化 鈦 等 為 主 原 料 9 再 於 原 料 1 I 氣 體 中 添 加 m 或 氬 > 於基板溫度800〜980 eC反應槽内壓 y—> 1 I 請 | 力 4 0 〜 150Torr實施。 先 閱 1 I 讀 1 前 迷 硪 氪 化 鈦 限 於 特 定 硬 度 和 構 造 的 理 由 如 下 〇 背 1 I 首先闢於皮膜硬度 > 雖 然 是 硬 度 愈 高 > 耐 磨 性 愈 優 > 之 注 1 1 值 此 稱 為 摩 擦 損 耗 > 在 室 溫 附 近 有 穗 定 磨 損 的 傾 向 〇 因 1 項 1 1 此 9 切 削 工 具 適 用 鈦 条 陶 瓷 氟 化 鈦 9 磺 化 鈦 > 磺 再 填 寫 装 1 化 鈦 時 » 為 提 高 相 對 於 摩 擦 損 耗 的 m 久 性 t 以 磺 化 鈦 為 本 頁 最 佳 〇 1 I 可 是 » 像 這 種 切 削 工 具 9 很 多 在 衝 擊 或 熱 附 帶 的 摩 擦 1 I 損 耗 現 象 中 > 單 純 硬 度 高 者 t m 性 或 m 氣 化 性 不 佳 » 常 1 1 常 發 生 異 常 磨 耗 9 未 能 顯 示 安 定 赛 命 的 情 形 D 因 此 為 訂 I 獲得安定的長期壽命 > 宜 合 併 適 當 硬 度 9 具 有 不 易 破 壤, 1 1 即 使 破 壊 也 小 規 模 就 結 束 的 撤 細 構 造 9 同 時 兼 具 耐 氣 化 1 1 性 e 為 此 百 的 * 以 兼 具 附 氣 化 性 優 良 的 硪 氮 化 鈦 和 具 有 1 I 高 硬 度 的 m 化 鈦 二 者 優 點 的 硪 m 化 鈦 為 佳 〇 1 本 發 明 就 此 硪 化 鈦 皮 膜 硬 度 或 m 細 構 造 加 以 研 究 » 決 1 1 定 最 適 範 围 〇 1 I 即 有 開 硪 Μ 化 鈦 皮 膜 的 撤 細 構 造 詳 後 > 鬭 於 皮 膜 硬 度 1 1 9 以 1600kg/··2 以上到 240flkg/m· 2 以 下 » 最 適 合 本 發 1 | 明 之 的 〇 1 I 鈦 条 陶 瓷 以 TiC > N 1 一 x(其 中 0尨 1)組成份表示時 > 1 1 X 愈 大 9 具 有 硬 度 愈 高 的 性 質 > 從 X = :0時 (即 TiN)的 2 0 0 0 1 1 I -2 5- 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) Α4規格(21〇Χ297公釐) 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(24 ) kgf/··2 ,到 x=l 時(即 TiC)的 3000kgf/»n2 ,隨 x值 加大,硬度大約呈直線上升》硬度除C和H的fcfc率夕卜, 也受到與Ti的比率,或雜質,殘餘應力,微細構造等所 左右。本發明中稱為硪氰化鈦的皮膜,其各種因數的摘 別作用未明,惟已知硬度在160fl- 2 40 0kg/··2時,可得 最安定的工具用皮膜。硬度在16001ig/ii·2以下時,磨 耗太快,故不佳。3方面,硬度超《2400kg/··2時, 鄢性捶纗降低。容易發生缺陷,也不好· 再者,若硪氛化鈦皮膜的硬度在前迷範圈時,可得赛 命較為安定的工具,惟若以下述皮膜的微細構造做為最 適構造,則更好。 利用MT-CVD法被覆的磺氮化鈦膜,随被覆時的條件而 有各種撤細構造。依照本發明人等的研究,此種黴細構 诰的代表例,可分成下述第一至第三種ο 第一種:由半球狀的一次粒可集成之二次粒子,構成 皮膜表面。 第二種,由明顙多角形組成的一項粒子,構成皮膜表 面,故具有柱狀斷面構造,各柱較細。缠之,柱狀結晶 粒的成長,初期為斜縮狀,膜厚超過後,柱的粗 度變化不大》蒸著溫度適笛,即出現於原料氣體的濃度 或比率適當。具體言之,平均结晶粒徑輿膜厚的期你如 下。 膜厚在4.0AH以下時,粒悝為0.1〜l;ule 膜厚在4 · 0〜2 0必時,粒徑為0 . 5〜3 . 〇 #篇。 -2 6- 本紙張尺度逋用中國困家標準(CNS > A4规格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注f項再填窝本筲) 訂 A ! A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 五、發明説明( 25 ) 1 1 為 本 發 明 之 巨 的 9 此 等 種 類 願 示 性 質 較 佳 〇 而 切 削 工 1 1 具 中 厚 度 超 遇 2Q μ 麗的磺氛化鈦層, 會導致工具韌性降 1 I 低 9 不 切 實 際 〇 I | 請 I 第 — 種 : 由 明 顯 多 角 形 組 成 的 一 次 粒 子 » 構 成 皮 膜 表 先 閱 1 1 面 > 具 有 柱 狀 斷 面 構 造 各 柱 随 皮 膜 成 長 而 變 粗 〇 m 之 tt 背 面 1 I » 柱 狀 结 晶 粒 的 成 長 呈 斜 编 狀 > 與 第 二 種 的 结 晶 粒 浬 輿 之 注 臺 1 1 膜 厚 之 蘭 傜 不 同 〇 即 随 膜 厚 增 大 • 柱 也 加 粗 〇 蒸 著 溫 度 事 項 1 I 再 1 I 提 高 » 或 原 料 氣 黼 灌 度 降 低 » 則 皮 膜 的 成 長 速 度 邸 減 鍰β t 前 逑 形 成 碩 氮 化 鈦 膜 做 為 基 質 中 間 層 的 基 材 上 9 形 成 本 頁 1 刖 述 三 種 磺 化 鈦 皮 膜 以 試 製 工 時 > 就 切 削 試 驗 中 逃 1 I 避 面 磨 耗 性 評 價 結 果 • 各 種 皮 m 的 磨 耗 行 為 > 已 知 分 別 1 I 具 有 如 下 持 戡 〇 I 1 第 一 種 皮 膜 耐 磨 性 低 » 由 皮 膜 的 正 常 磨 耗 露 出 基 材 訂 I f 熔 著 異 常 磨 耗 急 速 進 展 〇 1 1 第 二 種 : 皮 膜 顯 示 正 常 磨 耗 > 皮 膜 m 磨 性 高 > 顯 示 工 1 1 具 壽 命 很 長 〇 1 | 第 三 種 和 第 二 種 同 樣 9 皮 膜 耐 磨 性 高 工 具 壽 命 長 1 > 常 常 在 皮 膜 局 部 發 生 缺 陷 等 異 常 磨 耗 > 引 起 基 材 的 異 1 1 常 損 傷 〇 1 I 第 一 種 皮 膜 > 由 於 硪 氮 化 鈦 皮 膜 的 結 晶 性 低 » 構 成 皮 1 1 膜 的 粒 子 彼 此 間 結 合 弱 » 可 推 知 皮 膜 在 崩 壊 中 磨 耗 〇 另 1 1 方 面 t 第 三 種 皮 膜 因 耐 磨 性 優 良 9 結 晶 粒 徑 大 » 故 皮 膜 1 I 有 大 規 模 破 壊 的 傾 向 * 推 知 會 引 起 工 具 切 刀 傷 刃 等 異 常 1 1 磨 耗 〇 1 1 I -2 7 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 293037 A? B7 經濟部中央樣準局属工消費合作社印製 五、發明説明(26 ) 1 1 相 對 地 > 第 二 種 皮 膜 耐 磨 性 優 » 同 時 顯 示 安 定 的 正 常 1 1 磨 耗 9 故 工 具 不 會 發 生 異 常 磨 耗 9 具 有 極 適 合 本 發 明 百 1 I 的 之 特 性 〇 請 1 1 本 發 明 切 削 工 具 在 被 覆 層 中 的 氛 含 量 在 0 . 0 5 原 子 % 以 先 Μ 1 I 讀 1 I 下 » 和 / 或 X 射 線 折 射 中 與 基 材 接 觸 的 氮 化 鈦 正 上 面 之 背 面 1 I 硪 氮 化 鈦 > 或 與 基 材 接 觭 之 磺 氮 化 鈦 的 高 峰 強 度 比 9 限 之 注 素 1 1 定 在 前 述 範 圍 内 > 以 形 成 對 基 質 的 粘 箸 力 強 » 耐 磨 性 和 1 項 1 I 耐 剝 離 性 均 優 的 碩 m 化 鈦 被 覆 膜 之 較 佳 方 法 9 有 利 用 化 再 1 1 X 學 蒸 箸 法 » 採 用 四 氛 化 鈦 Ti 源 > 有 機 化 合 物 為 硪 源 9 在 本 貰 1 95 0 ~ 1 0 5 〇 °c溫度範圍, 形成硪氮化鈦之被覆層。 1 1 此 95 0 ^ -1 0 5 o°c的成膜形成溫度範圍, 雖偽與習知以 1 I 甲 院 或 氮 為 m m 源 的 熱 CVD法大約同樣的高溫溫度範圍 1 1 » 但 使 用 本 發 明 原 料 * 在 如 此 高 的 溫 度 領 域 之 研 究 過 去 訂 | 未 見 報 導 〇 1 I 於 95 0〜1 0 5 〇 °c溫度領域, 依照習知熱CVD形 成 被 覆 層 1 1 時 視 基 材 種 類 會 在 切 刀 稜 線 部 析 出 度 之 V 相 * 在 切 削 1 I 加 工 中 > 此 V 相 若 易 發 生 白 被 覆 相 逐 一 脱 落 〇 致 工 具 壽 1 命 降 低 » 相 對 地 t 本 發 明 因 採 用 有 機 CN化 合 物 為 碩 源 » 1 1 即 使 在 此 溫 度 範 圍 加 以 被 覆 9 可 控 制 切 刀 稜 線 部 的 V 柑 1 I 厚 度 在 1 μ η 以 下 的 極 微 量 0 此 為 本 發 明 有 利 的 特 徴 之 〇 1 1 此 外 » 利 用 在 此 溫 度 範 圍 * 使 用 有 機 CN化 合 物 進 行 硪 1 1 氘 化 鈦 的 被 覆 » 邸 可 生 成 耐 磨 性 » 被 覆 層 中 的 耐 破 壤 性 1 I > 以 及 基 材 與 被 覆 層 界 面 之 密 合 度 均 非 常 優 異 的 硪 瓴 化 1 1 鈦 被 膜 〇 1 1 I -28- 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中夬揉準局貝工消费合作社印製 A7 B7 _ 五、發明説明(β) 向來由於s化敎:被镫厚,會降低射磨性,故在較低租 被覆薄到約2 為止的膜厚範面,以免對氰化钛(TiN) 的耐磨性有不良影響,卽使可抑制17相析出,若使用熱 CVD法在其上被覆以硪気化钛(TiCl〇等,仍會有7相析出 的間題· 相對地,按照本發明與基材接諝的氰化鈦厚度在0.1〜 2#·範園内,在二面使用有機CN化合物於較習知為高的 ffi度,被覆磺®化鈦,可知即使氮化鈦厚度薄到0.1〜2 #«,儘管被覆形成碩氮化鈦,均可以相當程度抑制π 相發生。 本發明方法另一特敢是,在本發明溫度範国内使用有 機CN化合物,進行磺氡化鈦被覆時,均可生成耐磨性, 被覆層中射破壊性非常優良的硪氰化鈦β採用有機CN化 合物的化學蒸著法,已属公知,由於可在較低溫被覆磺 氤化鈦,故可避免7相的析出,可視為習知製法的特微 ,一般是在800〜90QeC左右的低溫進行。可是在如此溫 度範困被覆時,因被镘磨中氛含量多,膜本身硬度低, 無法形成射磨性低的被覆層。又,在此等低S被覆,會 發生膜的的《剝雔性不Jg。 反之,在超出105ITC的高灞,採用有機CN化合物進行 被覆時,和通常熱CVD法同樣,在切刀積線部的基材表 面部有厚7相析出,且鼸於定向性,在(220)面的定向 性變強,會發生膜中破壤或被覆相自7相脱落,如今就 工具壽命的降低加以研究,已告明白β因此,成膜S度 -29- 本紙張尺度逋用中國國家揉率(CNS > Α4规格(2丨0><297公釐〉 (请先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局貝工消费合作社印家 A7 _ _ B7____ 五、發明説明(28 ) 範園在本發明範画950-1050 °C時,可得良好膜質❶ 可是,由於混合氣臑中的N2董在26%以上,即使在 800〜950 eC左右的低溫,因具有本發明範圍的定向,故 可得跗禊中破壤性,高密合度之膜。 按照本發明方法,由於可提高被覆膜的密合強度(基 材與内層的密合度,以及内層與外層的密合度 >,以及 切削加工時被覆雇的晒破壤性,故確定舆習用實施的被 覆切削工具之被覆層厚度頂多在10〜15# b左右相對地 ,本發明可使用厚達100#·的厚膜,而不發生剝離或膜 中破顔。但如超遇1㈣// b ,則輸送的小小加工中,大多 會發生被覆靥中的破壊,故不宜。 另以超過15# B的厚膜被覆層而言,若在被覆後,再 加以減少被覆層中殘餘抗粒應力的處理,特別具有效果》 此項處理是在被覆後,對被覆層表面施以機械性衡擊 或加熱衝擊等,由於被覆層在膜厚方向的龜裂,較塗佈 後的狀態增加,可緩和被覆層中的殘餘抗拉應力,有提 高被覆層的射破壞性,特別是在輕切削般對被覆靥負擔 大的加工,效果很大。 玆使用實施例具體說明本發明。 资施篚―丄 採用ISO P10的CHMG120408形狀的磺化鶬質超硬合金 為基材,於其表面生成表1的A1〜Hl,PI, Ql, R1所示 構造之被覆層。 此時,與内層的基材接觸之氮化鈦,是在950 -C四氣 -30- 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X297公漦) ---------Λ 4------訂------( (請先《讀背面之注$項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 五、發明説明(29 ) 1 1 化 鈦 1%、 氮( Ν 2 ) : 50 % 氫 (Β 2 ) 4 9%混合氣醱的 1 1 氣 流 中 生 成 〇 内 層 的 硪 氮 化 鈦 是 在 表 1 所示9 0 0〜1 fl 0 0 eC 1 I 各 溫 度 > 氣 體 條 件 均 為 Η 2 :9 5%、 四氛化钛 4 % ν 乙 請 1 1 腈 (CH 3 CN) 卜3 % 而 爐 内 壓 力 為 60Torr的 混 合 氣 體 先 閱 1 I 讀 1 I 之 氣 流 中 生 成 〇 被 覆 層 厚 度 随 保 持 時 間 變化而 調 整 〇 背 1 I 此 等 發 明 品 的 膜 中 氛 含 量 、 定 向 性 以 及切刀 稜 線 部 中 之 注 彔 1 1 的 V 相 析 出 厚 度 > 如 表 2 所 示 〇 又 » 為 供kb較 • 同 時 在 1 項 1 I 表 中 列 出 比 較 品 I, 膜構造與本發明品A1相同, 内層的 再 填 寫 1 1 m 氮 化 鈦 9 是 採 用 甲 院 和 氮 (Ν 2 >為硪氪源,利用熱CVD 本 頁 丨 法 » 在 1 0 0 0 °c 製 作 〇 1 | 膜 中 氣 含 量 * 以 A g C 1為 標 準 試 料 利 用 EPHA_ 定 » 1 I 使 用 此 試 樣 > 按 下 述 切 削 條 件 1 . 2 , 就包含膜本身的 1 1 耐 磨 性 和 膜 剝 離 之 耐 磨 性 > 剝 離 損 傷 9 加以怦 估 0 結 果 訂 I 如 表 3 所 示 〇 由 此 結 果 > 本 發 明 品 A 1 Η 1,Ρ 1 f Q 1 f R 1 1 I 與 比 較 品 I 相 較 > 顯 示 在 耐 磨 性 、 耐 剝 離性, 耐 膜 中 破 1 1 m 性 方 面 均 較 優 〇 1 I 此 外 9 在 本 發 明 品 中 , 6 1 的 膜 中 殘 餘 氛含量 多 * 射 磨 性 Λ 耐 剝 離 性 稍 遜 » 惟 耐 膜 中 破 壞 性 較 比較品 I 大 為 提 1 1 高 9 此 傜 因 定 向 性 在 本 發 明 範 圍 内 的 效 果。 1 I 又 t 本 發 明 品 fl 1在 (3 11 )的定向性弱, 耐膜中破壊性 1 1 較 差 » 但 耐 磨 性 較 th 較 品 I 大 為 提 高 > 可確認 為 膜 中 殘 1 1 餘 氛 含 置 在 本 發 明 範 圍 内 收 到 的 效 果 〇 儘管F1 的 膜 中 氨 1 1 含 量 少 9 但 被 覆 層 的 耐 剝 離 性 稍 差 » 乃 像V _ 厚 造 成 0 1 1 由 P 1 和 ϋ 1的 結 果 > 可 知 是 (1 11)定向性在本發明範圍 1 1 I -3 1 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4规格(2丨OX297公釐) 29S037 A7 B7 五、發明説明(30 ) 内的成效,而由Q1的結果,可知是(311)定向性在本發 明範圍内,對膜中破壊發揮的效果。 切削修件1 被削材料:SCM 415(0: 210) 切削速度: 300 n/Bin 输送:0·35ιβ/轉 切入:1 . 5a· 切削時間:30分鐘 切削油:水溶性 切削條件2 被削材料:SCM 415(0: 180) 切削速度:2 5 0 m/ Bin 輸送:0.3 bb/轉 切入:1 5 π m 切削時間:1通=1 0秒重複3 0 0次 切削油:水溶性 (請先《讀背面之注f項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局員工消费合作社印製 -32- 本紙張尺度逍用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) • A7 B7 五、發明説明(31 ) 表一1 經濟部中央揉準局員工消费合作社印製 試料 温度 膜構造和各層膜厚(//} 與基材接腾 的TiK正上面 TiCNSI厚 (^m) 被覆牖全 CC) 外層 内層 厚 (μλ) (Atm) A 1 950 TiN/TiCN/Al2〇3 0.5 0.5 2.0 /TiCN/TiN/ 基材 8.0 0.5 8.0 "·5 B 1 950 TiN/TiC /Al2〇3 0.5 0.5 2.0 /T i DCN/T i C/T i CH/T i N/ 基材 0.5 3.0 1.0 2.0 1.0 9-5 Cl 1000 TiN/Al2〇3 0.5 2.0 /TiGCN/TiCN/TiN/ 糾 0.5 8.0 0.1 8.0 11.1 D 1 1000 TiN/Al〇0〇 2.0 3.0 /TiCN/TiC/TiCN/TiN/ 基材 1.0 3.0 3.0 0.5 3.0 12.5 -.一· El 1050 TiN/Zr〇2 0.5 1.0 /TiBCN/TiCN/TiN/基材 0.5 8.0 0.5 8.0 10.5 FI 1050 TiN/riCN/Hf〇2 0.5 0.5 1.0 /T i N/T i C/T i CN/Γ i N/ 基材 0.5 4.0 5.0 0.5 5.0 12.0 —--- G 1 900 TiN/TiCN/Al2〇3 0.5 0.5 2.0 /TiCN/TiN/ 基材 8.0 0.5 8.0 11.5 — HI 1100 TiN/TiCN/Al2〇3 0.5 0.5 2.0 /TiCN/TiN/ 基材 8.0 0.5 8.0 11.5 PI 1050 TiN/Al90〇 0.5 1.0 /TiCN/TiN/ 基材 2.0 0.1 2.0 3.6 Q 1 950 TiN/Al90« 0.5 1.0 /TiC/nCN/TiN/ 1.0 1..0 0.1 1.0 3· 6 一«««—— R 1 1060 TiN/Al2〇g 0.5 1.0 /TiCN/IW 基材 2.0 0.1 2.0 3.6 . ---- 33- (请先《饋背面之注意事項-ΪΙ-填寫本爽) •tr 本纸張尺度逋用中國國家榡率(CNS ) A4规格(210X297公釐) 7 50 ο 3 8 2 Α7Β7 五、發明説明(32) 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 *—· €> 1—4 ►—* o H—» Η-» a j—* 〇 h-- DO > 1—· 試料 〇 0.05 ο S Ο S Ο ο 0 01 o o o o O o 〇 o ◦ S o o 书h·» Λ *-β S uL| sb «1 0.06 Ο ο ο ο σ: CD ο ο 0 01 o s 0.015 o 8 o o o g o k 内層氛 含量 (原子X) 〇 to cn ρ ιο ρ ρ )—* cn o σ> o 0¾ o 〇 o cn cn 〇〜3以in m n5 gtr H-»· 0 1 1 1 1 0· 35 (〜8 >um) 0· 45 (〜8 //⑴) I 5.5(〜8 #m) 0.9( 5 χ/ΐπ) 1.0(〜8 //in) 1 1.5(〜8 #m) i ! 2.5(~8/zm) 0〜20//ΐη 〇 cn ο αι ο ΟΙ CO CJI to ο 〇 ►—» ο »—* o o cn 〇 cn o 〇 111 V—» Ο ο CO μ-k ο 00 to >—* CO 产 ο »—* Ol to ai 〇D •<1 — cn o 0 〜3 ;/m s m 3过 h痛 c薄 口 3 •s—^ h-3 s: 一到 1 1 1 ο CO μ-fc ►-* to ο μ-» C71 . 1 〇〇 o 1 CD 0 〜20//m »—» οο >—* οο V—k Ο ρ »—* CD to OO ►pw σ> ►—» -CO cn a r° o yi CJl 0〜3 B |i + H3· 二 S >—*· tu —rn \ h-二:a r〇 »-»· 〇 cn SB 3 1 1 1 0.65 cn CO to CO to cn 1 CD cn 1 CD tn 0 〜20;/m (請先Η讀背面之注$項再填寫‘‘瓦) i 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) Α4规格Ul^Xg92公釐) _ 34 - 經濟部中央揉準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(33 ) 表-3 試 料 切削條件1 切削條件2 逃避面平均 摩耗量(») 逃避面平均 摩耗置() 被覆靥剝 離之有無 膜中破壤 Α1 0.192 0.169 無 無 Β1 0.181 0.179 無 無 C1 0.170 0.170 無 無 D1 0.175 0.171 無 無 Ε 1 0.184 0.169 無 無 F1 0.186 0.165 無 無 G1 0.211 0.225 有(少) 無 Η1 0.188 0.265 有(多) 有(稍多) I 0.240 0.380 有(多) 有(多) Ρ1 0.213 0.225 無 無 Q1 0.220 0.222 無 無 R1 0.216 0.226 無 無 -----------{ >-- (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁)
,1T 气! -35- 本紙張尺度逍用中國國家橾準(CNS > Α4洗格(210Χ297公釐) A7 B7 五、發明説明(34 ) 奮旃例2 使用ISO P10的CNMG 1 2 0 4 08形狀的硪氟化钛質陶金為 基材,於其表面生成與表1的A 1 , C 1,E 1 , P 1 , Q1同樣 構造的被覆層,製成試料A2, C2, E2, P2, Q2,以寅施 例 1 之條件1,2同樣的切削條件進行評估。為供比較, 將表1的A1同樣模構造之被膜,利用熱CVD法,於1000eC 被覆於陶金基材,做為試料12評估結果,同時列出β此 等膜之膜厚,氛含童,定向性,雖與表1,2的結果相同, 惟各試樣均在切刀稜線部未見π相(只有12試樣,在被覆 層中發現若干金屬相析出,認為是粘合劑的Hi所致)β 由此結果,可知比較品12的内層氡含量,以及與基材 接觸的氛化鈦及其正上面之磺氮化鈦中氛含量多,使膜 本身的耐磨性不足和膜剝離,且硪氮化鈦層的定向性在 本發明範圍以外,故在被覆層中發生膜破壞,相對地, 本發明品Α2, C2, Ε2, Ρ2, Q2的結果,耐磨性、耐剝離 性,耐膜中破壤性均優。 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央棵準局貝工消費合作杜印装 -36- 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) Α4规格(210Χ297公釐) A7 B7五、發明説明(35 ) 表-4 試 料 切削條件1 切削條件2 逃避面平均 摩耗量U·} 逃避面平均 摩耗量(η») 被覆層剝 離之有_ 膜中破壤 A2 0.166 0.182 無 無 C 2 0.169 0.177 無 無 E2 0.171 0.173 無 無 12 0.245 缺 有(多) 有(多) P2 0.198 0.188 無 無 Q 2 0.196 0.179 無 無 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁)
L 訂 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 啻油ί期I 3 採用CNMG120408形狀的氮化矽条陶瓷為基材,於其表 面生成構造與表1的Al, Cl, El, PI, Q1相同的被覆雇 ,製成試料A3,C3, E3,P3,Q3,按下述切削條件3, 4進行 評估β結果如表5所示β為供比較,將膜構造與表1的A 1 -3 7 - 本紙張尺度遑用中《困家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央揉準局負工消費合作社印製 A7 , B7 五、發明説明(36 ) 相同的被膜,利用習知熱CVD法,在1000 °C被覆於氮化 矽条陶瓷基材而得之試料13加以評估結果,同時列出。 此等膜的氛含量,定向性與表1, 2結果相同,而各試料 在切刀稜線部均未見7柑ο又就膜厚而言,除I 3内層的联 氮化鈦厚度爲6 外,其餘與表1結果相同。 由此結果,可知比較品13的内層氣含量,以及與基材 接觸的氮化鈦及其正上面之硪氮化鈦中氛含量多,使膜 本身的耐磨性不足和膜剝離,且硪氮化鈦的定向性在本 發明範圍以外,故在被覆層中發生膜破壞,相對地,本 發明品的A3,C3,Ε3, Ρ3, Q3的結果,耐磨性,耐剝離 性,耐膜中破壊性均優》 忉削悠件3 被削材料:F C 2 5 切削速度:500 m/min 輸送:0.25m·/轉 切入:1 . 5讀b 切削時間:3 0分鐘 切削油:無 t7I削悠件4 被削材料:F C 2 5 切削速度:400n/*in 輸送:0·3 ·β/轉 切入:1 . 5 Β ΙΒ 切削時間:1通=10秒重複300次 切削油:無 -38- 本紙張尺度逋用中國國家揉率(CNS ) Α4规格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
A B 五、發明説明(37) 表-5 試 料 切削條件3 切削條件4 逸避面平均 摩耗量(η») 选避面平均 摩耗置(ηηι) 被覆靥剝 離之有無 膜中破壊 A3 0.253 0.265 無 無 C 3 0.271 0.258 Arr m 無 E 3 0.236 0.247 無 無 13 0.400 剝離—缺 有(多) 有(多) P 1 0.272 0.260 無 無 Q3 0.273 0.265 無 無 ----------{-------訂------A I (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局負工消費合作杜印製 啻施例4 使用CNMG 120408形狀的氣化鋁質陶金為基材,於其 表面生成構造與表1的Al, Cl, El, PI, Q1相同的被覆 層,製成試料A4,C4,E4,.P4, Q4,按實施例3切削條件3, 4進行評估。結果如表6所示。為供比較,將膜構造與 -3 9 - 本紙張尺度適用中國困家揉準(CNS > A4规格(210X297公釐) A 7 - B7 五、發明説明(38 ) 表1的A1相同的被膜,利用習知熱CVD法,在1000 °C被 覆於氧化鋁質陶瓷基材而得之試料14加以評估結果,同 時列出β此等膜的氣含量,定向性與表1,2結果相同, 而各試料在切刀稜線部均未見7相。又就膜厚而,除14 内層的硪氮化鈦厚為6#*外,其餘與表1結果相同。 由此結果,可知比較品14的内層氮含量,以及與基材 接觸的氮化鈦及其正上面之碩氮化鈦中氣含量多,使膜 本身的耐磨性不足引起前端脱落和膜剝離,且硪氮化鈦 的定向性在本發明範圍以外,故在被覆層中發生膜破壤 ,相對地,本發明品的Α4, C4,Ε4, Ρ4, Q4的結果,耐 磨性,耐剝離性,耐膜中破壞性均優。 (請先閏讀背面之注$項再填寫本頁) -訂 风! 經濟部中央揉準局員工消費合作社印製 -40- 本紙張尺度逋用中國國家棣準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(39 ) 表-6 試 料 切削條件3 切削條件4 逃避面平均 摩耗量(B«) 逃避面平均 摩耗量(》) 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 A4 0.155 0.160 無 無 C4 0.165 0.155 無 無 E4 0.148 0.152 無 無 14 前端脱落 缺 有(多) 有(多) P4 0.166 0.157 無 無 Q4 0.168 0.154 無 無 窗掄例5 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央揉準局負工消費合作社印製 使用ISO P30 CNMG 120408形狀的硪化鎢質超硬合金 為基材,於其表面以實施例1同樣氣體條件,在1Q00-C 進行被覆,製成表7所示厚膜之膜構造的本發明品試料 J1〜L1。再於被覆後試料J2,使用嫌粉實施珠擊法(shot -4 1 -本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) S93037 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印褽 五、發明説明(4〇 ) 1 1 pe e η i η g ) 處 理 ,同 時 製 成 被 覆 層 中 的殘餘抗 拉 鼸力 降到 1 1 零 為 止 的 試 料 J2〇 1 I 外 為 供 比較 9 將 膜 厚 超 出 本 發明範圍 的 比較 品 請 1 1 Μ . Ν . 以及内層的磺氮化鈦, 以c 和N 2為碩 氮 源, 藉習 先 閱 1 I 讀 1 1 知 熱 CVD 法, 在1000-C被覆以與本發明同樣厚度而得的 背 Si 1 I 比 較 品 〇, 同時列於表中。 之 注 素 1 1 此 等 試 料 的 膜中 氣 含 量 > 與 基 材 接觸的m 化 鈦正 上面 事 項 1 I 之 磺 m 化 鈦 定 向性 9 以 及 切 刀 稜 線 部的ν相 析 出厚 度, 再 填 ir 1 如 表 8 所 示 〇 本 頁 • » ~ 1 採 用 此 等 試 料, 按 下 述 切 削 條 件 5 · 6加工, 結果如表 1 1 9 所 示 〇 由 此 結果 » 可 知 比 較 器 Μ的内層硪氮化鈦的膜 1 | 厚 度 很 厚 0 定 向性 超 出 本 發 明 品 範 圍,故在 被 覆層 中發 1 1 生 剝 離 9 産 生 磨耗 〇 另 知 比 較 品 Ν 的全體膜 厚 超出 本發 訂 I 明 品 範 圍 » 在 被覆 層 中 有 許 多 破 壊 。另外, 由 習知 熱CVD 1 | 法 » 可 知 fcb 較 品0完全不耐用。 又由本發明品J 1和J2相 1 1 較 9 可 知 在 此 等厚 膜 的 領 域 9 被 覆 後進行殘餘應力的 1 I 去 除 處 理 9 具 有提 高 耐 剝 離 性 > 耐 膜中破壊 性 的效 果。 切 削 條 件 1 1 被 削 材 料 : SCM 4 1 5 (ΗΒ • 2 1 0) 1 I 切 削 速 度 : 500 蘭/ η in 輸送:0 .2 〇!«/ 轉 1 1 切 入 : 1 . 5 B η 切削時間 30分鐘 1 1 切 削 油 ; 水 溶性 1 I 切 削 條 件 6 1 1 被 削 材 料 SCM 4 1 5 (ΗΒ • 180 ) 1 1 I -4 2- 1 1 1 1 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS > A4规格(210X297公釐) 五、發明説明(41 ) ο 通性 4S1 溶 : 5 :水 度 1 間: 速·.時油 削 入削削 切 切切切 A7 B7 送 输 轉 複 S 秒 次 ----------it— (請先»讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度逍用中國國家揉準(CNS > A4规格(210X297公釐) A7
五、發明说明(42 ) 表一7 綱 膜構造和各層膜厚(〆》0 mmmm 的TiN正上面 Tic晒厚 ("m) 被覆層全 讎厚 U·) 100 夕卜層 内層. J 1 TiN/TiCN/Al2〇3 5.0 25 50 /TiCN/TiN/ 19 1.0 19.0 K 1 TiN/TiC /Al2〇3 5.0 3.0 60 /TiBCN/UC/TiCN/IW 基N· 0.5 10 20 0.5 20.0 99 L 1 TiN/Al203 0.5 85.5 /TiBCN/TiCN/TiN/ 級 0.5 10.0 2.0 10.0 98 Μ TiN/Al203 2.0 3.0 /TiCN/TiC/TiCN/TiN/J^ 1.0 3.0 25 1.0 25.0 35 Ν TiN/Zr02 5.0 80.0 /TiBCN/TiCN/TiN/loit 1.0 20.0 0.5 20.0 106.5 經 濟 η 部 〇 中 央 標 TiN/TiCN/Al2〇3 5.0 25 50 /TiCN/TiN/^ 10.0 0.5 20.0 90.5 面 之 注 局 貝 工 消 费 合 作 社 印 輦 Μ〜0為比較品 請 先 « % i 訂
I -44 本紙張歧逋用中國两家鮮(cNs >A4赌(210X297公兼] 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 293037 五、發明説明(43 ) 〇 2: r· Η-* C-, 〇 0.01 0.01 ο ο Ο Ο h-k ο ο 书h·牌 迸到过 §9^'l til SE «1 〇 ο ο ο S ο ο ο 8 ο ο 〇 05 »—k ο ο »—*> ο Ο μ-* Ο 0〜3 SB 3¾ -1 gi 諫 0.3(〜20 鋒) 6.0(〜20//m) 7.0(〜20/ζ m) 2.0(~10//m) 6.0(〜2〇βιή) 6·0(〜19;/ m) 0〜20"m 1 〇 >—4 Ο μ-» Ο Ο >—k CD 1— ο 切刀稜 線部” 相厚度 (Um) 1 〇 »—* -<Ι ί—* σ> σ> h-*> C-Π 0 〜3 //m ll -a 二 3 HH 3B t=J ^ rn SK- S3J St 〇 〇〇 CO, CO Η-* ς〇 οο oo 0~20^m ►—* Γ° to Γ0 σ> Γ° σ> to Ol 0 〜3 /zm -------- B 口磙 Τ» Si -£ \ hr 欠a to t-9 s s ^ 3E 3 μ-* h-* Γ3 ς〇 οο CO CO CD Γ3 00 00 〇 〜20 yin 0— ra ----------{------1T------Λ I(請先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國困家橾準(CNS ) A4洗格{ il〇X297公釐) -45-
7 7 A B 經濟部中央樣準局負工消费合作社印製 五、發明説明(44 ) 表-9 試 料 切削條件5 切削條件6 逃避面平均 摩耗量(》Β) 逃避面平均 摩耗量(》*) 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 J 1 0.140 0.155 極少 極少 Κ 1 0.150 0.163 極少 棰少 L 1 0.132 0.145 極少 棰少 J 1 0.142 0.143 無 無 Μ 0.155 0.278 有(多) 極少 Ν 0.143 0.246 極少 有(多) 0 到2分鐘有 缺損 10通缺損 非常多 非常多 一 46- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4规格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 ^93037 於取&曰 補充 A7 --- 37 五、發明説明(45) 實施例6 使用ISO P10的CNMG 1 20408形狀的磺化鎢質超硬合金 為基材,於此表面生成表10的al〜hi, Pi〜rl所示構造 的被覆靥。 _ 此時,第一層碩氡化鈦的生成是在表10所示900〜1100 t:各溫度,氣體條件都是H2 95% ,四氛化鈦4% ,乙贈 (CH3 CH)2%,而爐内壓力60 Torr的混合氣體氣流中進 行。被覆層的厚度隨保持時間變化而調整。 此等發明品的膜中氛含量,定向性以及切刀稜線部的 ri相析出厚度,如表11所示。又為供比較,以本發明品 al相同的膜構造,將第一層硪氮化鈦,以甲烷和N2為 碩氡源,利用習知熱CVD法,在1 000C製成比較品i,同 時列於表中。 又,使用與本發明相同的基材,僅將膜利用與習知技 藝(特開平4-13874)相同的條件予以成膜,並作為比 較品i’。i'為利用以氫氣為載醴之公知等離子CVD法製 作,且在下列製造條件下製作。藉此,一併顯示所成膜 TiC之膜厚度及膜中氣含量。 低氯領域之T i C 高氣領域之TiC 基材溫度υ 102010 10001C R F (射頻)功率 200W 1 000W 壓力 5 t 〇 r r 1 t o r r CH+ /TiCU 2.0 1.0 成膜時間 0 . 5小時 4小時 氛含量 0*051 at% 0.835 膜厚 0.4 u οι 5 · 1 a η 採用此等試料,按下述切削條件7, 8就包含膜本身耐 磨性和膜剝離之耐磨性,剝離損傷,進行評估。結果如 表12所示。由此結果,可知本發明品的al〜hi,pi〜rl, 與比較品i之相較,在耐磨性、耐剝離性,耐膜中破壊 性方面均優。 在本發明品中,gl在膜中殘餘氛含量多,耐磨性和耐 剝離性稍遜,惟耐膜中破壊性較比較品i大幅提高,此 為定向性在本發明範圍内的效果。 本發明品hi的(311定向性弱,耐膜中破壊性稍差,耐 磨性較比較品i大幅改進,可認定是膜中殘餘氛含量在 本發明範圍内收到的效果。又,儘管hi的膜中氣含量少 -47- 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 策- -訂· A7 B7 五、發明説明(46 ) ,被覆層的耐剝離性稍差,可視為π相層厚所引起。 七71削雔件7 被削材料:SCM 415 (ΗΒ=210) 切削速度:3 0 0 B/ min 輸送:0.35ιβ/轉 切人:1 . 5 m 切削時間:3 0分鐘 切削油:水溶性 七71削修件8 被削材料:SCM 415 (0=180) 切削速度:2 5 0 »/ Bin 輸送:0.3 η*/轉 切入:1 . 5 a η 切削時間:1通=1 0秒重複3 0 0次 切削油:水溶性 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 城! 經濟部中央樣準局負工消費合作社印製 48 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) A7 _'_____B7 五、發明説明(47 ) 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印掣 表一1 0 試料 温度 CC) -與基概腸 的TiN正上面 被棚全 體膜厚 (um) 外層 内層 TiCN膜厚 (_ a 1 950 Ti 腿 CN/A]2〇3 0.5 0.5 ZQ /TiCN/級 8.0 8.G 11.0 b 1 950 TiN/TiC /A1〇0q 0.5 0.5 细 /TiKK/TiC/IW 紐 0.5 3.0 1.0 l.C ----—--- 7.5 cl 1000 TiN/Al9〇3 0.5 fo ΛϊΈονηονΜ 0.5 8.0 8.0 - 11.0 d 1 1000 TiN/AloOo 2.0 /TimiC/TiCN/^# 1.0 3.0 3.0 3.0 12.0 el 1050 TiN/ZrOb 0.5 1.0 /TiDQ^TiCN/J# 0.5 8.0 8.0 '----. 10.0 f 1 1050 TiN/Ti〇VHf〇2 0.5 0.5 1.0 /TiN/TiC/IW 糾 0.5 4.0 5.0 5.0 11,5 g 1 900 TiN/TiCM/Al〇〇3 0.5 0.5 ZO /πα彳/基材 8.0 8.0 11.0 hi 1100 TiN/TiCN/Aj2〇3 0.5 0.5 T.0 /IW級 8.0 8.0 11.0 p 1 1050 TiN/AloOo 0.5 l.O'3 Amm 2.0 2.0 3.5 q 1 950 TiN/Al2〇3 0.5 1.00 /TiC/TiCN/ 級 1.0 1.0 1.0 3.^ r 1 1060 TiN/Al〇〇Q 0.5 1.0 Amm 2.0 2.0 — -3.5 (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 _ 4 9 _ 本紙張又度逋用中國國家標準(CNS ) Α4Λ格(210X297公釐) A7 B7 明 説明發 48 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 -1 *〇 一 tr 〇Q O) μ—· CL >—· o ►* cr ►—* ►—· m 〇 0.05 o s o I^ 〇 o o Η-* 〇 cn o o I °·01 〇 o I—* | o.oi 1 0.03 : 0.04 书h·桝 甚到过 葙 Μ® 〇 gj _ 0.06 0.07 0.06 j 〇 h—* 0.01 O h—* ai 0.04 0.015 0.03 0.01 0.05 0.04 内層氣 (原子X) 〇 to cn o fO o ►1^ o V—* CM o <n o σ> »* o CD o cn »~~* cn 1 1 0 〜3 1 m Τοψ * v Q ΙΟ 1¾ 1 1 1 0.35 (~ 8 //m) 〇· 45 (~ 8 ^rn) 5.5(〜8 em) 丨 〇.9(〜5 "m) j ►—* o 7 CO r、' E 1 1.5(〜S㈣ 1 to CM CO Tc 彐 0 〜2Q ^ m 〇 cn CD cn o cn CO cn K3 〇 〇 »—» CD O o cn o ai o o 切刀凌 i線部7 |相厚度 j (ym) ο o co -J 〇 03 IsD o 03 α» to 〇 CO zo Ul CO o 0 〜3 ;/ΐπ 'Μ 口茹 to »-3 ro *—· ss S: 1 1 1 〇 CO μ-Α to o at, 1 oo o 1 CD 0 〜20#m V—k 0〇 t—* 0〇 CD o CD ro cn ►—* K> o CO o 仏 CO to o cn 0 〜3 二茹 上a 一 H §s <1—»» ^ΰν ro g 1 1 1 0.65 1.85 cn CO r° CO ro Ol 1 CO ai 1 CD Ol G 〜20/zm m丨 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
,1T 本紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐)—50 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 修 補充 ______i.' . A7 B7 五、發明説明(49 ) 表-12 試 料 切削條件7 切削條件8 逃避面平均 摩耗量(mm) 逃避面平均 摩耗量(》) 被覆層剝 離之有無 膜中破壞 a 1 0.19 0.175 無 無 bl 0.18 0.18 無 無 cl 0.174 0.168 無 無 dl 0.175 0.17 無 無 el 0.18 0.172 frrr· m 無 f 1 0.183 0.172 •far m 無 gl 0.210 0.230 有(少) 無 hi 0.185 0.270 有(多) 有(稍多) i 0.225 0.350 有(多) 有(多) pi 0.210 0.230 無 無 ql 0.215 0.225 無 無 rl 0.213 0.228 無 無 i ' 0.28 0.43* 有常多)* 有(多u 過度損傷,在190通停止,此時之測定值。 --------{裝------訂 又 冰 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -51 - 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 293037 A 7 ' B7 五、發明説明(50 ) 窗掄例7 使用ISO P10的CNMG 120408形狀的磺氮化鈦質陶金為 基材,於其表面生成構造與表10的a 1 , c 1 , e 1,相同的被覆 層,製成試料&2,62,£6,依實施例6切削條件7,8的 同樣切削條件進行評估。結果如表13所示。為供比較, 將膜構造與表10的al相同的被膜,按照習知熱CVD法, 在lQQtTC被覆於陶金基材所得試料i2加以評估。其結果 同時列出。此等膜的膜厚、《含量、定向性、均與表10 ,11結果相同,各試料均在切刀稜線部未見17相(只有 i2試料在被覆層中看到有若干金羼相析出,應屬粘合剤 的Ni造成)。 由此結果,可知比較品i2的内層和第一層,因氩含量 多,發生膜本身耐磨性不足且膜剝離,且因第一層定向 性在本發明範圍之外,在被覆層中發生膜破壞,相對地 ,本發明品a 2,c 2 , e 2結果,耐磨性,酎剝離性和耐膜中 破壞性均優。 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 域! 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -52- 本紙張又度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 五、發明説明(5;L ) A7 B7 表-1 3 試 料 切削條件7 切削條件8 逃避面平均 摩耗量(mm) 逃避面乎均 摩耗量Um) 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 a2 0.165 0.180 無 無 c 2 0.168 0.175 無 無 e2 0.169 0.169 無 無 i 2 0.240 缺 有(多) 有(多) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. ,-ιτ 經濟部中央樣準局員工消費合作社印袈 奮旆例8 使用CNMG 120408形狀的氪化矽条陶瓷為基材,於其 表面生成構造與表10的al, cl, el相同的被覆層,製成 試料a 3, c 3 , e 3 ,依下述切削條件9,1 0進行評估。結果 如表14所示。為供比較,將膜構造與表1Q的al相同的被 膜,利用習知熱C V D法,在1 0 0 0°C被覆於氮化矽糸陶瓷 基材所得之試料i 3加以評估,其結果同時列出。此等膜的 氰含里,定向性,均與表10,結果相同,各試料均在切 刀稜線部均未見7相。關於膜厚,只有i 3的第一層硪氮 •線 __- fi 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公嫠) B7 B7 輸送:0 · 2 5mn/轉 切削時間:30分鐘 輸送: 五、發明説明(52 化鈦厚度為6;ub,其餘均與表10的結果相同》 由此結果,可知比較品i3的内層氨和第一層,因氯含 量多,發生膜本身耐磨性不足且膜剝離,且因第一層定 向性在本發明範圍之外,在被覆層中發生膜破壊,相對 地,本發明品a 3 , c 3,e 3結果.,耐磨性,耐剝雎性和耐膜 中破壞性均優。 切削修件fl 被削材料:F C 2 5 切削速度:5 0 / « i η 切入:1 · 5 π m 切削油:無 切削修件1 〇 被削材料:F C 2 5 切削速度:400 m/min 切人:1 . 5 b m 切削時間:1通=1 0秒重複3 0 0次 切削油:無 裝 i 線 (請先閎讀背面之注$項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 -5 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
7 7 A B 經濟部中央梂準局負工消費合作社印製 五、發明説明(53 ) 表-1 4 試 料 切削條件9 切削條件1 〇 逃避面平均 摩耗量(m·) 逃避面、平均 摩耗量U») 被覆層剝 離之有無 膜中破壊 a3 0.250 0.264 無 無 c 3 0.265 0.256 無 無 e3 0.234 0.245 無 無 i 3 0.386 剝離-►缺 有(多} 有(多) 使用CNMG 12Q408形狀的氧化鋁質陶瓷為基材,於其 表面生成構造與表10的al, cl, el相同的被覆層,製成 試料a 4, c 4,e 4 ,依實施例8切削條件9 , 1 0的同樣切削 條件進行評估。結果如表15所示。為供比較,將膜檐造 與表10的al相同的被膜,按照習知熱CVD法,在1000 °C 被覆於陶金基材所得之試料i 4加以評估,其結果同時列 出。此等膜的氛含量,定向性,均與表10, 11結果相同 ,各試料均在切刀稜線部均未見7相。關於膜厚,只宜i4 -5 5 - 本紙张尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) I I I 裝 I訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
7 7 A B 五、發明説明(54 ) 的第一 «硪氮化鈦厚度為6;um,其餘均與表1G的結果相 同〇 由此結果,可知比較品i4的内層和第一《,因氮含量 多,發生膜本身耐磨性不足引起前端脱落和膜剝離,且 因第一層定向性在本發明範阒之外,在被覆層中發生膜 破壊,相對地,本發明品a 4 , C 4,e 4結果,耐磨性,耐剝 離性如耐膜中破壊性均優。 表-15 經濟部中央標準局員工消费合作社印掣 試 料 切削條件3 切削條件1 〇 逃避面平均 摩耗量(m·} 逃避面平均 摩耗ft Ub) 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 a 4 0.150 0.165 無 無 c 4 0.162 0.159 無 無 e 4 0.149 0.155 無 無 i 4 前端脱落 缺 有(多) 有(多) -56- 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4洗格(210X297公t ) ί ί 訂 絲 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 «98037 A7 B7五、發明説明(55 )竄1例玉 使用ISO P30 CNMG 120408形狀的磺化鎢質超硬合金 為基材,於其表面以實施例6同樣氣體條件,在1000 °C 進行被覆,製成厚膜的膜構造如表16所示之本發明品試 料〜ill,於被覆後的試料jl使用雄粉實施珠擊法處 理,同時製成被覆靥中殘餘抗.拉應力降到零的試料j 2。 為供比較,膜厚超遇本發明範圍的比較品η, η,以及 將第一層的碩氮化鈦,以(:和卩2為硪氮源,按習知熱 CVD法,於100(TC被覆以本發明品同樣厚度的比較品0, 同時於表中列出。 此等試料的膜中氛含*第一層磺氮化鈦的定向性,以 及切刀稜線部中的7相析出厚度,如表17所示。 使用此等試料,以下述切削條件11, 12進行加工, 結果如表18所示。由此結果可知比較品Μ因第一層硪觅 化鈦膜較厚,定向性超出本發明品範圍,故被覆層中發 生剝離,進行磨耗。另外,比較品η因全體膜厚超出本 發明範圍,可知大多在被覆層中發生破壊。依據習知熱 CVD法,l:b較品0完全不耐用。 再由本發明品;51與02比較,可知在此等厚膜領域,於 被覆後進行,殘餘應力的除去處理,具有提高耐剝離性 ,耐膜中破壊性的效果。 I 裝 i II 錄 (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) -57- 本紙張尺度適用中國®家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(56 ) 切削修件1 1 被削材料:s C Μ 4 1 5 ( Η B = 2 1 0 ) 切削速度:500 i/rain 輸送:0·20ββ/轉 切入:1 . 5 n Β 切削時間:3 0分鐘 切削油:水溶性 tJl削悠伴 被削材料:SCM415 (HB= 180) 切削速度:600 / min 输送:0.15ββ/轉 切入:1 . 5酿β 切削時間:1通=1 〇秒重複1 5 0次 切削油:水溶性 ----------it------訂------^ I (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 -58- 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 2930S7 五、發明説明(57 ) A7 B7 經濟部中央棋準局員工消费合作杜印«. m- 1 6 試料 膜構造和各層膜厚(#> 與基材接觸的 TiC颟厚 (p. in) 被覆層金 釀膜厚 (/W·) ____ 外® 内層 j 1 Tif^TiCN/Al 0 5.0 25 50. /IW基材 20 20.0 ion ..一—一——*... k 1 TiN/TiC /Λ1 0 5.0 3.0 60 /riDGN/riC/lW 基材 α 5 10 20 20.0 98. Γ) 11 ΤιΝ/Α1 0 0.5 85.0 /ΓίΙΟ/ΠΟΊ/基材 0.5 10.0 10. ϋ %.{) 一.· in TiN/ΛΙ 0 2.0 3.0 /TiCN/TiC/IW 基材 1.0 3.0 ZS Ζ5.0 31-0 η TiN/ΖιΌ 5.0 80.0 /rilWI'iCN/^N· !.ϋ 20.0 20. ί) !(Κ; __________*·' ο TiN/FiCN/ΛΙ 0 5.0 25 50 /I'iCN/ 基材 10.0 20. ϋ ίΧ) ___________ . ΙΓΙ〜ο為比較品 衷一1 7 試料 與基材接觸的 TiCN技含量 [^均 (原热) 内層 氟含量 (原子%) 與基材接觭的之 1(311)/1(220) ·.·.·__________ 切刀稜 線部” 柑厚度 (/义 m) _ 一一----- 0〜3則1 〜20 "ill j 1 0.0.1 0.01 1.0 6.0 1.0 ^ ----------- k 1 0.01 0.03 1.0 6.0 1.0 —~-—-- 11 0.01 0.01 1.0 2.0 1.0 ____—- in 0.01 0.03 1.0 7.0 1.0 ___— 1 n 0.01 0.01 1.0 6.0 1.0 -------- 〇 0.10 0.10 0.6 0.3 4.0 —^ -59- (請先S讀背面之注意事項再填寫本萸) 订 ▲ ! 本紙張尺皮適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) A7B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 五、發明説明(58) 表_ 1 8 試 料 切削條件11 切削條件1 2 逃避面平均 摩耗量(Β Β ) 逃避面平均 摩耗畺(m·) 被覆層剝 離之有無 膜中破壊 j 1 0.144 0.150 極少 極少 k 1 0.155 0.162 極少 極少 11 0.135 0.142 極少 極少 j 2 0.145 0.149 無 無 道 0.160 0.270 有(多) 極少 η 0.145 0.245 極少 有(多) 0 2分鏟缺損 10通缺損 非常多 非常多 審掄你Μ 1 使用ISO Ρ20 CNMG 120408形狀的磺化鎢質超硬合金 為基材,於此表面形成由TiN(0.5;uin)/Al2 03 (2.0>un) -6 0 - 本紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS > A4*t格(210X297公釐) ----------{ L------訂------火 I (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉準局貝工消资合作杜印製 A7 ΒΊ_ _______ 五、發明説明(59 ) /TiBCN(〇.5/i O/TiCU# n)/TiCN(6# Β)/基材組成構造 (上雇的TU和Α12 03靥為外層)的被覆層,製成試料u 〜X5,以及形成由 TiH〇.5//«〇/Al2〇3 (2.0#«)/TiBCN (0.5;u B)/TiC(3y« m)/TiCij(6;u n)/TiN(0.5>u ) / 基材 組成構造(上層的TiN和A12 03層為外層)的被覆層,製 成試料Y1〜Υ5β其中Y1〜Y5,與基材接觸的TiN,使在 900 °C,於四氛化鈦1%,氡(N2)50%,其餘為氫(H2) 的混合氣體氣流中生成。 另外,在XI〜Χ5和Υ1〜Υ5中,内層的磺氮化鈦是依次 在溫度800,850, 900,940和1050-C,於四氛化鈦4 %, Ν2 26〜60%,乙腈0.4〜1%不等,其餘為Η2的混合 氣體氣流中生成。被覆層厚度随保持時間變化而諝整前 述膜厚。而内層TiCN和TiN中的平均氣含量,在XI〜Χ4 和Υ1〜Υ4為0·1〜0.15%, Χ5和Υ5為0.05%以下》此等 本發明品的膜中定向性,加表19所示。 再者,以同一膜構造,除TiCN的生成條件改為乙腈 0 . 1 % - 7 9 0 °C和N 2 0 %外,其餘和前述同樣條件製成的 比較品Z1 (與XI〜X5同一膜構造)和Z2(與Y1〜Y5同一膜 構造)之膜定向性,亦如表19所示β Z1和Z2在TiCN和TiN 中的氣含量亦超過0.2%。 採用此等試料,按切削條件13, 14所示條件加工,結 果如表20所示。由此結果,可知本發明品的XI〜X5和Y1 〜Y5,與Z1和Z2相較,大幅提高耐磨性,耐剝離性,耐 膜中破壊性的平衡性,發揮定向控制在本發明範圍内的 -61- 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS ) Α4规格(210X297公釐) (請先Η讀背面之注意事項存填寫本頁) 訂 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(6〇 ) 效果。 切削悠伴1 2 被削材料:S C Μ 4 3 5 ( Η B = 2 3 0 ) 切削速度:160 a/ »i η 輸送:0.35»麗/轉 切入:1 · 5道 切削時間:3 0分鐘 切削油:水溶性 切削雔件1 4 被削材料:S C Μ 4 1 5 ( Η Β = 1 4 0 ) 切削速度:350 n/min 輸送:0.35mn/轉 切入:1 . 5 Β Η 切削時間:1通=1 0秒重複5 0 0次 切削油:水溶性 -62- 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X297公嫠) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
A7 經濟部中央橾準局負工消費合作社印製 293037 B7 五、發明説明(61) ' ro tS3 h—* CJ1 CO to *-< 1~» >c cn X X CO X to X ►—· 1 >—* 〇〇 to CD o oo an o CO CO N3 cn —3 o CO cn ►tw o CO CO to CM 0 〜3 “m .® 过 H葙 to aK CD <5^ κ> to Κϊ CO oo tn CO OO cn o oo OO S3 a\ oo cn CO oo cn o CO CO to CJI 0 〜6;:ni ο κ> o tsD CD CO V—* o CD CO o cn ◦ CO o 私 o CD o ΟΊ o CO 0 1 CO 3 B m -1 一·'班 CO 7Γ 二 \ ^ 〇 ο Cx> o to o CD o o cn o o 卜-* o o o cn o CO 0 1 3 ο* 05 CD CD oo o V—* o o 00 CD 00 CD CD ►—fc o o CD o〇 CD oo 0 〜3 //fn vim 5» m 过 H猫 »-H ygb 撕 -Q ο οο o oo o CO V—* CD V-k o o CO o <iD o CO >—» o >—* o o oo o 00 0〜6"ill ο ο〇 CD CO V-* hO o ►—* CO K-* CO »—* »—» CO to o μ—» >—* OO 0 〜3 '~' /B 3 :¾ 上* ►-* —3 ro <5* to 1—* 1—* cz> μ-* c〇 to o μ-4 μ-* CO μ—» CO r° o 1—A CO h-* ►—* ο i CT5 3 "63- ----------ί I------訂------火 I (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)
A 五、《説明(62) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表-20 試 料 切削條件1 3 切削條件1 4 逃避面平均 摩耗量(mm) 逃避面平均 摩耗量(ffllB) 被覆層剝 離之有無 膜中破壞 XI 0.225 0.185 有(少) 無 Χ2 0.230 0.188 有(少) 無 X 3 0.226 0.179 有(少) 無 Χ4 0.213 0.180 無 無 Χ5 0.215 0.182 無 無 Υ 1 0.228 0.188 有(少) 無 Υ2 0.226 0.186 有(少) 無 Υ3 0.220 0.190 有(少) 無 Υ4 0.213 0.179 無 無 Υ5 0.220 0.169 無 無 Ζ 1 0.250 0.280 有(多) 有(多) Ζ 2 0.258 0.310 有(多) 有(多) ---g-4--- 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4规格(2IOX297公釐) (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-·° Γ < A7 B7 五、發明説明(63 ) 奮施例1 2 使用ISO P10的CNMG 120408形狀之硪化鈦質陶金為基 材品 的 9 IX 表 與 成 生 面 表 其 明 發 本 為 上 以 及 層 覆 被 之 造 構 樣 同 成 形 件 條 樣 同 在 削 切 的 1A 例 施 實5n 以 ο ,為 Z4數 ,入 3 ο Z 切 ,以 7— ,1_·1 Υ 惟 f , Y6件 ,條 7 X 棲 ,同 6 4 X 1 料 , I 3 試 1 成件 製條 件 條 切 的 相 料 試 1S IX 例 施 實 〇與 示 , 所量 21含 表氛 如中 果膜 結及 。向 估定 評的 以層 加覆 ,4被 1A ,,又 性 磨 耐 高 提 知 可 較 C 相衡 品平 知的 習性 與壞 品破 明中 發膜 本耐 由和 ,性 果離 結剝 。耐 同 , (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -59 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 293037 A7 B7 五、發明説明(64 ) 表-2 1 試 料 切削條件1 切削條件1 4 ’ 逃避面平均 摩耗量(ηη) 逃避面平均 摩耗量(m·) 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 Χ6 0.195 0.172 有(少) 無 Χ7 0.183 0.175 無 無 Υ6 0.200 0.175 有(少> 無 Υ7 0.202 0.179 無 無 Ζ 3 0.223 0.235 有(多) 有(多) Ζ 4 0.241 0.260 有(多) 有(多) (請先Η讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 奮掄例1 3 使用CNMG 120408形狀的氮化矽条陶瓷為基材,於其 表面生成與表19的X1,X4,Y1,Y4(以上為本發明品)以及 Zl, Ζ2,在同樣條件形成同樣構造之被覆層,製成試料 Χ8, Χ9, Υ8, Υ9, Ζ5, Ζ6,以切削條件15, 16加以評估 -66- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(210X29?公釐) 輸送:0 . 30bb/轉 切削時間:3 0分鐘 輪送:0 . 30b·/轉 A7 B7 五、發明説明(65 ) β結果如表22所不。 又,被覆層的定向及膜中氛含量,與實施例11試料相 同。結果,由本發明品與習知品相較,可知提高耐磨性 ,耐剝離性和耐膜中破壤性的平衡。 切削條件1 5 被削材料:F C 2 5 切削速度:6 0 0 b/ min 切入: Inn 切削油:無 切削修件1 ft 被削材料:F C 2 5 切削速度:3 0 0 m / m i η 切入:1 . 5 ra m 切削時間:1通=5秒重複5 0 0次 切削油:無 I--------it------訂------成 I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本页) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -67- 本紙張又度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) S930S7 A7 Β7 五、發明説明(^) 表-22 試 料 切削條件1 5 切削條件1 6 逃避面平均 摩耗量(m β ) 逃避面平均 摩耗量(》n) 被覆層剝 離之有無 膜中破壞 Χ8 0.250 0.188 有(少) 無 Χ9 0.236 0.185 無 無 Υ8 0.251 0.199 有(少) 無 Υ9 0.244 0.191 無 無 Ζ 5 0.289 0.255 有(多〉 有(多) Ζ 6 0.293 0.249 有(多) 有(多) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 奮掄例1 4 使用SUMN 120 4 0 8形狀的加鬚晶之氣化鋁質陶瓷為基 材,於其表面生舆表19的]Π,Χ4,Υ1,Υ4(以上為本發明品) 以及Zl, Ζ2,在同樣條件形成同樣構造之被覆層,製成 試料 ΧΙΟ, XII, ΥΙΟ, Yll, Ζ7, Ζ8,以切削條件 17, 18 -68-本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) Α4规格(210Χ297公釐) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(67 ) 加以評估。結果如表2 3所示〇 又,被覆層的定向及膜中氱含量,與實施例11試料相 同》結果,由本發明品與習知品相較,可知提高耐磨性 ,耐剝離性和耐膜中破壊性的平衡。 iJl削悠件1 7 被削材料:F C D 7 0 切削速度:3 5 0 a/ Bi 切入:IBM 切削油:無 t71削修伴1 8 被削材料:F C D 7 0 切削速度:2 5 0墮/ ni 切入:1.5mm 切削時間:1通=5秒重複5 0 0次 切削油:無 -6 9 - 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X:297公簸) 输送:0 . 30b*/轉 切削時間:30分鐘 輸送:0 . 30mie/轉 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
A7 -B7 五、發明説明(68 ) 試 料 切削條件1 7 切削條件1 8 逃避面平均 摩耗量(am) 逃避面平均 摩耗量(〇0 被覆層剝 離之有無 膜中破壤 X10 0.270 0.225 有(少) 無 XI 1 0,255 0.211 無 無 Y10 0.268 0.239 有(少) 無 Y1 1 0.249 0.225 無 無 Z7 0.350 0.292 有(多) 有(多) Z8 0.366 0.296 有(多) 有(多) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 奮施例1 5 使用ISO P30的CNMG 120408形狀之磺化鎢超硬合金為 基材,於其表面生成由TiN(0.5#m)/Al2 03 (3.0#騰) /TiBCN(0.5# ii)/TiCN(20;u B) / 基材組成構造(上層 的TiN和Al2〇3層為外層)的被覆層,製成試料X12, 4 -7 0 - 本紙張尺度逍用中國囷家橾準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央樣準局負工消費合作社印製 2^3037 A7 B7五、發明说明(69 ) X13,另形成由 ΤίΝ(0.5#·)/Α12 03 (2.0>um)/TiBCN (0.5/U ·)/ΤίεΝ(20# B)/TiN(0.5/i B)/基材組成構造(上 層的TiN和Al2〇3靥為外層)的被覆層,製成試料Y12〜 Y13。其中Y12〜Y13,與基材接觸的TiN,傈在750 °C, 於四氛化鈦1%,氮(N2)45%,氛(NH3)5%,其餘為 氫(H2 )的混合氣體氣流中生成〇 又,Χ12〜Χ13和Υ12〜Υ13中,内層的碩氮化鈦分別按 顒序在800至950 Ό溫度,於四氱化鈦496, Ν2固定26% ,乙腈在0.4〜1%不等,其餘為Η2的混合氣體氣流中 生成。被覆層的厚度随保持時間變.化而調整前述膜厚。 内層的TiCN和TiN平均氣含量,在Χ12和Υ12為0.1〜0.15% ,至於X13和Y13,其TiCN和TiH中平均以及内層中平均 都在Ο.05%以下。此等本發明品的膜中定向性如表24所不。 此外,以同一膜構造,將TiCN 在甲烷(CH4)l〇%, 氮(N2 >5%,四氛化鈦1%,其餘為氫(H2)的氣體氣流 中,於100(TC製成的fcb較品Z9(與X6同一膜構造)和Z10( 與Y6同一膜構造)之膜定向性、同時列於表24。 使用此等試料,於切削條件19, 20所示條件加工结果 ,如表25所示。由此結果可知,本發明品X12〜X13和Y12 ~Y13與Z9及Z10相較時,耐磨性、耐剝離性和耐膜中破 壤性的平衡性均大為提高,顯示定向控制在本發明箱園 内的效果。 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 订 本紙張尺度逋用中國國家揉丰(CNS > Α4规格(210Χ297公釐) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(70 ) t7I削悠件1 9 被削材料:SCM 415(HB= 200) 切削速度:150 */min 輸送:0.35mm/轉 切入:1.5mm 切削時間:30分鐘 切削油:水溶性 切SII雔件20 被削材料:SCM 415(0= 140) 切削速度:30〇B/min 輸送:0·35β·/轉 切入:1 · 5 Β Η 切削時間:1通=5秒重複1 0 0 0次 切削油:水溶性 -72- 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4规格(2丨0X297公釐) (請先閲讀背面之注f項再填寫本頁)
五、發明説明(71 ) A7 B7 經濟部中央標準局負工消費合作杜印製 ESJ 1~~► 〇> Ν CD X; )~~· CO 4 1» txD X ►—* ca X »—» to 試料 〇〇 ο 〜Ί CD —T o 〜1 o o 0~3 um s m 过 -葙 二 a gs 〇 tND 15.0 15.0 15·0 15.0 0 〜·20“ιη CD )—» Ο ro C=> cn 办 t~~* 0 cn an Ο 1 CO Tc 3 © m 过 m 二:箱 、•乂 —· 二 s Ο to Ο CO CO o cn σι (p O 0 〜2〇;im ο ►—* ο Γ° οο CO o OD cn 〇 〇 l CO 3 m 过 m *~3 <p CD CO οι 〇〇 o 〇〇 〇 oo o 〇〜: ο ΙΌ ο CO, CO CD o ΟΊ CD ΟΊ Ol 0〜3 ;z:H 土》 t—^ fiS —办 ο ο α> t—^ to CO 14.0 CO cn o 0 〜20 y m -73- ----------^ .i------tT------I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS > A4规格(210X297公釐、) 五、發明説明(72 ) 表-25 試 料 切削條件1 9 切削條件2 0 逃避面平均 摩耗量Um) 逃避面平均 摩耗畺UlB) 被覆層剝 離之有無 膜中破壊 X 1 2 0.236 0.184 有(少) 無 X 1 3 0.215 0.172 無 無 Y 1 2 0.244 0.190 有(少) 無 Y 1 3 0.220 0.177 無 無 Z 9 0.256 0.290 有(多) 有(多) Z 1 0 0.245 0.266 有(多) 有(多) (請先閏讀背面之注意事項再填寫本頁) j
V 、νφ - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 奮施例16 (内層的構造) 使用CNMG 120408形狀的磺化鎢質超硬合金(ISO P10) 表面,利用習知熱CVD法,形成厚0.6#·的氘化鈦膜後 利用NT-CVD法形成磺氮化鈦皮膜》 磺氮化鈦膜的形成條件為:TiCl4:2%, CH3 -7 4 -本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(73) Η 2 : 9 0 % ,其餘Ar(均為莫耳比),緦流量20公升/分鐘 ,基板溫度900 °C,反應槽壓力72 Torr。磺氮化鈦膜厚 度,随成膜時間調整而變化。 再於第二層的碩氮化钛膜上,利用習知熱CVD法,按 順序積層硼氰化鈦膜和氣化鋁膜,得本發明被覆切削工 具。 所得硪氮化鈦膜的膜厚,硬度和平均結晶粒徑,硬度 以及有無界面腐蝕層之測定結果,如表26所示。 平均結晶粒徑的測定方法是,除去表面的氣化鋁膜和 硼氮化鈦膜,將皮膜的成長面加以研磨和平滑,使用氟 氫酸和硝酸及蒸餾水的混合液侵蝕,露出磺氮化鈦膜的 結晶粒界,以掃描式電子顯微鏡加以觀察。 碩氮化鈦膜的硬度,是將皮膜的成長面加以研磨和平 滑,以諾普硬度計(載重2 5克,載金時間2 0秒)測定。硬 度單位為kgf/nm2 。 為供比較,採用基質不加氮化鈦(試料6),以及不用 氬(Ar),利用MT-CVD法形成磺氮化鈦膜(試料7),均與 本發明被覆切削工具同樣,藉習知熱CVD法,依次積層 硼氮化鈦膜和氣化鋁膜。所得TiCxN^x膜的组成X 均約0.6,利用X射線光電子分光(XPS)法和X射線折射 法加以確定。 本紙張尺度適用中國國家搮率(CNS ) Α4规格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁)
1T -! 293037 at B7五、發明説明(74 ) 表-26 No . TiCN膜厚 (/u m) TiCN膜粒 徑) T i C N膜 硬度 有無界面 腐蝕層 試料1 1 . 4 0.54 1950 無 試料2 3 . 5 0.96 1860 無 試料3 5 · 1 1.34 2130 無 試料4 10.7 1.83 20 10 無 試料5 18.5 2.73 2210 無 試料5 5 . 2 1.72 2 0 8 0 有 試料7 5 . 8 3.23 2 4 4 0 無 (請先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 試料6 - 7 :比較品 由表26可知基質無氮化鈦膜的試料6,在基材與皮膜 的界面會發生腐蝕層,而不加氬,利用MT-CVD法形成的 試料下之碩氟化鈦膜,平均結晶粒徑大,硬度高〇 如表26中本發明試料1-5所示,由於在MT-CVD的原料 氣體中添加氬,致改變柱狀結晶的成長行為,會抑制平 均結晶粒徑随皮膜成長而增大,而降低硪氮化鈦膜的硬 度,其原因未明。又,於此雖未詳述,若改為添加氮氣 以代替氬,則利用MT-CVD形成硪氮化鈦膜,亦見同樣現 象,本發明人等己告確認。 其次,在表26所示試料中,蘭於皮膜厚度近似的試料 -7 6- A ! 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(75 ) 3,試料6和試料下,於表27所示條件實施於切削試驗, 結果如表206所示。此項試驗偽就硪氮化鈦膜的耐磨性 ,内層(指與基材接觸的硪氮化鈦膜及其上面的磺氮化 鈦膜為止)與基材的密合性,以及皮膜的耐缺損性加以 評估。 表-27 條件名 切削條件2 1 被削材料 SCM 415 被削材料( / i η > 2 5 0 輪送(ma/rev) 0 . 3 切入(ffl B ) 1.5 切削油 有(水溶性) 切削時間 1通10秒重複3 0 0次 -77- 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)
Α7 Β7 五、發明説明(76 ) 表-28
No. 逃避面平均摩耗量(*) 有無剝離 刀尖部缺損 試料3 0.12 無 無 試料6 0 .18 無 無 試料7 . 0.14 無 有 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 且表28所示,可知本發明品耐磨性優,同時晒剝離性和 耐缺損性均優異。另方面,基質無氘化鈦膜時(試料6), 皮膜的耐剝離性劣,在基材界面顯示腐蝕層,可視為皮 膜耐剝離性性劣化的原因。其次,硪氮化鈦膜的平均结 晶粒徑大時(比較例2),形成上述第三種碩氮化钛膜, 顯示良好耐磨性和耐剝離性,惟刀尖部有缺損/容易發 生異常磨耗,壽命參差不齊。 奮掄捆17(被霣靥令體的嫌诰) 使用I S Ο P 3 0的C N M G 1 2 0 4 fl 8 (附有斷届器)形狀之超硬 合金為基材,於此表面形成表2 3所示構造的被覆層β於 此,本發明中第一靥氮化鈦膜和第二靥碩氮化鈦膜的形 成,2按實施例16所載本發明品皮膜形成條件實施。試 -7 8 - 个紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4洗格(210X297公釐) -* 二 I. 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 293037 A7 B7 五、發明説明(77 ) 料15偽與實施例16的試料6同樣,在基質内不加氮化钦 ,而在基材上直接形成硪氮化鈦膜。試料16的硪氮化鈦 膜是和實施例16的試料7同樣,利用不加氬的MT-CVD法 進行。其他膜是利用習知熱CVD法形成皮膜,得表29所 示膜厚和膜構造之試料。 (請先Η讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 -79- 本紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X297公釐)
A B7 五、發明説明(78 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 $ οι ρ. ίο t—fc CO oo 澉5¾ 〇 σ ο Ο cn ο ⑦ ο o cn CD 〇〇 o CD o cn 室 5 満 •W f〇[f _ g 〇〇 οι ND 05 cn 00 ►—* K> «3 CO to σ> CO Η § C: Ο OD 〇 ο C0 to f〇 CO to 〇 o ο ◦ CD CD »—* ο CD o o CD o -3 3 〇 cn Ο C71 ◦ ο Ο o o 〇i 〇 o CO -3 i 〇 Ο 〇 ο Ο CO o o 〇 cn o 5 cn CD — oo ro μ-» ►—* —J ►—* CO CO CO ►—k o > CO ο Ο o Ο ο CO o to o o o 〇 ο c〇 Ο o σ> Ο ο cn o ro h-* ►—» o CO o K> 5 οο 00 ΟΟ ο CO 〇〇 00 CO 00 麯- 00 CD 05 CD CO po CO 一 H> 3 鍤 CO Η* μ-4 ι—* CO o CD p o 00 ►—* N) to b m ί§ /•"Ν 铖 tS3 _ Q 鍤 ίο cn g g s o g to H-* ►— CD CO C〇 ◦ »—* oo cn ◦ to § ml 2 9 (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 t· 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) -80" Α7 Β7 五、發明説明(79 ) 關於表29所示試料,按表30所示切削條件實施切削試 驗,结果如表31所示。 由表31可知試料8-14的耐磨性和附剝離性均優,可得 安定壽命· 相對地,基質中間層不加«化鈦膜時(試料15)> 施例1 6亦播得確認,即在基材表面形成腐蝕雇胃_ _ 離性性不良的結果。其次,檐成磺氮化鈦膜的& 平均粒徑和皮膜硬度,與本發明品不相當時(試!^16) 切削中的皮膜容易大規模破壊,發生缺損β可@^#$ 料15和16在耐磨性和耐剝離性兩方面均不能令\ _ $ 做為切削工具的性能不佳。 表-30 (请先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 經濟部中央橾準局貝工消费合作杜印製 條件名 切削條件2 2 -------- 切削條件2 3 被削材料 SCH 435 ---- S CM 4 15 切削速度(m/min) 1 4 0 250 输送(nn/rev) 0.35 0.3 切入(π·) 1 . 5 1.5 切削油 無 < dry〉 有(水溶性) 切削時間 30分鐘 1通1 〇秒蕙 複1000次 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0><297公釐) 訂 -81 - A7 B7 五、發明説明(80 ) 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製 表-31 試料 號 切削條件2 切削條件3 逃避面平均 摩耗量(«) 有無 剝離 逃避面平均 摩耗量Un) 有無 剝離 試料8 0.21 無 0.15 無 試料9 0.22 有 0.16 無 試料10 0.20 無 0.14 無 試料U 0.18 無 0.13 無 試料12 0.19 無 0. 14 無 試料13 0.16 無 0.12 無 試料14 0 .20 無 0.16 無 試料15 0.27 有 0.29 有 試料16 0.30 有缺損 0.20 無 -8 2 ~ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS > A4规格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(81 ) 奮掄例1 8 使用ISO P01的CNMG 120408形狀之硝氮化質陶金為基 材,於此表面形成表3 2所示構造之被覆層。於此,本發 明品中第一層氮化鈦膜和第二層硪氤化鈦膜的形成, 是在實施例16所載本發明的皮膜形成條件下實施,試料 21和實施例16的試料6相同,基質不加氮化鈦,即在基 材上直接形成磺氮化鈦膜。而試料22中硪氮化鈦膜的形 成,和實施例16的試料7相同,利用不加氬的MT-CVD法 進行β其他膜則利用習知熱C Ο法形成皮膜,得表3 2所 示膜厚和膜構造之試料〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 -83- 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) Α4规格(210Χ297公釐) B7. 五、發明説明(8〗a) 經濟部中央揉準局負工消费合作社印製 ^1421-22 : kb^an 試料22 試料21 試料20 試料19 試料18 試料17 m m Ο Ο CD αι CD CO CD cn 基材側TiN 膜構造的各層厚度(#«0 to 产 OD ►u cn to -ο h-k --3 (O TiCN 〇 Ο Ο »—* cn CO o -3 〇 〇 ο Ο l〇 cn o o TiCN CD ο ο <p σι o o TiBCN 〇 ο ο cn o o o TiBN I—^ CO μ—» »—» * 1~k ro — >; o 〇 ο Ο CO o o o ϋ? O 〇 CO ο ο to o CD -q o CO TiN σ> J—k p σ> <p 〇〇 (^m) 金體厚度 CO μ-* Η-* 05 1—k o -a 〇 CD CO 粒徑("m) 第2層TiCN膜 2510 2030 2100 2010 1890 1910 硬度 UH 〇 0 (請先聞讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS > A4规格(210X297公磐)
-83-A 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印装 A7 B7 五、發明説明(82 ) 關於表32所示試料,於表33所示切削條件實施切削試 驗。結果如表34所示β 由表34可知試料17-20的耐磨性,耐剝離性均優,可 得安定赛命。 相對地,基質不加氮化鈦膜中間層時(試料21),如實 施例16所確定。於基材表面形成腐蝕靥得耐剝離性不佳 的結果。其次,構成硪氮化鈦膜的柱狀結晶和皮膜硬 度,與本發明品不相當時(試料22),切削中皮膜容易發 生大規模破壞,造成缺損。此等試料21和2 2在耐磨性和 耐剝離性兩方面均不滿意,做為切削工具的性能不良β (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 表-33 條件名 切削條件2 4 被削材料 S C Μ 4 15 切削速度(Β / Β i η > 2 5 0 输送(fflB/rev) 0.3 切入(Β·) 1 . 5 切削油 無 切削時間 20分 ~ 8 4 -_ 本紙張尺度適用中國國家#率(CNS ) Α4规格(210X297公釐) 訂 五、發明説明(83 ) A7 B7 表-34 試料 號、 切削條件2 4 逃避面平均 摩耗量(》n) 有無 剝離 試料17 0.16 無 試料18 0.17 無 試料19 0.15 無 試料20 0.17 無 試料2 1 0.26 有 試料22 0.30 有(缺損) 庙業浪丨用袢 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央揉準局負工消費合作杜印裂 本發明被覆切削工具,與習知被覆切削工具相較,被 覆膜本身的耐磨性高,被覆膜與基材的粘著強固,切削 時的耐剝離性性優,尤其是得以適笛利用於高速切削加 工般高S時,被覆靥必須有耐磨性的加工,或小零件 加工般加工數多,且對被削材料修飾次數多的加工等。 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS) A4规格(210X297公釐)
|修正严7. 3 Γ 本年.《 β 補充 293037 申請曰刼 mi/ 案 號 類 別 (以上各欄由本局填註) Α4 C4 293037 # |專利説明書 中文 發明 新型 名稱 英文 姓 名 國 籍 被覆切削工具 (85年7月3日修正)
COATED CUTTING TOOL 哉雄典男德 克傻久益f 野村原堂林 内野大中小 12 3 4 5 一、發明 創作 人 本 曰 屬 皆 住、居所 一社 北會 陽式 昆株 市業 丹工 伊氣 縣電 庫友上上上上 兵住同同同同 1 2 3 4 5 百 號 内 所 作 製 丹 伊 姓 名 (名稱) 住友電氣工業股份有限公司 (住友電氣工業株式會社) 經濟部中央標隼局Μ工消費合作杜印繁 三、申請人 國 籍 住、居所 (事務所) 代表人 姓 名 曰本 大阪府大阪布中央區北浃四丁目5番33號 倉内憲孝 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4说格(210Χ297公釐)

Claims (1)

  1. 293001 公告本
    六、申請專利範圍 第83 1 05374號「被覆切削工具及其製法」專利案 (85年10月12日修正) 杰申請專利範圍: 1. 一種被覆切削工具,其偽在磺化鎢質超硬合金,磺氮 化鈦質陶金,氮化矽質陶瓷或氧化鋁質陶瓷組成的基 材表面,設有包含内層和外層的被覆層,該内層僳由 與基材接觸的碩氮化鈦單層,或與基材接觸而厚度為 \0.1〜2« m的氮化鈦及其正上面磺氮化鈦之雙靥,或在 該單層或雙層的碩氮化鈦上方被覆以選自碩化鈦,氮 化鈦,硝気化鈦,硼氮化鈦,硼碩氡化鈦一種以上之多 層所構成,而該外層係由選自氧化鋁,氧化結,氧化 姶,碩化鈦,碩氮化鈦,氮化鈦一種以上之單層或多 層所構成,其特徴為,該内層中的氛含量以内層金體 而言,為在0.05原子%以下者。 2. 如申請專利範圍第1項之被覆切削工具,其中與該内 層之基材接觸的磺氮化鈦中氣含量,或與基材接觸而 厚度在0.1〜2w ηι的氮化鈦及其正上面的碩氡化鈦中 之氛含量條在0.05原子%以下者。 \ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具,其 中與該内層之基材接觸的碩氮化鈦,或與基材接觸而 厚0.1〜2WD1之氡化鈦正上面的碩氮化鈦,於X射線 折射角2 0 = 20 °〜140°間呈現折射高峰的面當中, 與(220 )面的面間角度為30°〜60°之面(hkl)的折射 -1- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 293037 μ8 C8 D8 六、申請專利範圍 离峰強度I(hkl),對(22 0)面的离峰強度1(220)之比, 邸I(hkl)/I(220)值,自基材表面或氡化钛表面至0〜 3 « m為止的平均為 2.5^ I (hk 1 )/ I (220) ^ 7.0 且自基材表面或氡化鈦表面到0〜20 w 為止的平均為 2.5^ I (hk 1 )/ I (220) ^ 15.0 4. 如申請專利範圍第1或第2項之被覆切削工具,其中 自與該内層之基材接觸的碩氡化鈦,或與基材接觸而 厚0.1〜2/u·之氡化鈦正上面的磺氡化鈦,其X射線 折射中(311)面高峰強度1(311),對(220)面高峰強度 * 1 (220 )之比,即1 (3 1 1 )/ 1 (220 )值,自基材表面或氮 化鈦表面至0〜3« b的平均為 0.5^ I (311)/ I (220) ^ 1.5 且自基材表面或氮化钛表面到0〜20 w π的平均為 0.5客 1(311)/1 (220 ) S 6.0 〇 5. 如申誚專利範圍第1或第2項之被覆切削工具,其中 與該内層之基材接觸的磺氡化鈦,或與基材接觸而厚 0.1〜之氘化鈦正上面的硪気化鈦,其X射線折射 中(111)面高峰強度1(111)與(220)面高峰強度1(220) 之比,即1(111)/1(220)值,自基材表面或氡化鈦表 面至0〜3w B的平均為 1.0S 1 (1 1 1 )/ 1 (220)5 4.0 且自基材表面或氡化钛表面0〜20w 的平均為 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) --------一'^------1T------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 申請專利範圍 1 . 0 各 I (111) / I (2 2 0) S 8 . 0 〇 , 6. 如申謫專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具,其 中與該内層之基材接觸的硪氡化鈦,或與基材接觸而 厚0.1〜2/im之氡化鈦正上方的碩氮化鈦,其X射線 折射中(311)面的高峰強度1(311), (111)面高峰強度 1(111),以及(220 )面高峰強度1 (220 )之關偽式 〔1(111) +1(311)〕/1(220)值,自基材表面或氮化 鈦表面至0〜3 win的平均為 2.0^ [1(111)+1 (311)] /1(220)^ 5.5 且自基材表面或氡化鈦表面到0〜20w b的平均為 2.0^ CK11D + I (311)3 / 1 (220 )^14 7. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具,其 中與該内層之基材接觸的碩氡化鈦,或與基材接觸而 厚0.1〜2W η之氡化鈦正上面的碩氮化鈦,其厚度為 1 ~ 2 0 w π 者 〇 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具,其 中該基材為碩化鎢質超硬合金或碩氡化鈦質陶金,而 切刀稜線部中披覆層與基材界面最表面的η相之厚度 偽在1 w η以下者。 9. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具,其 中該内層和外靥合計膜厚為2〜100 W m者。 10. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具, 其偽在主要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210X297公釐) Λ8 B8 C8 D8 2930^7 六、申請專利範圍 素的碩化物,氡化物和磺m化物一種以上硬質成份, 與VIII族金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含 内層和外層之硬質被覆靥,其待戡為,該内層像以與 基材接觸的第一靥為氡化鈦、其上面第二層偽硬度 1 600〜2 4 0 0kg/DIID2的碩氡化鈦,再上面被覆以選自 碩化鈦,氮化鈦,磺氮化钛和硼氡化鈦一種以上之多 層所構成,而外層偽被覆以選自氧化鋁,氣化結,氣 化姶,碩化钛,碩氮化鈦和氡化鈦一種以上的單層或 多層構成之被覆層者。 11. 如申請專利範圍第3項之被覆切削工具,其係在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的磺化 物,氡化物和硪氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其特擻為,該内層像以與基材接觸 的第一層為氡化鈦、其上面第二層像硬度1600〜2400 kg/nm2的磺氡化鈦,再上面被覆以選自碩化鈦,氡 化鈦,碩氮化鈦和硼氡化鈦一種以上之多層所構成, 而外層係被覆以選自氧化鋁,氧化錯,氣化給,碩化 鈦,碩氮化鈦和氮化鈦一種以上的單層或多層構成之 被覆層者。 12. 如申請專利範圍第4項之被覆切削工具,其偽在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的硪化 物,氡化物和硪氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) --------< 装------訂------f T (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 經濟部中央標準局員工消費合作社印— 293037 as B8 C8 D8 六、申請專利範圍 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 鵪 層之硬質被覆層,其待擻為,該内層係以與基材接觸 的第一靥為氡化鈦、其上面第二層像硬度160 0〜2400 kg/πη2的碩氡化鈦,再上面被覆以選自硪化鈦,氡 化鈦,碩氡化鈦和硼氡化鈦一種以上之多靥所溝成, 而外層係被覆以選自氧化鋁,氧化結,氧化姶,硪化 鈦,碩氮化鈦和氮化鈦一種以上的單層或多層構成之 被覆層者。 13. 如申請專利範圍第5項之被覆切削工具,其像在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的硝化 物,氡化物和磺氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其待徽為,該内層傷以與基材接觸 的第一層為氡化鈦、其上面第二層係硬度1 600〜24 00 kg/inm2的磺氮化鈦,再上面被覆以選自碩化鈦,氡 化鈦,碩m化鈦和硼氮化鈦一種以上之多層所構成, 而外層僳被覆以選自氧化鋁,氣化錯,氣化姶,磺化 鈦,硪氡化钛和氡化鈦一種以上的單層或多層構成之 披覆靥者。 14. 如申請專利範圍第6項之披覆切削工具,其傜在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的磺化 物,氡化物和碩氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) --------《裝------訂------< (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 293037 ll D8 六、申請專利範圍 層之硬質被覆層,其待擻為,該内層係以與基材接觸 的第一層為氘化鈦、其上面第二層像硬度1600〜2400 kg/nm2的磺氮化鈦,再上面被覆以選自碩化鈦,氡 化鈦,硪氡化鈦和砸気化鈦一種以上之多靥所構成, 而外層像被覆以選自氣化鋁,氣化結,氣化姶,碩化 鈦,硪氡化鈦和氡化鈦一種以上的單層或多靥構成之 被覆層者。 15. 如申讅專利範圍第7項之被覆切削工具,其係在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氡化物和磺氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其特徴為,該内層傈以與基材接觸 的第一層為氡化鈦、其上面第二層係硬度1600〜2400 kg/nm2的磺氮化鈦,再上面被覆以選自磺化鈦,氮 化鈦,碩氡化鈦和硼氮化鈦一種以上之多層所構成, 而外層像被覆以選自氣化鋁,氣化錯,氣化姶,磺化 鈦,磺氮化鈦和氡化鈦一種以上的單層或多靥構成之 \被覆層者。 16. 如申諳專利範圍第8項之被覆切削工具,其偽在主 要成份為選自元索周期表IVa, Va或Via族元素的磺化 物,氡化物和磺氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 靥之硬質被覆層,其待激為,該内層偽以與基材接觸 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) --------^ ^------'訂------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 Λ8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 的第一層為氡化鈦、其上面第二層係硬度1 600〜2 400 kg/π®2的硪m化钛,再上面被覆以選自硪化鈦,氮 化鈦,碩氡化钛和硼氡化鈦一種以上之多層所構成, 而外層係被覆以選自氧化鋁,氧化錯,氣化姶,碩化 鈦,碩氮化鈦和氡化鈦一種以上的單層或多靥構成之 被覆層者。 17. 如申請專利範圍第9項之被覆切削工具,其像在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氡化物和碩氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其特激為,該内層偽以與基材接觸 的第一層為氮化钛、其上面第二層偽硬度1600〜2400 kg/lHfl!2的磺氮化鈦,再上面被覆以選自磺化鈦,氮 *化鈦,碩氮化钛和硼氮化鈦一種以上之多層所構成, 而外層像披覆以選自氣化鋁,氣化锆,氧化姶,碩化 鈦,硝氮化鈦和氮化鈦一種以上的單層或多靥構成之 被覆層者。 18. 如申請專利範圍第1項或第2項之被覆切削工具, 其係在主要成份為選自元索周期表IVa, Va或Via族元 素的硪化物,氡化物和磺m化物一種以上硬質成份, 與VIII族金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含 内層和外層之硬質被覆層,其特獻為,該内層中與基 材接觸的第一層係被覆厚度0.1〜2.0W b之氡化鈦, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) --------(裝------訂------ί .冰 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 293037 Λ8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 其上面第二層係被覆硬度1600〜2400kg/mn2的硪m 化鈦,再上面是被覆以選自碩化鈦,気化鈦,碩氮化 钛和硼氡化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面 之外層,偽被覆以選自氣化鋁、碩化钛、碩m化鈦及 氡化鈦一種以上單層或多層所構成之被覆層者。 19. 如申諳專利範圍第3項之被覆切削工具,其係在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氮化物和碩氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金靥成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其持徽為,該内層中與基材接觸的 第一層偽被覆厚度0.1〜2.0Wni之氮化鈦,其上面第 二層係被覆硬度1600〜2400kg/ram2的硪氮化鈦,再 上面是被覆以選自碩化鈦,氮化鈦,碩氡化鈦和硼氡 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 偽被覆以選自氣化鋁、磺化鈦、磺氮化鈦及氮化鈦一 種以上單層或多層所構成之被覆層者。 20. 如申諳專利範圍第4項之被覆切削工具,其係在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的硪化 物,氡化物和硪氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 靥之硬質被覆層,其持擞為,該内層中與基材接觸的 第一層僳被覆厚度0.1〜2.0w η之氮化鈦,其上面第 二層像被覆硬度1600〜2400kg/mm2的碩氡化鈦,再 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) --------^裝 訂 ^ ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 上面是被覆以選自碩化鈦,m化鈦,磺m化鈦和硼気 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 像被覆以選自氣化鋁、磺化鈦、磺氮化鈦及氡化钛一 種以上單層或多靥所構成之被覆靥者。 21. 如申請專利範圍第5項之被覆切削工具,其僳在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氡化物和磺氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其特擻為,該内層中與基材接觸的 第一層偽被覆厚度0.1〜2.之氮化鈦,其上面第 二層傈被覆硬度1600〜2400kg/nm2的磺氮化鈦,再 上面是被覆以選自硪化鈦,氡化鈦,碩氣化鈦和硼氡 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 偽被覆以選自氣化鋁、碩化鈦、碩気化钛及氮化鈦一 、種以上單層或多層所構成之被覆層者。 22. 如申諳專利範圍第6項之被覆切削工具,其傜在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氮化物和碩氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金靥成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其待擻為,該内層中與基材接觸的 第一層偽被覆厚度0.1〜2.0wb之氡化鈦,其上面第 二層像被覆硬度1 600〜2400kg/BB2的磺氮化鈦,再 上面是被覆以選自硪化鈦,氮化鈦,硪氮化鈦和硼氡 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇Χ:297公釐) --------( 裝--II 訂 丄 \ (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) ABCD 293037 六、申請專利範圍 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 係被覆以選自氣化鋁、磺化鈦、碩m化鈦及m化鈦一 捶以上單層或多層所構成之被覆層者。 23. 如申請專利範圔第7項之被覆切削工具,其像在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氡化物和硪氮化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其待微為,該内層中與基材接觸的 第一層係被覆厚度0.1〜2.0wm之氡化鈦,其上面第 二層偽被覆硬度1600〜2400ks/mn2的碩氡化鈦,再 上面是被覆以選自磺化鈦,氮化鈦,磺氡化钛和硼氮 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 偽被覆以選自氧化鋁、碩化鈦、磺氡化鈦及氮化鈦一 種以上單層或多層所構成之被覆層者。 24. 如申請專利範圍第8項之被覆切削工具,其像在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的磺化 物,氡化物和磺氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金羼成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 層之硬質被覆層,其持擻為,該内層中與基材接觸的 第一層係被覆厚度0.1〜2. 0/iB之氡化钛,其上面第 二層像被覆硬度1600〜2400kg/Bin2的碩氮化鈦,再 上面是被覆以選自硪化钛,氮化钛,硪氡化钛和硼氛 化钛一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, -10 - 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •策. 訂 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 293037 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 係被覆以選自氧化鋁、碩化鈦、碩m化鈦及m化鈦一 種以上單層或多靥所構成之被覆層者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25. 如申請專利範圍第9項之被覆切削工具,其像在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的硪化 物,氡化物和碩氡化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内靥和外 層之硬質被覆層,其待歃為,該内層中與基材接觸的 第一層偽被覆厚度0.1〜2.0w in之氮化鈦,其上面第 二層係被覆硬度1600〜2400kg/ram2的磺氮化钛,再 上面是被覆以選自碩化鈦,氮化鈦,碩氮化鈦和硼氮 化钛一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 係被覆以選自氣化鋁、磺化鈦、碩m化鈦及m化鈦一 種以上單靥或多層所構成之被覆層者。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 26. 如申請專利範圍第10項之被覆切削工具,其偽在主 要成份為選自元素周期表IVa, Va或Via族元素的碩化 物,氮化物和碩氦化物一種以上硬質成份,與VIII族 金屬成份組成之合金之基材表面,形成包含内層和外 靥之硬質被覆層,其待徽為,該内層中與基材接觸的 第一曆係被覆厚度0.1〜2.0/iin之氡化鈦,其上面第 二層偽被覆硬度160 0〜2400kg/niD2的碩氮化钛,再 上面是被覆以選自硝化鈦,氡化鈦,碩氡化鈦和硼氮 化鈦一種以上的單層或多層,此等内層上面之外層, 像被覆以選自氣化鋁、磺化鈦、磺氡化鈦及氡化鈦一 -11.- 本紙張·尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 293037 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 種以上單層或多層所構成之被覆層者。 27. 如申諳專利範圍第10項之被覆切削工具,其中第二 靥磺氮化鈦偽由柱狀結晶粒構成,該磺氡化鈦的平均 結晶粒徑,在第二層膜厚4.0u m以下時為0.1〜lw m 範圍,第二層膜厚度超過4.0whi且在20wm以下時為 0.5〜3.0w m範圍者。 28. 如申請專利範圍第18項之被覆切削工具,其中第二 層碩氮化鈦係由柱狀結晶粒構成,該碩氡化鈦的平均 結晶粒徑,在第二層膜厚4.0w m以下時為% 0.1〜lwm 範圍,第二層膜厚度超過4.0w in且在20w in以下時為 0.5〜3.0w in範圍者。 29. 如申請專利範圍第10項之被覆切削工具,其中該内 層的氣含量,以内靥全體而言,為在0.0 5原子%以 下者。 30. 如申請專利範圍第18項之被覆切削工具,其中該内 層的氛含量,以内層金體而言,為在0.0 5原子%以 下者。 3 1 .如申請專利範圍第29項之被覆切削工具,其中與該 内層之基材接觸的硪氮化鈦中的氛含量,或與基材接 觸的氦化鈦及其正上面的碩氡化钛中氣含量在0.0 5原 子%以下者。 32.如申請專利範圍第30項之被覆切削工具,其中與該 内層之基材接觸的磺氡化钛中的氛含置,或與基材接 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) --------{-裝------訂-----《線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 293037 as B8 C8 D8 六、申請專利範圍 觸的氡化鈦及其正上面的磺氡化鈦中氛含量在0.05原 子%以下者。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
TW083105374A 1993-05-31 1994-06-11 TW293037B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12871393 1993-05-31
JP19724093 1993-08-09
JP08144594A JP3353449B2 (ja) 1994-04-20 1994-04-20 被覆切削工具
JP11081194A JP3384110B2 (ja) 1993-05-31 1994-05-25 被覆切削工具とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW293037B true TW293037B (zh) 1996-12-11

Family

ID=27466570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW083105374A TW293037B (zh) 1993-05-31 1994-06-11

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5915162A (zh)
EP (1) EP0653499B1 (zh)
KR (1) KR0165923B1 (zh)
AT (1) ATE221142T1 (zh)
DE (1) DE69431032T2 (zh)
TW (1) TW293037B (zh)
WO (1) WO1994028191A1 (zh)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0732423B1 (en) * 1994-10-04 2001-06-20 Sumitomo Electric Industries, Ltd Coated hard alloy
SE514181C2 (sv) 1995-04-05 2001-01-15 Sandvik Ab Belagt hårmetallskär för fräsning av gjutjärn
US5786069A (en) * 1995-09-01 1998-07-28 Sandvik Ab Coated turning insert
EP0874919B1 (en) 1995-11-30 2002-02-13 Sandvik Aktiebolag Coated turning insert and method of making it
SE9504304D0 (sv) 1995-11-30 1995-11-30 Sandvik Ab Coated milling insert
JP2000515433A (ja) * 1995-11-30 2000-11-21 サンドビック アクティエボラーグ(プブル) 被覆された切削植刃及びその製造方法
SE509560C2 (sv) * 1996-09-06 1999-02-08 Sandvik Ab Belagt hårdmetallskär för bearbetning av gjutjärn
USRE40005E1 (en) 1996-09-06 2008-01-15 Sandvik Intellectual Property Ab Coated cutting insert
US6071560A (en) * 1997-09-12 2000-06-06 Balzers Aktiengesellschaft Tool with tool body and protective layer system
SE9802488D0 (sv) * 1998-07-09 1998-07-09 Sandvik Ab Coated grooving or parting insert
US6251508B1 (en) * 1998-12-09 2001-06-26 Seco Tools Ab Grade for cast iron
US6221469B1 (en) * 1998-12-09 2001-04-24 Seco Tools Ab Grade for steel
SE519110C2 (sv) * 1999-05-04 2003-01-14 Sandvik Ab Belagt kiselnitridbaserat skärverktyg
US6472060B1 (en) * 2000-01-19 2002-10-29 Seco Tools Ab Coated body with nanocrystalline CVD coating for enhanced edge toughness and reduced friction
JP4437353B2 (ja) 2000-03-30 2010-03-24 株式会社タンガロイ 被覆切削工具およびその製造方法
SE0002448D0 (sv) * 2000-06-28 2000-06-28 Hoeganaes Ab method of producig powder metal components
KR20020019888A (ko) * 2000-09-07 2002-03-13 오카무라 가네오 절삭공구
US6761851B1 (en) 2001-09-11 2004-07-13 Allasso Industries, Inc. Apparatus and method for hardening metal by varying the engagement between irradiation and metal
US6933509B1 (en) 2001-09-11 2005-08-23 Allasso Industries, Inc. Apparatus and method using fractionated irradiation to harden metal
US6750459B1 (en) 2001-09-11 2004-06-15 Allasso Industries, Inc. Apparatus and method using irradiation to harden metal
KR20030052469A (ko) * 2001-12-21 2003-06-27 한국야금 주식회사 내마모성 및 인성이 향상된 피복 초경합금 절삭공구의제조방법
KR100457658B1 (ko) * 2002-01-16 2004-11-17 한국야금 주식회사 내마모성 및 인성이 향상된 피복 초경합금 절삭공구
SE527349C2 (sv) * 2003-04-24 2006-02-14 Seco Tools Ab Skär med beläggning av skikt av MTCVD-Ti (C,N) med styrd kornstorlek och morfologi och metod för att belägga skäret
WO2004096473A1 (ja) * 2003-04-28 2004-11-11 Tokyo Metropolitan Government 高速加工工具
DE10320652A1 (de) * 2003-05-07 2004-12-02 Kennametal Widia Gmbh & Co.Kg Werkzeug, insbesondere Schneidwerkzeug und Verfahren zur CVD-Abscheidung einer zweiphasigen Schicht auf einem Substratkörper
US7455918B2 (en) * 2004-03-12 2008-11-25 Kennametal Inc. Alumina coating, coated product and method of making the same
KR101225803B1 (ko) * 2004-04-13 2013-01-23 스미또모 덴꼬오 하드메탈 가부시끼가이샤 표면 피복 절삭 공구
WO2005121038A2 (en) * 2004-06-07 2005-12-22 Colorado School Of Mines Coating for glass molding dies and forming tools
JP2006082207A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 表面被覆切削工具
SE528107C2 (sv) 2004-10-04 2006-09-05 Sandvik Intellectual Property Belagt hårdmetallskär, speciellt användbart för höghastighetsbearbetning av metalliska arbetsstycken
KR20070092945A (ko) * 2004-12-22 2007-09-14 스미또모 덴꼬오 하드메탈 가부시끼가이샤 표면 피복 절삭 공구
JP4753249B2 (ja) * 2006-01-13 2011-08-24 株式会社神戸製鋼所 ガラス成形用金型
US8080312B2 (en) * 2006-06-22 2011-12-20 Kennametal Inc. CVD coating scheme including alumina and/or titanium-containing materials and method of making the same
JP2009095907A (ja) * 2007-10-15 2009-05-07 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 刃先交換型切削チップ
KR100920835B1 (ko) * 2007-12-20 2009-10-08 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
EP2243578B1 (en) * 2008-01-29 2015-03-11 Kyocera Corporation Cutting tool
JP5527415B2 (ja) * 2010-08-04 2014-06-18 株式会社タンガロイ 被覆工具
DE102010039035A1 (de) * 2010-08-06 2012-02-09 Walter Ag Schneidwerkzeug mit mehrlagiger Beschichtung
US8734070B2 (en) 2010-10-20 2014-05-27 Kennametal Inc. Toolholder with externally-mounted dynamic absorber
AT510963B1 (de) 2011-03-18 2012-08-15 Boehlerit Gmbh & Co Kg Beschichteter körper und verfahren zu dessen herstellung
US9199311B2 (en) * 2011-04-20 2015-12-01 Tungaloy Corporation Coated cutting tool
US8524360B2 (en) 2011-08-29 2013-09-03 Kennametal Inc. Cutting insert with a titanium oxycarbonitride coating and method for making the same
KR101841512B1 (ko) 2013-12-26 2018-03-23 쿄세라 코포레이션 절삭공구
US9764986B2 (en) 2015-01-22 2017-09-19 Kennametal Inc. Low temperature CVD coatings and applications thereof
RU2760426C2 (ru) * 2017-04-07 2021-11-25 Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб Снабженный покрытием режущий инструмент
JP6784928B2 (ja) 2018-09-04 2020-11-18 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
WO2020050259A1 (ja) 2018-09-05 2020-03-12 京セラ株式会社 被覆工具及び切削工具
JP7089038B2 (ja) 2018-09-05 2022-06-21 京セラ株式会社 被覆工具及び切削工具
DE112019004438T5 (de) 2018-09-05 2021-05-20 Kyocera Corporation Beschichtetes werkzeug und schneidwerkzeug
US12030127B2 (en) 2018-09-05 2024-07-09 Kyocera Corporation Coated tool and cutting tool
WO2020050264A1 (ja) 2018-09-05 2020-03-12 京セラ株式会社 被覆工具及び切削工具
US11964328B2 (en) 2018-09-05 2024-04-23 Kyocera Corporation Coated tool and cutting tool

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3656995A (en) * 1969-05-02 1972-04-18 Texas Instruments Inc Chemical vapor deposition coatings on titanium
US3771976A (en) * 1971-01-08 1973-11-13 Texas Instruments Inc Metal carbonitride-coated article and method of producing same
US4150195A (en) * 1976-06-18 1979-04-17 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Surface-coated cemented carbide article and a process for the production thereof
US4282289A (en) * 1980-04-16 1981-08-04 Sandvik Aktiebolag Method of preparing coated cemented carbide product and resulting product
JPS6077972A (ja) * 1983-10-05 1985-05-02 Toshiba Tungaloy Co Ltd 高温特性にすぐれた多層被覆工具材料
JPS6089574A (ja) * 1983-10-21 1985-05-20 Mitsubishi Metal Corp 切削工具および耐摩耗工具用表面被覆焼結硬質合金部材
JPS61170559A (ja) * 1985-01-21 1986-08-01 Sumitomo Electric Ind Ltd 被覆超硬合金
JPH0732961B2 (ja) * 1986-10-03 1995-04-12 三菱マテリアル株式会社 表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具
JPH0773802B2 (ja) * 1987-07-10 1995-08-09 住友電気工業株式会社 被覆超硬合金工具
DE3841731C1 (en) * 1988-12-10 1990-04-12 Krupp Widia Gmbh, 4300 Essen, De Process for coating a tool base, and tool produced by this process
US4984940A (en) * 1989-03-17 1991-01-15 Kennametal Inc. Multilayer coated cemented carbide cutting insert
JPH03190604A (ja) * 1989-12-15 1991-08-20 Mitsubishi Materials Corp 硬質層被覆炭化タングステン基超硬合金製工具部材
US5075181A (en) * 1989-05-05 1991-12-24 Kennametal Inc. High hardness/high compressive stress multilayer coated tool
JP2775955B2 (ja) * 1990-01-31 1998-07-16 三菱マテリアル株式会社 耐摩耗性に優れたコーティングサーメットの製造法
US5436071A (en) * 1990-01-31 1995-07-25 Mitsubishi Materials Corporation Cermet cutting tool and process for producing the same
JPH0413874A (ja) * 1990-05-02 1992-01-17 Mitsubishi Materials Corp 炭化チタン被覆工具部材
US5250367A (en) * 1990-09-17 1993-10-05 Kennametal Inc. Binder enriched CVD and PVD coated cutting tool
JP2985300B2 (ja) * 1990-12-25 1999-11-29 三菱マテリアル株式会社 硬質層被覆サーメット
US5372873A (en) * 1992-10-22 1994-12-13 Mitsubishi Materials Corporation Multilayer coated hard alloy cutting tool
US5374471A (en) * 1992-11-27 1994-12-20 Mitsubishi Materials Corporation Multilayer coated hard alloy cutting tool
SE501527C2 (sv) * 1992-12-18 1995-03-06 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt

Also Published As

Publication number Publication date
EP0653499B1 (en) 2002-07-24
US5915162A (en) 1999-06-22
KR0165923B1 (ko) 1999-01-15
EP0653499A4 (en) 1997-11-12
ATE221142T1 (de) 2002-08-15
KR950702648A (ko) 1995-07-29
WO1994028191A1 (fr) 1994-12-08
EP0653499A1 (en) 1995-05-17
DE69431032D1 (de) 2002-08-29
DE69431032T2 (de) 2003-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW293037B (zh)
Sidelev et al. Nickel-chromium (Ni–Cr) coatings deposited by magnetron sputtering for accident tolerant nuclear fuel claddings
Clarke Stress generation during high-temperature oxidation of metallic alloys
KR101395625B1 (ko) 피복 공구
JP6924824B2 (ja) アモルファスCrC被覆を有する原子炉コンポーネント、DLI−MOCVDによる製造方法および酸化/水素化に対する使用
JP4782758B2 (ja) 被覆された切削工具インサート
CN104085142B (zh) 一种刀片基体上的涂覆涂层
ES2834482T3 (es) Herramienta revestida
KR950032707A (ko) 코팅된 절단 공구
Chang et al. Multiprincipal-element AlCrTaTiZr-nitride nanocomposite film of extremely high thermal stability as diffusion barrier for Cu metallization
Chang et al. Investigation of defects in ultra-thin Al2O3 films deposited on pure copper by the atomic layer deposition technique
Shi et al. Reversing the inverse hardness–toughness trend using W/VC multilayer coatings
Ningshen et al. Corrosion study of ZrN deposited on 304L stainless steel
Góral et al. Oxidation behaviour of thin Ni/Al2O3 nanocomposite coatings electrodeposited on steel substrate
Lee et al. Effects of nitrogen flow ratio on the structural, mechanical, and anticorrosive properties of co-sputtered (NbTaMoW) Nx films
Zhao et al. Microstructure and mechanical properties of ZrC coating on zirconium fabricated by interstitial carburization
Cui et al. Diamond deposition on WC–Co substrate with amorphous SiC interlayer
Qin et al. Effects of local stress on the stability of tetragonal phase in ZrO2 film
Pat et al. Investigation of the surface, morphological and optical properties of boron–doped ZnO thin films deposited by thermionic vacuum arc technique
CN102011183B (zh) 多晶单片铝酸镁尖晶石
Lee et al. Effect of nucleation density on the crystallinity of graphene grown from mobile hot-wire-assisted CVD
Golizadeh et al. Multilayer SiBCN/TiAlSiCN and AlOx/TiAlSiCN coatings with high thermal stability and oxidation resistance
Tang et al. Evaluation of magnetron sputtered protective Zr-C-Al coatings for accident tolerant Zircaloy claddings
Cardenas et al. Synthesis and high-temperature corrosion resistance of Ti-Zr-Si-N coatings deposited by means of sputtering
Mirzayev et al. Effect of the C/N ratio modification on the corrosion behavior and performance of carbonitride coatings prepared by cathodic arc deposition