JPH10255424A

JPH10255424A - 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク装置

Info

Publication number: JPH10255424A
Application number: JP9063439A
Authority: JP
Inventors: Toru Yokohata; 徹横畑; Naoyuki Yamamoto; 尚之山本; Yoshiharu Kasamatsu; 祥治笠松; Taku Toyoguchi; 卓豊口
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1997-03-17
Filing date: 1997-03-17
Publication date: 1998-09-25
Also published as: US6072663A

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の課題は、磁気ディスク装置の回転起
動時に発生する吸着障害を回避できると同時に、磁気デ
ィスク装置内に存在しうる微量の塵埃が磁気ヘッドスラ
イダの浮上特性に及ぼす悪影響を低減することである。【解決手段】磁気ヘッドスライダであって、磁気ディ
スクに対向するディスク対向面に形成された、それぞれ
ディスク回転時の浮上力を発生するための平坦な空気ベ
アリング表面とこの空気ベアリング表面に連続して空気
流入端面側に形成されたテーパ面とを有する一対のレー
ルと、該レールの一方が位置する空気流出側端面に形成
された電磁トランスデューサとを含んでいる。磁気ヘッ
ドスライダは更に、それぞれ各レールのテーパ面から空
気ベアリング表面に渡り連続して形成された、空気ベア
リング表面の外縁に終端する一対の突起を含んでいる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に用いられる浮上型磁気ヘッドスライダの構造に関す
る。

【０００２】近年、コンピュータ用外部記憶装置の一種
である磁気ディスク装置の小型化及び大容量化が望まれ
ている。磁気ディスク装置の大容量化のためには、スピ
ンドルに取り付けられる磁気ディスクの枚数を増やすの
が１つの方法であり、これに伴い最近の磁気ディスク装
置ではディスクの実装間隔が小さくなってきている。

【０００３】最近の磁気ディスク装置ではコンタクト・
スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式の浮上型磁気ヘッド
が用いられることが多い。ＣＳＳ方式の浮上型磁気ヘッ
ドでは、装置停止時には磁気ヘッドが磁気ディスクに接
触し、情報の記録再生時には高速回転する磁気ディスク
表面に発生する空気流によって、磁気ヘッドが磁気ディ
スク表面と微小間隙を保って浮上する。

【０００４】ＣＳＳ方式の浮上型磁気ヘッドにおいて
は、磁気ディスク表面に発生する空気流を受けるスライ
ダに電磁トランスデューサ（磁気ヘッド素子）が組み込
まれており、スライダはサスペンションにより支持され
ている。

【０００５】よって、電磁トランスデューサの組み込ま
れたスライダは、磁気ディスクの回転が停止していると
きには磁気ディスク表面に接し、磁気ディスクが回転す
ると、回転によって発生する空気流を浮上面に受けて浮
上し、スライダに組み込まれた電磁トランスデューサは
サスペンションにより支持されながら磁気ディスク面上
を移動し、所定のトラックへ情報の記録再生を行う。

【０００６】

【従来の技術】従来より浮上型磁気ヘッドスライダを採
用した磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダのデ
ィスク対向面側の左右両端に一対のレールが設けられて
いる。各レールは平坦な空気ベアリング表面を有してい
る。

【０００７】更に、各レールの空気流流入端側にはテー
パ面が設けられており、磁気ディスクの高速回転により
発生した空気流を空気ベアリング表面で受けてスライダ
が浮上し、磁気ディスク表面と電磁トランスデューサと
の間の微小間隔を安定に維持している。

【０００８】この方式は高い浮上安定性と微小な浮上量
（サブミクロン）を確保できる反面、ディスク回転停止
時にはディスクにスライダのレール面（空気ベアリング
表面）が接触し、磁気ディスク装置の起動時と停止時に
ディスクと空気ベアリング表面の摺動が起こる。

【０００９】このため、磁気ディスクの記録層上にはカ
ーボン等の硬い材料からなる保護膜と、保護膜の摩擦・
磨耗を低減してディスクの耐久性を向上させるための潤
滑層が形成されている。潤滑層の存在により保護膜の摩
擦・磨耗は低減するが、一方で停止時にディスクとスラ
イダとの吸着が起こり起動しない場合が生じてくる。

【００１０】近年の情報量の増大に伴い、磁気ディスク
装置の高密度化・大容量化及び小型化の進展は著しく、
小型化に伴うスピンドルモータのトルクの減少や、高密
度化のためのディスク表面の平滑化により、吸着問題の
発生は動作不良の原因として大きくクローズアップされ
てきている。

【００１１】スライダとディスクの吸着を低減するため
に、スライダ浮上面を長手方向全長に渡ってクラウン加
工し、スライダとディスクとの接触面積を減らすことが
提案されている。

【００１２】クラウン加工したスライダは吸着防止には
有効であるが、加工精度のバラツキが大きく磁気ヘッド
スライダがコスト高となり、量産に向かないという問題
がある。

【００１３】更に、スライダ浮上面の長手方向にクラウ
ン加工をするため、流出端部に形成されている電磁トラ
ンスデューサ（ヘッド素子）の高さよりも、スライダの
レール面がディスクに近くなってしまうため、スペーシ
ングロスが発生するという問題がある。

【００１４】更に、近年では高密度化の進展に伴って浮
上量０を指向した接触型ヘッドの採用も検討され始めて
おり、電磁トランスデューサ又はディスク記録層の破壊
及び動作不良の原因となるディスクとスライダ間の吸着
の発生を防止することが一層重要な課題となっている。

【００１５】この吸着の問題を防止するために、スライ
ダ浮上面（空気ベアリング表面）に複数個の突起を設け
ることにより、スライダと磁気ディスク表面間の接触面
積を小さく抑える技術が提案されている（特願平６−２
０５４７４号、特開昭８−００００号）。

【００１６】図１（Ａ）を参照して、上記公開公報に記
載された磁気ヘッドスライダ２の構造を概略的に説明す
る。磁気ヘッドスライダ２の左右両端には一対のレール
４，６が形成されている。

【００１７】各レール４，６はディスク回転時の浮上力
を発生するための平坦な空気ベアリング表面４ａ，６ａ
をそれぞれ有している。更に、各レール４，６の空気流
入側端部にはテーパ面４ｂ，６ｂが形成されている。

【００１８】各レール４，６の空気ベアリング表面４
ａ，６ａ上には複数個の突起１０が形成されている。レ
ール４が位置するスライダ２の空気流出側端面には電磁
トランスデューサ８が一体的に形成されている。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記公開
公報に記載された磁気ヘッドスライダは、突起１０を設
けたことによりスライダの空気ベアリング表面４ａ，６
ａと磁気ディスク表面間の接触を避けようとした点に特
徴があり、そのため実際の装置において磁気ディスク面
上にごく僅かな塵埃が存在した場合に、突起１０の下流
側の空気ベアリング表面４ａ，６ａ上に塵埃が溜まり易
いという問題がある。

【００２０】即ち、上記公開公報に記載された磁気ヘッ
ドスライダにおいては、突起の後端が空気ベアリング表
面上に存在するので、突起１０付近における空気の流れ
Ａは図１（Ｂ）に示すように、突起１０を乗り越えるよ
うな態様となる。このとき、突起１０後端のＰ付近に負
圧が発生し、この付近において空気の流れが滞留する。

【００２１】このため、空気の流れに乗って浮遊する塵
埃がＰ部付近に溜まり、場合によってはそこに堆積す
る。よって、突起を設けないスライダと比較して、微量
の塵埃がスライダの浮上特性に悪影響を及ぼすという問
題がある。

【００２２】上記公開公報に記載された磁気ヘッドスラ
イダは以下のような問題も有している。即ち、磁気ディ
スク装置の停止時における磁気ヘッドスライダ２の姿勢
は、図２（Ａ）に示すように突起１０が磁気ディスク５
表面に接触して停止している。符号７はスライダ２がサ
スペンション（図示せず）により支持される支点を示し
ている。

【００２３】ここで、矢印Ｒ方向の起動回転力がスライ
ダ２に加わると、スライダの支点７回りの回転モーメン
トの釣合いにより、スライダ２の姿勢が一旦図２（Ｂ）
に示すようになり、空気ベアリング表面の前端に設けら
れたテーパ面６ｂがディスク５と接触して吸着を起こ
す。

【００２４】このときの吸着力は、突起を設けない場合
に空気ベアリング表面の全面がディスクと接触して吸着
した場合の吸着力よりは十分に小さいので、一般に装置
が吸着障害を起こすまでに至らない場合が多いが、この
とき磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの接触面間に大
きな力が作用して磨耗が生じ、そのとき発生した磨耗粉
が以後塵埃として振る舞うことになる。

【００２５】よって本発明の目的は、磁気ディスク装置
の回転起動時に発生する吸着障害を回避できると同時
に、磁気ディスク装置内に存在しうる微量の塵埃が磁気
ヘッドスライダの浮上特性に及ぼす悪影響を低減するこ
とのできる磁気ヘッドスライダを提供することである。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明によると、空気流
入側端面と空気流出側端面を有する磁気ヘッドスライダ
であって、磁気ディスクに対向するディスク対向面に形
成された、それぞれディスク回転時の浮上力を発生する
ための平坦な空気ベアリング表面と該空気ベアリング表
面に連続して空気流入端面側に形成されたテーパ面とを
有する一対のレールと、前記レールの一方が位置する前
記空気流出側端面に形成された電磁トランスデューサ
と、それぞれ前記各レールのテーパ面から空気ベアリン
グ表面に渡り連続して形成された、空気ベアリング表面
の外縁に終端する一対の突起とを具備したことを特徴と
する磁気ヘッドスライダが提供される。

【００２７】好ましくは、各突起はスライダの空気流出
側端面に終端している。代案として、各突起がレールの
側面に終端するようにしてもよい。好ましくは、各突起
はアモルファスカーボン膜又はＳｉＯ₂膜やＡｌ₂Ｏ₃
膜等の酸化物薄膜から形成されている。

【００２８】本発明の他の側面によると、空気流入側端
面と空気流出側端面を有する磁気ヘッドスライダであっ
て、磁気ディスクに対向するディスク対向面に形成され
た、それぞれディスク回転時の浮上力を発生するための
平坦な空気ベアリング表面と該空気ベアリング表面に連
続して空気流入端面側に形成されたテーパ面とを有する
一対のレールと、前記レールの一方が位置する前記空気
流出側端面に形成された電磁トランスデューサと、それ
ぞれ前記各レールのテーパ面から空気ベアリング表面に
渡り連続して形成された、空気流出側端面に終端する一
対の突起と、前記各突起は前記各レールのテーパ面及び
空気ベアリング表面を部分的に削り取ることにより形成
されており、前記電磁トランスデューサの形成位置が、
少なくとも１つの前記突起の表面を基準に設定されてい
ることを特徴とする磁気ヘッドスライダが提供される。

【００２９】本発明の更に他の側面によると、空気流入
側端面と空気流出側端面を有する負圧磁気ヘッドスライ
ダであって、磁気ディスクに対向するディスク対向面に
形成された、それぞれディスク回転時の浮上力を発生す
るための平坦な空気ベアリング表面と該空気ベアリング
表面に連続して空気流入端面側に形成されたテーパ面と
を有し、その間に一旦圧縮された空気を膨張させて負圧
を発生させる溝を画成した一対のレールと、前記レール
の一方が位置する前記空気流出側端面に形成された電磁
トランスデューサと、それぞれ前記各レールのテーパ面
から空気ベアリング表面に渡り連続して形成された、空
気ベアリング表面の外縁に終端する一対の突起とを具備
したことを特徴とする負圧磁気ヘッドスライダが提供さ
れる。

【００３０】

【発明の実施の形態】図３を参照すると、本発明の磁気
ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の斜視図が
示されている。符号１２はベース１４とカバー１６とか
ら構成されるハウジング（ディスクエンクロージャー）
である。

【００３１】ベース１４上にはインナーハブモータによ
って回転駆動される図示しないスピンドルハブが設けら
れている。スピンドルハブには磁気ディスク２０と図示
しないスペーサーが交互に挿入され、ディスククランプ
１８をスピンドルハブにネジ締結することにより、複数
枚の磁気ディスク２０が所定間隔離間してスピンドルハ
ブに取り付けられる。

【００３２】符号２２はアクチュエータアームアセンブ
リ２６と磁気回路２８とから構成されるロータリーアク
チュエータを示している。アクチュエータアームアセン
ブリ２６は、ベース１４に固定されたシャフト２４回り
に回転可能に取り付けられている。

【００３３】アクチュエータアームアセンブリ２６は、
回転中心から一方向に伸長した複数のアクチュエータア
ーム３０と、アクチュエータアーム３０と反対方向に伸
長したコイル支持部材３６を含んでいる。

【００３４】各アクチュエータアーム３０の先端部に
は、先端部で磁気ヘッドスライダ３２を支持するサスペ
ンション３４の基端部が固定されている。コイル支持部
材３６によりコイル３８が支持されている。磁気回路２
８と、磁気回路２８のギャップ中に挿入されるコイル３
８とでボイスコイルモータ（ＶＣＭ）４０が構成され
る。

【００３５】符号４２はヘッドスライダ３２に搭載され
た電磁トランスデューサからの信号を取り出すフレキシ
ブルプリント配線板（ＦＰＣ）を示しており、固定部材
４４でその一端が固定され、更に図示しないコネクタに
電気的に接続されている。

【００３６】ベース１４上に環状パッキンアセンブリ４
６が搭載されており、パッキンアセンブリ４６を間に挟
んでカバー１６をベース１４にネジ締結することによ
り、ハウジング１２内が密封される。

【００３７】図４（Ａ）は本発明第１実施形態の磁気ヘ
ッドスライダの斜視図を示しており、図４（Ｂ）はその
平面図を示している。磁気ヘッドスライダ３２は空気流
入側端面３２ａと、空気流出側端面３２ｂを有してお
り、その両サイドには平坦なレール面（空気ベアリング
表面）４８ａ，５０ａを有する一対のレール４８，５０
が形成されている。

【００３８】各レール４８，５０の空気流入側端部には
それぞれテーパ面４８ｂ，５０ｂが形成されている。一
方のレール４８の空気流出側端面３２ｂには電磁トラン
スデューサ（ヘッド素子）５６が形成されている。

【００３９】各レール４８，５０上には空気流入側端面
３２ａから空気流出側端面３２ｂに渡り連続する突起５
２，５４がそれぞれ形成されている。突起５２，５４は
ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の硬い材料の
薄膜からなり、薄膜プロセスにより密着層である５ｎｍ
以下の厚さのＳｉＣ層を介して各レール４８，５０上に
形成される。突起５２，５４の高さはスライダ３２の浮
上に悪影響を及ぼさない３０ｎｍ程度が適当である。

【００４０】レール４８，５０上にこのように伸長した
突起５２，５４が形成されているため、突起５２，５４
の後端は空気ベアリング表面４８ａ，５０ａ上には存在
しないことになる。

【００４１】これにより、負圧が発生する位置が各レー
ル４８，５０の空気ベアリング表面４８ａ，５０ａ外に
限定されるため、図１（Ｂ）で説明した従来技術のよう
に、突起の下流側の空気ベアリング表面上に負圧が発生
してこの部分に塵埃の堆積が生じることが防止される。

【００４２】更に、本実施形態のスライダ３２では、突
起５２，５４が空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの前
端に設けられたテーパ面４８ｂ，５０ｂ上にも形成され
ているために、図２（Ｂ）で説明した従来のスライダの
ようにテーパ面が磁気ディスクと接触して吸着を起こす
ことがない。その結果、塵埃の発生も著しく減少され
る。

【００４３】さらに、本実施形態では各レール４８，５
０の空気ベアリング表面４８ａ，５０ａ上に空気流入側
端面３２ａから空気流出側端面３２ｂまで伸長した突起
５２，５４をそれぞれ設けたため、ディスク回転停止時
にはこれら２つの突起５２，５４のみがディスクに接触
する。

【００４４】ここで、潤滑剤を間に介して接触する２つ
の面間に働く吸着力は接触面積が小さくなるほど小さく
なる。従って、レール４８，５０表面上に突起５２，５
４を設けたことにより、ディスクとスライダとの接触面
積が従来のレール全面での接触に比較して小さくなるた
め、吸着力は低減され吸着は起こりにくくなる。

【００４５】次に、図５（Ａ）〜図５（Ｈ）及び図６
（Ａ）〜図６（Ｄ）を参照して上述した第１実施形態の
スライダ３２の製造方法について説明する。図６（Ａ）
に示すウエハ５８には複数の電磁トランスデューサ５６
が形成されている。ウエハ５８からＡｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ
基板６０をバー形状に切り出す。

【００４６】そして図５（Ａ）に示すように基板６０上
にスパッタリングでＳｉＣからる密着層６２を約２ｎｍ
の厚さに形成する。次いで、密着層６２上にプラズマＣ
ＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン層（ＤＬＣ
層）６４を約３０ｎｍの厚さに形成する。ＳｉＣ層６２
は電磁トランスデューサ５６の絶縁保護及びＤＬＣ層６
４の密着層の役目をする。

【００４７】次いで、図５（Ｂ）に示すようにＤＬＣ層
６４上にフォトレジスト６６を塗布し、図５（Ｃ）に示
すように所定パターンのマスクを用いてフォトレジスト
６６を露光・現像する。

【００４８】次いで、図５（Ｄ）に示すようにイオンミ
リングでエッチングして複数のレール４８，５０を形成
する。この状態が図６（Ｂ）の斜視図に示されている。
次いで再びフォトレジスト６６′を塗布して、図５
（Ｅ）に示すように突起パターンに露光し、図５（Ｆ）
に示すようにイオンミリングで突起以外のＤＬＣ層６４
をエッチングにより除去する。

【００４９】これにより、各レール４８，５０上にＤＬ
Ｃからなる突起５２，５４が形成される。この状態が図
６（Ｃ）の斜視図に示されている。図５（Ｇ）の想像線
に沿って切断することにより、図５（Ｈ）に示す個々の
スライダ３２を得ることができる。このようにして形成
したスライダ３２の斜視図が図６（Ｄ）に示されてい
る。

【００５０】突起５２，５４の材質としては、上述した
実施形態ではプラズマＣＶＤ法により製膜したＤＬＣ膜
を採用したが、スパッタリング法により製膜するカーボ
ン膜、水酸化カーボン膜、シリコン添加カーボン膜等の
アモルファスカーボン膜を採用することができる。

【００５１】アモルファスカーボン膜は硬度が大きく、
ディスク回転停止時のスライダとディスクの接触・摺動
に耐えるのに十分な耐磨耗性を有している。また、ディ
スクの保護膜としても用いられることから突起を形成す
る材料として適当である。

【００５２】また、レール４８，５８上に形成する突起
５２，５４の材料をＳｉＯ₂膜やＡｌ₂Ｏ₃膜等の酸化
物薄膜とすることも可能である。レール上に形成する突
起５２，５４はスライダ３２とディスクとの接触・摺動
に耐えうるものであればよく、ＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃は
緻密で硬いため突起材料として適当である。

【００５３】図７（Ａ）は本発明第２実施形態の磁気ヘ
ッドスライダ３２Ａの平面図を示している。本実施形態
及び以下の数多くの実施形態の説明において、上述した
第１実施形態と実質的に同一構成部分については同一符
号を付し、重複を避けるためその説明を省略する。

【００５４】本実施形態においては、突起６８，７０は
空気流入側端面３２ａから始まり各レール４８，５０の
外側エッジに終端している。このように突起６８，７０
が斜めに形成される実施形態であっても、空気ベアリン
グ表面４８ａ，５０ａ上に負圧が発生されることがない
ので、空気ベアリング表面上に塵埃の堆積が生じること
はない。

【００５５】図７（Ｂ）は第２実施形態の変形例であ
り、突起７２，７４が各レール４８，５０の内側エッジ
に終端している。この変形例の場合にも上述した第２実
施形態と同様な効果がある。

【００５６】図８（Ａ）を参照すると、本発明第３実施
形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｃの平面図が示されてい
る。本実施形態は負圧スライダであり、一対のレール７
６，７８の間に負圧発生用の溝８０を画成している。

【００５７】各レール７６，７８は図示するような括れ
形状を有しており、このような場合には空気ベアリング
表面７６ａ，７８ａ上に形成する突起８２，８４はその
後端部が空気ベアリング表面７６ａ，７８ａの後端まで
達していなくてもよい。

【００５８】図８（Ｂ）は第３実施形態の変形例である
負圧スライダ３２Ｄの平面図を示している。本実施形態
のスライダ３２ＤはＵ形状のレール８６を有しており、
負圧発生用の溝８８を画成している。

【００５９】このような形状のレール８６を有する場合
にも、突起９０，９２はＵ形状レール８２の空気流入端
部側に形成すればよく、レール８６の後端で終端させる
必要はない。

【００６０】図９（Ａ）を参照すると、本発明第４実施
形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｅの平面図が示されてい
る。本実施形態のスライダ３２Ｅは、各レール４８，５
０上に形成された傾斜した突起９４，９６を有してい
る。

【００６１】突起９４，９６はそれぞれ平行に形成され
ており、傾斜角度φが、磁気ヘッドスライダ３２Ｅと磁
気ディスクが接触摺動する位置（ＣＳＳゾーン）におけ
るスライダ３２Ｅのヨー角と実質上同一となるように形
成されている。

【００６２】これにより、ヘッドスライダ３２Ｅと磁気
ディスクが接触摺動するときに突起９４，９６が丁度ア
イススケートのように磁気ディスク表面上を滑るので、
この効果によりＣＳＳ動作が円滑に行われるようにな
り、磁気ディスク表面の磨耗が低減し、塵埃の発生が著
しく減少される。

【００６３】図９（Ｂ）及び図９（Ｃ）は第４実施形態
の変形例の磁気ヘッドスライダ３２Ｆ，３２Ｇの平面図
をそれぞれ示している。第４実施形態において、突起９
４，９６の空気ベアリング表面４８ａ，５０ａからの高
さはある程度以上必要であるが、そのために磁気ディス
ク装置の運転時における磁気ディスク表面と電磁トラン
スデューサとの間の距離が大きくなっては好ましくな
い。

【００６４】そこで１つの対策として、各レール４８，
５０の空気ベアリング表面４８ａ，５０ａを非対称にし
て、装置の運転時におけるスライダの浮上姿勢を前後方
向だけでなく左右方向にも傾けたものとし、電磁トラン
スデューサの位置が磁気ディスク表面に最も接近した位
置となるようにしたのが図９（Ｂ）及び図９（Ｃ）に示
した変形例である。

【００６５】図９（Ｂ）に示した変形例では、突起９８
がレール４８の外側エッジに終端している。図９（Ｃ）
に示した変形例では、レール５０の空気ベアリング表面
５０ａ上に２個の突起１００，１０２が形成されてい
る。

【００６６】図９（Ｂ）に示すように、突起９６，９８
の形状を左右で明確に異なるものとしたり、図９（Ｃ）
に示すように、突起９８，１００，１０２の個数を左右
の空気ベアリング表面４８ａ，５０ａで異なるものとす
ることにより、装置運転時における電磁トランスデュー
サの位置が確実に磁気ディスク表面に最も接近した位置
となるようにすることができる。

【００６７】図１０（Ａ）を参照すると、本発明第５実
施形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｈの平面図が示されて
いる。図１０（Ｂ）はスライダ３２Ｈの浮上状態の側面
図であり、図１０（Ｃ）は図１０（Ｂ）の円１０８で囲
まれた部分の拡大図である。

【００６８】上述したように、空気ベアリング表面上に
形成された突起の空気ベアリング表面からの高さはある
程度以上必要であるが、そのために装置の運転時におけ
る磁気ディスク表面と電磁トランスデューサとの間の距
離が大きくなっては好ましくない。

【００６９】上述した各実施形態では、スライダに一対
のレール４８，５０を形成後、ダイヤモクドライクカー
ボン等の材料をレール上に堆積させて各突起を形成して
いる。この場合は、突起は空気ベアリング表面から所定
の高さだけ突き出した恰好になる。

【００７０】よって、突起の高さを高くすると、装置の
運転時における磁気ディスク表面と突起間の距離が磁気
ディスク表面と電磁トランスデューサ間の距離より小さ
くなり、突起と磁気ディスク表面の間で衝突が起こっ
て、磁気ディスク装置の運転時における安定性を損なう
可能性が生じる。

【００７１】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示す第５
実施形態は、この問題を解決したものである。即ち第５
実施形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｈにおいては、電磁
トランスデューサ５６を形成後、レール４８，５０の形
成及びレール面の精密研磨仕上げを行う。

【００７２】その後、各レール面を例えばイオンミリン
グにより所定の深さに掘り込むことによって、空気ベア
リング表面４８′，５０′及び突起１０４及び１０６を
形成する。

【００７３】これにより、電磁トランスデューサ５６は
図１０（Ｃ）に最も良く示されるように、突起１０４の
後端と共に空気ベアリング表面４８′から突き出す。次
いで、各突起表面又はスライダ３２Ｈのディスク対向面
の全面にアモルファスカーボン又は酸化物薄膜からなる
保護膜を形成する。

【００７４】突起をこのようにして形成した本実施形態
においては、装置の運転時における磁気ディスク表面と
突起１０４，１０６間の距離が磁気ディスク表面と電磁
トランスデューサ５６間の距離より小さくなる心配はな
くなる。

【００７５】尚、本実施形態における突起１０４，１０
６の形状は図示したものに限定されるものではなく、上
述した第１乃至第４実施形態の突起形状の何れをも採用
可能である。

【００７６】図１１（Ａ）を参照すると、本発明第６実
施形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｉの平面図が示されて
いる。本実施形態においては、空気ベアリング表面４８
ａ，５０ａの前端部（上流側）に設けられた斜めの突起
１１０，１１４はテーパ面４８ｂ，５０ｂから発して空
気ベアリング表面４８ａ，５０ａの外側エッジに終端す
る。

【００７７】突起１１２は突起１１０と概略平行に形成
されており、突起１１６は突起１１４と概略平行に形成
されている。空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの前端
部に形成した突起１１０，１１４をこのような形状とす
ることによって、磁気ディスク表面上に発生又は存在す
る塵埃を空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの外に積極
的に排出することができる。

【００７８】図１１（Ｂ）及び図１１（Ｃ）は第６実施
形態の変形例である。図１１（Ｂ）に示した変形例にお
いては、空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの前端部に
配置した突起１１８，１２２を門型形状に形成して、塵
埃を空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの外に積極的に
排出する。空気ベアリング表面４８ａ上には付加突起１
２０が形成され、空気ベアリング表面５０ａには付加突
起１２４が形成されている。

【００７９】図１１（Ｃ）に示した変形例においては、
空気ベアリング表面４８ａ，５０ａの前端部に設けられ
た突起１１０，１１４は図１１（Ａ）に示した第６実施
形態と同様であるが、後方に配置した突起１２６，１２
８を円形としたものである。

【００８０】これは、前方に配置した突起１１０，１１
４による塵埃除去効果が十分な場合には、後方に設置す
る突起１２６，１２８については自由な形状を選べると
いう知見に基づいている。

【００８１】図１（Ａ）に示すような従来型の突起配置
を有するスライダでは、磁気ディスク表面と磁気ヘッド
スライダ間の接触面を確実に突起面のみに限定するため
に、スライダの空気ベアリング表面にクラウン加工（円
筒面加工）を施すことは通常行われなかった。

【００８２】しかし、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示す
ような突起５２，５４を有する磁気ヘッドスライダ３２
に対しては、スライダの空気ベアリング表面４８ａ，５
０ａに円筒面加工を施すことが可能であり、これは次の
ような好ましい効果をもたらす。

【００８３】（１）磁気ディスク表面と磁気ヘッドスラ
イダ間の接触面積が実効的に突起５２，５４の面積より
更に小さくなり、突起による吸着力低減効果がより有効
に作用する。

【００８４】（２）吸着力低減効果の増強により、ＣＳ
Ｓ動作がより円滑に行われるようになるため、磁気ディ
スク表面及び突起５２，５４表面の磨耗が更に低減す
る。（３）磨耗低減効果により、装置の起動時に発生する磨
耗粉の量が大幅に低減され、塵埃が磁気ヘッドスライダ
の空気ベアリング表面に付着することによる悪影響を低
減することができる。

【００８５】図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示す本発
明第７実施形態の磁気ヘッドスライダ３２Ｌは、第１実
施形態の磁気ヘッドスライダ３２の空気ベアリング表面
に円筒面加工を施した場合の実施形態である。突起５
２，５４も空気ベアリング表面４８ａ，５０ａと同様に
円筒面加工されている。

【００８６】図１３（Ａ）は第７実施形態の変形例の平
面図を示しており、図１３（Ｂ）はその側面図を示して
いる。この変形例は図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）に示し
た第５実施形態と同様に、突起１０４，１０６以外のレ
ール面をイオンミリングにより所定の深さに堀り込むこ
とによって、突起１０４，１０６を形成したものであ
る。このとき、イオンミリングにより空気ベアリング表
面４８ａ，５０ａ及び突起１０４，１０６に図１３
（Ｂ）に示すような円筒面加工を施す。

【００８７】本変形例における電磁トランスデューサ５
６と突起１０４，１０６及び空気ベアリング表面４８
ａ，５０ａの位置関係は、図１０（Ｃ）に示すような位
置関係になっている。

【００８８】

【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドスライダと
磁気ディスク間の吸着の発生を低減することができ、こ
れにより磁気ヘッドスライダのＣＳＳ動作が円滑に行わ
れるようになるため、磁気ディスク表面の磨耗も低減す
る。

【００８９】更に、磁気ヘッドスライダの空気ベアリン
グ表面上に塵埃が溜まりにくくなるため、磁気ディスク
装置内に存在しうる微量の塵埃が磁気ヘッドスライダの
浮上特性に及ぼす悪影響を低減できる。その結果、磁気
ディスク装置の信頼性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（Ａ）は従来例平面図であり、図１（Ｂ）
は図１（Ａ）の従来例における負圧発生位置を説明する
説明図である。

【図２】図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は従来例の問題点を
説明する図である。

【図３】磁気ディスク装置の斜視図である。

【図４】図４（Ａ）は本発明第１実施形態の磁気ヘッド
スライダの斜視図である。図４（Ｂ）はその平面図であ
る。

【図５】図５（Ａ）〜図５（Ｈ）は磁気ヘッドスライダ
の製造工程を示す図である。

【図６】図６（Ａ）〜図６（Ｄ）は磁気ヘッドスライダ
の製造工程を示す斜視図である。

【図７】図７（Ａ）は本発明第２実施形態の磁気ヘッド
スライダ平面図であり、図７（Ｂ）は第２実施形態の変
形例を示す平面図である。

【図８】図８（Ａ）は本発明第３実施形態の磁気ヘッド
スライダ平面図であり、図８（Ｂ）は第３実施形態の変
形例平面図である。

【図９】図９（Ａ）は本発明第４実施形態の磁気ヘッド
スライダ平面図であり、図９（Ｂ）及び図９（Ｃ）は第
４実施形態の変形例平面図である。

【図１０】図１０（Ａ）は本発明第５実施形態の磁気ヘ
ッドスライダ平面図であり、図１０（Ｂ）は第５実施形
態側面図、図１０（Ｃ）は図１０（Ｂ）の円１０８で囲
まれた部分の拡大図である。

【図１１】図１１（Ａ）は本発明第６実施形態の磁気ヘ
ッドスライダ平面図であり、図１１（Ｂ）及び図１１
（Ｃ）は第６実施形態の変形例平面図である。

【図１２】図１２（Ａ）は本発明第７実施形態の磁気ヘ
ッドスライダ平面図であり、図１２（Ｂ）はその側面図
である。

【図１３】図１３（Ａ）は本発明第７実施形態の変形例
平面図であり、図１３（Ｂ）はその側面図である。

【符号の説明】

３２磁気ヘッドスライダ４８，５０レール４８ａ，５０ａ空気ベアリング表面５２，５４突起５６電磁トランスデューサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者笠松祥治神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号富士通株式会社内 (72)発明者豊口卓神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号富士通株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】空気流入側端面と空気流出側端面を有す
る磁気ヘッドスライダであって、磁気ディスクに対向するディスク対向面に形成された、
それぞれディスク回転時の浮上力を発生するための平坦
な空気ベアリング表面と該空気ベアリング表面に連続し
て空気流入端面側に形成されたテーパ面とを有する一対
のレールと；前記レールの一方が位置する前記空気流出
側端面に形成された電磁トランスデューサと；それぞれ
前記各レールのテーパ面から空気ベアリング表面に渡り
連続して形成された、空気ベアリング表面の外縁に終端
する一対の突起と；を具備したことを特徴とする磁気ヘ
ッドスライダ。
【請求項２】前記各突起は前記空気流出側端面に終端
している請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】前記各突起は前記各レールの側面に終端
している請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】前記各突起は、前記磁気ヘッドスライダ
と前記磁気ディスクとが接触摺動する位置における、該
磁気ヘッドスライダのヨー角と実質上同一の傾斜角を有
するように前記各レールのテーパ面及び空気ベアリング
表面に渡り形成されている請求項１記載の磁気ヘッドス
ライダ。
【請求項５】前記各突起はアモルファスカーボン膜か
ら形成されている請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】前記各突起は酸化物薄膜から形成されて
いる請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】前記各レールの空気ベアリング表面は円
筒形状をしている請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】空気流入側端面と空気流出側端面を有す
る磁気ヘッドスライダであって、磁気ディスクに対向するディスク対向面に形成された、
それぞれディスク回転時の浮上力を発生するための平坦
な空気ベアリング表面と該空気ベアリング表面に連続し
て空気流入端面側に形成されたテーパ面とを有する一対
のレールと；前記レールの一方が位置する前記空気流出
側端面に形成された電磁トランスデューサと；それぞれ
前記各レールのテーパ面から空気ベアリング表面に渡り
連続して形成された、空気流出側端面に終端する一対の
突起と；前記各突起は前記各レールのテーパ面及び空気
ベアリング表面を部分的に削り取ることにより形成され
ており、前記電磁トランスデューサの形成位置が、少な
くとも１つの前記突起の表面を基準に設定されているこ
とを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】少なくとも前記各突起の表面に形成され
たアモルファスカーボン製の保護膜を更に具備した請求
項８記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】少なくとも前記各突起の表面に形成さ
れた酸化物薄膜からなる保護膜を更に具備した請求項８
記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１１】空気流入側端面と空気流出側端面を有
する負圧磁気ヘッドスライダであって、磁気ディスクに対向するディスク対向面に形成された、
それぞれディスク回転時の浮上力を発生するための平坦
な空気ベアリング表面と該空気ベアリング表面に連続し
て空気流入端面側に形成されたテーパ面とを有し、その
間に一旦圧縮された空気を膨張させて負圧を発生させる
溝を画成した一対のレールと；前記レールの一方が位置
する前記空気流出側端面に形成された電磁トランスデュ
ーサと；それぞれ前記各レールのテーパ面から空気ベア
リング表面に渡り連続して形成された、空気ベアリング
表面の外縁に終端する一対の突起と；を具備したことを
特徴とする負圧磁気ヘッドスライダ。
【請求項１２】前記各突起はアモルファスカーボン膜
から形成されている請求項１１記載の負圧磁気ヘッドス
ライダ。
【請求項１３】前記各突起は酸化物薄膜から形成され
ている請求項１１記載の負圧磁気ヘッドスライダ。
【請求項１４】磁気ディスク装置であって、ハウジングと；該ハウジング内に回転可能に取り付けら
れた磁気ディスクと；前記磁気ディスクに対してデータ
をライト／リードする電磁トランスデューサを有する磁
気ヘッドスライダと；前記磁気ヘッドスライダを磁気デ
ィスクのトラックを横切って移動させるアクチュエータ
とを具備し；前記磁気ヘッドスライダは、前記磁気ディ
スクに対向するディスク対向面に形成された、それぞれ
ディスク回転時の浮上力を発生するための平坦な空気ベ
アリング表面と該空気ベアリング表面に連続して空気流
入端面側に形成されたテーパ面とを有する一対のレール
と；それぞれ前記各レールのテーパ面から空気ベアリン
グ表面に渡り連続して形成された、空気ベアリング表面
の外縁に終端する一対の突起とを具備していることを特
徴とする磁気ディスク装置。