TW214592B - Thin film contact recording head - Google Patents

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經濟部中央揉準局R工消费合作社印製 A6 B6 五、發明説明（1 ) 發明範嚼： 本發明有闞於一使用Μ接觸式或偽接觸式記錄之薄膜磁 性記錄頭。 發明背景： 譬如磁盤推動器之數據記錄系统的設計最主要目的在於 獲得1Τ填装密度的記錄資訊Μ致數據儲存能力至最大。一 能夠為高密度記錄的因素是該記錄磁頭的轉送間隙有4、的 長g。該測量Μ相對於磁頭的數據軌道之移動方向的間隙 長度愈小，該可記錄之數據訊號的波長也就愈小，藉此增 加該記錄數據的密度。因此，有非常小的間隙長度之薄膜 磁頭目前廣泛地使用於磁盤推動器。 一種亦可增加記錄數據之填充密度的方法為當記錄時使 該磁頭接觸或配置以非常靠近（偽接觸）於記錄媒介或磁 盤。在Κ下本文中有闞一接觸式記錄磁頭_可解釋為包括一 偽接觸式磁頭。在一接觭式磁頭記錄系統中，該磁頭和磁 盤遭受來自摩擦影響和磁頭撞擊之磨耗和損壞，特別地經 驗上當磁盤推動器操作之開始和结束時最為嚴重。當磁盤 磨耗增加，該在磁盤上之磁性包覆的薄膜漸磨耗掉。導致 其可能的數據遺失。使用較大質量和重量的滑塊將加重此 問題。藉由使該滑塊的尺寸和質量麥為非常的小，該滑塊 和其轉送器可在縮小的有害影響下飛梭掠過或接觸於該磁 盤的表面。其為可知的當該滑塊的線性尺寸變小*該滑塊 的質量會依，一體積因素而減小。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公* ) 82.3. 40,000 -----------------ΙΙΙΤ----裝------訂------線 (#先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A6 B6 »濟部中央標準房興工消费合作社印製 五、發明説明（2 ) 薄膜磁頭一般地包含至少有一非磁性間隙之一薄膜轉送 器*其配置於一形成為一空氣動力表面的滑塊元件上。在 一典型習用磁頭中，該滑塊的空氣動力表面兩個間隔開的 縱向軌道，其在該前緣為漸尖的。該軌道產生一正壓地帶 W致提供該滑塊一空氣升力使其飛梭經過該磁盤。一彈性 的負載繞性部位提供一負載克力相對於該空氣升力。該繞 性部崔-架設於一聯结在如一線性或轉動線圈馬達之引動器' 的磁頭臂姐件上。該滑塊的飛梭高度依空氣動力升力&相 對&^施加之負載力而定。 在操作中，該磁頭依據來自一控.制器或微處理器的指令 移動至選定之數據軌道。其發費以該雙軌滑塊困難獲得一 非常低的飛梭高度或完成接觸式記錄。為獲得較低飛梭高 度需較大的預負載，但其將增加摩擦。可替代地窄軌可使 用於該雙軌滑塊中，但若該軌太窄，其變為困難的或實際 上不可能容納和支撐該轉送器结構。窄軌亦產生不希望的 飛梭特質，譬如經驗上用一轉動的引動器，該磁頭相對於 磁盤表面會有高歪斜角度。 發明概述： 本發明的一目的在於提供-實現高密度數據記錄之實質 改良的薄膜接觸式記錄頭。 本發明的再一目的在於提供-有實質地減小質量和重量 的薄膜磁頭*其中摩擦影響和磨耗量為最小的。 本發明的号一目的在於提供-使用於磁盤推動器的薄膜 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 訂· 線. 4 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS)甲4规格（210 X 297 82.3. 40,000 A6 B6 五、發明説明（5 ) 接觸式記錄頭，其中磁頭撞擊和数據遺失將實質消失.的。 在本發明的較佳俱體實例中* 一可用於接觸式或偽接觸 式記錄之薄膜磁性記錄頭滑塊為L形结構，其有一縱向矩 形凹槽部位和一相對地短的突出腳垂直延伸於該凹槽部位 。一薄膜轉送器配置在該突出腳的暴露側和界限一轉送間 隙於該腳上端之空氣軸承表面上。一耐磨襯墊形成於該空 氣軸β表面上邮近於該磁頭的轉送間隙。事實上·該磁頭 滑塊包含一單軌而不需如習技的切削成兩個或多個軌k。 f 一可替代的俱體實例中，一接觸式磁頭滑塊為一三襯 墊設計结構•其有二個襯墊在該滑塊的前方和一個配置有 轉送間隙的襯墊在該滑塊的後方除了該磁頭滑塊架設之懸 吊及繞性的轉矩角度外，該襯墊的配置和幾何學亦決定當 記錄操作時該滑瑰的接觸特激。 圖式的簡單說明： _ 本發明將參照下列圖式予以較詳细的說明： 圖1為一磁頭臂姐件之等角圖•其顯示一如習技的雙軌 滑塊架設於一繞性部位； 圖2A-2C為一標準的磁頭滑塊之等角圖，分別為如使用 於習技之微型滑塊和超小型滑塊；. 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 圖3為一如圖解於圖2B中之一雙軌滑塊的等角放大圖， 其顯示一轉送器位在一滑塊軌道的末端； 圖4為根據本發明之一有依虛線描繪挖削之空氣袖承的 一單軌磁頭缉塊之等角圖； 82.3. 40,000 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） A6 214592 _B6_ 五、發明説明（4) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖5為一該嶄新單軌磁頭滑塊之圖樣，其顯示附加的挖 削部位K界限一鄰近於該薄膜磁性轉送器的耐磨襯墊區域 圖6為描繪該挖削部位移去後之單軌磁頭滑塊； 圖7顯示有一鄰近於該薄膜轉送器之配置的附磨襯墊之 單軌磁頭滑塊； 圖-為一圖7之單軌滑塊的剖面側視圖·其顯示一暴露 的接合襯墊； ' P 9為一圖7之單軌滑塊的俯視等角圖； 圖10為一陶質晶片的等角圖，其.顯示一数個配置於列和 行的薄膜轉送器，和一有6個轉送器的列狀條為部位自該 晶片處分離； 圖11為一分離的列狀條之等角圖； 圖12為一顯示於圖11之列狀條的側視圖； 圖13為一圖11之列狀條的放大圖，其顯示切削部位Μ界 限該單軌滑塊； •圖14為一圖13之列狀條在切削處理後之等角圖； 圖15Α-15Β顯示該倨別單軌滑塊自列狀條分離出； 圖16為一描繪滑塊架設於一繞性部位或負載樑之使用的 俱像圖； 絰濟部中央標準房貝工消费合作社印製 圖17為一接觸式記錄頭之等角圖，其顯示根據本發明一 頂或圓頂形狀的凸圓耐磨襯墊和一轉送器； 圖18A-18C為本發明之單軌滑塊的圖解尺寸之俯視|側 視和後視圖」和 82.3. 40,000 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS>甲4规格（210 X 297公釐） 214592 A6 B6 經濟部中央標準属Λ工消费合作社印製 五、發明説明（5) 圖19A和19B為描繪可用於接觸式記錄頭之三襯墊滑塊設 計的平面圖。 為了便捷的目的及解釋的清楚，該圖式中的圖樣並非Μ 真實比例顧示應可被瞭解。 本發明的詳细說明： 參f圖1，一般用於磁盤推動器的習用磁頭臂组件11包 括一架設於負載樑或彈性負載繞性部位12之末端的一&軌 滑寧10。該繞性部位12連接於附著在一引動器（未顯示） 的一架設元件14。薄膜轉送器16和.18為當晶片和滑塊装配 時配置於軌道17和19的尾端。一電纜線20傳送記錄數據訊 號至該轉送器和自該轉送器讀取數據訊號至一數據處理器 。當該磁盤推動器之操作時，該引動器依據來自微處理櫬 或控制器的指令移動磁頭臂11放置該運作的薄膜轉送器於 一轉動磁盤的選定之數據軌道。 _ 當膝上型和筆記型可攜帶電腦的到來，其變為高度期望 於縮小該電腦姐件之重量和尺寸以節省空間。如顯示於圖 2A - 2C，磁頭技術自一檷準尺寸雙軌滑瑰（圖2A)進步至 —在直線尺寸上約為該檷準滑塊尺寸的70：«之微型滑塊（圖 2B ) ·和進而至在直線尺寸上約為該標準滑塊尺寸的505K 之超小型滑塊。在圖2A - 2C中之尺寸大小為毫寸和僅為圖 解用。圖3顯示圖2中該微型滑塊之一放大圖並做為本發明 所提供之一單軌滑塊的尺寸及寬度Wt和有一大得多的寬度 讨2之習用雙軌滑塊24的比較。 本紙張尺度適用中困國家標準（CNS>甲4規格（210 X 297公* > 82.3. 40,000 -裝------訂------線 (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) A6 B6 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五、發明説明（6) 如顯示於圖4，本發明之接觸式磁頭滑塊為Μ陶質材料 製成，其形狀為L形並有一縱向凹槽部位30和一短腳35。 一薄膜轉送器26和接合襯墊28配置於該短腳35之暴露側及 該單軌滑塊22之後緣。在製作中，該單軌磁頭滑塊2 2可藉 由如金剛石圚锯沿圖4中所示之虛線29切削而成。沿圖5 中之虛線31切削可得一形成於該短腳35頂端之腳架34並作 為該1Τ塊的單軌。該腳架34之頂端暴露部位包括一轉送器 26之轉送間隙33，其藉由極尖32來界限。該腳架34能^效 地灌用為該滑塊22之空氣軸承表面，其當一磁盤推動器之 操作時，使接觸於一轉動的磁盤。.根據本發明，該腳架 34更進一步藉由習用光刻掩蔽和蝕刻技術Μ界限一有相對 地較小區域之椭圓型態耐磨襯墊36，如圖7中所描述。該 耐磨襯墊縮小有效接觸區域和該滑塊的空氣袖承表面，其 和該轉動的磁盤相互作用因而將該磁頭的磨耗減至最小並 該磁盤因而增長其操作赛命。該縮小的滑塊尺寸和質量能 夠装配該磁頭姐件於小的空間，因此允許全尺寸的縮小該 小磁盤推動器之高度和尺寸，如使用於膝上型電腦。該小 的滑塊足以在一磁盤推動器中一給定物'理空間内谁積較多 的磁盤。 在圖8中，該單軌滑瑰22為顯示於一側剖面圖且一暴露 的接合襯墊38用Κ交替線接合。該轉送器26和接合襯墊 38尺寸與滑塊本體22相比較為擴大些以便能顯見該滑塊部 位。在本發明之一俱體實例中，該鄰近於轉送器26之極尖 區域的耐磨襯墊36為在3-10毫寸範圍内。該凹槽部位的高 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨裝· 訂. —線. 本纸張尺度逯用中國國家揉準（CNS〉甲4规格（210 X 297公釐） 82.3. 40,0U0 214592 A6 B6 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（7 ) 度為在0.5至2毫寸範圍内和該腳架的高度約為2至8毫寸。 該圖9之俯視圖說明該接合襯墊38可用於線接頭。該接 合襯墊38配置於滑塊22之頂端表面K方便線接頭介於該轉 送器線圈39和磁頭回路之間。 當該嶄新的單軌滑塊及在空氣抽承表面之耐磨襯墊製造 中，一陶質晶片之一表面為精密磨光至一平滑鏡面處理。 藉由f知的光刻掩蔽和谁積技術將多數個薄膜轉送器26同 時配置於該磨光表面上。如顯示於圖10，該轉送器26fc列 和行的配置於晶片上，其Μ金剛石圓鋸切削成列狀條42, 如顯示於圖'11和12。該列吠條42有數個相同空間的薄膜轉 送器26，在此例中顯示有6個轉送器。該列狀條如圖13所 顯示的切削Κ界限該有凹槽部位30和在短腳35上之腳架 34的L形單軌滑塊。該切削後之列吠條顯示於圖14。圖 15Α和15Β描述該個別單軌滑塊22自列狀條42分離出，其藉 由如成排的金鋼石圓鋸切削而成。該®別釣單軌滑塊和線 接頭43為架設於一磁頭姐件之負載樑或彎曲部位44，如圖 解於圖16。 圖17說明一接觸式磁頭滑塊的變異，·其腳架3 4有一弧形 圓頂端可允許介於該滑塊和轉動的磁盤間之接觸區域再次 縮小。該適用為一單軌之腳架34為變圓以界限一頂或圓頂 ，並該圓頂的頂尖為接近於轉送器52之轉送間隙。 圖18A-18C為根據本發明所製造之一單軌滑塊，其圼現 大小為毫寸之圖解尺寸。該滑塊之全高約為0.011寸’全 長大約為0, 040寸，和該寬度大約為0.020寸。該腳架之 (請先閲讀背面之注意事項再蜞寫本頁) —裝· 訂· .線· 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS)甲4規格（210 X 297公« ) 82.3. 40,000 214592 A6 B6 經濟部中央標準房貝工消费合作杜印製 五、發明説明（8 ) 高度大約為0.002至0.003寸。在一磁盤轉動約在3600 rpra，其使用一大約35 - 50毫克之負載力。使用其他尺寸 之一單軌和耐磨襯墊亦可履行本發明是可被瞭解的。譬如 ，該滑塊長度可在大約0.030至0.0 60寸之範圍内’該寬度 約0.020至0.030和該高度約0.011至〇.017寸’該附磨期 墊之尺寸最好其長度約為〇·〇〇3至〇.010寸，寬度約0·003 至o.trro寸，和高度約0.002至0.003寸或較小些。該，用 於磁頭滑塊之負載力最好在0.1至I.0克範圍内。 做為一接觸式磁頭的—滑塊之另一俱體實例中’該空氣 軸承表面形成於一三襯墊設計，如圖19A - 19B中所圖解。 三襯墊滑塊設計用於飛梭磁頭，其為揭示於1992年3月δ 日申請之共同審理中專利申請序號07/846,719内’名稱為 ”三襯墊空氣軸承磁頭滑塊”，並歸羼於該相同的受托者 。如顯示，兩個有角襯墊56和58向前配置於該滑塊之前側 ，且有角坦坡60和62位於該滑塊之前緣，鄰近於該前櫬墊 56和58。該斜度或坦坡角度大約為40 - 60分。該坦坡區域 60和6 2並非必須和該前側襯墊之全長可延伸至前緣而無任 何坦坡。一第三襯墊6 4形成於該滑塊之後端中央，該轉送 間隙位於此處。該第三襯墊64是為一截頭圓維或梯形幾何 學结構。以補充一超小型滑塊接觸式磁頭之俱體寅例•在 大約0.5至3.5克範圃内之一克負載力為施加於該超小型滑 塊上，在大約沿該滑塊介於線L1和L2之間區域之中央縱軸 的一點，其介於該前襯墊和後襯墊之間。 此接觭式磁頭設計特別地適用於使用微型滑塊和更小尺 - 10 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) i装. 訂· .線. 本纸張尺度逋用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公釐） 82.3. 40,000 A6 B6 214592 五、發明説明（9 ) 寸的滑塊，如超小型滑塊和毫微微型滑塊之磁頭。該自一 型式至下一型式之尺寸的縮小一般依序為大約50-70« °如 此若一微型滑塊大約為〇. 112寸長，0.088寸寬和〇. 〇24 寸高，一超小型滑塊將大約為〇. 080寸長，0.063寸寬和 0.017寸高，和一毫微微型滑塊將大約為〇.〇4寸長’ 0.020寸寬和0.011寸高。該坦坡之長度依滑塊畏度而變 和，章-例來說對一超小型滑塊可大約為0.008寸。在一超 小型滑塊的完成中•該坦坡角度一般大約為40- 60分^但 在一些應用中可有一角度在20 - 90分之擴大範圍。該前側 襯墊56和58'大約為〇.〇 2 5寸長或大.約為該滑塊全長的三分 之一，該每一前襯墊之寬在最寬部位大約為0.005寸，在 大約以20°漸尖至其最窄寬度。該後端中央襯墊64在後緣 大約為0.020寸長》並漸尖至一大約0.008寸的寬度。對 應一大約1克的克負載，該飛梭高度在大約每秒 650寸之 轉動磁盤的線性速度時大約為2微寸。該介於襯墊間之切 削深度大約為0.003寸。對一毫微微型滑塊，該在前緣之 兩坦坡大約為0.005寸長和有大約40分之角度。該兩前襯 墊大約為0.013寸長和在最寬處為0.006寸。該後襯墊在 後緣大約為0.013寸和大約為0.007寸深。該介於三個襯 襯墊間之切削的深度大約為0.003寸。在大約 0.2克負載 於一每秒650寸之線性速度時，該飛梭高度大約為2微寸 〇 使用該三襯墊接觸式滑塊，當一穗定磁盤狀況時，該磁 盤是接觸Μ金部三個襯墊。當該磁盤轉動時，形成一空氣 - 11 本紙張尺度適用中國鼷家標率（CNS〉甲4规格（210 X 297公釐） 82.3. 40,000 -----------------.---.----裝------訂------^ (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局β工消費合作社印製 A6 B6 經濟部中央镖準房Λ工消費合作杜印製 五、發明説明（10 ) 軸承以致當該第三後襯墊以掠過的接觸，偽接觸或極靠近 於該磁盤表面時，該三襯墊滑塊之兩前襯墊以相對於磁盤 表面的一節距飛梭而過。此结構允許該滑塊之飛梭特激當 該磁頭在一自飛盤内徑至外徑的尋找横式之引動時可被控 制。在接觸式記錄時，該實際接觸區域為後襯墊之部份區 域*其起因於由該兩飛梭前襯墊所提供之節鉅存在。 在宥-該三襯熱接觸式滑塊之磁盤推動器的操作中，一克 負載力施於沿該有一小支距的滑塊之中央縱袖的一點f，且 在f前側襯墊56和58之後端的後方及在該中央後襯熱之前 端的前方，如線L1和L2所描繪的。·該施加的克負載力用於 一超小型滑塊尺寸磁頭時，在一磁盤轉動操作在大約 5 4 0 0 r p m為大約0 . 5至3 . 5克。 在這裡所說明之磁頭滑塊用於接觸式或偽接觸式記錄。 在一俱體實例中，該滑塊形狀為一大體地L形结構和實際 地為一單軌設計。該單軌滑塊實質地小於習用磁頭滑塊和 其有最小的質量和重量。該單軌滑塊可用於臥式或立式記 錄磁頭。該單軌滑塊有一耐磨襯墊配置於該L形滑塊之一 腳的凸起部位或腳架上。該小區域的耐谮襯墊配置在鄰近 於該薄膜轉送器的極尖和轉送間隙處且有一小於10毫寸之 直徑。該非常小的滑塊之酎磨性藉由實質地縮小該介於 耐磨襯墊和轉動的磁盤表面間之接觸區域的優點而大大地 改良。 在這裡所說明之一接觸式記錄頭的另一俱體實例中，該 空氣轴承表面有一三櫬墊設計。該三襯墊接觸式滑塊亦有 - 12 - (請先閲讀背面之注意事項再f本頁) -裝. 訂. 丨線_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） 82.3. 40,000 214592 A6 B6 五、發明説明（11) 高密度記錄且減少該滑塊和磁盤的磨損之優點。一最小負 載力使用以產生該滑塊的一節距以致該滑塊的前襯墊部位 飛梭而過，且該有轉送器的後襯墊部位能和轉動磁盤接觸 〇 . 雖然其說明本發明用於一接觸式記錄頭及一剛性磁盤· 該滑塊亦可用K其他磁性媒介和用於其他記錄應用。本發 明並I限制於這裡所說明之特定结構或尺寸及其他修改可 為本發明之範圍内應可被瞭解的。 r -----------------.---；----裝------.玎------嫁 (請先閲讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作杜印製 3 11 本纸張尺度適用t國國家標率（CNS)甲4規格（210 X 297公釐） 82.3. 40,000

Claims (1)

1. A7 B7 C7 D7 214592 六、申請專利範園 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1.. 一種用於轉送數據相對於一磁性媒介或磁盤的薄膜磁頭 包含： 一僅為單軌形狀的磁頭滑瑰，該滑塊有一前緣或上游端 且一後緣或下游端，該滑塊包括一縱向部位和一有一暴 露端表面的腳部位垂直於該縱向部位； 一腳架形成於該腳部位之上端用Μ提供一空氣軸承表面 一;一 一 1S膜磁性轉送器配置在該腳部位之暴露端表面的後緣 |該轉送器界限一位置於空氣軸承表面的轉送間隙。 i裝_ 2 ‘根據申請專利範圍第1項之薄膜磁頭姐件，其中該腳部 位和縱向部位形成一 L形结構。 3. 根據申請專利範圍第 2項之薄膜磁頭姐件，其中該縱向 部位之高度在大約2-10毫寸範圍内。 4. 根據申請專利範圍第1項之薄膜磁頭姐件，其包括一形 成於腳架上之配置的耐磨襯墊用以縮小該介於空氣軸承 表面和磁盤間的接觸區域。 ^ & 根據申請專利範圍第4項之薄膜磁頭姐件，其中該轉送 器包含磁性極尖終止於該耐磨襯墊的暴露表面。 & 根據申請專利範圍第4項之薄膜磁頭姐件，其中該耐磨 襯墊為一頂或圓頂幾何學结構。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 7. 根據申請專利範圍第 4項之薄膜磁頭姐件，其中該耐磨 襯墊大約為0.003至0.010寸長，大約0.003至0.010寸寬 ，和大，約0.002至0.003寸或較小的高。 8. 根據申請專利範圍第1項之薄膜磁頭姐件，其包括配置 - 14 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7 C7 D7 六、申請專利範園 .於該腳部位之末端表面的接合襯墊’其郯近該薄膜轉送 器用為至磁頡回路的線接頭° a 根據申請專利範圍第8項之薄膜磁頭姐件，其包括交替 接合襯墊為鄰近且垂直地配置相對於接合襯墊在該腳部 位之末端表面上。 10. 根據申請專利碎圍第1項之薄膜磁頭组件，其包括一繞 if部位或負載樑用以架設該磁頭滑塊以和該磁性媒介.相 互-作用。 r 11. 根據申請專利範圍第10項之薄膜磁頭姐件’其中該滑塊 ‘的長度約0.080寸’該寬度約0.063寸和該高度約 0 · 0.17 寸。 iz 根據申請專利範圍第1項之薄膜磁頭姐件，其中該滑塊 有一全高約0.0〗1至0.〇17寸，一全長約0.030至0.060寸 ，和一寬約〇.〇20至0·030寸。 13. 一種用於和一磁盤接觸式記錄的一薄膜磁頭姐件，包含 一有一空氣軸承表面和前、後緣的磁頭滑塊； 第一，第二和第三襯墊形成於該滑塊之空氣袖承表面上 ，該第一和第二襯墊向前配置在該滑塊的前緣兩側和僅 部份向該後緣延伸，該第三襯墊配置在該滑塊的後緣中 央，該第一和第二襯墊為大體地有角度側邊和該第三襯 墊為截頭圓维或梯形形狀； 坦坡位在該滑塊之側邊，介於該前緣和第一及第二襯塾 之間； - 15 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 2耵公釐） ------------------------裝------訂------線 (請先Μ讀背面之注意事項再塡寫本頁) · , 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 C7 六、申請專利範圍 一機構用以施加一負戧力於該滑塊大約沿滑塊之中央縱 軸的一點。 14- 根據申請專利範圍第1 3項之薄膜磁頭姐件，其中該負載 力施加機構配置K致該力施加在位於第一及第二襯墊後 端的後方和該第三襯墊前端的前方之間區域内的一點。 15. 據申請專利範圍第1 3項之薄膜磁頭姐件，其中該負載 力施加機構配置以致該力施加在介於前襯墊之間择域内 的一點。 1S. ‘根據申請專利範圍第1 3項之薄膜磁頭姐件，其中該滑塊 之全長約在0.030至0.080寸範圍内，該寬度範圍約 0.020至0.063寸和該全長約在0.011至0.017寸範圍内 〇 17. 根據申請專利範圍第1 3項之薄膜磁頭姐件，其中該第一 及第二襯墊長度約0 . 0 2寸和該第三襯墊介於前後緣之間 約 0.020寸。 _ 18. 根據申請專利範圍第1 3項之薄膜磁頭姐件，其中該第一 及第二襯墊長度約0.013寸，該第一及第二襯墊寬度在 最寬處約0.006寸和該第三襯墊之側邊沿後緣約0.013 寸。 19. 根據申請專利範圍第13項之薄膜磁頭姐件，其包括一機 構用Μ施加一大約一克的克負載且該滑塊的飛梭高度在 一線性磁盤速度約每秒650寸時約為 2微寸。 - 16 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货） ------------------------裝------ir------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·，，·