TW202219405A - 構件組件及其密封保持器以及將構件安裝入控制流量的裝置的方法 - Google Patents

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Abstract

控制流量的裝置是半導體製造的輸送處理流體的重要構件。這些控制流量的裝置需要緊密包裝在控制流量的裝置內的各種流體流量構件。維修裝置需要專門設備及方法能夠在現場安裝的裝置中近距離安裝密封。可使用密封保持器以在流體流量構件裝配入控制流量的裝置的期間保持密封。

Description

構件組件及其密封保持器以及將構件安裝入控制流量的裝置的方法
[相關申請案對照參考] 本申請主張2020年5月12日所申請的美國臨時申請案63/023,742號的優惠,其全文內容茲以提述方式納入。
流量控制已為半導體晶片製造中的關鍵技術之一。控制流體流量的裝置對於輸送已知流率的半導體製造及其他工業處理的處理流體是重要的。這類裝置用於測量及準確控制各種應用的流體之流量。此種控制依賴具有快速且可靠地裝配有最小密封洩漏的構件的裝置。
隨著晶片製造技術的改進,控制流量的裝置的構件尺寸減小且包裝要求變得更加嚴格。控制流量的裝置的維護及修理越來越多地涉及在狹小空間中安裝密封及構件。為了改進維護的速度及便利性,需要有改進的方法及設備。
因此,本技術針對密封保持器,用於裝配密封及構件至控制流量的裝置中的構件裝設位置。一個以上的密封保持器可用在單一構件上,並且所得的控制流量的裝置可用於廣泛的處理中,諸如半導體晶片製造、太陽能面板製造等。
在一個實施方式中,本發明為一種在控制流量的裝置中安裝流體流量構件的方法。在第一步驟中,密封被放置入第一密封保持器,以形成密封組件。第二,該密封組件被安裝至流體流量構件上,使該第一密封與該流體流量構件的第一密封腔對準,藉此形成構件組件。第三,該構件組件被放置在控制流量的裝置的第一基板塊的頂上,使該第一密封與該第一基板塊的第一密封腔對準並且該第一密封保持器的一部位被放置在該第一基板塊與該流體流量構件之間。第四,該構件組件被部分地緊固至該控制流量的裝置,使該第一密封至少部分地設置在該第一基板塊的該第一密封腔及該流體流量構件的該第一密封腔之每一個內。第五,該第一密封保持器被縮回,使該第一密封保持器自該流體流量構件釋放並且該第一密封保持器的該部位自該第一基板塊與該流體流量構件之間移除。第六,該構件組件被完全地緊固至該控制流量的裝置。
在又另一實施方式中,本發明為一種製造半導體或積體電路的方法。第一,控制流量的裝置的流體流量構件根據上述之方法而安裝,以完成自流體源延伸至處理室的流體供應線。第二,流體自該流體源流至該處理室,以接觸該處理室中的一個以上的半導體或積體電路晶圓。
在另一實施方式中,本發明為一種保持密封的密封保持器,該密封保持器具有片體。該片體具有第一軸線、垂直於該第一軸線的第二軸線、第一部位、及第二部位。該第一軸線與該第一部位共面,該第一部位於該第一軸線的方向伸長並且沿該第一軸線自該第二軸線延伸。該第二部位自該第二軸線延伸並且具有密封保持特徵。
在又另一實施方式中,本發明為一種流體流量構件組件,該流體流量構件組件具有流體流量構件、對準特徵、第一密封、及第一密封保持器。該流體流量構件具有第一密封腔。該對準特徵與該流體流量構件接觸。該第一密封經配置而接合該第一密封腔。該第一密封保持器經配置而接合該流體流量構件的該對準特徵及該第一密封。該第一密封係裝配於該第一密封保持器,使該第一密封與該第一密封腔接觸。
在替代實施方式中,本發明為一種安裝流體流量構件至控制流量的裝置的方法。第一,構件組件被放置在第一基板塊的頂上,該構件組件包含流體流量構件、第一密封保持器、以及由該第一密封保持器所保持且與該流體流量構件的第一密封腔對準的第一密封。該構件組件放置在該第一基板塊的頂上,使該第一密封與該第一基板塊的第一密封腔對準。第二,該第一密封保持器被縮回,使該第一密封保持器自該流體流量構件釋放而該第一密封與該流體流量構件維持原位。第三,該流體流量構件被緊固至控制流量的裝置,使該第一密封將該第一基板塊的流路緊密地密封至該流體流量構件的流路。
本技術的進一步可應用領域從下文提供的詳細說明將變得清楚明瞭。當知詳細說明及具體範例,雖表明較佳實施方式,但僅旨在說明目的而非限制本技術的範圍。
根據本發明原理的說明性實施例的說明旨在結合伴隨的圖式來閱讀,這些圖式被認為是整個書面說明的一部分。在本文所揭露的本發明的實施例的說明中,對於方向或指向的參考僅旨在方便說明且並非旨在以任何方式限制本發明的範圍。相對性用詞諸如「下部」、「上部」、「水平」、「垂直」、「之上」、「之下」、「上」、「下」、「左」、「右」、「頂」及「底」以及彼等之派生詞(例,「水平地」、「向下地」、「向上地」等)應被解釋為是指所要說明或在所討論的圖式中所示的指向。這些相對性用詞僅為了方便說明而並不要求裝置以特定指向建構或操作,除非明確指出。諸如「附接」、「貼附」、「連接」、「耦接」、「互連」等用詞是指一種關係,其中結構直接或間接地經由中間結構而彼此緊固或附接,以及皆為可移動或剛性附接或關係,除非另有明確說明。此外,本發明的特徵及益處藉由參閱較佳實施例而描述。因此,本發明不應特意被限制於描述可單獨存在或以其它特徵組合存在的特徵的某些可能的非限制的組合的這些較佳實施例;本發明的範圍由隨附的申請專利範圍所定義。
本發明涉及密封保持器,用於安裝流體流量構件以形成流量控制裝置。半導體製造是一種需要高性能的流體流動控制的工業。隨著半導體製造技術的進步,客戶認識到需要具減小的空間要求的流量控制裝置。從而,隨著流體控制裝置的包裝變得比以往更密集,流量控制設備的服務及維護變得愈加困難。本發明有利於流量控制裝置內的流量控制構件的有效率裝配。
圖1顯示範例的處理系統1000的示意圖。處理系統1000可利用流體耦接於處理室1300的複數個控制流量的裝置100。複數個控制流量的裝置100用於供應一個以上不同的處理流體至處理室1300。流體由複數個流體供應或流體源所提供。總體而言,複數個控制流量的裝置100屬於流體輸送模組1400。可選地,在處理系統1000中可利用不只一個流體輸送模組1400。複數個控制流量的裝置100藉由出口歧管400連接至處理室1300。諸如半導體及積體電路的製品可在處理室1300內處理。
閥1100將控制流量的裝置100的每一個與處理室1300隔離,使控制流量的裝置100的每一個能夠選擇性地與處理室1300連接或隔離,有利於各式各樣的不同處理步驟。處理室1300可含有施用器,以施加由控制流量的裝置100所輸送的處理流體,使得由控制流量的裝置100所供應的流體能夠選擇性或擴散分布。可選地,處理室1300可為真空室或可為槽或缸,以用於將製品浸入由複數個控制流量的裝置100所供應的流體中。流體供應線藉由自各自的流體供應至處理室1300的流路所形成。
此外,處理系統1000可進一步包含排出器1200,其藉由閥1100而與處理室1300隔離,以能夠排出處理流體或是有利於清洗一個以上的控制流量的裝置100,以能夠在相同的控制流量的裝置100中進行不同處理流體之間的切換。可選地,排出器1200可為真空源或可為液體排出器,以配置為自處理室1300移除液體。可選地,控制流量的裝置100可為質流控制器、分流器、或是控制處理系統中的處理流體的流量的任何其它裝置。再者,如果需要,閥1100可整合到控制流量的裝置100中。
在處理系統1000中可執行的處理可包括:濕洗、微影、離子植入、乾蝕刻、原子層蝕刻、濕蝕刻、電漿灰化、快速熱退火、爐退火、熱氧化、化學氣相沉積、原子層沉積、物理氣相沉積、分子束磊晶、雷射剝離、電化學沉積、化學機械研磨、晶圓測試、電鍍、或利用流體的任何其他處理。
圖2及圖3顯示範例的流體輸送模組1400的示意圖。在此實施例中,流體輸送模組1400具有複數個控制流量的裝置100,彼等具有複數個入口101及複數個出口102。在一些實施例中,複數個入口101並非以一對一方式對應於複數個出口102。作為替代,複數個入口101可相接於單一個出口102,以及單一個入口101可分接於複數個出口102。如此做可達成在供應至處理室1300之前的不同流體的混合或組合。
可以看出,控制流量的裝置100的每一個通常被佈置成列,複數個控制流量的裝置100被佈置成多個平行列。這並沒有必要是這種情況,可使用任何包裝配置。流體輸送模組1400具有基板板件1402。基板板件1402用作流體輸送模組1400的結構支撐,但可簡單用於促進裝配。設想有其它結構支撐配置。複數個基板塊104擱置在基板板件1402上且其中包含流體埠,以導流至具有以下更加詳述的對應流體埠的一個以上的流體流量構件200。流體流量構件200可認為是主動構件,而基板塊104可認為是被動構件。流體流量構件200可為閥、流量控制器、壓力換能器、流量測量感測器、壓力調節器、流量限制器、或致動器中的一種以上,或是任何其它已知的流量控制構件。
藉由比較圖2及圖3能夠看出,一流體流量構件200自圖3的流體輸送模組1400被移除。流體流量構件200的移除暴露二個基板塊的部位。構件裝設位置106藉由二個基板塊104的該部位而形成。構件裝設位置106可依據裝設至構件裝設位置106的構件200的規格尺寸而變化大小。從而,不同的構件裝設位置106可包含相同基板塊104的不同部位。各個且每個構件200具有在流體輸送模組1400中的構件裝設位置106。
轉到圖4A至圖4D,顯示流體輸送模組1400的部位。具體而言,顯示有流體流量構件200裝設至形成構件裝設位置106的成對的基板塊104。構件200藉由對準特徵250而裝設至基板塊104。對準特徵250亦可被稱為緊固件以及可被利用作為對準特徵及緊固件。對準特徵250可為緊固件,諸如:螺栓、螺絲、銷、或其他已知的緊固裝置。然而,在其它實施例中,對準特徵250可與緊固件是分別的。舉例而言,可使用定位銷或其他銷,以將流體流量構件200對準至基板塊104。然後,可使用單獨的緊固件將流體流量構件200緊固至基板塊104。如圖4A至圖4D所示,對準特徵250延伸通過基板塊104。
雖然圖4A至圖4D中未示,基板板件1402形成有螺紋或具有螺紋嵌入件,承接對準特徵250。從而,對準特徵250延伸通過流體流量構件200中的緊固件通道208、基板塊104中的緊固件通道108、以及安裝入螺紋孔或基板板件1402中的其他特徵。對準特徵250旨在用於粗對準,而精對準則由其它幾何形狀來提供。從而,緊固件通道108、208無須精確配合對準特徵250。在替代實施例中,對準特徵250可經由緊固件通道108內的嵌件或螺紋孔而直接安裝至基板塊104。在這些實施例中,基板塊104可經由額外的緊固件而單獨地附接至基板板件1402。在其它實施例中,對準特徵250可安裝於基板板件1402下方的支撐或其他構件中。
如圖4B最佳所示,密封300放置在流體流量構件200與基板塊104之間。密封300為具有圓柱形外表面304的環形密封。密封300亦具有流路302,通過其中心,其允許流體通過。密封300提供在流體流量構件200的流體埠210與基板塊104的流體埠110之間的緊密密封。基板塊104的流體埠110的每一個包含密封腔116。流體流量構件200的流體埠210的每一個包含密封腔216。基板塊104的流體埠110的每一個包含密封腔116。
如圖4C最佳所示,流體流量構件200包含裝設表面214,包含有二個流體埠210,一個流體埠210為入口以及另一個為出口。流體流路212自一個流體埠210延伸至另一個流體埠210。相似地,在圖4D中,能夠看出基板塊104各包含裝設表面114,包含有二個流體埠110。流體流路112自一個流體埠110延伸至另一個流體埠110。回到圖4B,能夠看出,當密封300安裝在流體流量構件200與基板塊104之間時,在裝設表面214、114之間有一距離d。從而,密封300被壓縮在流體流量構件200與基板塊104之間。密封300適配入流體流量構件200的密封腔216及基板塊104的密封腔116。在裝配期間,裝設表面114、214被對準特徵250拉更靠近,減小裝設表面114、214之間的距離d。
回到圖5至圖7,顯示有密封保持器500。密封保持器500由片體510所形成。片體510可由任何片材所形成,諸如:金屬片、金屬箔、塑膠膜等。特別地,片體510可由聚對苯二甲酸、麥拉、全氟烷氧基烷烴、聚四氟乙烯、聚醚醚酮、聚偏二氟乙烯、聚醯亞胺、聚丙烯、或氟化乙烯丙烯中的一種以上所形成。片體510可具有0.013mm、0.010mm、0.016mm的厚度,或其它厚度。如下文所更詳述,片體510的材料性質及其它方面將決定最佳厚度。在所有實施方式中,片體510是撓性的,使得密封保持器500可以在使用期間撓曲。片體510會撓曲以承接密封300以及會撓曲以圍繞構件200彎曲。
密封保持器500包含縱軸線A-A以及橫軸線B-B。在一些實施例中,縱軸線A-A及橫軸線B-B為垂直的,但在其它實施例中可成90度以外的角度。當密封保持器500在平坦狀態,密封保持器500沿縱軸線A-A延伸,密封保持器500在縱軸線的方向上延長。密封保持器500具有沿縱軸線A-A的長度以及沿橫軸線B-B的寬度,寬度小於長度。密封保持器500進一步包含周邊邊緣512,周邊邊緣512繞片體510的外邊緣延伸。
密封保持器500亦包含第一部位520及第二部位530。第一部位520由第一邊緣525、與第一邊緣525相對的第二邊緣526、第三邊緣527、及與第三邊緣527相對的第四邊緣528所形成,第四邊緣528與橫軸線B-B共線。片體510包含亦與橫軸線B-B共線的折線514。從而,折線514與第四邊緣528共線。第二部位530由折線514及片體510的周邊邊緣512的其餘部分所定義。從而,第二部位530為在橫軸線B-B的與第一部位520相對側上的部位。折線514可被穿孔、刻痕、開溝、或其它方式改變,以使片體510會以橫軸線B-B而乾淨地彎折。然而,在其它實施例中,折線514可在沒有形成於片體510的額外彎曲輔助的情況下形成。
第一部位520亦包含形成抓持特徵的複數個圓形的孔522。圓形的孔522佈置成線,以使工具可嵌入圓形的孔522以及作為用於拉動密封保持器500的第一部位520的把手。可選地,圓形的孔522以縱軸線A-A而軸向對稱。可以有少於或多於三個圓形的孔。
第二抓持特徵由成對的長形的孔524所形成,長形的孔524沿縱軸線A-A且以縱軸線A-A而對稱。第二抓持特徵包含具有遠端邊緣521的凸舌部529。片體510包含內部邊緣516,其藉由易碎區523而相接於凸舌部529的遠端邊緣521。易碎區523可為以某種方式保持連接於凸舌部529的遠端邊緣521的區域。例如,可被刻痕、開溝、切割、或穿孔。換言之,遠端邊緣521連接於內部邊緣516,但連接被有意地弱化以允許易碎區523的斷裂。易碎區523亦可被稱為預弱化區或預弱化區域。凸舌部529可接著被遠離第一部位520向上折疊,以使使用者能夠將手指插入長形的孔524之間的第一部位520中。這可被用以拉動第一部位520。抓持特徵的重要性的原因將會在下面更詳細討論。
第二部位530能夠自上述討論的平坦狀態轉變至折疊狀態。在平坦狀態,第一部位520形成第一平坦表面以及第二部位530形成第二平坦表面。第一及第二平坦表面的每一個為共面。換言之,二者皆占據相同平面且形成單一平坦表面。在平坦狀態中,第一部位520與縱軸線A-A重合。在平坦狀態中,第二部位530亦與縱軸線A-A重合。在折疊狀態中,第二部位530沿折線514以橫軸線B-B而彎曲。從而,第二部位530及其對應的第二平坦表面不再與第一部位520的第一平坦表面共面。第二部位530可成任何角度,但最佳為對於第一部位520成約90度。從而,第二部位530相對於縱軸線A-A成角度。第二部位530在折線514處繞橫軸線B-B旋轉。
第二部位530包含密封孔532,經配置以接收密封300。如圖6所示,密封300配合在密封孔532內,以使密封300被密封孔532所保持。密封組件540由密封保持器500與密封300的組件所形成,密封300被裝配入密封孔532。如圖所示,密封孔532為圓形且接合密封300的圓柱形外表面304。密封孔532被較佳地尺寸設計,以與圓柱形外表面304過盈配合而避免在密封孔532中的密封300的移動。然而,密封孔532亦可考慮其它幾何形狀。
相鄰於密封孔532,易碎區534被放置在密封孔532及片體510的周邊邊緣512之間。如上述關於易碎區523所討論,易碎區534可被開槽、穿孔、開溝、刻痕、或其它方式弱化,以允許在易碎區534處的片體510的破裂。易碎區534亦可被稱為預弱化區或預弱化區域。易碎區534將會在下面更詳細討論。
第二部位530進一步包含成對的緊固件接合特徵536。緊固件接合特徵536在構造上為半圓形,具有寬度小於半圓形緊固件接合特徵536的直徑的入口槽538。在替代配置中,入口槽538可由易碎區或其它特徵取代。緊固件接合特徵536不需要為半圓形,且可視需要而具有不同形狀。緊固件接合特徵536經配置而接合對準特徵250且可為與對準特徵250相同直徑或一般尺寸。或者,彼等可為過盈配合或者在緊固件接合特徵536與對準特徵250之間可具有一些間隙。
轉到圖8A及圖8B,顯示有構件組件550。構件組件550包含流體流量構件200、複數個對準特徵250、及二個密封組件540。在圖8A中,密封組件540尚未充分裝配至流體流量構件200。能夠看出,構件200的密封腔216仍然暴露,密封300與密封腔216相間隔。緊固件接合特徵536與對準特徵250接合,以使密封保持器的第一部位520位在流體流量構件200的相對側上。在圖8B中,密封組件540充分裝配至流體流量構件200,使得密封300至少部分地嵌入密封腔216中。緊固件接合特徵536維持與對準特徵250接合,以有利於密封300與密封腔216接觸的保持。
圖9A及圖9B顯示密封保持器500的一部位的詳細視圖。特別地,第二部位530詳細顯示於圖9A中。能夠看到,易碎區534相鄰於密封孔532。易碎區534更詳細地顯示於圖9B中。明顯可見,密封孔532位在易碎區534的其中一側上。片體510的周邊邊緣512位在易碎區534的相對側上。易碎區534包含成對的槽535及未斷裂區段537。第一個槽535自密封孔532的邊緣延伸,而第二個槽535自片體510的周邊邊緣512延伸。未斷裂區段537位於槽535之間。
從而,易碎區534經配置而藉由增加相鄰於槽535的應力集中以及確保當使用者拉動密封保持器500的第一部位520時的乾淨且容易斷裂而撕裂未斷裂區段537。斷裂的密封保持器的表示顯示於圖9C。如上所述,可使用溝、槽、穿孔、洞、或其它已知手段而選擇性地弱化易碎區534。亦可使用多種技術的組合以促使易碎區534中期望區域內的斷裂。亦可使用易碎區534中的特徵的設計以控制斷裂力。這與諸如片體510的厚度及材料的參數的結合將允許所需力的緊密控制。
圖10顯示繪示將流體流量構件200安裝入控制流量的裝置100的步驟的流程圖。第一,使用者將密封300放置入密封保持器500。具體而言,密封300被嵌入密封孔532,使密封孔532約位在圓柱形外表面304的中點處。此裝配步驟形成密封組件540。密封保持器500可在密封300嵌入密封孔532之前或之後沿折線514折疊,但較佳地是在密封300的嵌入之前折疊。
第二,密封組件540被放置在流體流量構件200上。放置密封組件540,使得密封300接合流體流量構件200的密封腔216。放置密封保持器500,使流體流量構件200的對準特徵250接合密封保持器500的第二部位530的緊固件接合特徵536。對準特徵250在將密封組件裝配至流體流量構件200之前被嵌入流體流量構件200的緊固件通道208中。密封保持器500的第一部位520沿流體流量構件200的一側延伸,而第二部位530被放置成約平行於流體流量構件200的裝設表面214。構件組件550藉由密封組件540、流體流量構件200、及對準特徵250的結合所形成。可選地,對準特徵250可被認為是流體流量構件200的一部分或者可被認為是形成構件組件550的一部分的單獨構件。但是,完整的構件組件550包含至少一個對準特徵250。
第三,流體流量構件200被放置在構件裝設位置106的頂上。從而,流體流量構件200覆蓋至少一個基板塊104。密封300被放置,使之與基板塊104的密封腔116接觸。從而,密封300與基板塊104的密封腔116及流體流量構件200的密封腔216對準。在將流體流量構件200放置在構件裝設位置106的頂上時,對準特徵250被嵌入緊固件通道108中。在此實施例中,對準特徵250為螺栓,且該螺栓在保持密封保持器500的同時促進流體流量構件200及基板塊104的對準。這確保在流體流量構件200的放置期間,密封300維持與密封腔216接觸。然而,密封300在此或之前的步驟的期間沒有必要充分嵌入密封腔216或密封腔116中。需要額外緊固以適當地將密封300密封以及確保流體流路112、212、302的緊密密封。
第四,在本實施例中,對準特徵250,其為螺栓,被部分地安裝。從而,對準特徵亦作為壓縮密封300的緊固件。對準特徵250可用手擰緊或以其它方式施以小於特定最大力矩的力矩而安裝。部分緊固必須避免夾住流體流量構件200及基板塊104之間的密封保持器500。
第五,縮回密封保持器500。使用者利用諸如圓形的孔、長形的孔524及凸舌部529或甚至第一部位520自身的抓持特徵。使用者施加縮回力至第一部位520,以破壞相鄰於密封孔532的易碎區534。密封保持器500可接著被移除,使得在縮回密封保持器500之後,密封保持器500沒有任何部分維持在流體流量構件200及基板塊104之間。
第六,對準特徵250,在此情況中為螺栓,被施加至扭矩規格。若使用替代的(無螺紋)緊固手段,然後此替代的緊固手段的緊固件被安裝,使得在基板塊104與流體流量構件200之間提供預期夾緊力。從而,密封300充分座設在各自的密封腔116、216中且在流體流路112、212、302之間形成緊密密封。可選地,可平行地執行此處理,使得二個以上的密封組件540形成且安裝在流體流量構件200上。例如,在流體流量構件200具有二個流體埠210的情況下,處理可平行地執行二次。在流體流量構件200具有三個流體埠210的情況下,處理可平行地執行三次以上。為了完成自流體供應至處理室1300的流路,各個且每一個流體埠210必須緊密地密封至基板塊104的流體埠110或是至連接於構件或外部裝置的導管。
轉到圖11A至圖11E,裝配方法被更詳細顯示。輸送模組1400的另一實施例顯示有平行佈置的二個控制流量的裝置100。在圖11A中,其中一個控制流量的裝置100是不完整的,構件裝設位置106缺少流體流量構件。能夠看出,構件裝設位置106的二個基板塊104具有暴露的流體埠110以及密封腔116沒有密封300。從而,構件裝設位置106準備用於流體流量構件200的安裝。
在圖11B中,構件組件550顯示放置在構件裝設位置106上方。如上所述,構件組件550包含二個密封組件540、複數個對準特徵250、及流體流量構件200。在圖11C中,構件組件550被放置在構件裝設位置106的頂上,使密封腔116、216與密封300對準。對準特徵250被部分地緊固。轉到圖11D,構件組件550的詳細視圖顯示有縮回的密封保持器500。能夠看出,流體流量構件200在任一側均稍微高於流體流量構件200,因為流體流量構件200尚未被完全地緊固。最後,在圖11E中,流體流量構件200經由對準特徵250而被完全地緊固。密封300被充分壓縮且提供緊密地密封,確保控制流量的裝置100的無洩漏操作。
轉到圖12,顯示替代的密封保持器600。密封保持器600具有具周邊邊緣612的片體610。縱軸線A-A沿密封保持器600的長度延伸,而橫軸線B-B沿折線614延伸。第一部位620足夠長而令使用者能夠抓持第一部位,而能夠在構件組件550的裝配之後縮回密封保持器600。第二部位630具有密封孔632。然而,在周邊邊緣612與密封孔632之間沒有易碎區。做為替代,緊固件接合特徵636具有形成在彼等之間的易碎區634。易碎區634藉由提供具銳利邊緣的入口槽368而被選擇性地弱化。然而,沒有自緊固件接合特徵636延伸的弱化特徵。密封保持器600的功能實質等同於密封保持器500,除了由緊固件接合特徵636的不同配置所提供的對準特徵250的增加的保持。
雖然本發明已將關於包括實施本發明的當前較佳模式的特定範例進行說明,所屬技術領域中具有通常知識者將理解上述系統及技術有多種變化及排列。當知可利用其它實施例,以及可在不脫離本發明的範圍的情況下進行結構性及功能性修改。因此,本發明的精神及範圍應廣泛地解釋為如隨附申請專利範圍中所述。
1000:處理系統 1100:閥 1200:排出器 1300:處理室 1400:輸送模組 1402:基板板件 100:控制流量的裝置 101:入口 102:出口 104:基板塊 106:構件裝設位置 108:緊固件通道 110:流體埠 112:流體流路 114:裝設表面 116:密封腔 200:構件 208:緊固件通道 210:流體埠 212:流體流路 214:裝設表面 216:密封腔 250:對準特徵 300:密封 302:流路 304:圓柱形外表面 368:入口槽 400:出口歧管 500:密封保持器 510:片體 512:周邊邊緣 514:折線 516:內部邊緣 520:第一部位 521:遠端邊緣 522:圓形的孔 523:易碎區 524:長形的孔 525:第一邊緣 526:第二邊緣 527:第三邊緣 528:第四邊緣 529:凸舌部 530:第二部位 532:密封孔 534:易碎區 535:槽 536:緊固件接合特徵 537:未斷裂區段 538:入口槽 540:密封組件 550:構件組件 600:密封保持器 610:片體 612:周邊邊緣 614:折線 620:第一部位 630:第二部位 632:密封孔 634:易碎區 636:緊固件接合特徵 A-A:縱軸線 B-B:橫軸線 d:距離
本揭露之發明將從詳細說明及伴隨的圖式得到更充分理解,其中:
圖1為利用一個以上的控制流量的裝置製造半導體裝置的系統的示意圖。
圖2為流體輸送模組的立體圖,該流體輸送模組包含如圖1的可在處理中利用的複數個控制流量的裝置。
圖3為顯示移除一個流體流量構件的圖2的模組的立體圖。
圖4A為裝設至成對的基板塊的構件的立體圖。
圖4B為圖4A中沿線段4B-4B的構件及其中一個基板塊的截面圖。
圖4C為圖4A的構件的仰視圖。
圖4D為圖4A的基板塊的俯視圖。
圖5為用於在控制流量的裝置的基板塊與流體流量構件之間安裝密封的密封保持器的立體圖。
圖6為包含圖5的密封保持器及安裝於該密封保持器的密封的密封組件的立體圖。
圖7為圖5的密封保持器的平面圖。
圖8A為包括有二個密封保持器、二個密封、及流量控制構件的構件組件的一部位的下部立體圖。
圖8B為圖8A的構件組件的立體圖。
圖9A為圖5的密封保持器的一部位的平面圖。
圖9B為顯示有易碎區的圖9A的密封保持器的該部位的詳細視圖。
圖9C為在自流體流量構件移除密封保持器之後的圖5的密封保持器的一部位的立體圖。
圖10為顯示在控制流量的裝置中安裝流體流量構件的方法的流程圖。
圖11A為顯示有具有缺少的流體流量構件的控制流量的裝置的流體輸送模組的立體圖。
圖11B為顯示有準備裝配的構件組件的圖11A的流體輸送模組的立體圖。
圖11C為圖11A的流體輸送模組的立體圖,其顯示有部分地緊固至控制流量的裝置的該構件組件。
圖11D為圖11A的控制流量的裝置的一部位的詳細視圖,其顯示具有移除的密封保持器的構件組件的流體流量構件。
圖11E為圖11A的流體輸送模組的立體圖,其顯示有完全地緊固至控制流量的裝置的流體流量構件。
圖12為繪示密封保持器的替代實施例的立體圖。
所有圖式為示意性的且不一定按比例繪製。除非本文另有說明,否則在某些圖中顯示有標號而在其它圖中可能未標號而出現的特徵,為相同的特徵。
500:密封保持器
510:片體
512:周邊邊緣
514:折線
516:內部邊緣
520:第一部位
521:遠端邊緣
522:圓形的孔
523:易碎區
524:長形的孔
525:第一邊緣
526:第二邊緣
527:第三邊緣
528:第四邊緣
529:凸舌部
530:第二部位
532:密封孔
534:易碎區
536:緊固件接合特徵
538:入口槽
A-A:縱軸線
B-B:橫軸線

Claims (70)

  1. 一種在控制流量的裝置中安裝流體流量構件的方法,該方法包含: (a) 將第一密封放置入第一密封保持器,以形成密封組件; (b) 將該密封組件安裝至流體流量構件上,使該第一密封與該流體流量構件的第一密封腔對準,藉此形成構件組件; (c) 將該構件組件放置在控制流量的裝置的第一基板塊的頂上,使該第一密封與該第一基板塊的第一密封腔對準並且該第一密封保持器的一部位被放置在該第一基板塊與該流體流量構件之間; (d) 將該構件組件部分地緊固至該控制流量的裝置,使該第一密封至少部分地設置在該第一基板塊的該第一密封腔及該流體流量構件的該第一密封腔之每一個內; (e) 縮回該第一密封保持器,使該第一密封保持器自該流體流量構件釋放並且該第一密封保持器的該部位自該第一基板塊與該流體流量構件之間移除;以及 (f) 將該構件組件完全地緊固至該控制流量的裝置。
  2. 如請求項1所述之方法,其中控制流量的裝置更包含基底基板,以及該流體流量構件更包含第一緊固件,並且在步驟(c)中,該第一基板塊係與該基底基板接觸。
  3. 如請求項2所述之方法,其中步驟(d)中,該第一緊固件接合該基底基板。
  4. 如請求項3所述之方法,其中步驟(d)中,該第一緊固件延伸通過該第一基板塊。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之方法,其中該控制流量的裝置包含第一構件裝設位置,該第一構件裝設位置包含該第一基板塊及第二基板塊,其中該第二基板塊包含第一密封腔,該流體流量構件包含第二密封腔及第二緊固件。
  6. 如請求項5所述之方法,更包含步驟(a-1),其中步驟(a-1)包含將第二密封安裝入第二密封保持器,以形成第二密封組件。
  7. 如請求項6所述之方法,更包含步驟(b-1),其中步驟(b-1)包含將該第二密封組件安裝至該流體流量構件上,使該第二密封與該第一構件的該第二密封腔對準。
  8. 如請求項7所述之方法,其中步驟(c)更包含:將該構件組件放置於該第一構件裝設位置,使該第二密封與該第二基板塊的該第一密封腔對準,以及其中步驟(e)更包含:縮回該第二密封保持器,使該第二密封保持器自該流體流量構件釋放。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之方法,其中該構件組件係藉由螺栓而緊固。
  10. 如請求項1至9中任一項所述之方法,其中該構件組件係藉由複數個螺栓而緊固。
  11. 如請求項1至10中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器包含一密封孔,承接該第一密封。
  12. 如請求項11所述之方法,其中該第一密封保持器的該密封孔為圓形的孔。
  13. 如請求項11至12中任一項所述之方法,其中該第一密封為該密封孔中的過盈配合。
  14. 如請求項11至13中任一項所述之方法,其中該密封孔接合該第一密封的外徑。
  15. 如請求項11至14中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器包含易碎區。
  16. 如請求項15所述之方法,其中該第一密封保持器的該易碎區促進該第一密封保持器的破裂。
  17. 如請求項15至16中任一項所述之方法,其中該易碎區包含自該密封孔延伸的槽。
  18. 如請求項1至17中任一項所述之方法,其中步驟(e)更包含:使該第一密封保持器破裂,以釋放該第一密封保持器。
  19. 如請求項1至18中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器接合該構件組件的對準特徵。
  20. 如請求項1至19中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器包含抓持特徵。
  21. 如請求項20所述之方法,其中該抓持特徵係為複數個圓形的孔。
  22. 如請求項20所述之方法,其中該抓持特徵係形成為彼此相間隔的成對的長形的孔。
  23. 如請求項1至22中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器係由片材所製成。
  24. 如請求項1至23中任一項所述之方法,其中該第一密封保持器係由聚對苯二甲酸、麥拉、全氟烷氧基烷烴、聚四氟乙烯、聚醚醚酮、聚偏二氟乙烯、聚醯亞胺、聚丙烯、或氟化乙烯丙烯中的一種所形成。
  25. 如請求項1至24中任一項所述之方法,其中該密封保持器具有0.013 mm的厚度。
  26. 如請求項1至25中任一項所述之方法,其中在步驟(a)期間,該密封保持器係沿軸線折疊。
  27. 如請求項1至26中任一項所述之方法,其中該控制流量的裝置包含複數個構件裝設位置。
  28. 如請求項1至27中任一項所述之方法,其中該流體流量構件係為閥、流量控制器、壓力換能器、流量測量感測器、壓力調節器、流量限制器、或致動器中的一種。
  29. 如請求項1至28中任一項所述之方法,其中步驟(d)中,該第一基板塊的裝設表面及該流體流量構件的裝設表面係以第一距離相隔開,以及其中步驟(f)中,該第一基板塊的該裝設表面及該流體流量構件的該裝設表面係以第二距離相隔開,其中該第一距離大於該第二距離。
  30. 一種製造半導體或積體電路的方法,包含: 根據如請求項1至29中任一項所述之方法安裝控制流量的裝置的流體流量構件,以完成自流體源延伸至處理室的流體供應線;以及 將流體自該流體源流至該處理室,以接觸該處理室中的一個以上的半導體或積體電路晶圓。
  31. 一種保持密封的密封保持器,該密封保持器包含: 片體,該片體包含: 第一軸線; 第二軸線,垂直於該第一軸線; 第一部位,該第一軸線與該第一部位共面,該第一部位於該第一軸線的方向伸長並且沿該第一軸線自該第二軸線延伸; 第二部位,該第二部位自該第二軸線延伸並且具有密封保持特徵。
  32. 如請求項31所述之密封保持器,其中該第一部位包含第一周邊邊緣、與該第一周邊邊緣相對的第二周邊邊緣、第三周邊邊緣、以及與該第三周邊邊緣相對的第四周邊邊緣,該第四周邊邊緣係與該第二軸線共線。
  33. 如請求項31至32中任一項所述之密封保持器,其中該第一部位包含複數個圓形的孔,而形成抓持特徵。
  34. 如請求項31至33中任一項所述之密封保持器,其中該第一部位包含由凸舌部所隔開的複數個長形的孔,該凸舌部具有遠端邊緣,連接於該第一部位的內部邊緣。
  35. 如請求項34所述之密封保持器,其中該凸舌部的該遠端邊緣係藉由易碎區而連接於該第一部位的該內部邊緣。
  36. 如請求項31至35中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位係沿該第二軸線伸長。
  37. 如請求項31至34中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位的該密封保持特徵為密封保持孔。
  38. 如請求項37所述之密封保持器,其中該密封保持孔為圓形。
  39. 如請求項37至38中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位包含易碎區,相鄰該密封保持孔。
  40. 如請求項31至39中任一項所述之密封保持器,其中該易碎區位在該密封保持特徵與該片體的周邊邊緣之間。
  41. 如請求項31至40中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位包含易碎區,該易碎區包含槽。
  42. 如請求項41所述之密封保持器,其中該槽係自該密封保持特徵延伸。
  43. 如請求項41至42中任一項所述之密封保持器,其中該易碎區包含複數個槽。
  44. 如請求項41至43中任一項所述之密封保持器,其中該密封保持特徵包含中心點,該槽自該中心點徑向延伸至該片體的周邊邊緣。
  45. 如請求項31至44中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位包含易碎區,以及該片體包含周邊邊緣,該易碎區放置在該密封保持特徵與該周邊邊緣之間的距離為最小的地點。
  46. 如請求項31至45中任一項所述之密封保持器,其中該第二部位包含緊固件接合特徵。
  47. 如請求項46所述之密封保持器,其中該緊固件接合特徵係為半圓形。
  48. 如請求項46至47中任一項所述之密封保持器,其中該緊固件接合特徵形成該片體的周邊邊緣的一部分。
  49. 如請求項46至48中任一項所述之密封保持器,其中該緊固件接合特徵包含易碎區。
  50. 如請求項31至49中任一項所述之密封保持器,其中該片體係由聚對苯二甲酸、麥拉、全氟烷氧基烷烴、聚四氟乙烯、聚醚醚酮、聚偏二氟乙烯、聚醯亞胺、聚丙烯、或氟化乙烯丙烯中的一種所形成。
  51. 如請求項31至50中任一項所述之密封保持器,其中該片體具有0.013 mm的厚度。
  52. 如請求項31至51中任一項所述之密封保持器,其中該第一部位形成第一平坦表面,以及該第二部位形成第二平坦表面。
  53. 如請求項31至52中任一項所述之密封保持器,其中在折疊狀態中,該第二部位相對於該第一軸線成角度。
  54. 如請求項31至53中任一項所述之密封保持器,其中在平坦狀態中,該第二部位與該第一軸線共面。
  55. 一種流體流量構件組件,該流體流量構件組件包含: 流體流量構件,包含第一密封腔; 對準特徵,與該流體流量構件接觸; 第一密封,經配置而接合該第一密封腔; 第一密封保持器,經配置而接合該流體流量構件的該對準特徵及該第一密封; 其中該第一密封係裝配於該第一密封保持器,該第一密封與該第一密封腔接觸。
  56. 如請求項55所述之構件組件,其中該流體流量構件係為閥、流量控制器、壓力換能器、流量測量感測器、壓力調節器、流量限制器、或致動器中的一種。
  57. 如請求項55至56中任一項所述之構件組件,其中該第一密封具有圓柱形的外表面。
  58. 如請求項55至57中任一項所述之構件組件,其中該第一密封保持器具有圓形的密封保持孔,經配置而接合該第一密封的圓柱形外表面。
  59. 如請求項58所述之構件組件,其中該第一密封保持器具有易碎區,相鄰於該密封保持孔。
  60. 如請求項55至59中任一項所述之構件組件,其中該第一密封保持器具有緊固件接合特徵。
  61. 如請求項60所述之構件組件,其中該緊固件接合特徵為半圓形。
  62. 如請求項60至61中任一項所述之構件組件,其中該緊固件接合特徵形成該第一密封保持器的周邊邊緣的一部分。
  63. 如請求項60至62中任一項所述之構件組件,其中該緊固件接合特徵包含易碎區。
  64. 如請求項55至63中任一項所述之構件組件,其中該第一密封保持器係由片材所形成。
  65. 如請求項55至64中任一項所述之構件組件,其中該第一密封保持器為非平面狀。
  66. 如請求項55至65中任一項所述之構件組件,其中該第一密封保持器接合該對準特徵。
  67. 如請求項55至66中任一項所述之構件組件,其中該流體流量構件更包含第二密封腔。
  68. 如請求項67所述之構件組件,更包含第二密封、第二對準特徵、及第二密封保持器,該第二密封經配置而接合該第二密封腔以及該第二密封保持器經配置而接合該第二密封及該第二對準特徵,其中該第二密封裝配於該第二密封保持器且與該第二密封腔接觸,以及該第二對準特徵與該第一構件接觸。
  69. 如請求項68所述之構件組件,其中該第二密封保持器接合該第二對準特徵。
  70. 一種安裝流體流量構件至控制流量的裝置的方法,該方法包含: (a) 將構件組件放置在第一基板塊的頂上,該構件組件包含流體流量構件、第一密封保持器、以及由該第一密封保持器所保持且與該流體流量構件的第一密封腔對準的第一密封,該構件組件放置在該第一基板塊的頂上,使該第一密封與該第一基板塊的第一密封腔對準; (b) 縮回該第一密封保持器,使該第一密封保持器自該流體流量構件釋放而該第一密封與該流體流量構件維持原位;以及 (c) 將該流體流量構件緊固至控制流量的裝置,使該第一密封將該第一基板塊的流路緊密地密封至該流體流量構件的流路。
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