TW202406629A - 吸附劑、成型體、組成物、化合物的製造方法及化合物 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 140
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 12
- -1 formed article Substances 0.000 title description 14
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 202
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 140
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 37
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 22
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 22
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 19
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 8
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 7
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoropropene Chemical compound FC(=C)C(F)(F)F FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 105
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 27
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 26
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 23
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 21
- 125000000923 (C1-C30) alkyl group Chemical group 0.000 description 20
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 14
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 12
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 11
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 8
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002733 (C1-C6) fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 4
- 238000001425 electrospray ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-DYCDLGHISA-N trifluoroacetic acid-d1 Chemical compound [2H]OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-DYCDLGHISA-N 0.000 description 4
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 1-pentyne Chemical compound CCCC#C IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000895 acaricidal effect Effects 0.000 description 2
- 239000000642 acaricide Substances 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 2
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical class Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- HJKYXKSLRZKNSI-UHFFFAOYSA-I pentapotassium;hydrogen sulfate;oxido sulfate;sulfuric acid Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[K+].OS([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.OS(=O)(=O)O[O-].OS(=O)(=O)O[O-] HJKYXKSLRZKNSI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 125000004151 quinonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 235000013599 spices Nutrition 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001269 time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- UFDULEKOJAEIRI-UHFFFAOYSA-N (2-acetyloxy-3-iodophenyl) acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC(I)=C1OC(C)=O UFDULEKOJAEIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyne Chemical compound CCCCC#C CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSYCWZUYEFVYIB-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropentane Chemical compound CCC(F)(F)C(C)(F)F LSYCWZUYEFVYIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001313 C5-C10 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013684 LiClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PHXQIAWFIIMOKG-UHFFFAOYSA-N NClO Chemical compound NClO PHXQIAWFIIMOKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012425 OXONE® Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSEYRYIQSMUYMG-UHFFFAOYSA-N [3-iodo-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)oxyphenyl] 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC1=CC=CC(I)=C1OC(=O)C(F)(F)F WSEYRYIQSMUYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical class COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- MSBXTPRURXJCPF-DQWIULQBSA-N cucurbit[6]uril Chemical compound N1([C@@H]2[C@@H]3N(C1=O)CN1[C@@H]4[C@@H]5N(C1=O)CN1[C@@H]6[C@@H]7N(C1=O)CN1[C@@H]8[C@@H]9N(C1=O)CN([C@H]1N(C%10=O)CN9C(=O)N8CN7C(=O)N6CN5C(=O)N4CN3C(=O)N2C2)C3=O)CN4C(=O)N5[C@@H]6[C@H]4N2C(=O)N6CN%10[C@H]1N3C5 MSBXTPRURXJCPF-DQWIULQBSA-N 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- YVXHZKKCZYLQOP-UHFFFAOYSA-N hept-1-yne Chemical compound CCCCCC#C YVXHZKKCZYLQOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
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Abstract
Description
本揭示係關於吸附劑、成型體、組成物、化合物的製造方法及化合物。
環狀化合物已知有柱芳烴、冠醚、環糊精、杯芳烴、葫蘆脲(Cucurbituril)等化合物。專利文獻1中作為具有環狀構造之聚合物提出柱芳烴。又,專利文獻2中記載藉由燒製柱芳烴部分氧化之化合物而獲得多孔碳材料。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本特開2015-221893號公報。
專利文獻2:日本特開2016-164107號公報。
本揭示目的在於提供一種新穎吸附劑。又,本揭示的課題為提供含有該吸附劑之組成物、可作為吸附劑作用之化合物的製造方法、及該化合物。
本揭示如下。
[1]一種吸附劑,係含有式(3)所示化合物。
[式(3)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
[2]如[1]所述之吸附劑,其中R1及R2為氫原子。
[3]如[1]或[2]所述之吸附劑,其中n1為5或6。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之吸附劑,其係吸附選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種氣體。
[5]如[4]所述之吸附劑,其中前述鹵化烴為氟碳化物。
[6]如[5]所述之吸附劑,其中前述氟碳化物為二氟甲烷、1,1,1,2-四氟乙烷、五氟乙烷、2,3,3,3-四氟丙烯或氯二氟甲烷。
[7]如[4]所述之吸附劑,其中前述鹵化烴為選自由二氯甲烷、氯仿及四氯化碳所組成群組之至少1種。
[8]如[4]至[7]中任一項所述之吸附劑,其中前述烴為碳數1至8之烴。
[9]如[4]至[8]中任一項所述之吸附劑,其中前述醇為碳數1至8之醇。
[10]如[4]至[9]中任一項所述之吸附劑,其中前述烴、鹵化烴或醇之每原子團單元之平均莫耳體積為10cm3/mol以上70cm3/mol以下。
[11]如[1]至[10]中任一項所述之吸附劑,其進一步含有式(1)所示化合物。
[式(1)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
[12]如[1]至[11]中任一項所述之吸附劑,其進一步含有式(2)所示化合物。
[式(2)中,
R3在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R5在每次出現時分別獨立表示有機基。
R6在每次出現時分別獨立表示有機基。
n3為4至20之整數]。
[13]如[1]至[12]中任一項所述之吸附劑,其進一步含有式(4)所示化合物。
[式(4)中,
R7在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R8在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R9在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R10在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R11在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R12在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n4為1至19之整數,n5為1至19之整數,n4與n5之合計為4至20。
但標示n4或n5並以括號所括起的單元的存在順序在式(4)中為任意]。
[14]如[1]至[13]中任一項所述之吸附劑,其進一步含有式(5)所示化合物。
[式(5)中,
R1a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R3a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
m1為4至20之整數。
但R1a、R2a、R3a及R4a之至少1個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基]。
[15]一種成型體,係含有如[1]至[14]中任一項所述之吸附劑。
[16]一種組成物,係含有如[1]至[14]中任一項所述之吸附劑;及選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種。
[17]一種化合物的製造方法,係包括藉由將式(1)所示化合物電化學性氧化而獲得式(3)所示化合物之步驟。
[式(1)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
[式(3)中,
R1、R2及n1與上述同義]。
[18]如[17]所述的製造方法,其中R1及R2為氫原子。
[19]如[17]或[18]所述的製造方法,其中n1為5。
[20]一種化合物的製造方法,係藉由將式(1a)所示化合物而獲得式(3a)所示化合物之步驟。
[式(1a)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n2為6至20之整數]。
[式(3a)中,
R1、R2及n2與上述同義]。
[21]如[20]所述的製造方法,其中R1及R2為氫原子。
[22]如[20]或[21]所述的製造方法,其中n2為6。
根據本揭示可提供一種新穎吸附劑。又,根據本揭示可提供含有該吸附劑之組成物,可作為吸附劑作用之化合物的製造方法、及該化合物。
本揭示中使用時,「一價有機基」是指含有碳的一價基。一價有機基並無特別限定,可為烴基或其衍生物。烴基之衍生物是指烴基之末端或分子鏈中具有1個或多於1個的N、O、S、Si、醯胺、磺醯基、矽氧烷、羰基、羰基氧等的基。又,僅稱為「有機基」時係意指一價有機基。
又,本揭示中使用時,「烴基」是指含有碳及氫的基且從烴脫離1個氫原子的基。該烴基並無特別限定,可舉出可經1個或多於1個的取代基取代之C1-20烴基,例如脂肪族烴基、芳香族烴基等。上述「脂肪族烴基」可為直鏈狀、分枝鏈狀或環狀之任一者,也可為飽和或不飽和之任一者。又,烴基可含有1個或多於1個的環構造。
本揭示中使用時,「烴基」之取代基並無特別限定,可舉例如鹵原子;可經1個或2個以上鹵原子取代之選自C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員之雜環基、C6-10芳基及5至10員之雜芳基之1個或多於1個的基。
第一形態中,本揭示之吸附劑含有式(3)所示化合物(以下稱為「化合物(3)」)。雖不受特定理論限制,但化合物(3)具有著醌環隔著亞甲
基環狀地鍵結的構造,醌環之羰基之電負度較高。因此,可與酸性度較高,帶正電的質子形成靜電性相互作用,而可發揮良好吸附作用。
[式(3)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
式(3)中,R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R1或R2所示有機基可舉出烷基、烷基氧基、烷基醚基、對甲苯磺醯基、三氟甲磺醯基或苯基等,該等基可具有取代基。
R1或R2所示有機基可具有之取代基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、腈基、環氧基、乙醯基等反應性官能基;烷基、乙烯基、乙炔基等脂肪族烴基。
R1或R2所示烷基較佳為C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。於其他態樣中,C1-30烷基可為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,更佳為C26-30烷基。
上述烷基氧基典型而言為-O-R21(式中,R21為烷基)所示基。
R21中的烷基可經上述取代基取代,較佳為可經氟原子取代。該烷基較佳為可經氟原子取代之C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。
上述烷基醚基為在上述烷基之分子鏈中具有1個以上醚性氧原子之化合物。該烷基醚基典型而言為-R26-R27-(O-R28)m-R29所示基。式中,R26為單鍵或氧原子。R27為單鍵或C1-10伸烷基。R28為C1-10伸烷基。R29為C1-10烷基。
於一態樣中,上述有機基可為末端經反應性官能基取代之烷基、烷基氧基、或烷基醚基。又,該基可進一步經其他取代基取代。
反應性官能基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、乙烯基、乙炔基、腈基、環氧基等。
於一態樣中,R1及R2為氫原子。
n1為4至20,較佳為4至10,更佳為4至7,又更佳為5至6。於一態樣中,n1為5。又,於其他態樣中,n1為6。
上述吸附劑中,化合物(3)之含有率例如可為1至100質量%,更佳為50至99質量%,特佳為60至90質量%。
揭示之吸附劑可進一步含有式(1)所示化合物(以下稱為「化合物(1)」)。
[式(1)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
於式(1)中,R1、R2及n1與式(3)中的R1、R2及n1同義。
上述吸附劑中,相對於100質量份之化合物(3),化合物(1)之含量例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(2)所示化合物(以下稱為化合物(2))。
[式(2)中,
R3在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R5在每次出現時分別獨立表示有機基。
R6在每次出現時分別獨立表示有機基。
n3為4至20之整數]。
式(2)中,R3在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R4在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R5在每次出現時分別獨立表示有機基,R6在每次出現時分別獨立表示有機基。
R3、R4、R5或R6所示有機基可舉出烷基、烷基氧基、烷基醚基、對甲苯磺醯基、三氟甲磺醯基或苯基等,該等基可具有取代基。
R3、R4、R5或R6所示有機基可具有之取代基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、腈基、環氧基、乙醯基等反應性官能基;烷基、乙烯基、乙炔基等脂肪族烴基。
R3、R4、R5或R6所示烷基較佳為C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。於其他態樣中,C1-30烷基可為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,更佳為C26-30烷基。
上述烷基氧基典型而言為-O-R31(式中,R31為烷基)所示基。
R31中的烷基可經上述取代基取代,較佳為可經氟原子取代。該烷基較佳為可經氟原子取代之C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。
烷基醚基為在上述烷基之分子鏈中具有1個以上醚性氧原子之化合物。該烷基醚基典型而言為-R36-R37-(O-R38)m-R39所示基。式中,R36為單鍵或氧原子。R37為單鍵或C1-10伸烷基。R38為C1-10伸烷基。R39為C1-10烷基。
於一態樣中,上述有機基可為末端經反應性官能基取代之烷基、烷基氧基、或烷基醚基。又,該基可進一步經其他取代基取代。
上述反應性官能基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、乙烯基、乙炔基、腈基、環氧基等。
於一態樣中,R3及R4為氫原子,R5及R6為甲基。
n3為4至20,較佳為4至10,更佳為4至7,又更佳為5至6。於一態樣中,n3為5。又,於其他態樣中,n3為6。
上述吸附劑中,相對於100質量份之化合物(3),化合物(2)之含量例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(4)所示化合物(以下稱為「化合物(4)」)。
[式(4)中,
R7在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R8在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R9在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R10在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R11在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R12在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n4為1至19之整數,n5為1至19之整數,n4與n5之合計為4至20。
但標示n4或n5並以括號所括起的單元的存在順序在式(4)中為任意]。
式(4)中,R7在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R8在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R9在每次出現時分別獨立表
示氫原子或有機基,R10在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R11在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R12在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R7、R8、R9、R10、R11或R12所示有機基可舉出烷基、烷基氧基、烷基醚基、對甲苯磺醯基、三氟甲磺醯基或苯基等,該等基可具有取代基。
R7、R8、R9、R10、R11或R12所示有機基可具有之取代基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、腈基、環氧基、乙醯基等反應性官能基;烷基、乙烯基、乙炔基等脂肪族烴基。
R7、R8、R9、R10、R11或R12所示烷基較佳為C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。於其他態樣中,C1-30烷基可為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,更佳為C26-30烷基。
上述烷基氧基典型而言為-O-R41(式中,R41為烷基)所示基。
R41中的烷基可經上述取代基取代,較佳為可經氟原子取代。該烷基較佳為可經氟原子取代之C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。
上述烷基醚基為在上述烷基之分子鏈中具有1個以上醚性氧原子之化合物。該烷基醚基典型而言為-R46-R47-(O-R48)m-R49所示基。式中,R46為單鍵或氧原子。R47為單鍵或C1-10伸烷基。R48為C1-10伸烷基。R49為C1-10烷基。
於一態樣中,上述有機基可為末端經反應性官能基取代之烷基、烷基氧基、或烷基醚基。又,該基可進一步經其他取代基取代。
上述反應性官能基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、乙烯基、乙炔基、腈基、環氧基等。
於一態樣中,R7、R8、R9、R10、R11及R12為氫原子。
n4為1至19,較佳為1至9,更佳為1至6,又更佳為1至5。n5為1至19,較佳為1至9,更佳為1至6,又更佳為1至5。n4+n5為4至20,較佳為4至10,更佳為4至7,又更佳為5至6。
上述吸附劑中,相對於100質量份之化合物(3),化合物(4)之含量例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(5)所示化合物(以下稱為「化合物(5)」)。
[式(5)中,
R1a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R3a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4a在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
m1為4至20之整數。
但R1a、R2a、R3a及R4a之至少1個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基]。
上述式(5)中,R1a在每次出現時分別獨立為氫原子或有機基,R2a在每次出現時分別獨立為氫原子或有機基,R3a在每次出現時分別獨立為氫原子或有機基,R4a在每次出現時分別獨立為氫原子或有機基,R1a、R2a、R3a、及R4a之至少1個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基。
化合物(5)係藉由具備具有氟烷基之碳數2以上之有機基而可具有高相溶性及耐熱性。
上述有機基可舉出可經取代基取代之烷基、烷基氧基、烷基醚基、對甲苯磺醯基、三氟甲磺醯基或苯基等。
上述取代基並無特別限定,可舉例如選自鹵原子、可經1個或多於1個的鹵原子取代之C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員之雜環基、5至10員之不飽和雜環基、C6-10芳基、及5至10員之雜芳基、以及反應性官能基之1個或多於1個的基。
上述反應性官能基並無特別限定,可舉例如羥基、胺基、羧基、硫醇基、異氰酸酯基、乙烯基、乙炔基、腈基、環氧基等。
上述烷基較佳為C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。於其他態樣中,C1-30烷基可為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,更佳為C26-30烷基。
上述烷基氧基典型而言為-O-R51(式中,R51為烷基)所示基。
R51中的烷基可經上述取代基取代,較佳為可經氟原子取代。該烷基較佳為可經氟原子取代之C1-30烷基。該烷基可為直鏈或分枝鏈。於一態樣中,C1-30烷基可為C1-20烷基,較佳為C1-10烷基。
R51較佳為-R52-R53(式中,R52為非取代之C1-30伸烷基,較佳為C1-20伸烷基,更佳為C1-10伸烷基,R53為C1-10全氟烷基,較佳為C1-6全氟烷基)所示基。
上述烷基醚基為在上述烷基之分子鏈中具有1個以上醚性氧原子之化合物。該烷基醚基典型而言為-R56-R57-(O-R58)m-R59所示基。式中,R56為單鍵或氧原子。R57為單鍵或C1-10伸烷基。R58為C1-10伸烷基。R59為可經氟原子取代之C1-10烷基。
於一態樣中,上述有機基可為末端經反應性官能基取代之烷基、烷基氧基、或烷基醚基。又,該基可進一步經其他取代基取代。
於一態樣中,R1a及R3a分別獨立為有機基,R1a及R3a之至少1個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基;或是R2a及R4a分別獨立為有機基,R2a及R4a之至少1個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基。
於一態樣中,R1a、R2a、R3a、及R4a之至少2個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基。
於一態樣中,R1a、R2a、R3a、及R4a之中的2個為具有氟烷基之碳數2以上之有機基。
於一態樣中,R1a及R3a分別獨立為具有氟烷基之碳數2以上之有機基,或是R2a及R4a分別獨立為具有氟烷基之碳數2以上之有機基。
於一態樣中,R2a及R4a為氫原子,或是R1a及R3a為氫原子。
於較佳態樣中,R1a及R3a分別獨立為具有氟烷基之碳數2以上之有機基,R2a及R4a為氫原子;或是R2a及R4a分別獨立為具有氟烷基之碳數2以上之有機基,R1a及R3a為氫原子。
於更佳態樣中,R1a及R3a為具有氟烷基之碳數2以上之有機基,R2a及R4a為氫原子;或是R2a及R4a為具有氟烷基之碳數2以上之有機基,R1a及R3a為氫原子。
上述氟烷基較佳為C1-10氟烷基,更佳為C1-6氟烷基。該氟烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。該氟烷基較佳為全氟烷基。
於一態樣中,上述具有氟烷基之碳數2以上之有機基為下式所示基。
-(Op1-R11a q1)-Rfa
[式中:
R11a在每次出現時分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfa表示C1-10氟烷基。
p1為0至2之整數。
q1為0至3之整數。
(Op1-R11a q1)中,O及R11a的存在順序並無限定]。
R11a中的C1-10伸烷基較佳為C1-6伸烷基,更佳為C2-6伸烷基。該伸烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。
Rfa中的C1-10氟烷基較佳為C1-6氟烷基。該氟烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。該氟烷基較佳為全氟烷基。
p1為0至2之整數,較佳為1或2。於一態樣中,p1為1。於其他態樣中,p1為2。
q1為0至3之整數,較佳為1至3之整數,更佳為1或2。於一態樣中,q1為1。於其他態樣中,q1為2。
於較佳態樣中,上述具有氟烷基之碳數2以上之有機基為下式所示基。
-O-R11a-(O-R11a)r1-Rfa
[式中:
R11a分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfa表示C1-10氟烷基。
r1為0或1]。
於更佳態樣中,上述具有氟烷基之碳數2以上之有機基為下式所示基。
-O-R11a-(O-R11a)r1-Rfa
[式中:
R11a分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfa表示C1-10全氟烷基。
r1為0或1]。
m1為4至20之整數,較佳為4至6之整數,更佳為5或6。
於特佳態樣中,
R1a及R3a為-O-R11a-(O-R11a)r1-Rfa,R2a及R4a為氫原子;或是
R2a及R4a為-O-R11a-(O-R11a)r1-Rfa,R1a及R3a為氫原子。
R11a分別獨立為C1-10伸烷基,較佳為C1-6伸烷基,
Rfa為C1-10全氟烷基,較佳為C1-6全氟烷基,
r1為0或1,
m1為4至6之整數,較佳為5或6。
化合物(5)可藉由將柱[n]芳烴(pillar[n]arene)之取代基轉換為具有氟烷基之碳數2以上之有機基而獲得。典型而言,於柱[n]芳烴之特定位置導入羥基,並使該羥基與具有氟烷基之碳數2以上之有機基之甲苯磺醯化物、鹵化物等反應,藉此可獲得化合物(5)。
上述吸附劑中,化合物(5)之含量相對於100質量份之化合物(3)例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(6)所示化合物(以下稱為「化合物(6)」)。
[式(6)中,
R1b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R3b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
但R1b、R2b、R3b、及R4b之至少1個為具有氟原子之有機基。
m2為4至20之整數]。
上述式(6)中,R1b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R2b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R3b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R4b在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R1b、R2b、R3b、及R4b之至少1個為具有氟原子之有機基。
式(6)所示化合物係藉由具備具有氟原子之有機基而可具有高相溶性及耐熱性。
上述有機基與上述式(5)中的有機基同義。
於一態樣中,R1b及R3b分別獨立為有機基,R1b及R3b之至少1個為具有氟原子之有機基;或是R2b及R4b分別獨立為有機基,R2b及R4b之至少1個為具有氟原子之有機基。
於一態樣中,R1b、R2b、R3b、及R4b之至少2個為具有氟原子之有機基。
於一態樣中,R1b、R2b、R3b、及R4b之中的2個為具有氟原子之有機基。
R1b及R3b分別獨立為具有氟原子之有機基,或是R2b及R4b分別獨立為具有氟原子之有機基。
於一態樣中,R2b及R4b為氫原子,或是R1b及R3b為氫原子。
於較佳態樣中,R1b及R3b分別獨立為具有氟原子之有機基,R2b及R4b為氫原子;或是R2b及R4b分別獨立為具有氟原子之有機基,R2b及R4b為氫原子。
於更佳態樣中,R1b及R3b為具有氟原子之有機基,R2b及R4b為氫原子;或是R2b及R4b為具有氟原子之有機基,R1b及R3b為氫原子。
於較佳態樣中,上述具有氟原子之有機基具有C1-10氟烷基。該氟烷基較佳為C1-6氟烷基。該氟烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。該氟烷基較佳為全氟烷基。
於一態樣中,上述具有氟原子之有機基為下式所示基。
-(Op2-R11b q2)-Rfb
[式中:
R11b在每次出現時分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfb表示C1-10氟烷基。
p2為0至2之整數。
q2為0至3之整數。
(Op2-R11b q2)中,O及R11b的存在順序並無限定]。
R11b中的C1-10伸烷基較佳為C1-6伸烷基,更佳為C2-6伸烷基。該伸烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。
Rfb中的C1-10氟烷基較佳為C1-6氟烷基。該氟烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。該氟烷基較佳為全氟烷基。
p2為0至2之整數,較佳為1或2。於一態樣中,p2為1。於其他態樣中,p2為2。
q2為0至3之整數,較佳為1至3之整數,更佳為1或2。於一態樣中,q2為1。於其他態樣中,q2為2。
於較佳態樣中,上述具有氟原子之有機基為下式所示基。
-O-R11b-(O-R11b)r2-Rfb
[式中:
R11b分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfb表示C1-10氟烷基。
r2為0或1]。
於更佳態樣中,上述具有氟原子之有機基為下式所示基。
-O-R11b-(O-R11b)r2-Rfb
[式中:
R11b分別獨立表示C1-10伸烷基。
Rfb表示C1-10全氟烷基。
r2為0或1]。
m2為4至20之整數,較佳為4至6之整數,更佳為5或6。
於特佳態樣中,
R1b及R3b為-O-R11b-(O-R11b)r2-Rfb,R2b及R4b為氫原子;或是
R2b及R4b為-O-R11b-(O-R11b)r2-Rfb,R1b及R3b為氫原子。
R11b分別獨立為C1-10伸烷基,較佳為C1-6伸烷基,
Rfb為C1-10全氟烷基,較佳為C1-6全氟烷基,
r2為0或1,
m2為4至6之整數,較佳為5或6。
上述式(6)所示化合物可藉由與上述式(5)所示化合物相同方法而製造。例如於柱[n]芳烴之特定位置導入羥基,並使該羥基與具有氟原
子之有機基之甲苯磺醯化物、鹵化物等反應,藉此可獲得上述式(6)所示化合物。
上述吸附劑中,化合物(6)之含量相對於100質量份之化合物(3)例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(7)所示化合物(以下稱為「化合物(7)」)。
提供下式所式化合物。
[式(7)中,
R1c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R3c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
但R1c、R2c、R3c、及R4c之至少1個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,
m3為4至20之整數]。
式(7)中,R1c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R2c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R3c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R4c在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,
R1c、R2c、R3c、及R4c之至少1個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基。
式(7)所示化合物係藉由具備具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基而可具有高相溶性及耐熱性。
上述有機基與上述式(5)中的有機基同義。
上述長鏈烷基碳數較佳為17至30,更佳為18至30,又更佳為26至30。
上述具有長鏈烷基之有機基較佳為-O-R12c(式中,R12c為碳數為17以上之長鏈烷基,較佳為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,C26-30烷基)所示基。
上述長鏈烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。
於一態樣中,R1c及R3c分別獨立為有機基,R1c及R3c之至少1個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基;或是R2c及R4c分別獨立為有機基,R2c及R4c之至少1個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基。
於一態樣中,R1c、R2c、R3c、及R4c之至少2個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基。
於一態樣中,R1c、R2c、R3c、及R4c之中的2個為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基。
於一態樣中,R1c及R3c分別獨立為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,較佳為-O-R12c,或是R2c及R4c分別獨立為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,較佳為-O-R12c。
於一態樣中,R2c及R4c為氫原子,或是R1c及R3c為氫原子。
於較佳態樣中,R1c及R3c分別獨立為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,R2c及R4c為氫原子;或是R2c及R4c分別獨立為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,R1c及R3c為氫原子。
於更佳態樣中,R1c及R3c為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,R2c及R4c為氫原子;或R2c及R4c為具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基,R1c及R3c為氫原子。
m3為4至20之整數,較佳為4至6之整數,更佳為5或6。
於特佳態樣中,
R1c及R3c為-O-R12c,R2c及R4c為氫原子;或是
R2c及R4c為-O-R12c,R1c及R3c為氫原子。
R12c為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,C26-30烷基,
m3為4至6之整數,較佳為5或6。
上述式(7)所示化合物可藉由與上述式(5)所示化合物相同方法而製造。例如於柱[n]芳烴之特定位置導入羥基,並使該羥基與具有碳數為17以上之長鏈烷基之有機基之甲苯磺醯化物、鹵化物等反應,藉此可獲得上述式(7)所示化合物。
上述吸附劑中,相對於100質量份之化合物(3),化合物(7)之含量例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
揭示之吸附劑可進一步含有式(8)所示化合物(以下稱為「化合物(8)」)。
提供下式所示化合物。
[式(8)中,
R1d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R3d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R4d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
但R1d、R2d、R3d、及R4d之至少1個為具有烷基之有機基,
m4為4至20之整數]。
上述式(8)中,R1d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R2d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R3d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R4d在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基,R1d、R2d、R3d、及R4d之至少1個為具有烷基之有機基。
式(8)所示化合物係藉由具備具有烷基之有機基而可具有高相溶性及耐熱性。
上述有機基與上述式(5)中的有機基同義。
於一態樣中,R1d及R3d分別獨立為有機基,R1d及R3d之至少1個為具有烷基之有機基;或是R2d及R4d分別獨立為有機基,R2d及R4d之至少1個為具有烷基之有機基。
於一態樣中,R1d、R2d、R3d、及R4d之至少2個為具有烷基之有機基。
於一態樣中,R1d、R2d、R3d、及R4d之中的2個為具有烷基之有機基。
於一態樣中,R1d及R3d分別獨立為具有烷基之有機基,或是R2d及R4d分別獨立為具有烷基之有機基。
於一態樣中,R2d及R4d為氫原子,或是R1d及R3d為氫原子。
於較佳態樣中,R1d及R3d分別獨立為具有烷基之有機基,R2d及R4d為氫原子;或是R2d及R4d分別獨立為具有烷基之有機基,R1d及R3d為氫原子。
於更佳態樣中,R1d及R3d為具有烷基之有機基,R2d及R4d為氫原子;或是R2d及R4d為具有烷基之有機基,R1d及R3d為氫原子。
於較佳態樣中,具有烷基之有機基較佳為-O-R12d(式中,R12d為碳數為17以上之長鏈烷基,較佳為C17-30烷基,更佳為C18-30烷基,又更佳為C26-30烷基)所示基。
上述長鏈烷基可為直鏈或分枝鏈,較佳為直鏈。
m4為4至20之整數,較佳為4至6之整數,更佳為5或6。
於特佳態樣中,
R1d及R3d為-O-R12d,R2d及R4d為氫原子;或是
R2d及R4d為-O-R12d,R1d及R3d為氫原子。
R12d為C17-30烷基,較佳為C18-30烷基,C26-30烷基,
m4為4至6之整數,較佳為5或6,
上述式(8)所示化合物可藉由與上述式(5)所示化合物相同方法而製造。例如於柱[n]芳烴之特定位置導入羥基,並使該羥基與具有烷基
之有機基之甲苯磺醯化物、鹵化物等反應,藉此可獲得上述式(8)所示化合物。
上述吸附劑中,化合物(8)之含量相對於100質量份之化合物(3)例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可進一步含有式(9)所示化合物(以下稱為「化合物(9)」)。
[式(9)中,
R1e、R2e、R3e、及R4e分別獨立為氫原子或有機基,
m5為5或6]。
R1e、R2e、R3e、及R4e所示有機基較佳為碳原子數1至30之有機基,更佳為碳原子數1至20之有機基。
上述吸附劑中,化合物(9)之含量相對於100質量份之化合物(3)例如可為1至100質量份,較佳為5至90質量份。
本揭示之吸附劑可吸附選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種氣體(以下稱為「吸附氣體」)。
上述烴可舉出脂肪族烴、脂環式烴或芳香族烴。上述烴之碳數較佳為1至8,更佳為2至6。
上述脂肪族烴可舉出甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、戊烷、己烷、庚烷、辛烷等烷烴;乙烯、丙烯、丁烯、戊烯、己烯、庚烯、辛烯等烯烴;乙炔、丙炔、丁炔、戊炔、己炔、庚炔、辛炔等炔烴等。上述脂肪族烴可為直鏈狀或分枝鏈狀。上述脂肪族烴之碳數較佳為1至8,更佳為1至6。
脂環式烴可舉出環丙烷、環丁烷、環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷等環烷。上述脂環式烴可具有取代基。該取代基可舉出直鏈狀或分枝鏈狀之烷基等。該取代基之烷基的碳數較佳為1至4,更佳為1至3。脂環式烴的碳數(具有取代基時為含有取代基之脂環式烴的碳數)較佳為3至10,更佳為3至6。
芳香族烴可舉出苯、萘等。上述芳香族烴可具有取代基。該取代基可舉出直鏈狀或分枝鏈狀之烷基。該取代基之烷基的碳數較佳為1至4,更佳為1至3。芳香族烴之碳數較佳為6至10。
上述鹵化烴可舉出氟碳化物、氟碳化物以外之鹵化烴。
上述氟碳化物可舉出二氟甲烷(R32)、1,1,1,2-四氟乙烷(R134a)、1,1,1,2,2-五氟乙烷(R125)、2,3,3,3-四氟丙烯(R1234yf)、2,2,3,3-四氟戊烷、氯二氟甲烷(R22)。
上述氟碳化物以外之鹵化烴可舉出二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等氯碳化物。
上述鹵化烴之碳數較佳為1至8,更佳為1至5。
醇可舉出甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇等醇。上述醇可為直鏈狀或分枝鏈狀。上述醇之碳數較佳為1至8,更佳為1至6。
上述吸附氣體較佳為鹵化烴,更佳為氟碳化物。
下式所計算之上述吸附氣體之莫耳分子直徑R較佳為6.8cm/mol以下,更佳為3cm/mol以上6.8cm/mol以下,又更佳為3.5cm/mol以上6.5cm/mol以下。
2×(3V/4π)1/3
[但V表示藉由Fedors之方法計算之莫耳分子體積(molecular volume)]
吸附氣體中,上述莫耳分子直徑為根據吸附氣體之莫耳分子體積而假設吸附氣體的形狀為球所計算的假想莫耳分子直徑,為表示與吸附劑中的吸附部位的相容性之指標,藉由使莫耳分子直徑在上述範圍而可使對本揭示之吸附劑的吸附性良好。
上述吸附氣體之莫耳分子體積V可藉由A Method for Estimating Both the Solubility Parameters and Molar Volumes of Liquids,R.F.Fedors,Polymer Engineering and Science,1974,vol.14,No.2,pp.147-154.所記載之方法而計算。
本揭示之技術範圍亦包括一種吸附方法,係包括使吸附劑與吸附氣體接觸,並使吸附氣體吸附於吸附劑之步驟。使上述吸附劑與上述吸附氣體接觸時之溫度例如可為10至40℃,較佳為15至35℃,更佳為20至30℃。又,吸附時之壓力例如可為10至500kPa,較佳為20至200kPa,更佳為50至150kPa。
上述吸附方法可進一步包括吸附氣體吸附於吸附劑後使吸附氣體從吸附劑脫附之步驟。吸附氣體的脫附可藉由減壓、升溫等而實施,較佳為藉由減壓而實施。藉此可使吸附劑再生並回收吸附氣體。
本揭示之技術範圍亦包括含有本揭示之吸附劑之組成物。
上述組成物中的吸附劑之含有率例如可為1至99質量%,較佳為5至95質量%。
上述組成物可含有乳化劑、消泡劑、調平劑、增黏劑、黏彈性調整劑、消泡劑、濕潤劑、分散劑、防腐劑、塑化劑、滲透劑、香料、殺菌劑、殺蟎劑、防黴劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、抗靜電劑、阻燃劑、染料、顏料等添加劑。
本揭示之技術範圍亦包括含有本揭示之吸附劑之成型體。
上述成型體中的吸附劑之含有率例如可為1至99質量%,較佳為5至95質量%。
上述成型體可含有乳化劑、消泡劑、調平劑、增黏劑、黏彈性調整劑、消泡劑、濕潤劑、分散劑、防腐劑、塑化劑、滲透劑、香料、殺菌劑、殺蟎劑、防黴劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、抗靜電劑、阻燃劑、染料、顏料等添加劑。
上述成型體之形狀無特別限定,可為板狀、薄片狀、膜狀、粒狀、粉末狀、多孔狀等。
上述成型體可由上述組成物而形成。
本揭示之技術範圍亦包括含有本揭示之吸附劑及吸附氣體之組成物。
前述吸附氣體可舉例如選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種氣體。烴、鹵化烴及醇與上述同義。
上述吸附劑之最大氣體吸附量例如可為10至200cm3(STP)/g,較佳為20至180cm3(STP)/g,更佳為30至150cm3(STP)/g。
上述吸附劑之最大氣體吸附量可作為吸附氣體在壓力0.1至100kPa之範圍中的最大吸附量測定,測定吸附量時之溫度可為20至30℃。
於一實施態樣中,式(3)所示化合物的製造方法包括下述步驟。
藉由將式(1)所示化合物電化學性氧化,
[式(1)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n1為4至20之整數]。
而獲得式(3)所示化合物。
[式(3)中,R1、R2及n1與上述同義]。
上述電化學性氧化可藉由在具有陽極電極、陰極電極、及含有化合物(1)之電解液的電化學裝置中使化合物(1)電解氧化而實施。
上述電解氧化通常在電解槽進行。該電解槽可為單室型、雙室型、PEM型(固體高分子膜型)、流動型、雙極型之任一者。
上述陽極電極可舉例如Pt、導電性金屬氧化物、玻璃碳、硼摻雜金鋼石等電極。導電性金屬氧化物電極例如可使用將稱為ITO電極之銦與錫之混合氧化物於玻璃上製膜之透明導電性電極、或稱為DSA電極(De Nora Permelec股份有限公司的商標)之將釕、銥等鉑族金屬之氧化物於鈦等基材上成膜之電極等。
於較佳態樣中,上述陽極電極可為Pt電極。使用Pt電極作為陽極電極,藉此可提高電解氧化效率,可長期間安定地電解氧化。
上述陰極電極並無特別限定,可舉例如Ag、Cu、Ni、Pb、Hg、Tl、Bi、In、Sn、Cd、Au、Zn、Pd、Ga、Ge、Ni、Fe、Pt、Pd、Ru、Ti、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、及Zr、以及該等的合金的電極、及玻璃碳、熱分解石墨、塑性成型碳、導電性金鋼石等碳材料的電極。
於較佳態樣中,上述陰極電極可為Pt電極。使用Pt電極作為陰極電極,藉此可提高電解氧化效率,可以更少的能量製造作為目的之烴。
於較佳態樣中,上述陽極電極及/或上述陰極電極為板狀電極。較佳為上述陰極電極為板狀電極,更佳為陽極電極及陰極電極兩者皆為板狀電極。
上述電解液至少含有化合物(1)及溶劑。該溶劑可舉例如乙腈、甲醇、二氯甲烷、水。
上述電解液中的化合物(1)之濃度例如可為0.1至30質量%,較佳為0.5至20質量%,更佳為1至10質量%。
於其他態樣中,上述電解液除了化合物(1)及溶劑以外可進一步含有添加物。
上述添加物可舉出有提高電解液之導電率的效果的支持電解質等。
於一態樣中,上述電解液為化合物(1)、溶劑及支持電解質所構成。使用化合物(1)、溶劑及支持電解質所構成之電解液,藉此可以較低槽電壓長時間安定、有效率地進行電解氧化。
上述支持電解質並無特別限定,可舉出可溶解上述溶劑且電化學性安定之化合物。具體而言可舉出KOH、LiClO4、Bu4NClO4、Bu4NPF6等。
進行電解氧化時之電解液之溫度較佳為0至100℃,更佳為0至80℃,又更佳為10至50℃,又再更佳為20至40℃。
進行電解氧化時之陽極電極之電位例如可為0.5至1.5V,較佳為0.7至1.3V。又,該電位為以飽和甘汞電極為基準電極時之電位。
上述電解氧化藉由,化合物(1)經氧化,化合物(3)析出至陽極電極上,獲得化合物(3)。
於一實施態樣中,式(3a)所示化合物的製造方法包括藉由使式(1a)所示化合物氧化而獲得式(3a)所示化合物之步驟。
[式(1a)中,
R1在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
R2在每次出現時分別獨立表示氫原子或有機基。
n2為6至20之整數]。
[式(3a)中,R1、R2及n2與上述同義]。
式(1a)、式(3a)中的R1、R2與式(1)、式(3)中的R1、R2同義。
n2為6至20,較佳為6至10,更佳為6至7,又更佳為6。
上述氧化可為電化學性氧化,也可為化學性氧化。
上述電化學性氧化可藉由在具有陽極電極、陰極電極、及含有化合物(1a)之電解液的電化學裝置中使化合物(1a)電解氧化而實施。
化合物(1a)之電解氧化可以與化合物(1)之電解氧化相同方式實施,可適用將上述電解氧化中的化合物(1)取代為化合物(1a)且化合物(3)取代化合物(3a)的構成。
上述化學性氧化可藉由使化合物(1a)與氧化劑反應而實施。
上述氧化劑並無特別限定,可舉例如[雙(三氟乙醯氧基)碘)]苯、Oxone(商標名,為單過硫酸氫鉀的三元鹽)、Pb(OAc)4、雙(乙醯氧基)碘苯、雙(三氟乙醯氧基)碘苯等。
化合物(1a)與氧化劑的反應可在反應溶劑共存下實施。該反應溶劑可舉出六氟-2-丙醇、2,2,2-三氟乙醇等氟醇;甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等醇系溶劑、四氫呋喃等醚系溶劑;氯仿、二氯甲烷等鹵化烴等。
相對於化合物(1a)1莫耳,上述氧化劑例如可為1至5莫耳,較佳為1.5至4莫耳,特佳為2至3.5莫耳。
相對於上述反應溶劑100Ml,上述化合物(1a)及上述氧化劑之合計含量例如可為0.1至2g,較佳為0.4至1.5g。
上述化合物(1a)與上述氧化劑反應之溫度例如可為10至40℃,較佳為15至35℃。
本揭示所例示化合物中包括其互變異構物,本揭示所例示各成分及官能基可分別單獨或組合使用。
(實施例)
藉由以下實施例進一步具體說明本發明,但本發明並不限定於該等。
實施例1
於具備作用電極之ITO板(10mm×10mm)、對電極之Pt板,參考電極之SCE(飽和甘汞電極)之電解槽充滿0.1mol/L之Bu4NPF6/MeOH,以成為1mmol/L之濃度之方式添加式(1-1)所示化合物。
以Ar氣體起泡後,以0.9V(vs.SCE)或1.2V(vs.SCE)之定電壓進行通電直到電量成為100mC為止,並實施電解還原。電解還原後,確認在電極表面析出細微黃色結晶,採取約0.1mg,以乙腈洗淨,藉由電化學性氧化而獲得式(3-1)所示化合物。
藉由1H NMR、13C NMR、飛行時間型質譜裝置(ESI-TOF-MS)、熔點測定及IR測定而確認獲得式(3-1)所示化合物。
1H NMR(500.13MHz,TFA-d,ppm):δ=6.86(s,12H,CH),3.61(s,12H,CH2).
13C NMR(125.72MHz,TFA-d,ppm):δ=190.5(s,C=O),148.1(s,C-CH2),137.8(s,CH),30.1(s,CH2).
HRMS(ESI-TOF-MS):m/z[M+Na]+,C42H24O12Na的計算值:743.1160;測量值:743.1159
熔點:未顯示熔點而在超過260℃分解
IR(KBr,cm-1):1653,1615,1355,1293,1249,1125,937,845
實施例2
於2L之單口圓底燒瓶加入25.0g之式(1-2)所示化合物、及350mL之MeCN,添加將122.9g之Oxone(2KHSO5.KHSO4.K2SO4)溶解於350mL之水的溶液。
接著添加7.5mL之碘苯,在室溫激烈攪拌48小時。其後將反應液注入水中,抽氣過濾。以大量之水及甲醇洗淨所得黃色之析出物並乾燥。
將洗淨及乾燥之析出物18.264g先溶解於沸騰的1,1,2,2-四氯乙烷350mL,藉由抽氣過濾去除不溶物。將所得紅色透明之過濾液在室溫靜置6小時,接著於6至10℃靜置8小時。將析出的細微結晶抽氣過濾,以少量1,1,2,2-四氯乙烷洗淨3次,又,以少量甲醇洗淨3次並乾燥,而獲得式(3-2)所示化合物。
藉由1H NMR、13C NMR、飛行時間型質譜裝置(ESI-TOF-MS)、熔點測定及IR測定而確認獲得式(3-2)所示化合物。
1H NMR(500.13MHz,TFA-d,ppm):δ=6.93(s,10H,CH),3.61(s,10H,CH2).
13C NMR(125.72MHz,TFA-d,ppm):δ=190.5(s,C=O),146.8(s,C-CH2),138.1(CH),28.0(CH2).
HRMS(ESI-TOF-MS):
m/z[M+Na]+,C35H21O10的計算值:601.1129;測量值:601.1132
m/z[M+Na]+,C35H20O10Na的計算值:623.0949;測量值:623.0930
熔點:未顯示熔點而在超過250℃分解
IR(Nujol mull,cm-1):1654,1610,1461,1377,1286,1250,1125,921,722
實施例3
將式(3-1)所示化合物及式(1-1)所示化合物之粉末以莫耳比成為1:1之方式乾式混合,並用於吸附試驗。
實施例4
將式(3-1)所示化合物及下式所示化合物之粉末以莫耳比成為1:1之方式乾式混合,並用於吸附試驗。
比較例1、2
比較例1之化合物使用式(1-1)所示化合物,比較例2之化合物使用式(1-2)所示化合物。
比較例3之化合物使用下式所示化合物。
比較例4之化合物使用下式所示化合物。
對實施例、比較例之化合物實施以下試驗。
[吸附試驗]
使用吸附試驗裝置(日本BEL公司製「BELSORP-max-12-N-VP-K」)在測定溫度30℃中進行吸附氣體之壓力從0kPa到100kPa(飽和蒸氣壓為100kPa以上之氣體)或飽和蒸氣壓為止的吸附,並進行從100kPa(飽和蒸氣壓為100kPa以上之氣體)或飽和蒸氣壓到0KPa為止的脫附。若300~500秒之壓力變化在壓力計的讀值的0.3%以內則進行下一個點的測定,而獲得吸附等溫線,測定各吸附氣體對各化合物的最大吸附量。結果示於表1。
又,表1中,「-」表示不存在測定資料。
實施例1至4皆確認具有優異的吸附性能。
比較例1至4為不含有式(3)所示化合物的例,吸附性能並未充分滿足。
Claims (22)
- 如請求項1所述之吸附劑,其中R1及R2為氫原子。
- 如請求項1或2所述之吸附劑,其中n1為5或6。
- 如請求項1至3中任一項所述之吸附劑,其係吸附選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種氣體。
- 如請求項4所述之吸附劑,其中前述鹵化烴為氟碳化物。
- 如請求項5所述之吸附劑,其中前述氟碳化物為二氟甲烷、1,1,1,2-四氟乙烷、五氟乙烷、2,3,3,3-四氟丙烯或氯二氟甲烷。
- 如請求項4所述之吸附劑,其中前述鹵化烴為選自由二氯甲烷、氯仿及四氯化碳所組成群組之至少1種。
- 如請求項4至7中任一項所述之吸附劑,其中前述烴為碳數1至8之烴。
- 如請求項4至8中任一項所述之吸附劑,其中前述醇為碳數1至8之醇。
- 如請求項4至9中任一項所述之吸附劑,其中以下式計算之前述烴、鹵化烴或醇之莫耳分子直徑R為6.8cm/mol以下,2×(3V/4π)1/3[V表示藉由Fedors之方法計算之莫耳分子體積]。
- 一種成型體,係含有如請求項1至14中任一項所述之吸附劑。
- 一種組成物,係含有如請求項1至14中任一項所述之吸附劑;及選自由烴、鹵化烴及醇所組成群組之至少1種。
- 如請求項17所述的製造方法,其中R1及R2為氫原子。
- 如請求項17或18所述的製造方法,其中n1為5。
- 如請求項20所述的製造方法,其中R1及R2為氫原子。
- 如請求項20或21所述的製造方法,其中n2為6。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022-077740 | 2022-05-10 | ||
JP2022077740 | 2022-05-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202406629A true TW202406629A (zh) | 2024-02-16 |
Family
ID=88730524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112116633A TW202406629A (zh) | 2022-05-10 | 2023-05-04 | 吸附劑、成型體、組成物、化合物的製造方法及化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7417969B2 (zh) |
TW (1) | TW202406629A (zh) |
WO (1) | WO2023218995A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024080369A1 (ja) * | 2022-10-14 | 2024-04-18 | ダイキン工業株式会社 | ピラーアレーン複合体 |
WO2024080376A1 (ja) * | 2022-10-14 | 2024-04-18 | ダイキン工業株式会社 | ピラーアレーン複合体 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015221893A (ja) | 2014-04-30 | 2015-12-10 | 国立大学法人金沢大学 | ポリマー |
JP6551827B2 (ja) | 2015-03-06 | 2019-07-31 | 国立大学法人金沢大学 | 多孔質炭素材料およびその製造方法 |
JP2018039758A (ja) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | 国立大学法人金沢大学 | 会合体、包接体、発光材料 |
CN108659215B (zh) | 2018-06-05 | 2019-08-09 | 福州大学 | 一种含有柱[5]芳烃的含氟聚芳醚化合物及其制备方法 |
-
2023
- 2023-04-27 JP JP2023073295A patent/JP7417969B2/ja active Active
- 2023-04-27 WO PCT/JP2023/016735 patent/WO2023218995A1/ja unknown
- 2023-05-04 TW TW112116633A patent/TW202406629A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023218995A1 (ja) | 2023-11-16 |
JP2023166988A (ja) | 2023-11-22 |
JP7417969B2 (ja) | 2024-01-19 |
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